JP2015093246A - 積層体の製造方法、積層体、太陽電池用カバーガラス、及び太陽熱発電用ミラー - Google Patents
積層体の製造方法、積層体、太陽電池用カバーガラス、及び太陽熱発電用ミラー Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015093246A JP2015093246A JP2013234225A JP2013234225A JP2015093246A JP 2015093246 A JP2015093246 A JP 2015093246A JP 2013234225 A JP2013234225 A JP 2013234225A JP 2013234225 A JP2013234225 A JP 2013234225A JP 2015093246 A JP2015093246 A JP 2015093246A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- component
- coating composition
- group
- composition layer
- laminated body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 43
- 238000010248 power generation Methods 0.000 title claims description 17
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 title claims description 12
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims abstract description 102
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 76
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 39
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 36
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 33
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 32
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 31
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims abstract description 31
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 29
- 150000004706 metal oxides Chemical group 0.000 claims abstract description 29
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims abstract description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 38
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 28
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 14
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 14
- 239000004566 building material Substances 0.000 claims description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 15
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 52
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 39
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- -1 acryl Chemical group 0.000 description 26
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 25
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 24
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 24
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 24
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 23
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 21
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 21
- 239000002585 base Substances 0.000 description 18
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 18
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 16
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 14
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 13
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 11
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 10
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 9
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 9
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 9
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 9
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 8
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 7
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 6
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 5
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 5
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 4
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 4
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 4
- 238000007763 reverse roll coating Methods 0.000 description 4
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylbenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C=C XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 3
- IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(oxo)silane Chemical compound O[Si](O)=O IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940060296 dodecylbenzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 3
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 3
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- WHIVNJATOVLWBW-UHFFFAOYSA-N n-butan-2-ylidenehydroxylamine Chemical compound CCC(C)=NO WHIVNJATOVLWBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003544 oxime group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 3
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 3
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 3
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 3
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 3
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 2
- MCDBEBOBROAQSH-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C=C MCDBEBOBROAQSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCl KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JMGZKPMMFXFSGK-UHFFFAOYSA-N 3-tri(propan-2-yloxy)silylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)CCCOC(=O)C=C JMGZKPMMFXFSGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YATIYDNBFHEOFA-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-ol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCO YATIYDNBFHEOFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HGEKXQRHZRDGKO-UHFFFAOYSA-N 3-tripropoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)CCCOC(=O)C=C HGEKXQRHZRDGKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N [dimethoxy(propyl)silyl]oxymethyl prop-2-enoate Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OCOC(=O)C=C RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000006121 base glass Substances 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 239000012792 core layer Substances 0.000 description 2
