JP2015099195A - 位置決め装置、顕微鏡システム、及び付着物除去方法 - Google Patents

Abstract

【課題】超音波モータの駆動特性を安定に維持することができること。
【解決手段】位置決め装置１は、基部２と、基部２に対して移動可能に取り付けられた移動部３と、基部２に取り付けられ、超音波振動を発生することによって移動部３を基部２に対して相対的に移動させる超音波モータ４１ｘ，４１ｙと、超音波モータ４１ｘ，４１ｙを動作させることで移動部３を基部２に対して相対的に移動させ、複数の設定位置に移動部３を順次、位置決めする位置決め動作を繰り返す移動制御部３０３とを備える。移動制御部３０３は、複数の設定位置のうち当該設定位置同士の離間距離が最も大きい第１外側設定位置及び第２外側設定位置の少なくともいずれか一方を通過するように移動部３を基部２に対して相対的に移動させる。
【選択図】図２

Description

本発明は、超音波モータにより被駆動体を移動させて当該被駆動体を所定の位置に位置決めする位置決め装置、当該位置決め装置を備えた顕微鏡システム、及び当該位置決め装置が実行する付着物除去方法に関する。

従来、Ｘ−Ｙ−Ｚ方向の位置を電動制御可能とするステージ、及び当該ステージのＸ−Ｙ−Ｚ方向の位置を制御する制御部（ステージＸ−Ｙ制御部及びステージＺ駆動制御部）を有する位置決め装置と、ＴＶカメラ等の撮像部とを備えた顕微鏡システムが知られている（例えば、特許文献１参照）。
特許文献１に記載の顕微鏡システムでは、生体試料等の試料が載せられたステージのＸ−Ｙ位置を複数の設定位置に順次、位置決めし、当該試料におけるＸ−Ｙ位置の異なる複数の測定点を撮像部にて撮像する。すなわち、当該顕微鏡システムでは、試料における複数の測定点の長時間観察（タイムラプス観察）を可能とする。

ところで、上記のようなステージのアクチュエータとしては、高精度な位置決めが行える超音波モータを用いることが考えられる。
具体的に、このような超音波モータは、ステージの移動方向に並設され、バネ等によりステージの側面（セラミックス等からなる摺動部材）に押し付けられる一対の振動子と、駆動信号が印加される圧電体とを備える。そして、圧電体に駆動信号が印加されると、一対の振動子の各々は、楕円軌道を描いて、交互にステージの側面と接近・離反を繰り返すように動き、ステージを所定方向に移動させる。

特許第５２３１６１０号公報

しかしながら、上記のような超音波モータを利用した位置決め装置では、長期間の使用により、一対の振動子やステージの側面が摩耗し、当該摩耗により発生した摩耗粉がステージの側面に付着してしまう。このように摩耗粉がステージの側面に付着した状態では、例えばタイムラプス観察のようにステージの位置決めを繰り返し実行する際に、摩耗粉によって一対の振動子とステージの側面との間の接触状態が変化し、超音波モータの駆動特性が不安定になる虞がある。

本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、超音波モータの駆動特性を安定に維持することができる位置決め装置、顕微鏡システム、及び付着物除去方法を提供することを目的とする。

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明に係る位置決め装置は、基部と、前記基部に対して移動可能に取り付けられた移動部と、前記基部に取り付けられ、超音波振動を発生することによって前記移動部を前記基部に対して相対的に移動させる超音波モータと、前記超音波モータを動作させることで前記移動部を前記基部に対して相対的に移動させ、複数の設定位置に前記移動部を順次、位置決めする位置決め動作を繰り返す移動制御部とを備え、前記移動制御部は、前記複数の設定位置のうち当該設定位置同士の離間距離が最も大きい第１外側設定位置及び第２外側設定位置の少なくともいずれか一方を通過するように前記移動部を前記基部に対して相対的に移動させることを特徴とする。

また、本発明に係る位置決め装置は、上記発明において、前記移動制御部は、一の前記位置決め動作を実行した後、次の前記位置決め動作を実行する前に、前記第１外側設定位置及び前記第２外側設定位置の少なくともいずれか一方を通過するように前記移動部を前記基部に対して相対的に移動させることを特徴とする。

また、本発明に係る位置決め装置は、上記発明において、前記移動制御部は、前記複数の設定位置のうち一の設定位置から次の設定位置に前記移動部を位置決めする際に、前記第１外側設定位置及び前記第２外側設定位置の少なくともいずれか一方を通過するように前記移動部を前記基部に対して相対的に移動させることを特徴とする。

また、本発明に係る位置決め装置は、上記発明において、前記移動制御部は、前記複数の設定位置のうち一の設定位置から次の設定位置に前記移動部を位置決めする際に、前記第１外側設定位置及び前記第２外側設定位置の双方を通過するように前記移動部を前記基部に対して相対的に移動させることを特徴とする。

また、本発明に係る位置決め装置は、上記発明において、前記移動制御部は、一の前記位置決め動作において、前記第１外側設定位置から前記第２外側設定位置まで、隣接する前記設定位置に向けて順次、前記移動部を位置決めし、前記第１外側設定位置から次の前記設定位置に前記移動部を位置決めする際に、前記第１外側設定位置を通過するように前記移動部を前記基部に対して相対的に移動させ、一の前記設定位置から前記第２外側設定位置に前記移動部を位置決めする際に、前記第２外側設定位置を通過するように前記移動部を前記基部に対して相対的に移動させることを特徴とする。

また、本発明に係る位置決め装置は、上記発明において、前記移動制御部は、前記第１外側設定位置及び前記第２外側設定位置の少なくともいずれか一方を通過するように前記移動部を前記基部に対して相対的に移動させるクリーニング動作を複数回、実行することを特徴とする。

また、本発明に係る位置決め装置は、上記発明において、前記移動制御部は、前記第１外側設定位置及び前記第２外側設定位置の少なくともいずれか一方を通過させる前に前記移動部の前記基部に対する相対的な移動を一旦、停止しておく位置を、複数回、実行する各前記クリーニング動作でそれぞれ異なる位置とすることを特徴とする。

また、本発明に係る位置決め装置は、上記発明において、前記第１外側設定位置及び前記第２外側設定位置の少なくともいずれか一方を通過する前記移動部の前記基部に対する相対的な移動を促す情報を報知する報知部を備えることを特徴とする。

また、本発明に係る位置決め装置は、上記発明において、前記報知部は、一の前記位置決め動作が実行された後、次の前記位置決め動作が実行される前に、前記情報を報知することを特徴とする。

また、本発明に係る顕微鏡システムは、上述した位置決め装置と、前記移動部に載せられた観察試料を照明する観察光源と、前記観察試料に対して対峙する対物レンズと、前記対物レンズを介して前記観察試料を撮像する撮像部と、前記移動部が前記複数の設定位置に順次、位置決めされる毎に、前記撮像部に前記観察試料を撮像させる撮像制御部とを備えることを特徴とする。

また、本発明に係る付着物除去方法は、超音波モータを動作させることで移動部を基部に対して相対的に移動させて複数の設定位置に前記移動部を順次、位置決めする位置決め動作を繰り返す位置決め装置が実行する付着物除去方法において、前記複数の設定位置のうち当該設定位置同士の離間距離が最も大きい第１外側設定位置及び第２外側設定位置の少なくともいずれか一方を通過するように前記移動部を前記基部に対して相対的に移動させる付着物除去工程を含むことを特徴とする。

