JP2015095425A - 試料作製装置及び試料作製方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】試料を加工して試料の断面を作製する試料作製装置であって、試料を撮像して画像を出力する撮像部と、イオンビームを発生するイオンビーム発生部と、試料の一部を覆うように配置され、試料をイオンビームから遮蔽するための遮蔽材と、
遮蔽材の位置を調整する遮蔽材位置調整機構と、試料が遮蔽材に覆われていない状態で撮像部によって撮像された試料の画像を記憶する記憶部と、撮像部からリアルタイムに出力された画像と記憶部に記憶された画像とを合成して合成画像を生成し、生成した合成画像を表示部に出力する画像処理部とを含む。
【選択図】図1
Description
前記試料を撮像して画像を出力する撮像部と、
イオンビームを発生するイオンビーム発生部と、
前記試料の一部を覆うように配置され、前記試料を前記イオンビームから遮蔽するための遮蔽材と、
前記遮蔽材の位置を調整する遮蔽材位置調整機構と、
前記試料が前記遮蔽材に覆われていない状態で前記撮像部によって撮像された前記試料の画像を記憶する記憶部と、
前記撮像部からリアルタイムに出力された画像と前記記憶部に記憶された画像とを合成して合成画像を生成し、生成した合成画像を表示部に出力する画像処理部とを含むことを特徴とする試料作製装置に関する。
前記試料が前記遮蔽材に覆われていない状態で撮像部によって撮像された前記試料の画像を記憶部に記憶させるステップと、
前記遮蔽材の位置調整を行う際に、前記撮像部からリアルタイムに出力された画像と前記記憶部に記憶された画像とを合成して合成画像を生成し、生成した合成画像を表示部に出力するステップと、
位置調整が行われた前記遮蔽材と前記試料に対してイオンビームを照射して前記試料の断面を作製するステップとを含むことを特徴とする試料作製方法に関する。
図1は、本実施形態に係る試料作製装置の構成の一例を示す図である。なお本実施形態の試料作製装置は図1の構成要素(各部)の一部を省略した構成としてもよい。
料位置調整機構32には、試料Sを保持する試料ホルダ34が取り付けられている。
次に本実施形態の手法について図面を用いて説明する。
されて)しまうため、当該部分を視認することができず、遮蔽材の位置調整が困難なものとなっていた。例えば、試料上の任意の加工位置に遮蔽材の端面を合わせようとする場合には、試料像SIの視認できる部分と視認できない部分との位置関係が把握しづらくなり、また、試料上のエッジ構造に遮蔽材の端面を合わせようとする場合には、遮蔽材の端面が当該エッジ構造上に位置しているのか否かを把握しづらくなっていた。
次に、本実施形態の試料作製装置の処理の一例について図4のフローチャートを用いて説明する。
S18)。
Claims (2)
- 試料を加工して試料の断面を作製する試料作製装置であって、
前記試料を撮像して画像を出力する撮像部と、
イオンビームを発生するイオンビーム発生部と、
前記試料の一部を覆うように配置され、前記試料を前記イオンビームから遮蔽するための遮蔽材と、
前記遮蔽材の位置を調整する遮蔽材位置調整機構と、
前記試料が前記遮蔽材に覆われていない状態で前記撮像部によって撮像された前記試料の画像を記憶する記憶部と、
前記撮像部からリアルタイムに出力された画像と前記記憶部に記憶された画像とを合成して合成画像を生成し、生成した合成画像を表示部に出力する画像処理部とを含むことを特徴とする試料作製装置。 - 試料の一部を覆うように配置され前記試料をイオンビームから遮蔽するための遮蔽材を用いて前記試料を加工して、前記試料の断面を作製する試料作製方法であって、
前記試料が前記遮蔽材に覆われていない状態で撮像部によって撮像された前記試料の画像を記憶部に記憶させるステップと、
前記遮蔽材の位置調整を行う際に、前記撮像部からリアルタイムに出力された画像と前記記憶部に記憶された画像とを合成して合成画像を生成し、生成した合成画像を表示部に出力するステップと、
位置調整が行われた前記遮蔽材と前記試料に対してイオンビームを照射して前記試料の断面を作製するステップとを含むことを特徴とする試料作製方法。
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Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Cited By (4)
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---|---|---|---|---|
CN104897699A (zh) * | 2015-06-08 | 2015-09-09 | 北京工业大学 | 一种可以对块体材料进行加工并实现原子尺度原位变形的方法和装置 |
CN104897699B (zh) * | 2015-06-08 | 2018-03-30 | 北京工业大学 | 一种可以对块体材料进行加工并实现原子尺度原位变形的方法和装置 |
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