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 2
- MEWFSXFFGFDHGV-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1CCCCC1 MEWFSXFFGFDHGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 2
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NKHAVTQWNUWKEO-UHFFFAOYSA-N fumaric acid monomethyl ester Natural products COC(=O)C=CC(O)=O NKHAVTQWNUWKEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005431 greenhouse gas Substances 0.000 description 2
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 2
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008213 purified water Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 239000002352 surface water Substances 0.000 description 2
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFRDHGNFBLIJIY-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(prop-2-enyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC=C LFRDHGNFBLIJIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTOVMEACOLCUCK-SNAWJCMRSA-N (e)-4-butoxy-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound CCCCOC(=O)\C=C\C(O)=O UTOVMEACOLCUCK-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- NQQRXZOPZBKCNF-NSCUHMNNSA-N (e)-but-2-enamide Chemical class C\C=C\C(N)=O NQQRXZOPZBKCNF-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- OGZPYBBKQGPQNU-DABLZPOSSA-N (e)-n-[bis[[(e)-butan-2-ylideneamino]oxy]-methylsilyl]oxybutan-2-imine Chemical compound CC\C(C)=N\O[Si](C)(O\N=C(/C)CC)O\N=C(/C)CC OGZPYBBKQGPQNU-DABLZPOSSA-N 0.000 description 1
- XKBQRJBETDMEFN-ILRZCOILSA-N (e)-n-[bis[[(e)-butan-2-ylideneamino]oxy]-phenylsilyl]oxybutan-2-imine Chemical compound CC\C(C)=N\O[Si](O\N=C(/C)CC)(O\N=C(/C)CC)C1=CC=CC=C1 XKBQRJBETDMEFN-ILRZCOILSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWYVGKFDLWWQJX-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylazepan-2-one Chemical compound C=CN1CCCCCC1=O JWYVGKFDLWWQJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 1-morpholin-4-ylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CCOCC1 XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RESPXSHDJQUNTN-UHFFFAOYSA-N 1-piperidin-1-ylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CCCCC1 RESPXSHDJQUNTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLPAQAXAZQUXBG-UHFFFAOYSA-N 1-pyrrolidin-1-ylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CCCC1 WLPAQAXAZQUXBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQUROMIGLUXXNW-UHFFFAOYSA-N 1-triethoxysilylpropan-2-ol Chemical compound CCO[Si](CC(C)O)(OCC)OCC ZQUROMIGLUXXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFAZQMFMBKQIDW-UHFFFAOYSA-N 1-trimethoxysilylpropan-2-ol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC(C)O AFAZQMFMBKQIDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGGNJZRNHUJNEM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexamethyl-1,3,5,2,4,6-triazatrisilinane Chemical compound C[Si]1(C)N[Si](C)(C)N[Si](C)(C)N1 WGGNJZRNHUJNEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLQFXOWPTQTLDP-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCO OLQFXOWPTQTLDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXHZNLCKXHJYNX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound COCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C TXHZNLCKXHJYNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000143 2-carboxyethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003006 2-dimethylaminoethyl group Chemical group [H]C([H])([H])N(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- PLWQJHWLGRXAMP-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxy-n,n-diethylethanamine Chemical compound CCN(CC)CCOC=C PLWQJHWLGRXAMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWCDUUFOAZFFMX-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxy-n,n-dimethylethanamine Chemical compound CN(C)CCOC=C JWCDUUFOAZFFMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxyethanol Chemical compound OCCOC=C VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYZRVQDBDAPABU-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxyethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCOC=C TYZRVQDBDAPABU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKVUWTYSNLGBJY-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-morpholin-4-ylprop-2-en-1-one Chemical compound CC(=C)C(=O)N1CCOCC1 AKVUWTYSNLGBJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RASDUGQQSMMINZ-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-piperidin-1-ylprop-2-en-1-one Chemical compound CC(=C)C(=O)N1CCCCC1 RASDUGQQSMMINZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVCMKNCJDCTPIB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-pyrrolidin-1-ylprop-2-en-1-one