本発明に係る位置決め装置では、「位置決め動作を繰り返し実行した場合には、超音波モータ及び移動部間の接触により生じる摩耗粉は、移動部において、当該移動部が第１，第２外側設定位置に位置決めされた際に超音波モータと接触する部位（以下、第１，第２外側設定位置に対応する部位と記載）に付着しやすい」という点に着目し、第１，第２外側設定位置の少なくともいずれか一方を通過するように移動部を基部に対して相対的に移動させる構成を採用している。
このような構成を採用することで、移動部の基部に対する相対的な移動に伴って、第１，第２外側設定位置に対応する部位の少なくともいずれか一方に付着した摩耗粉を超音波モータによって清掃することができる。したがって、位置決め動作を繰り返し実行する際に、摩耗粉に起因して超音波モータの駆動特性が不安定になることがない。

本発明に係る顕微鏡システムは、上述した位置決め装置を備えているため、上述した位置決め装置と同様の効果を奏する。
本発明に係る付着物除去方法は、上述した位置決め装置が行う付着物除去方法であるため、上述した位置決め装置と同様の効果を奏する。

図１は、本発明の実施の形態１に係る顕微鏡システムを模式的に示す図である。 図２は、図１に示した位置決め装置を模式的に示す図である。 図３は、図２に示した第１超音波モータを模式的に示す図である。 図４は、図２に示した位置決め装置において、制御装置から第１超音波モータに印加される駆動信号の一例を示す図である。 図５は、図３に示した第１超音波モータの屈曲振動を説明するための概略平面図である。 図６は、図３に示した第１超音波モータの縦振動を説明するための概略平面図である。 図７は、タイムラプス観察の対象とする試料を模式的に示す図である。 図８は、本発明の実施の形態１に係る顕微鏡システムの動作（タイムラプス観察）を説明するフローチャートである。 図９は、図８に示したタイムラプス観察を説明するための図である。 図１０は、本発明の実施の形態１の変形例を示す図である。 図１１は、本発明の実施の形態２に係る顕微鏡システムの動作（タイムラプス観察）を説明するフローチャートである。 図１２は、図１１に示したタイムラプス観察を説明するための図である。 図１３は、本発明の実施の形態３に係る顕微鏡システムの動作（タイムラプス観察）を説明するフローチャートである。 図１４は、図１３に示したタイムラプス観察を説明するための図である。 図１５は、本発明の実施の形態４に係る制御装置を示すブロック図である。

以下に、図面を参照して、本発明を実施するための形態（以下、実施の形態）について説明する。なお、以下に説明する実施の形態によって本発明が限定されるものではない。さらに、図面の記載において、同一の部分には同一の符号を付している。

（実施の形態１）
〔顕微鏡システムの概略構成〕
図１は、本発明の実施の形態１に係る顕微鏡システム１００を模式的に示す図である。
顕微鏡システム１００は、生体試料等の試料における複数の測定点のタイムラプス観察を可能とする顕微鏡システムであり、図１に示すように、顕微鏡２００と、制御装置３００と、操作装置４００と、表示装置５００とを備える。
なお、顕微鏡２００については、図１では、側方から見た状態の光学系を主に図示し、各光学系を支持する支持体（外装筐体）を省略している。

〔顕微鏡の構成〕
顕微鏡２００は、図１に示すように、光源装置２０１と、第１ミラー２０２と、ステージ２０３と、中座２０４と、焦準機構２０５と、対物レンズ２０６と、ハーフミラー２０７と、第１結像レンズ２０８と、接眼レンズ２０９と、第２ミラー２１０と、第２結像レンズ２１１と、カメラ２１２とを備える。
そして、光源装置２０１から出射された光は、第１ミラー２０２にて反射され、試料Ｓｐの下方に照射される。試料Ｓｐを透過した光は、対物レンズ２０６を通過し、ハーフミラー２０７にて２つに分岐される。一方の光は、第１結像レンズ２０８を通過して接眼レンズ２０９により肉眼での試料Ｓｐの観察に利用される。他方の光は、第２ミラー２１０にて反射され、第２結像レンズ２１１を通過し、カメラ２１２の撮像素子（図示略）上に像を形成する。

中座２０４は、クレンメル（図示略）等で複数の試料Ｓｐ（図７参照）が固定される部分であり、ステージ２０３の上面に取り付けられる。
ここで、この中座２０４には、図１に示すように、光軸Ｌ（図１）に応じた開口２０４Ａが形成されている。
ステージ２０３は、中座２０４を介して複数の試料Ｓｐが載置される部分であり、本発明に係る位置決め装置１（図２参照）の一部を構成する。
そして、ステージ２０３は、制御装置３００による制御の下、これら試料ＳｐをＸ−Ｙ方向（上面から見た場合の第１方向、当該第１方向に直交する第２方向、図２参照）に移動し、いずれかの試料Ｓｐを対物レンズ２０６に対峙する位置に位置決めする。
ここで、このステージ２０３には、図１に示すように、光軸Ｌ（図１）に応じた開口２０３Ａが形成されている。
なお、ステージ２０３の詳細な構成については、後述する。
焦準機構２０５は、制御装置３００による制御の下、ステージ２０３をＺ方向（鉛直方向）に移動し、対物レンズ２０６を含む観察光学系の焦点位置を調整する。

なお、図１では、本実施の形態１に係る顕微鏡２００を正立型顕微鏡として構成していたが、これに限られず、例えば、倒立型顕微鏡として構成してもよい。

〔制御装置、操作装置、表示装置の構成〕
制御装置３００は、ＣＰＵ(Central Processing Unit)等を含んで構成され、顕微鏡２００（光源装置２０１、ステージ２０３、焦準機構２０５、カメラ２１２等）や表示装置５００の動作を制御する。
そして、制御装置３００の機能のうち、ステージ２０３の動作を制御する機能は、本発明に係る位置決め装置１の一部を構成する。

操作装置４００は、キーボード、マウス、及びジョイスティック等を用いて構成され、ユーザ操作を受け付ける。そして、操作装置４００は、ユーザ操作に応じた指示信号を制御装置３００に出力する。
表示装置５００は、液晶ディスプレイ等を用いて構成され、制御装置３００による制御の下、所定の画面を表示する。

〔位置決め装置の構成〕
図２は、位置決め装置１の構成を模式的に示す図である。
なお、ステージ２０３については、図２では、上方から見た状態を図示している。
位置決め装置１は、ステージ２０３を動作させ、当該ステージ２０３に載置された複数の試料Ｓｐのうちいずれかの試料Ｓｐを対物レンズ２０６に対峙する位置に位置決めする。
この位置決め装置１は、図２に示すように、ステージ２０３と、当該ステージ２０３の動作を制御する制御装置３００の一部の機能とを備える。

ステージ２０３は、図２に示すように、基部２と、移動部３と、超音波アクチュエータ４と、エンコーダ（変位センサ）５とを備える。
なお、基部２及び移動部３には、上述した開口２０３Ａが形成されている（図２では、移動部３に形成された開口２０３Ａのみを図示）。
基部２は、図１に示す顕微鏡２００に固定されており、移動部３、超音波アクチュエータ４、及びエンコーダ５を支持する部分である。
この基部２の上面には、例えば、ボール循環式の一対の第１ガイドレール８ｘがＸ方向に沿って取り付けられている。

