JP2015094022A - プラズマcvd装置 - Google Patents
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Abstract
Description
10:成膜室
20:ワーク
30:原料ガス供給手段
40:排気手段
100:継電機構部
101:継電部
102:絶縁ケース
103:電源部
110:給電部
130:中間電位金属
150:ケーブル接続口
151:不活性ガス流路
160:不活性ガス供給手段
Claims (1)
- 成膜室内のワークに給電を行う電源部と、
前記ワークと前記電源部とを接続する継電部と、
前記電源部の一端側と前記継電部との接続部の周辺を覆うパイプ状の絶縁ケースと、
前記成膜室外に設けられる不活性ガス供給手段と、を備え、
前記不活性ガス供給手段は、前記電源部の他端側から不活性ガスを前記絶縁ケースの内部に導入して前記接続部の周辺に送り込むことを特徴とするプラズマCVD装置。
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JP2013235795A JP6007885B2 (ja) | 2013-11-14 | 2013-11-14 | プラズマcvd装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2013235795A JP6007885B2 (ja) | 2013-11-14 | 2013-11-14 | プラズマcvd装置 |
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JP2015094022A true JP2015094022A (ja) | 2015-05-18 |
JP6007885B2 JP6007885B2 (ja) | 2016-10-19 |
Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2013235795A Active JP6007885B2 (ja) | 2013-11-14 | 2013-11-14 | プラズマcvd装置 |
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Citations (4)
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2013
- 2013-11-14 JP JP2013235795A patent/JP6007885B2/ja active Active
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