Chemical compound CC(=C)C(=O)N1CCCC1 LVCMKNCJDCTPIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[(2-methylprop-2-enoylamino)methyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCNC(=O)C(C)=C TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQIGLEFUZMIVHU-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-propan-2-ylprop-2-enamide Chemical compound CC(C)NC(=O)C(C)=C YQIGLEFUZMIVHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMADMUIDBVATJT-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enamide;propan-2-one Chemical compound CC(C)=O.CC(C)=O.CC(=C)C(N)=O JMADMUIDBVATJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 2-propoxyethanol Chemical compound CCCOCCO YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZHTLMPWATZQGAP-UHFFFAOYSA-N 2-triethoxysilylethanol Chemical compound CCO[Si](CCO)(OCC)OCC ZHTLMPWATZQGAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOSZBTFBHSYELP-UHFFFAOYSA-N 2-trimethoxysilylethanol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCO BOSZBTFBHSYELP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZZPNEOLSOMDBS-UHFFFAOYSA-N 3-ethenoxy-n,n-dimethylpropan-1-amine Chemical compound CN(C)CCCOC=C NZZPNEOLSOMDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVRCNEIYXSRHNT-UHFFFAOYSA-N 3-ethylpent-2-enamide Chemical compound CCC(CC)=CC(N)=O UVRCNEIYXSRHNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl Chemical group [CH2]CCO QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMGBDYLOANULLW-UHFFFAOYSA-N 3-isocyanatopropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN=C=O FMGBDYLOANULLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMUBRRLYMADSGF-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropan-1-ol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCO NMUBRRLYMADSGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropylurea Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC(N)=O LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVAAYFMMXYRORI-UHFFFAOYSA-N 4-butoxy-2-methylidene-4-oxobutanoic acid Chemical compound CCCCOC(=O)CC(=C)C(O)=O VVAAYFMMXYRORI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYHBGVUSOICOJU-UHFFFAOYSA-N 4-ethenoxy-4-oxobutanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC(=O)OC=C LYHBGVUSOICOJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUFPWAPCRWWPLJ-UHFFFAOYSA-N 4-ethenoxy-n,n-dimethylbutan-1-amine Chemical compound CN(C)CCCCOC=C IUFPWAPCRWWPLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMBNQNDUEFFFNZ-UHFFFAOYSA-N 4-ethenoxybutan-1-ol Chemical compound OCCCCOC=C HMBNQNDUEFFFNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVCNXQOWACZAFN-UHFFFAOYSA-N 4-ethylmorpholine Chemical compound CCN1CCOCC1 HVCNXQOWACZAFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-butyl Chemical group [CH2]CCCO SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIYTYGOUZOARSH-UHFFFAOYSA-N 4-methoxy-2-methylidene-4-oxobutanoic acid Chemical compound COC(=O)CC(=C)C(O)=O OIYTYGOUZOARSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRQREXSTQVWUGV-UHFFFAOYSA-N 6-ethenoxy-6-oxohexanoic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(=O)OC=C PRQREXSTQVWUGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSPVIGXZMIAZRX-UHFFFAOYSA-N 9-ethenylcarbazole 1-ethenyl-2H-quinoline Chemical compound C(=C)N1CC=CC2=CC=CC=C12.C(=C)N1C2=CC=CC=C2C=2C=CC=CC12 ZSPVIGXZMIAZRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910015902 Bi 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- YCBCEPLTBMFXGV-UHFFFAOYSA-N C[SiH](OC)OC.C(C)O[SiH2]OCC Chemical compound C[SiH](OC)OC.C(C)O[SiH2]OCC YCBCEPLTBMFXGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001024304 Mino Species 0.000 description 1
- UTCNUORGKRQMGA-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetraethyl-1-silylmethanediamine Chemical compound CCN(CC)C([SiH3])N(CC)CC UTCNUORGKRQMGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLENSRXRRIPTDY-UHFFFAOYSA-N O(C1=CC=CC=C1)[Si](OC1=CC=CC=C1)(OC1=CC=CC=C1)C(C)(C)[Si](OC1=CC=CC=C1)(OC1=CC=CC=C1)OC1=CC=CC=C1 Chemical compound O(C1=CC=CC=C1)[Si](OC1=CC=CC=C1)(OC1=CC=CC=C1)C(C)(C)[Si](OC1=CC=CC=C1)(OC1=CC=CC=C1)OC1=CC=CC=C1 VLENSRXRRIPTDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003849 O-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003872 O—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002367 SrTiO Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(methyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(OC(C)=O)OC(C)=O TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DEYDUKNLUPMNSU-UHFFFAOYSA-N [methyl-bis[(2,2,2-trichloroacetyl)oxy]silyl] 2,2,2-trichloroacetate Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C(=O)O[Si](C)(OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl)OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl DEYDUKNLUPMNSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N aluminum;sodium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Na+].[Al+3] ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000002344 aminooxy group Chemical group [H]N([H])O[*] 0.000 description 1
- 230000002421 anti-septic effect Effects 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000003429 antifungal agent Substances 0.000 description 1