移動部３は、図２に示すように、Ｘ方向移動部３ｘと、Ｙ方向移動部３ｙとを備える。
Ｘ方向移動部３ｘは、第１ガイドレール８ｘに沿って、Ｘ方向（第１方向）に往復移動可能に基部２上に取り付けられている。
このＸ方向移動部３ｘにおいて、Ｘ方向に平行な一の側面には、図２に示すように、例えば、セラミックス等の硬い材料からなる第１摺動部材６ｘが設けられている。
ここで、第１摺動部材６ｘの材料としては、例えば、アルミナ、ジルコニア、安定化ジルコニア等が好適である。
また、Ｘ方向移動部３ｘにおいて、Ｘ方向に平行な他の側面（第１摺動部材６ｘが設けられた側面に対向する側面）には、図２に示すように、第１スケール７ｘが設けられている。
なお、第１摺動部材６ｘと第１スケール７ｘとは、Ｘ方向移動部３ｘにおける互いに対向する各側面にそれぞれ設けられている構成に限られず、同一の側面に設けた構成としてもよい。
さらに、Ｘ方向移動部３ｘにおいて、その上面には、例えば、ボール循環式の一対の第２ガイドレール８ｙがＹ方向に沿って取り付けられている。

Ｙ方向移動部３ｙは、その上面に中座２０４が取り付けられる部分であり、第２ガイドレール８ｙに沿って、Ｙ方向（第２方向）に往復移動可能にＸ方向移動部３ｘ上に取り付けられている。
このＹ方向移動部３ｙにおいて、Ｙ方向に平行な一の側面には、図２に示すように、例えば、セラミックス等の硬い材料からなる第２摺動部材６ｙが設けられている。
ここで、第２摺動部材６ｙの材料としては、例えば、アルミナ、ジルコニア、安定化ジルコニア等が好適である。
また、Ｙ方向移動部３ｙにおいて、Ｙ方向に平行な他の側面（第２摺動部材６ｙが設けられた側面に対向する側面）には、図２に示すように、第２スケール７ｙが設けられている。
なお、第２摺動部材６ｙと第２スケール７ｙとは、Ｙ方向移動部３ｙにおける互いに対向する各側面にそれぞれ設けられている構成に限られず、同一の側面に設けた構成としてもよい。

エンコーダ５は、図２に示すように、第１エンコーダ５ｘと、第２エンコーダ５ｙとを備える。
第１エンコーダ５ｘは、第１スケール７ｘに設けられた目盛り等のパターンを検出することにより、Ｘ方向移動部３ｘの変位量を検出して、Ｘ方向移動部３ｘの基部２に対する相対位置を表す位置情報を制御装置３００に供給する。
第２エンコーダ５ｙは、第２スケール７ｙに設けられた目盛り等のパターンを検出することにより、Ｙ方向移動部３ｙの変位量を検出して、Ｙ方向移動部３ｙのＸ方向移動部３ｘに対する相対的位置を表す位置情報を制御装置３００に供給する。

超音波アクチュエータ４は、図２に示すように、第１超音波アクチュエータ４ｘと、第２超音波アクチュエータ４ｙとを備える。
第１超音波アクチュエータ４ｘは、第１摺動部材６ｘに接触、押圧するようにして基部２上に固定されており、制御装置３００から供給される駆動信号により駆動され、Ｘ方向移動部３ｘを基部２に対して相対的に移動させる。
第２超音波アクチュエータ４ｙは、第２摺動部材６ｙに接触、押圧するようにしてＸ方向移動部３ｘ上に固定されており、制御装置３００から供給される駆動信号により駆動され、Ｙ方向移動部３ｙをＸ方向移動部３ｘに対して相対的に移動させる。

以下、第１，第２超音波アクチュエータ４ｘ，４ｙの詳細な構成について説明するが、当該第１，第２超音波アクチュエータ４ｘ，４ｙは、同様の構成を有しているため、第１超音波アクチュエータ４ｘについて説明する。
第１超音波アクチュエータ４ｘは、図２に示すように、第１超音波モータ４１ｘと、第１保持機構４２ｘとを備える。
第１保持機構４２ｘは、基部２上に固定される部分であり、内部に設けられたバネ（図示略）により第１超音波モータ４１ｘが第１摺動部材６ｘに接触、押圧するように当該第１超音波モータ４１ｘを保持する。

図３は、第１超音波モータ４１ｘを模式的に示す図である。
第１超音波モータ４１ｘは、図２または図３に示すように、一対の第１振動子４１１ｘ，４１２ｘと、直方体形状の第１積層型圧電体４１３ｘと、を備える。
一対の第１振動子４１１ｘ，４１２ｘは、第１積層型圧電体４１３ｘにおける第１摺動部材６ｘに対向する側面に設けられ、例えば、強化繊維を含む摩擦係数の比較的小さな樹脂を母材とした材料で形成されている。

第１積層型圧電体４１３ｘには、図３に示すように、４つの屈曲振動用電極４１４ｘ〜４１７ｘと、１つの縦振動用電極４１８ｘとが設けられている。
４つの屈曲振動用電極４１４ｘ〜４１７ｘは、制御装置３００から屈曲振動信号（駆動信号）が印加される電極であり、縦振動用電極４１８ｘを挟んで、Ｘ方向に沿って２つずつ２列に配置される。
縦振動用電極４１８ｘは、制御装置３００から縦振動信号（駆動信号）が印加される電極であり、第１積層型圧電体４１３ｘの中心位置に配置される。

ここで、図３において、縦振動用電極４１８ｘの左側に配置される屈曲振動用電極４１４ｘ（第１摺動部材６ｘから遠い電極），４１６ｘ（第１摺動部材６ｘに近い電極）の電極付近の圧電体と、縦振動用電極４１８ｘの右側に配置される屈曲振動用電極４１５ｘ（第１摺動部材６ｘから遠い電極），４１７ｘ（第１摺動部材６ｘに近い電極）の電極付近の圧電体とでは分極方向が逆に設定されている。
より具体的には、縦振動用電極４１８ｘの左側に配置される屈曲振動用電極４１４ｘ，４１６ｘにそれぞれプラス電圧及びマイナス電圧が印加されるとき、縦振動用電極４１８ｘの右側に配置される屈曲振動用電極４１５ｘ，４１７ｘには、それぞれマイナス電圧及びプラス電圧が印加されるように構成されている。

図４は、制御装置３００から第１超音波モータ４１ｘに印加される駆動信号の一例を示す図である。
縦振動信号（第１信号）及び屈曲振動信号（第２信号）は、例えば、図４に示すように、高周波の正弦波信号であり、縦振動信号と屈曲振動信号は、位相が９０°異なる。