- 229940121375 antifungal agent Drugs 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 229940064004 antiseptic throat preparations Drugs 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- LCBMEUBOFLEEPZ-UHFFFAOYSA-N bis[(2,2,2-trichloroacetyl)oxy]silyl 2,2,2-trichloroacetate Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C(=O)O[SiH](OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl)OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl LCBMEUBOFLEEPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGNRWLIFVOSWMK-UHFFFAOYSA-N bis[(2,2,2-trifluoroacetyl)oxy]silyl 2,2,2-trifluoroacetate Chemical compound FC(F)(F)C(=O)O[SiH](OC(=O)C(F)(F)F)OC(=O)C(F)(F)F LGNRWLIFVOSWMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTOVMEACOLCUCK-PLNGDYQASA-N butyl maleate Chemical compound CCCCOC(=O)\C=C/C(O)=O UTOVMEACOLCUCK-PLNGDYQASA-N 0.000 description 1
- XGZGKDQVCBHSGI-UHFFFAOYSA-N butyl(triethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OCC)(OCC)OCC XGZGKDQVCBHSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXPLZNMUBFBFIA-UHFFFAOYSA-N butyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OC)(OC)OC SXPLZNMUBFBFIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940072282 cardura Drugs 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000013626 chemical specie Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- ATGKAFZFOALBOF-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1CCCCC1 ATGKAFZFOALBOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002781 deodorant agent Substances 0.000 description 1
- DGPFXVBYDAVXLX-UHFFFAOYSA-N dibutyl(diethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OCC)(OCC)CCCC DGPFXVBYDAVXLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPENMAABQGWRBR-UHFFFAOYSA-N dibutyl(dimethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OC)(OC)CCCC YPENMAABQGWRBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- ZMAPKOCENOWQRE-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(CC)OCC ZMAPKOCENOWQRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRMUHDACMQEQMT-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diheptyl)silane Chemical compound CCCCCCC[Si](OCC)(OCC)CCCCCCC NRMUHDACMQEQMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDFQIGODCFRNJY-UHFFFAOYSA-N diethoxy(dihexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OCC)(OCC)CCCCCC UDFQIGODCFRNJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YETKAVVSNLUTEQ-UHFFFAOYSA-N diethoxy(dioctyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)CCCCCCCC YETKAVVSNLUTEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDXFKFNGIDWIQQ-UHFFFAOYSA-N diethoxy(dipentyl)silane Chemical compound CCCCC[Si](OCC)(OCC)CCCCC VDXFKFNGIDWIQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZLIIKNXMLEWPA-UHFFFAOYSA-N diethoxy(dipropyl)silane Chemical compound CCC[Si](CCC)(OCC)OCC HZLIIKNXMLEWPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N diethoxy(methyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)OCC GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVKJJEAEVBNODX-UHFFFAOYSA-N diethoxy-di(propan-2-yl)silane Chemical compound CCO[Si](C(C)C)(C(C)C)OCC VVKJJEAEVBNODX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSYLGGHSEIWGJV-UHFFFAOYSA-N diethyl(dimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](CC)(OC)OC VSYLGGHSEIWGJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZBCKWWFOPPOCW-UHFFFAOYSA-N diheptyl(dimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCC[Si](OC)(OC)CCCCCCC DZBCKWWFOPPOCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYICXDQJFWXGTC-UHFFFAOYSA-N dihexyl(dimethoxy)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OC)(OC)CCCCCC CYICXDQJFWXGTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- TYXIAHKLJMLPIP-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dioctyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OC)(OC)CCCCCCCC TYXIAHKLJMLPIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXAPXYULCIKKNK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dipentyl)silane Chemical compound CCCCC[Si](OC)(OC)CCCCC LXAPXYULCIKKNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVUVKQDVTIIMOD-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dipropyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)CCC JVUVKQDVTIIMOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHPUZTHRFWIGAW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-di(propan-2-yl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(C(C)C)C(C)C VHPUZTHRFWIGAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQGOWXYZDLJBFL-UHFFFAOYSA-N dimethoxysilane Chemical compound CO[SiH2]OC YQGOWXYZDLJBFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L disodium hydrogen phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].OP([O-])([O-])=O BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000397 disodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019800 disodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- RUZYUOTYCVRMRZ-UHFFFAOYSA-N doxazosin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2OC1C(=O)N(CC1)CCN1C1=NC(N)=C(C=C(C(OC)=C2)OC)C2=N1 RUZYUOTYCVRMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(trimethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 1
- VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N glutaric anhydride Chemical compound O=C1CCCC(=O)O1 VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- VRINOTYEGADLMW-UHFFFAOYSA-N heptyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCC[Si](OC)(OC)OC VRINOTYEGADLMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N hexyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OC)(OC)OC CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 1
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N methoxy(trimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)C POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N methoxysilane Chemical compound CO[SiH3] ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKHAVTQWNUWKEO-IHWYPQMZSA-N methyl hydrogen fumarate Chemical compound COC(=O)\C=C/C(O)=O NKHAVTQWNUWKEO-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000693 micelle Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- NKHAVTQWNUWKEO-NSCUHMNNSA-N monomethyl fumarate Chemical compound COC(=O)\C=C\C(O)=O NKHAVTQWNUWKEO-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 229940005650 monomethyl fumarate Drugs 0.000 description 1
- 230000000877 morphologic effect Effects 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- WFKDPJRCBCBQNT-UHFFFAOYSA-N n,2-dimethylprop-2-enamide Chemical compound CNC(=O)C(C)=C WFKDPJRCBCBQNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRWZCJXEAOZAAW-UHFFFAOYSA-N n,n,2-trimethylprop-2-enamide Chemical compound CN(C)C(=O)C(C)=C QRWZCJXEAOZAAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVHHHVAVHBHXAK-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylprop-2-enamide Chemical compound CCN(CC)C(=O)C=C OVHHHVAVHBHXAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940088644 n,n-dimethylacrylamide Drugs 0.000 description 1
- YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylprop-2-enamide Chemical compound CN(C)C(=O)C=C YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N n-(2-methyl-4-oxopentan-2-yl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N n-(hydroxymethyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCO DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XIFOKLGEKUNZTI-UHFFFAOYSA-N n-[diethylamino(dimethyl)silyl]-n-ethylethanamine Chemical compound CCN(CC)[Si](C)(C)N(CC)CC XIFOKLGEKUNZTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QULMGWCCKILBTO-UHFFFAOYSA-N n-[dimethylamino(dimethyl)silyl]-n-methylmethanamine Chemical compound CN(C)[Si](C)(C)N(C)C QULMGWCCKILBTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBYLGQXERITIBP-UHFFFAOYSA-N n-[dimethylamino(methyl)silyl]-n-methylmethanamine Chemical compound CN(C)[SiH](C)N(C)C VBYLGQXERITIBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQAKESSLMFZVMC-UHFFFAOYSA-N n-ethenylacetamide Chemical compound CC(=O)NC=C RQAKESSLMFZVMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIWDVJPPVMGJGR-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CCNC(=O)C(C)=C ZIWDVJPPVMGJGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLVYQHNZVBDPES-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n,2-dimethylprop-2-enamide Chemical compound CCN(C)C(=O)C(C)=C YLVYQHNZVBDPES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOTWHNWBICCBPC-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-methylprop-2-enamide Chemical compound CCN(C)C(=O)C=C ZOTWHNWBICCBPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWPMNMYLORDLJE-UHFFFAOYSA-N n-ethylprop-2-enamide Chemical compound CCNC(=O)C=C SWPMNMYLORDLJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COYVWKMZTCAFHO-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-propan-2-ylprop-2-enamide Chemical compound CC(C)N(C)C(=O)C=C COYVWKMZTCAFHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPHQUSNPXDGUHL-UHFFFAOYSA-N n-methylprop-2-enamide Chemical compound CNC(=O)C=C YPHQUSNPXDGUHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNILTEGFHQSKFF-UHFFFAOYSA-N n-propan-2-ylprop-2-enamide Chemical compound CC(C)NC(=O)C=C QNILTEGFHQSKFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N oxolead Chemical compound [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006174 pH buffer Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229920002503 polyoxyethylene-polyoxypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 238000000518 rheometry Methods 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- AIFMYMZGQVTROK-UHFFFAOYSA-N silicon tetrabromide Chemical compound Br[Si](Br)(Br)Br AIFMYMZGQVTROK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001388 sodium aluminate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 239000004328 sodium tetraborate Substances 0.000 description 1