図５は、第１超音波モータ４１ｘの屈曲振動を説明するための概略平面図である。図６は、第１超音波モータ４１ｘの縦振動を説明するための概略平面図である。
屈曲振動用電極４１４ｘ〜４１７ｘ及び縦振動用電極４１８ｘにプラス電圧が印加される間、「＋」符号の電極部分（電極４１４ｘ，４１７ｘ，４１８ｘ）の圧電体は膨張するように変形し、「−」符号の電極部分（電極４１５ｘ，４１６ｘ）の圧電体は縮む様に変形する。
一方、屈曲振動用電極４１４ｘ〜４１７ｘ及び縦振動用電極４１８ｘにマイナス電圧が印加される間、「＋」符号の電極部分（電極４１４ｘ，４１７ｘ，４１８ｘ）の圧電体は縮む様に変形し、「−」符号の電極部分（電極４１５ｘ，４１６ｘ）の圧電体は膨張するように変形する。
本実施の形態１による縦振動信号及び屈曲振動信号は、いずれも高周波の正弦波信号であるので、これらの動作が繰り返される。

このため、屈曲振動用電極４１４ｘ〜４１７ｘに、図４に示す屈曲振動信号を印加すると、図５に模式的に示すように、屈曲振動が励起される。具体的には、第１振動子４１１ｘが第１摺動部材６ｘから遠ざかる方向に動くと、第１振動子４１２ｘは第１摺動部材６ｘに押し付けられる方向に動き、その後、第１振動子４１２ｘが第１摺動部材６ｘから遠ざかる方向に動くと、第１振動子４１１ｘが第１摺動部材６ｘに押し付けられる方向に動くという動作を繰り返す。
一方、縦振動用電極４１８ｘに、図４に示す縦振動信号を印加すると、図６に示すように、第１超音波モータ４１ｘが長辺方向（Ｘ方向移動部３ｘの移動方向）に伸縮する縦振動が励起される。

このように、２種類の振動の位相を９０°ずらして同時に励起させると、図５に示す屈曲振動と図６に示す縦振動が合成され、第１超音波モータ４１ｘの一対の第１振動子４１１ｘ，４１２ｘは、図３に破線の楕円で示す軌跡を描くように振動する。すなわち、一対の第１振動子４１１ｘ，４１２ｘが、同じ楕円軌道を描くとともに、同時刻での変位が半周ずれて、第１摺動部材６ｘに対して交互に接近、離反を繰り返すように変位する。
なお、図５において、楕円の矢印の位置は、一対の第１振動子４１１ｘ，４１２ｘの同時刻における変位が同じ楕円軌道上で半周ずれていることを模式的に表している。

また、一対の第１振動子４１１ｘ，４１２ｘが、図５に示す屈曲振動をすることで、第１摺動部材６ｘと接触する際に生じる摩擦力を減らすことができる。また、縦振動用電極４１８ｘに図４に示す縦振動信号を印加することで、図６に示すように、第１超音波モータ４１ｘが長辺方向に沿って伸縮運動を引き起こす。この伸縮運動と屈曲運動が合成されてＸ方向移動部３ｘを動かす。このようにして、第１超音波モータ４１ｘは、第１摺動部材６ｘに摩擦力を伝達してＸ方向移動部３ｘを移動させる。

ここで、目標位置への位置決めが完了した後に、Ｘ方向移動部３ｘを停止（静止）状態にするには、第１超音波モータ４１ｘへの電圧（駆動信号）印加を停止する。電圧印加を停止することにより、第１超音波モータ４１ｘの一対の第１振動子４１１ｘ，４１２ｘが一定の圧力で第１摺動部材６ｘを押し付け、Ｘ方向移動部３ｘを停止（静止）させる。

なお、第２超音波アクチュエータ４ｙは、第１超音波アクチュエータ４ｘと同様の構成を有しているため、具体的な説明は省略するが、制御装置３００により第１超音波アクチュエータ４ｘと同様の方法で駆動されるものである。図２では、第２超音波アクチュエータ４ｙの構成として、第１超音波アクチュエータ４ｘを構成する第１超音波モータ４１ｘ（一対の第１振動子４１１ｘ，４１２ｘを含む）及び第１保持機構４２ｘと同様の第２超音波モータ４１ｙ（一対の第２振動子４１１ｙ，４１２ｙを含む）及び第２保持機構４２ｙのみを図示している。

制御装置３００は、図２に示すように、駆動部３０１と、検出部３０２と、移動制御部３０３と、撮像制御部３０４と、メモリ３０５とを備える。
そして、駆動部３０１、検出部３０２、移動制御部３０３、及びメモリ３０５は、位置決め装置１を構成するものである。
駆動部３０１は、移動制御部３０３による制御の下、第１，第２超音波アクチュエータ４ｘ，４ｙに駆動信号（屈曲振動信号、縦振動信号）を供給する。
検出部３０２は、第１，第２エンコーダ５ｘ，５ｙからの位置情報を読み取り、基部２とＸ方向移動部３ｘとの相対位置関係、Ｘ方向移動部３ｘとＹ方向移動部３ｙとの相対位置関係をそれぞれ検出し、Ｘ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙのそれぞれの位置座標を検出する。検出した位置座標の情報は、移動制御部３０３に送られる。なお、検出部３０２は、Ｘ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙの移動速度、加速度等を検出することもできる。

移動制御部３０３は、操作装置４００へのユーザ操作に応じて、検出部３０２にて検出されたＸ方向移動部３ｘ及びＹ方向移動部３ｙの各位置座標を認識しつつ、第１，第２超音波アクチュエータ４ｘ，４ｙの動作（Ｘ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙの動作）を制御する。
具体的には、移動制御部３０３は、Ｘ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙの移動開始を指示するユーザ操作に応じて、第１，第２超音波アクチュエータ４ｘ，４ｙに対して当該ユーザ操作に対応する駆動信号（屈曲振動信号、縦振動信号）を供給するように駆動部３０１を制御する。
また、移動制御部３０３は、Ｘ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙの移動停止を指示するユーザ操作に応じて、駆動信号（屈曲振動信号、縦振動信号）の供給を停止するように駆動部３０１を制御する。
さらに、移動制御部３０３は、タイムラプス観察の実行を指示するユーザ操作に応じて、メモリ３０５に記録されたプログラムに従って、上述したように駆動部３０１を制御し、メモリ３０５に記録された複数の目標位置（後述するＸＹ設定位置）に順次、移動部３を位置決めする。

なお、移動制御部３０３は、上述したＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙの動作制御と同様に、操作装置４００へのユーザ操作に応じて、焦準機構２０５の動作制御（ステージ２０３のＺ方向の移動制御）も実行する。
この焦準機構２０５の動作制御については、上述したＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙの動作制御と同様に、超音波モータを駆動源とし、エンコーダにて検出されたステージ２０３のＺ方向の位置情報に基づいて、ステージ２０３をＺ方向に移動させる構成としてもよいし、その他の構成を採用しても構わない。

撮像制御部３０４は、操作装置４００へのユーザ操作に応じて、カメラ２１２に撮像を行わせ、当該撮像による画像データをメモリ３０５に記録する。
例えば、撮像制御部３０４は、タイムラプス観察の実行を指示するユーザ操作に応じて、メモリ３０５に記録されたプログラムに従って、移動部３が複数の設定位置に順次、位置決めされる毎に、カメラ２１２に撮像を行わせる。