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- OQTSOKXAWXRIAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutan-2-yl silicate Chemical compound CCC(C)O[Si](OC(C)CC)(OC(C)CC)OC(C)CC OQTSOKXAWXRIAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N tetramethylammonium Chemical compound C[N+](C)(C)C QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N tetrapropan-2-yl silicate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCLLLHFGVQKVKL-UHFFFAOYSA-N tetratert-butyl silicate Chemical compound CC(C)(C)O[Si](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C BCLLLHFGVQKVKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006276 transfer reaction Methods 0.000 description 1
- YZVRVDPMGYFCGL-UHFFFAOYSA-N triacetyloxysilyl acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)OC(C)=O YZVRVDPMGYFCGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBSUPJLTDMARAI-UHFFFAOYSA-N tribromo(methyl)silane Chemical compound C[Si](Br)(Br)Br KBSUPJLTDMARAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBOKZQNMFSHYNQ-UHFFFAOYSA-N tribromosilane Chemical compound Br[SiH](Br)Br IBOKZQNMFSHYNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940066528 trichloroacetate Drugs 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- FOQJQXVUMYLJSU-UHFFFAOYSA-N triethoxy(1-triethoxysilylethyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(C)[Si](OCC)(OCC)OCC FOQJQXVUMYLJSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALVYUZIFSCKIFP-UHFFFAOYSA-N triethoxy(2-methylpropyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC(C)C)(OCC)OCC ALVYUZIFSCKIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLGWXNBXAXOQBG-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(F)(F)F ZLGWXNBXAXOQBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3-isocyanatopropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C=O FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYOKTQVLKOAHRM-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3-triethoxysilylpropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC[Si](OCC)(OCC)OCC PYOKTQVLKOAHRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJDLPDPRMYAOCM-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propan-2-yl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(C)C BJDLPDPRMYAOCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIINUVYELHEORX-UHFFFAOYSA-N triethoxy(triethoxysilylmethyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C[Si](OCC)(OCC)OCC NIINUVYELHEORX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYJNCOSWWOMZHX-UHFFFAOYSA-N triethoxy-(4-triethoxysilylphenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=C([Si](OCC)(OCC)OCC)C=C1 YYJNCOSWWOMZHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC2OC21 UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHOCBLDBJFCBQS-UHFFFAOYSA-N trifluoro(methyl)silane Chemical compound C[Si](F)(F)F BHOCBLDBJFCBQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPPVEXTUHHUEIV-UHFFFAOYSA-N trifluorosilane Chemical compound F[SiH](F)F WPPVEXTUHHUEIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCGDCINCKDQXDX-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(2-trimethoxysilylethyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC[Si](OC)(OC)OC JCGDCINCKDQXDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(F)(F)F JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQASLKRKZDJCBO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3-trimethoxysilylpropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC[Si](OC)(OC)OC LQASLKRKZDJCBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMEPHPOFYLLFTK-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(octyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC NMEPHPOFYLLFTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HILHCDFHSDUYNX-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(pentyl)silane Chemical compound CCCCC[Si](OC)(OC)OC HILHCDFHSDUYNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGROXJWYRXANBB-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propan-2-yl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(C)C LGROXJWYRXANBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJYGUVIGOGFJOF-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(trimethoxysilylmethyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C[Si](OC)(OC)OC DJYGUVIGOGFJOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIRZROVNUPFFNZ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-(4-trimethoxysilylphenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=C([Si](OC)(OC)OC)C=C1 YIRZROVNUPFFNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLERFSPANXQJMK-UHFFFAOYSA-N triphenoxy(1-triphenoxysilylethyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(OC=1C=CC=CC=1)C(C)[Si](OC=1C=CC=CC=1)(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 QLERFSPANXQJMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AABYOUNGNSKTRH-UHFFFAOYSA-N triphenoxy(triphenoxysilylmethyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(OC=1C=CC=CC=1)C[Si](OC=1C=CC=CC=1)(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 AABYOUNGNSKTRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMDWRHNNZFIVTK-UHFFFAOYSA-N tris[(2,2,2-trifluoroacetyl)oxy]silyl 2,2,2-trifluoroacetate Chemical compound FC(F)(F)C(=O)O[Si](OC(=O)C(F)(F)F)(OC(=O)C(F)(F)F)OC(=O)C(F)(F)F VMDWRHNNZFIVTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
- 229940124024 weight reducing agent Drugs 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/52—PV systems with concentrators
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
Description
例えば、太陽電池発電や風力発電等の環境に優しい再生可能なエネルギーは、炭酸ガス等の温暖化ガスを排出しないため、クリーンなエネルギーとして研究開発が盛んに行われている。
中でも、安全性や扱いやすさに優れていることから、太陽電池発電の技術が急速に発展している。
大規模発電用の太陽電池においては、家庭用と比較して、より一層高い出力が求められている。
また、太陽電池の表面に備えられている保護カバーが煤塵や砂塵の堆積等で汚れると、太陽光の光線透過率が低下するため、このような表面の汚染を防止し、太陽電池のエネルギー出力の低下を抑制する技術が求められている。
上述したように、光線透過率の低下を防止し、光線透過量の向上を図り、高出力を実現し、かつ長期間、太陽電池のエネルギー出力の低下を抑制できる実用的な防汚技術が望まれている。
すなわち、本発明は以下の通りである。
基材の少なくとも片面に、(A)成分:数平均粒子径が1nm〜400nmの金属酸化物、(B)成分:数平均粒子径が10nm〜800nmの重合体エマルジョン粒子、及び少なくとも一種の溶媒を含むコーティング組成物を塗布し、コーティング組成物層を形成する第1の工程と、
5〜40℃の環境下で前記コーティング組成物層を乾燥し、当該コーティング組成物層中の固形分量を2〜40質量%とする第2の工程と、
前記溶媒のうち、沸点が最も低い溶媒の沸点以上の温度環境下で前記コーティング組成物層を乾燥する第3の工程と、
を、有する積層体の製造方法。
〔2〕
前記基材は、表面に、高低差が0.1〜100μmの凹凸を有している、前記〔1〕に記載の積層体の製造方法。
〔3〕
前記基材は、可視光に対する全光線透過率が60%〜99%、及び/又はヘイズ率が20%〜80%である、前記〔1〕又は〔2〕に記載の積層体の製造方法。
〔4〕
前記第3の工程の乾燥温度が80〜700℃である、前記〔1〕乃至〔3〕のいずれか一に記載の積層体の製造方法。
〔5〕
前記〔1〕乃至〔4〕のいずれか一に記載の積層体の製造方法によって製造された、積層体。
〔6〕
前記〔5〕に記載の積層体を含む、太陽電池用カバーガラス。
〔7〕
前記〔5〕に記載の積層体を含む、太陽熱発電用ミラー。
〔8〕
前記〔5〕に記載の積層体を含む、建材用ガラス。
本実施形態の積層体の製造方法は、
基材の少なくとも片面に、(A)成分:数平均粒子径が1nm〜400nmの金属酸化物(以下、(A)成分、(A)と記載する場合がある。)、(B)成分:数平均粒子径が10nm〜800nmの重合体エマルジョン粒子(以下、(B)成分、(B)と記載する場合がある。)、及び少なくとも一種の溶媒を含むコーティング組成物を塗布し、コーティング組成物層を形成する第1の工程と、
5〜40℃の環境下で前記コーティング組成物層を乾燥し、当該コーティング組成物層中の固形分量を2〜40質量%とする第2の工程と、
前記溶媒のうち、沸点が最も低い溶媒の沸点以上の温度環境下で前記コーティング組成物層を乾燥する第3の工程と、
を、有する。
本実施形態における第1の工程においては、基材の少なくとも片面に、下記(A)成分と下記(B)成分と、少なくとも一種の溶媒とを含むコーティング組成物を塗布し、基材上にコーティング組成物層を形成する。
(A)成分:数平均粒子径が1nm〜400nmの金属酸化物
(B)成分:数平均粒子径が10nm〜800nmの重合体エマルジョン粒子
第1の工程において、コーティング組成物を基材上に塗布する方法としては、以下に限定されるものではないが、例えば、噴霧法、フローコーティング法、ロールコート法、バーコート法、刷毛塗り法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、スクリーン印刷法、キャスティング法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法等が挙げられる。
本実施形態で用いる基材は、特に限定されるものではないが、例えば、板状、シート状、フィルム状のものが挙げられる。
本実施形態においても用いる基材は、表面が平滑なものであっても、表面に所定の高低差の凹凸を有していているものであってもよい。
例えば、後述するように、基材の光線透過率を向上させる観点から基材の表面に0.1〜100μmの高低差の凹凸を形成する場合があるが、このような基材も本実施形態の積層体の製造方法に用いる基材として好適である。
基材の材料は、特に限定されないが、例えば、ガラス、樹脂が挙げられる。
特に、透明性及び耐候性の観点からガラスが好ましい。
ガラスとしては、以下に限定されるものではないが、例えば、一般的なガラスの他、強化ガラス、合わせガラス、複層ガラス、化学強化ガラス等が挙げられ、これらは目的に応じて用いることができる。
また、樹脂としては、以下に限定されるものではないが、例えば、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、エチレン−フルオロエチレン共重合体等が挙げられる。
これらの樹脂には耐候性を付与する目的で紫外線吸収剤等の耐候剤等をさらに練り込んでもよい。
基材としては、厚み5mm以下、より好ましくは2mm以下の化学強化ガラスが軽量化の観点から好ましい。
基材のヘイズ率は20%〜80%が好ましく、より好ましくは30%〜70%であり、さらに好ましくは40%〜60%である。ヘイズ率が前記範囲内であることにより、透過性により優れ、眩しさを軽減する傾向にある。
また、基材の光線透過率を向上させる目的で基材にテクスチャーを形成していてもよい。
ここで「テクスチャー」とは、基材の片面又は両面に規則的に形成される凹凸のことをいう。凹凸の高低差は0.1〜100μmが好ましく、より好ましくは1〜60μmであり、さらに好ましくは5〜40μmである。表面粗さ(Ra)としては、0.1〜10μmが好ましく、より好ましくは0.3〜5μm、さらに好ましくは0.5〜2μmである。
凹凸の高低差が上記範囲内であることにより、透過性により優れる傾向にある。
本実施形態で用いるコーティング組成物は、(A)成分:数平均粒子径が1nm〜400nmの金属酸化物と、(B)成分:数平均粒子径が10nm〜800nmの重合体エマルジョン粒子とを含む。
コーティング組成物の製造方法としては、特に限定されないが、例えば、(A)成分及び(B)成分を、水や親水性有機溶剤等の溶媒に、溶解又は分散させて、これらを混合し、かつ必要に応じて所定の溶媒により希釈することにより調製する方法が挙げられる。
(A)成分及び(B)成分が、水や親水性有機溶剤等の溶媒に、溶解又は分散されている状態の温度については、特に限定されるものではないが、例えば、10℃〜60℃が好ましく、20〜40℃がより好ましく、25〜30℃がさらに好ましい。上記温度とすることにより、より分散性が均一で品質に優れる傾向にある。
(A)成分は、(B)成分と相互作用することにより、(B)成分の硬化剤として作用すると考えられる。当該相互作用としては、例えば、(A)成分が一般に有しうる水酸基と、(B)成分が有しうる水酸基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基及びエーテル基のいずれかと、の水素結合、又は、(A)成分が一般に有しうる水酸基と、(B)成分を構成しうる後述の(b1)成分の重合生成物との縮合(化学結合)等が考えられる。
また、コーティング組成物層中では、(A)成分と、(B)成分とが相互作用をし、(A)成分が(B)成分の粒子間に連続相を形成して存在することが好ましい。
これにより、得られる積層体の光線透過率、耐候性、防汚性がより向上する傾向にある。
連続相の形成は、(A)成分の配合量を調整することにより促進することができる。
なお、連続相の形成は、断面の形態観察により確認することができる。
本実施形態で用いるコーティング組成物は、(A)成分:金属酸化物を含有する。
(A)成分の数平均粒子径は、1nm〜400nmであり、好ましくは1nm〜100nmであり、より好ましくは3nm〜80nmであり、さらに好ましくは5nm〜50nmである。
(A)成分の数平均粒子径が1nm以上であることにより、(A)成分の溶媒分散液及びコーティング組成物の貯蔵安定性がより良好となる。
また、数平均粒子径が400nm以下であることにより、得られる積層体の透明性、光線透過率等の光学特性がより向上する。
特に、数平均粒子径が100nm以下であることにより、得られる積層体の光線透過率がさらに向上する傾向にある。
ここで「数平均粒子径」とは、金属酸化物の1次粒子と2次粒子との混合物の数平均粒子径であってもよく、1次粒子及び2次粒子のいずれか一方のみの数平均粒子径であってもよい。
なお、本実施形態における数平均粒子径は、後述する実施例に記載の方法により測定することができる。
このような金属酸化物を用いることにより、(A)成分と(B)成分とがより相互作用しやすい傾向にある。この中でも、表面水酸基の多い二酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、及びそれらの複合酸化物が好ましい。これら金属酸化物は、(B)成分との相互作用が特に強い傾向にある。
また、このような金属酸化物は表面水酸基が多く、連続相を形成することでコーティング組成物層の表面の水酸基密度が高くなり、コーティング組成物層の親水性が高くなるので、この観点からも上記金属酸化物がより好ましい。
前記(A)成分の金属酸化物は、1種のみを単独で用いても又は2種以上を併用してもよい。
上述したように、コーティング組成物層の親水性が高くなることにより、付着した汚れが雨水などと一緒に流れ落ちる防汚効果が良好になるため好ましい。
このような「光触媒」である金属酸化物を用いることにより、本実施形態においては、汚染有機物質の分解活性や耐汚染性により優れる積層体が得られる傾向にある。
なお、本明細書において、「親水性」とは、測定対象物表面に対する水(23℃)の接触角が、好ましくは60゜以下であり、より好ましくは30゜以下であり、さらに好ましくは20゜以下であることを意味する。
これらの光触媒の中でもTiO2(酸化チタン)は無害であり、化学的安定性にも優れるため好ましい。酸化チタンとしては、アナターゼ型、ルチル型、ブルッカイト型のいずれも使用できる。
上述した親水性有機溶剤は、1種のみを単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
(A)成分の金属酸化物がコロイダルシリカを主成分として含む場合、少量成分として、アルミナ、アルミン酸ナトリウム等を含んでもよい。
また、コロイダルシリカには、安定剤として無機塩基(水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、アンモニア等)や有機塩基(テトラメチルアンモニウム等)が共存してもよい。
本実施形態で用いるコーティング組成物は、(B)成分:重合体エマルジョン粒子を含有する。
(B)成分は、数平均粒子径が10nm〜800nmの重合体エマルジョン粒子である。
このような(B)成分と、前記(A)成分とを含むコーティング組成物を用いることにより、得られる積層体の光線透過率、防汚染性がより良好となる。
数平均粒子径が10nm以上の(B)重合体エマルジョン粒子を用いることにより、生産性がより向上する傾向にある。また、数平均粒子径が800nm以下であることにより、得られる積層体の光線透過率が向上する傾向にある。
(B)成分のガラス転移温度(Tg)を上記範囲とすることにより、乾燥温度を急激に変化させた場合であってもクラックなどのない均一な塗膜を形成することができる。