〔顕微鏡システムの動作〕
次に、上述した顕微鏡システム１００の動作について説明する。
以下では、顕微鏡システム１００の動作として、タイムラプス観察の実行時の動作（本発明に係る付着物除去方法）を主に説明する。
先ず、顕微鏡システム１００により行われるタイムラプス観察を説明する前に、当該タイムラプス観察の対象とする試料Ｓｐについて説明する。

図７は、タイムラプス観察の対象とする試料Ｓｐを模式的に示す図である。
具体的に、図７は、中座２０４に固定された３つの試料Ｓｐ（Ｓｐ１〜Ｓｐ３）を上方から見た図である。
本実施の形態１におけるタイムラプス観察の対象とする試料Ｓｐは、図７に示すように、三枚のプレパラートからなる第１〜第３試料Ｓｐである。
これら第１〜第３試料Ｓｐには、例えば、水とカバーガラスを使って細胞等の第１〜第３観察対象Ｏ１〜Ｏ３が封入されている。
そして、本実施の形態１におけるタイムラプス観察は、第１〜第３観察対象Ｏ１〜Ｏ３の時間変化を観察するものである。

なお、ユーザは、タイムラプス観察を実行する前に、操作装置４００の操作により、第１〜第３観察対象Ｏ１〜Ｏ３をそれぞれ観察するための目標位置（ＸＹ設定位置、Ｚ設定位置）、タイムラプス観察の時間間隔、及びタイムラプス観察の観察回数等をメモリ３０５に登録する作業を行う。
例えば、ユーザは、上述した目標位置をメモリ３０５に登録するために、以下の作業を行う。
すなわち、ユーザは、操作装置４００を操作することで、Ｘ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙをＸ−Ｙ方向に移動し、第１観察対象Ｏ１が対物レンズ２０６に対峙する位置（第１観察対象Ｏ１を観察することができる位置）にＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙを位置決めする。また、ユーザは、操作装置４００を操作することで、ステージ２０３をＺ方向に移動し（焦準機構２０５を動作させ）、第１観察対象Ｏ１が合焦状態となる位置にステージ２０３を位置決めする。そして、ユーザは、操作装置４００を操作することで、当該Ｘ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙのＸＹ位置（エンコーダ５にて検出されたＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙのＸＹ位置）及びステージ２０３のＺ位置（エンコーダにて検出されたステージ２０３のＺ位置）を、それぞれ第１ＸＹ設定位置及び第１Ｚ設定位置としてメモリ３０５に登録する。
ユーザは、同様の作業を第２，第３観察対象Ｏ２，Ｏ３に対してもそれぞれ行い、第２観察対象Ｏ２を観察することができる第２ＸＹ設定位置、第２観察対象Ｏ２が合焦状態となる第２Ｚ設定位置、第３観察対象Ｏ３を観察することができる第３ＸＹ設定位置、及び第３観察対象Ｏ３が合焦状態となる第３Ｚ設定位置をメモリ３０５に登録する。

ここで、上述した第１〜第３ＸＹ設定位置は、本発明に係る設定位置に相当する。そして、第１，第３ＸＹ設定位置は、当該設定位置同士の離間距離が最も大きいため、本発明に係る第１外側設定位置及び第２外側設定位置に相当する。
以下では、説明の便宜上、第１，第３ＸＹ設定位置をそれぞれ第１，第２外側ＸＹ設定位置と記載し、第２ＸＹ設定位置を内側ＸＹ設定位置と記載する。

図８は、顕微鏡システム１００の動作（タイムラプス観察）を説明するフローチャートである。図９は、図８に示したタイムラプス観察を説明するための図である。
具体的に、図９は、横軸を時間、縦軸をＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙの位置とし、Ｘ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙの挙動を実線で示している。また、図９では、複数回（Ｎ回）の観察が行われるタイムラプス観察において、第ｎ（１≦ｎ＜Ｎ）回観察と、第ｎ＋１回観察のみを図示している。
移動制御部３０３は、タイムラプス観察の実行を指示するユーザ操作に応じて、メモリ３０５に記録された第１外側ＸＹ設定位置を読み出し、Ｘ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙをＸ−Ｙ方向に移動し、第１外側ＸＹ設定位置にＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙを位置決めする（ステップＳ１０１）。なお、図９では、時刻Ｔ１１Ａに、Ｘ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙが第１外側ＸＹ設定位置に位置決めされた状態を示している。

続いて、移動制御部３０３は、メモリ３０５に記録された第１Ｚ設定位置を読み出し、ステージ２０３をＺ方向に移動し、第１Ｚ設定位置にステージ２０３を位置決めする（ステップＳ１０２）。
続いて、撮像制御部３０４は、時間Ｔｏ（図９）の間、カメラ２１２に第１観察対象Ｏ１を撮影させ、当該撮影により生成された画像データをメモリ３０５に記録する（ステップＳ１０３）。

続いて、制御装置３００は、メモリ３０５に記録された全ての設定位置にＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙ及びステージ２０３を位置決めし、第１〜第３観察対象Ｏ１〜Ｏ３の全ての撮影を行ったか否かを判断する（ステップＳ１０４）。
制御装置３００は、第１〜第３観察対象Ｏ１〜Ｏ３の全ての撮影を行っていないと判断した場合（ステップＳ１０４：Ｎｏ）には、ステップＳ１０１に移行する。そして、制御装置３００は、残りの設定位置に順次、Ｘ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙ及びステージ２０３を位置決めし、第２，第３観察対象Ｏ２，Ｏ３の撮影を順次、行う。なお、図９では、時刻Ｔ１３Ｂに、第３観察対象Ｏ３の撮影が終了した状態を示している。すなわち、複数回の観察が行われるタイムラプス観察において、時刻Ｔ１１Ａ〜Ｔ１３Ｂの間で第ｎ回観察が行われたこととなる。

一方、第１〜第３観察対象Ｏ１〜Ｏ３の全ての撮影を行ったと判断された場合（ステップＳ１０４：Ｙｅｓ）には、移動制御部３０３は、次の第ｎ＋１回観察（図９に示す時刻Ｔ２１Ａ〜Ｔ２３Ｂの間）を行う前（時刻Ｔ２１Ａ（メモリ３０５に記録された観察間隔Ｔｐを時刻Ｔ１１Ａに足し合わせた時刻）の前）に、クリーニング動作を実行する（ステップＳ１０５：付着物除去工程）。
具体的に、移動制御部３０３は、第１外側ＸＹ設定位置を基準として、第２外側ＸＹ設定位置から離間（Ｘ，Ｙ座標の双方が離間）する任意の位置を第１クリーニング動作位置（図９）としてメモリ３０５に記録する。また、移動制御部３０３は、第２外側ＸＹ設定位置を基準として、第１外側ＸＹ設定位置から離間（Ｘ，Ｙ座標の双方が離間）する任意の位置を第２クリーニング動作位置（図９）としてメモリ３０５に記録する。なお、タイムラプス観察を実行する前であって、目標位置（設定位置）がメモリ３０５に登録された際に、当該設定位置に基づいて、第１，第２クリーニング動作位置をメモリ３０５に記録するようにしても構わない。
そして、移動制御部３０３は、第ｎ回観察の終了後（図９に示す時刻Ｔ１３Ｂ）、Ｘ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙをＸ−Ｙ方向に移動し、第２クリーニング動作位置にＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙを位置付ける。その後、移動制御部３０３は、Ｘ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙをＸ−Ｙ方向に移動し、第１クリーニング動作位置にＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙを位置付ける。すなわち、移動制御部３０３は、ステップＳ１０５において、第１，第２外側ＸＹ設定位置の双方を通過するようにＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙを移動させるクリーニング動作を実行する。

続いて、制御装置３００は、上述した観察をメモリ３０５に記録された既定の観察回数、繰り返し実行したか否かを判断する（ステップＳ１０６）。
制御装置３００は、既定の観察回数、繰り返し実行していないと判断した場合（ステップＳ１０６：Ｎｏ）には、ステップＳ１０１に移行する。
一方、制御装置３００は、既定の観察回数、繰り返し実行したと判断した場合（ステップＳ１０６：Ｙｅｓ）には、本タイムラプス観察を終了する。

以上説明した本実施の形態１に係る位置決め装置１では、「各ＸＹ設定位置への位置決め（ステップＳ１０１）を繰り返し実行した場合には、第１，第２振動子４１１ｘ，４１２ｘ，４１１ｙ，４１２ｙ及びＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙ（第１，第２摺動部材６ｘ，６ｙ）間の接触により生じる摩耗粉は、Ｘ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙ（第１，第２摺動部材６ｘ，６ｙ）において、Ｘ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙが第１，第２外側ＸＹ設定位置に位置決めされた際に第１，第２振動子４１１ｘ，４１２ｘ，４１１ｙ，４１２ｙと接触する部位（以下、第１，第２外側設定位置に対応する部位と記載）に付着しやすい」という点に着目し、第１，第２外側ＸＹ設定位置の双方を通過するようにＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙを移動させるクリーニング動作（ステップＳ１０５）を実行する。
このクリーニング動作（ステップＳ１０５）を実行することで、Ｘ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙの移動に伴って、第１，第２外側ＸＹ設定位置に対応する部位の双方に付着した摩耗粉を第１，第２振動子４１１ｘ，４１２ｘ，４１１ｙ，４１２ｙによって清掃することができる。したがって、各ＸＹ設定位置への位置決め（ステップＳ１０１）を繰り返し実行する際に、摩耗粉に起因して第１，第２超音波モータ４１ｘ，４１ｙの駆動特性が不安定になることがない。また、第１，第２超音波モータ４１ｘ，４１ｙの駆動特性を安定に維持できるため、この位置決め装置１を顕微鏡システム１００に適用することで、タイムラプス観察を良好に実施することができる。

また、本実施の形態１に係る位置決め装置１では、第ｎ回観察（本発明に係る一の位置決め動作に相当）を実行した後、次の第ｎ＋１回観察（本発明に係る次の位置決め動作に相当）を実行する前に、クリーニング動作（ステップＳ１０５）を実行する。
このため、クリーニング動作を実行するために顕微鏡システム１００を起動する必要がなく、タイムラプス観察時、すなわち、顕微鏡システム１００の起動時に、クリーニング動作（ステップＳ１０５）を実行することができる。また、第ｎ回観察を実行した後、次の第ｎ＋１回観察を実行するまでの期間は、タイムラプス観察の実行中において、比較的に長い期間であるため、クリーニング動作（ステップＳ１０５）を十分に実施することができる。

（実施の形態１の変形例）
図１０は、本発明に係る実施の形態１の変形例を示す図である。
具体的に、図１０は、図９に対応した図である。
上述した実施の形態１では、ステップＳ１０５において、クリーニング動作を１回のみ実行していたが、これに限られない。
例えば、図１０に示すように、クリーニング動作を、複数回、実行しても構わない。この際、図１０に示すように、第１，第２クリーニング動作位置（第１，第２外側ＸＹ設定位置の双方を通過させる前にＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙの移動を一旦、停止しておく位置）を、複数回、実行する各クリーニング動作でそれぞれ異なる位置とすることが好ましい。

以上のように、クリーニング動作を複数回、実行することで、第１，第２外側ＸＹ設定位置に対応する部位に付着した摩耗粉を効果的に清掃することができる。
また、第１，第２クリーニング動作位置を、複数回、実行する各クリーニング動作でそれぞれ異なる位置とすることで、以下の効果を奏する。
すなわち、Ｘ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙが第１，第２クリーニング動作位置に位置決めされた際に第１，第２振動子４１１ｘ，４１２ｘ，４１１ｙ，４１２ｙと接触する部位が順次、変更されるため、当該部位に摩耗粉が付着した場合であっても、同一の位置に摩耗粉が溜まってしまうことを防止することができる。このため、クリーニング動作時においても、第１，第２超音波モータ４１ｘ，４１ｙの駆動特性が不安定になることがない。
なお、次の第ｎ＋１回観察後のクリーニング動作時、前の第ｎ回観察後の第１，第２クリーニング動作位置と異なる、第１，第２クリーニング動作位置とすることで、同一の位置に摩耗粉が溜まってしまうことをより一層防止することができ、長期間のタイムラプス観察においてより好適である。

（実施の形態２）
次に、本発明の実施の形態２について説明する。
以下の説明では、上述した実施の形態１と同様の構成及びステップには同一符号を付し、その詳細な説明は省略または簡略化する。
本実施の形態２では、上述した実施の形態１に対して、クリーニング動作を行う期間（タイミング）を変更した点が異なるのみである。
すなわち、本実施の形態２に係る顕微鏡システムの構成は、上述した実施の形態１で説明した顕微鏡システム１００と同様の構成である。
以下では、本実施の形態２に係る顕微鏡システム１００の動作（タイムラプス観察）のみを説明する。

〔顕微鏡システムの動作〕
図１１は、本発明の実施の形態２に係る顕微鏡システム１００の動作（タイムラプス観察）を説明するフローチャートである。図１２は、図１１に示したタイムラプス観察を説明するための図である。
具体的に、図１２は、図９に対応した図である。
なお、本実施の形態２においても、タイムラプス観察の対象とする試料Ｓｐは、上述した実施の形態１で説明した試料Ｓｐ（Ｓｐ１〜Ｓｐ３）と同一のものとする（図７）。
本実施の形態２に係る顕微鏡システム１００の動作では、図１１に示すように、一のＸＹ設定位置への位置決め（ステップＳ１０１）を実行した後、次のＸＹ設定位置への位置決め（ステップＳ１０１）を実行する前に、クリーニング動作を実行する（ステップＳ１０５Ａ：付着物除去工程）。

具体的には、移動制御部３０３は、以下に示す（１），（２）の期間に、クリーニング動作（ステップＳ１０５Ａ）を実行する。
（１）ステップＳ１０３において第１観察対象Ｏ１の撮影を終了（図１２に示す時刻Ｔ１１Ｂ）した後、ステップＳ１０１において次の第２観察対象Ｏ２を観察することができる内側ＸＹ設定位置にＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙを位置決めする（図１２に示す時刻Ｔ１２Ａ）までの期間。
（２）ステップＳ１０３において第２観察対象Ｏ２の撮影を終了（図１２に示す時刻Ｔ１２Ｂ）した後、ステップＳ１０１において次の第３観察対象Ｏ３を観察することができる第２外側ＸＹ設定位置にＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙを位置決めする（図１２に示す時刻Ｔ１３Ａ）までの期間。

そして、上述した（１），（２）の期間において、移動制御部３０３は、図１２に示すように、Ｘ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙをＸ−Ｙ方向に移動し、第１，第２クリーニング動作位置のうち一方のクリーニング動作位置（現在のＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙの位置に近い方（図１２では第１クリーニング動作位置））にＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙを位置付ける。その後、移動制御部３０３は、Ｘ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙをＸ−Ｙ方向に移動し、第１，第２クリーニング動作位置のうち他方のクリーニング動作位置（図１２では第２クリーニング動作位置）にＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙを位置決めする。すなわち、本実施の形態２においても、移動制御部３０３は、ステップＳ１０５Ａにおいて、第１，第２外側ＸＹ設定位置の双方を通過するようにＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙを移動させるクリーニング動作を実行する。

以上説明した本実施の形態２のように、上記（１），（２）の期間にクリーニング動作を実施した場合であっても、上述した実施の形態１と同様の効果を奏する。また、クリーニング動作において、第１，第２クリーニング動作位置のうち一方のクリーニング動作位置（現在のＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙの位置に近い方）にＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙを移動させ、その後、他方のクリーニング動作位置にＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙを移動させるため、一の観察対象の撮影を完了した後、次の観察対象の位置決めを完了させるまでの間の時間が少ない場合であっても、効果的にクリーニング動作を実行することができる。

（実施の形態３）
次に、本発明の実施の形態３について説明する。
以下の説明では、上述した実施の形態１，２と同様の構成及びステップには同一符号を付し、その詳細な説明は省略または簡略化する。
本実施の形態３では、上述した実施の形態１に対して、クリーニング動作を行う期間（タイミング）を変更した点が異なるのみである。
すなわち、本実施の形態３に係る顕微鏡システムの構成は、上述した実施の形態１，２で説明した顕微鏡システム１００と同様の構成である。
以下では、本実施の形態３に係る顕微鏡システム１００の動作（タイムラプス観察）のみを説明する。

〔顕微鏡システムの動作〕
図１３は、本発明の実施の形態３に係る顕微鏡システム１００の動作（タイムラプス観察）を説明するフローチャートである。図１４は、図１３に示したタイムラプス観察を説明するための図である。
具体的に、図１４は、図９に対応した図である。
なお、本実施の形態３においても、タイムラプス観察の対象とする試料Ｓｐは、上述した実施の形態１で説明した試料Ｓｐ（Ｓｐ１〜Ｓｐ３）と同一のものとする（図７）。
本実施の形態３に係る顕微鏡システム１００の動作では、Ｘ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙを一のＸＹ設定位置に位置決めした後、次のＸＹ設定位置に位置決めする際に、クリーニング動作を実行する（ステップＳ１０１Ｂ：付着物除去工程）。
すなわち、クリーニング動作を実行する期間は、上述した実施の形態２で説明した（１），（２）の期間と同様である。

具体的に、上述した実施の形態２で説明した（１）の期間において、移動制御部３０３は、図１４に示すように、第１外側ＸＹ設定位置からＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙをＸ−Ｙ方向に移動し、第１クリーニング動作位置にＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙを位置付けた後、次の内側ＸＹ設定位置にＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙを位置決めする。
また、上述した実施の形態２で説明した（２）の期間において、移動制御部３０３は、図１４に示すように、内側ＸＹ設定位置からＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙをＸ−Ｙ方向に移動し、第２クリーニング動作位置にＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙを位置付けた後、次の第２外側ＸＹ設定位置にＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙを位置決めする。
すなわち、本実施の形態３では、移動制御部３０３は、ステップＳ１０１Ｂにおいて、第１外側ＸＹ設定位置のみ、または第２外側ＸＹ設定位置のみを通過するようにＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙを移動させるクリーニング動作を実行する。

以上説明した本実施の形態３のように、第１外側ＸＹ設定位置のみ、または第２外側ＸＹ設定位置のみを通過するようにＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙを移動させるクリーニング動作を実行した場合であっても、上述した実施の形態２と同様の効果を奏する。また、第１外側ＸＹ設定位置のみ、または第２外側ＸＹ設定位置のみを通過するようにＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙを移動させるため、一の観察対象の撮影を完了した後、次の観察対象の位置決めを完了させるまでの間の時間が少ない場合であっても、効果的にクリーニング動作を実行することができる。

（実施の形態４）
次に、本発明の実施の形態４について説明する。
以下の説明では、上述した実施の形態１と同様の構成及びステップには同一符号を付し、その詳細な説明は省略または簡略化する。
本実施の形態４に係るステージは、手動によりＸ，Ｙ方向移動部を移動可能とする。そして、本実施の形態４に係る制御装置には、所定の情報を表示装置５００に表示させ、手動による第１，第２外側ＸＹ設定位置の少なくともいずれか一方を通過するＸ，Ｙ方向移動部の移動をユーザに促す機能が追加されている。

〔制御装置の構成〕
本実施の形態４に係る制御装置３００Ｃには、上述した実施の形態１で説明した制御装置３００に対して、上述した機能を有する表示制御部３０６が追加されている。
そして、表示制御部３０６及び表示装置５００は、本発明に係る報知部に相当する。
表示制御部３０６は、前回、クリーニング動作（ステップＳ１０５）が実行されてからの経過時間や観察間隔Ｔｐ等に基づき、経過時間が所定の閾値を超えた場合や、第ｎ回観察終了から第ｎ＋１回観察開始までの時間が所定の閾値以上であると判断した場合に、タイムラプス観察の実行中に、所定の情報を表示装置５００に表示させる。
より具体的には、表示制御部３０６は、タイムラプス観察の実行中に、第ｎ回観察が実行された後、次の第ｎ＋１回観察が実行される前に、所定の情報を表示装置５００に表示させる。
上述した所定の情報としては、例えば、「手動によりＸ，Ｙ方向移動部を移動して下さい」というメッセージ、現在のＸ，Ｙ方向移動部の位置に対する第１，第２クリーニング動作位置までの距離、第１，第２クリーニング動作位置を往復する回数等が挙げられる。

以上説明した本実施の形態４によれば、上述した実施の形態１と同様の効果の他、以下の効果がある。
本実施の形態４に係る顕微鏡システム１００では、上述した所定の情報を表示することで、クリーニング動作（ステップＳ１０５）を実行するための制御を行わなくても、ユーザの手動により、第１，第２外側ＸＹ設定位置に対応する部位に付着した摩耗粉を清掃することができる。

（その他の実施形態）
上述した実施の形態１〜４では、本発明に係る位置決め装置を顕微鏡システムに適用した例を主に説明したが、これに限られず、その他の電子機器、例えば、カメラや時計等にも適用することができる。すなわち、超音波モータを利用して被駆動体を複数の設定位置に順次、位置決めする位置決め装置を利用する電子機器であれば、いずれの電子機器にも適用することができる。

上述した実施の形態１〜４では、Ｘ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙ（第１，第２摺動部材６ｘ，６ｙ）に付着した摩耗粉の清掃について説明したが、焦準機構２０５によるステージ２０３の移動に伴う摩耗粉の清掃に本願発明を適用しても構わない。

上述した実施の形態１〜４では、基部２に対してＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙを移動させる構成を説明したが、これに限られず、基部２に対してＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙを相対的に移動させる構成であれば、Ｘ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙに対して基部２を移動させる構成や、基部２及びＸ，Ｙ方向移動部３ｘ，３ｙの双方を移動させる構成としても構わない。

上述した実施の形態１〜４において、クリーニング動作（ステップＳ１０５，Ｓ１０５Ａ，Ｓ１０１Ｂ）は、各実施の形態１〜３で説明した期間に必ず実行する構成の他、前回、クリーニング動作が実行されてからの経過時間、試料Ｓｐの数、観察間隔Ｔｐ、観察回数等に基づいて、適宜、各実施の形態１〜３で説明した期間に実行する構成や、各実施の形態１〜３で説明した期間を組み合わせて実行する構成等を採用しても構わない。

１ 位置決め装置
２ 基部
３ 移動部
３ｘ Ｘ方向移動部
３ｙ Ｙ方向移動部
４ 超音波アクチュエータ
４ｘ 第１超音波アクチュエータ
４ｙ 第２超音波アクチュエータ
５ エンコーダ
５ｘ 第１エンコーダ
５ｙ 第２エンコーダ
６ｘ 第１摺動部材
６ｙ 第２摺動部材
７ｘ 第１スケール
７ｙ 第２スケール
８ｘ 第１ガイドレール
８ｙ 第２ガイドレール
４１ｘ 第１超音波モータ
４１ｙ 第２超音波モータ
４２ｘ 第１保持機構
４２ｙ 第２保持機構
４１１ｘ，４１２ｘ 第１振動子
４１１ｙ，４１２ｙ 第２振動子
４１３ｘ 第１積層型圧電体
４１４ｘ〜４１７ｘ 屈曲振動用電極
４１８ｘ 縦振動用電極
１００ 顕微鏡システム
２００ 顕微鏡
２０１ 光源装置
２０２ 第１ミラー
２０３ ステージ
２０３Ａ 開口
２０４ 中座
２０４Ａ 開口
２０５ 焦準機構
２０６ 対物レンズ
２０７ ハーフミラー
２０８ 第１結像レンズ
２０９ 接眼レンズ
２１０ 第２ミラー
２１１ 第２結像レンズ
２１２ カメラ
３００ 制御装置
３０１ 駆動部
３０２ 検出部
３０３ 移動制御部
３０４ 撮像制御部
３０５ メモリ
３０６ 表示制御部
４００ 操作装置
５００ 表示装置
Ｌ 光軸
Ｓｐ，Ｓｐ１〜Ｓｐ３ 試料
Ｏ１〜Ｏ３ 第１〜第３観察対象
Ｔ１１Ａ，Ｔ１１Ｂ，Ｔ１２Ａ，Ｔ１２Ｂ，Ｔ１３Ａ，Ｔ１３Ｂ，Ｔ２１Ａ，Ｔ２３Ｂ 時刻

Claims (11)

1. 基部と、
   前記基部に対して移動可能に取り付けられた移動部と、
   前記基部に取り付けられ、超音波振動を発生することによって前記移動部を前記基部に対して相対的に移動させる超音波モータと、
   前記超音波モータを動作させることで前記移動部を前記基部に対して相対的に移動させ、複数の設定位置に前記移動部を順次、位置決めする位置決め動作を繰り返す移動制御部とを備え、
   前記移動制御部は、
   前記複数の設定位置のうち当該設定位置同士の離間距離が最も大きい第１外側設定位置及び第２外側設定位置の少なくともいずれか一方を通過するように前記移動部を前記基部に対して相対的に移動させる
   ことを特徴とする位置決め装置。
2. 前記移動制御部は、
   一の前記位置決め動作を実行した後、次の前記位置決め動作を実行する前に、前記第１外側設定位置及び前記第２外側設定位置の少なくともいずれか一方を通過するように前記移動部を前記基部に対して相対的に移動させる
   ことを特徴とする請求項１に記載の位置決め装置。
3. 前記移動制御部は、
   前記複数の設定位置のうち一の設定位置から次の設定位置に前記移動部を位置決めする際に、前記第１外側設定位置及び前記第２外側設定位置の少なくともいずれか一方を通過するように前記移動部を前記基部に対して相対的に移動させる
   ことを特徴とする請求項１に記載の位置決め装置。
4. 前記移動制御部は、
   前記複数の設定位置のうち一の設定位置から次の設定位置に前記移動部を位置決めする際に、前記第１外側設定位置及び前記第２外側設定位置の双方を通過するように前記移動部を前記基部に対して相対的に移動させる
   ことを特徴とする請求項３に記載の位置決め装置。
5. 前記移動制御部は、
   一の前記位置決め動作において、前記第１外側設定位置から前記第２外側設定位置まで、隣接する前記設定位置に向けて順次、前記移動部を位置決めし、
   前記第１外側設定位置から次の前記設定位置に前記移動部を位置決めする際に、前記第１外側設定位置を通過するように前記移動部を前記基部に対して相対的に移動させ、
   一の前記設定位置から前記第２外側設定位置に前記移動部を位置決めする際に、前記第２外側設定位置を通過するように前記移動部を前記基部に対して相対的に移動させる
   ことを特徴とする請求項３に記載の位置決め装置。
6. 前記移動制御部は、
   前記第１外側設定位置及び前記第２外側設定位置の少なくともいずれか一方を通過するように前記移動部を前記基部に対して相対的に移動させるクリーニング動作を複数回、実行する
   ことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一つに記載の位置決め装置。
7. 前記移動制御部は、
   前記第１外側設定位置及び前記第２外側設定位置の少なくともいずれか一方を通過させる前に前記移動部の前記基部に対する相対的な移動を一旦、停止しておく位置を、複数回、実行する各前記クリーニング動作でそれぞれ異なる位置とする
   ことを特徴とする請求項６に記載の位置決め装置。
8. 前記第１外側設定位置及び前記第２外側設定位置の少なくともいずれか一方を通過する前記移動部の前記基部に対する相対的な移動を促す情報を報知する報知部を備える
   ことを特徴とする請求項１〜７のいずれか一つに記載の位置決め装置。
9. 前記報知部は、
   一の前記位置決め動作が実行された後、次の前記位置決め動作が実行される前に、前記情報を報知する
   ことを特徴とする請求項８に記載の位置決め装置。
10. 請求項１〜９のいずれか一つに記載の位置決め装置と、
    前記移動部に載せられた観察試料を照明する観察光源と、
    前記観察試料に対して対峙する対物レンズと、
    前記対物レンズを介して前記観察試料を撮像する撮像部と、
    前記移動部が前記複数の設定位置に順次、位置決めされる毎に、前記撮像部に前記観察試料を撮像させる撮像制御部とを備える
    ことを特徴とする顕微鏡システム。
11. 超音波モータを動作させることで移動部を基部に対して相対的に移動させて複数の設定位置に前記移動部を順次、位置決めする位置決め動作を繰り返す位置決め装置が実行する付着物除去方法において、
    前記複数の設定位置のうち当該設定位置同士の離間距離が最も大きい第１外側設定位置及び第２外側設定位置の少なくともいずれか一方を通過するように前記移動部を前記基部に対して相対的に移動させる付着物除去工程を含む
    ことを特徴とする付着物除去方法。

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