(b1)成分と(b2)成分とは、別個に重合しても共重合してもよい。
このようにして得られる(B)成分としては、加水分解性珪素化合物(b1)中の水酸基と、(b2)成分に由来するビニル単量体の重合体とが、水素結合等により複合化されたものを用いることが好適である。
(b1)成分としては、以下に限定されるものではないが、例えば、下記式(1)で表される化合物やその縮合生成物、シランカップリング剤が挙げられる。
SiWxRy ・・・(1)
(式(1)中、Wは、炭素数1〜20のアルコキシ基、水酸基、炭素数1〜20のアセトキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜20のオキシム基、フェノキシ基、アミノキシ基及びアミド基からなる群より選ばれる少なくとも1種の基を示す。
Rは、直鎖状又は分岐状の炭素数が1〜30個のアルキル基、炭素数5〜20のシクロアルキル基、及び、置換されていないか又は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基若しくはハロゲン原子で置換されている炭素数6〜20のアリール基からなる群より選ばれる少なくとも1種の炭化水素基を示す。
xは1以上4以下の整数であり、yは0以上3以下の整数である。
また、x+y=4である。
Wが複数の場合、あるいはRが複数の場合、それぞれのW又はRは、互いに同一であっても異なっていてもよい。)
これらは、1種のみを単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
特に、エポキシ基、イソシアネート基を有している場合には、コーティング組成物層の強度の向上、基材との密着性向上の観点から好ましい。
(b2)成分は、水酸基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、エポキシ基及びエーテル基からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基を含有するビニル単量体である。
(b1)に対する(b2)の質量比(b2)/(b1)は、水素結合の観点から、0.1/100〜500/100であることが好ましく、より好ましくは5/100〜200/100である。
乳化重合の方法としては、例えば、(b1)成分及び(b2)成分、さらには必要に応じて(b3)成分:乳化剤を、そのまま又は乳化した状態で、一括若しくは分割して又は連続的に、反応容器中に滴下し、重合触媒の存在下、大気圧から必要により10MPaまでの圧力下で、約30〜150℃の反応温度で重合させる方法が挙げられる。ただし、必要に応じて、これ以上の圧力で、又はこれ以下の温度条件で重合してもよい。
シード重合法とは、予め水相中にエマルジョン粒子(シード粒子)を存在させて重合させる方法である。
シード重合法を行う際の重合系中のpHとしては、好ましくは1.0〜10.0であり、より好ましくは3.0〜6.0である。そのpHは、リン酸二ナトリウム、ボラックス、炭酸水素ナトリウム、アンモニア等のpH緩衝剤を用いて調節することが可能である。
(A)成分及び(B)成分の質量比が上記範囲内であることにより、光線透過率、防汚染性により優れた積層体を製造できる傾向にある。また、優れた防汚染性がより長期に亘り持続する傾向にある。
本実施形態に用いるコーティング組成物には、溶媒が含まれている。
コーティング組成物中の溶媒としては、上述した(A)成分を水や親水性有機溶剤中に分散させた状態で用いる際の当該分散用の溶媒の他、コーティング組成物を調製する際に用いる希釈溶媒が挙げられる。
前記添加剤成分としては、以下に限定されるものではないが、例えば、光安定剤、紫外線吸収剤、増粘剤、レベリング剤、チクソ化剤、消泡剤、凍結安定剤、艶消し剤、架橋反応触媒、顔料、硬化触媒、架橋剤、充填剤、皮張り防止剤、分散剤、湿潤剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、レオロジーコントロール剤、成膜助剤、防錆剤、染料、可塑剤、潤滑剤、還元剤、防腐剤、防黴剤、消臭剤、黄変防止剤、静電防止剤又は帯電調整剤等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
本実施形態で用いるコーティング組成物は、(C)加水分解性珪素化合物をさらに含んでもよい。(C)成分を含むことにより、コーティング組成物層の強度、防汚性がより向上する傾向にある。
なお、(C)成分を添加する段階では、(b1)成分は完全に(B)重合体エマルジョン粒子に取り込まれていて、(C)成分とは区別できる。
R1 nSiX4-n ・・・(2)
(ここで、式(2)中、R1は、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基又はアリール基を示す。これらの化学種(水素原子を除く。)は、ハロゲン基、ヒドロキシ基、メルカプト基、アミノ基、(メタ)アクリロイル基、エポキシ基等の官能基で置換されていてもよい。
Xは加水分解性基を示し、該加水分解性基は加水分解により水酸基が生じる基であり、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、アミノ基、フェノキシ基、オキシム基が挙げられる。
R1が複数の場合、あるいはXが複数の場合、それぞれのR1又はXは、互いに同一であっても異なっていてもよい。
nは0〜3の整数である。)
X3Si−R2 n−SiX3 ・・・(3)
(ここで、式(3)中、Xは互いに同一でも異なっていてもよい加水分解性基を示し、該加水分解性基は加水分解により水酸基が生じる基であり、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、アミノ基、フェノキシ基、オキシム基が挙げられる。
R2は炭素数1〜6のアルキレン基又はフェニレン基を示す。
nは0又は1である。)
R3−(O−Si(OR3)2)n−OR3 ・・・(4)
(ここで、式(4)中、R3は、互いに同一でも異なっていてもよい炭素数1〜6のアルキル基を示す。nは2〜8の整数である。)
(c4)としては、以下に限定されるものではないが、例えば、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルシクロトリシラザンが挙げられる。
また、上記加水分解性珪素化合物(C)は、予め加水分解と縮合とを進めてからコーティング組成物に配合してもよく、加水分解と縮合を行わずに金属酸化物(A)及び/又はエマルジョン粒子(B)に配合してもよい。
(C)/(A)が0.1/100以上であることにより、高温条件下での接触角がより低下する傾向にある。また、(C)/(A)が500/100以下であることにより、本実施形態により得られるコーティング組成物層の強度がより優れる傾向にある。
なお、質量比率は、加水分解後の換算質量による比率とする。
本実施形態において用いるコーティング組成物は、上述した(A)成分、(B)成分、溶媒、及び必要に応じて上述した(C)成分、その他の添加剤成分を混合することにより得ることができる。
上述した(第1の工程)により、基材上にコーティング組成物を塗布し、コーティング組成物層を形成した後、5〜40℃の環境下で、コーティング組成物層中の固形分量が2〜40質量%となるまで乾燥する。
40℃以下で乾燥させることにより、緻密なコーティング組成物層が形成され、外観が良好になる傾向にある。また、5℃以上で乾燥させることにより、生産性に優れる傾向にある。
第2の工程において、コーティング組成物層を、固形分が2%以上になるように乾燥を行うことにより、コーティング組成物層が増粘し、基材に凹凸がある場合には、当該凹部への過度なコーティング組成物の偏在が抑制される。
また、後述する第3の工程で、急激に乾燥温度が上昇しても、コーティング組成物層の歪みを少なくでき、均一でクラックの少ない外観が良好なコーティング組成物層を形成できる。
さらに、第2の工程において、コーティング組成物層を、固形分量が40%以下となるように乾燥することにより、コーティング組成物の過度な粘度の上昇を抑制でき、スジの発生などを防止して良好な外観特性が得られる傾向がある。
本実施形態における第3の工程においては、コーティング組成物に含まれる溶媒のうち、沸点が最も低い溶媒の沸点以上の温度環境下で、コーティング組成物層を乾燥する。
上記温度は、好ましくは80〜700℃が好ましく、より好ましくは100〜300℃以上、さらに好ましくは120〜200℃である。
なお、コーティング組成物に含まれる溶媒は、一種以上であればよく、一種類のみである場合、当該溶媒の沸点以上の温度環境下でコーティング組成物を乾燥する。
乾燥時間は、60分以下が好ましく、30分以下がより好ましく、10分以下がさらに好ましい。
なお、第3の工程は、コーティング組成物層が、指で触っても剥離しない状態となるまで行う。
上述したように、第3の工程において、コーティング組成物層を、当該コーティング組成物に含まれる溶媒のうち、沸点が最も低い溶媒の沸点以上の温度環境下で乾燥を行うことにより、外観の良好なコーティング組成物層が得られる。
本実施形態の積層体は、上述した(第1の工程)〜(第3の工程)を経て得られる。
積層体は、基材とその基材の少なくとも片面上に形成された、コーティング組成物層とを具備する。
コーティング組成物層の屈折率が、基材の屈折率よりも0.1以上低いことにより、積層体全体において高い光線透過率が得られる。すなわち基材が有している元々の光線透過率よりも、積層体の光線透過率がより高くなる傾向にある。
積層体におけるコーティング組成物層の屈折率は、(A)成分及び(B)成分の粒径、配合比率等により制御することができる。
また、基材の屈折率は使用される基材によって選択される。
上記のように、基材の屈折率とコーティング組成物層の屈折率との差が小さいほどコーティング組成物層の強度が向上する傾向にある。
積層体の光線透過率が基材の光線透過率より高いと、太陽電池用カバーガラスに適用した場合、より多く光を透過させることができるので、太陽電池の発電量がより向上する傾向にある。
基材よりも積層体の屈折率を低くすることによって、表面からの反射量を低減することができ、太陽電池用カバーガラスにした場合、表面の反射を防ぐことによってより多くの光を透過させることができ、太陽電池の発電量がより向上する傾向にある。
本実施形態の積層体は、太陽電池用カバーガラス、太陽熱発電用ミラーとして利用できる。
本実施形態に係る積層体は、透明性及び耐熱性に優れるので、太陽電池用のカバーガラス、太陽熱発電用のミラーの部材として有用である。
本実施形態の積層体は様々な用途に用いられ得るが、特に太陽電池用カバーガラスとして用いられると、本発明による利益をより有効かつ確実に享受することができるので好ましい。
なお、各種物性は下記の方法で評価した。
動的光散乱式粒子径測定装置(日機装社製、商品名マイクロトラックUPA)を用い、ヘテロダイン法にて(A)成分、(B)成分の数平均粒子径を測定した。
濁度計(日本電色工業製、商品名「NDH2000」)を用い、JIS−K7105に準じて、基材の全光線透過率及びヘイズ値、積層体の全光線透過率を測定した。
膜厚計(大塚電子製、商品名「FE−3000」)を用い、コーティング組成物層の初期膜厚(第3の工程後に得られたコーティング組成物層の膜厚)、並びにコーティング組成物層及び基材の屈折率(波長:633nm)を、大塚電子製、商品名「FE−3000」を用いて測定した。
デジタルマイクロスコープ(キーエンス社製、商品名「VHX−1000」)を用い、観察倍率100倍で観察し、積層体表面に形成されたマイクロクラックの有無を観察し、以下の基準により評価した。
良好:クラックが観察されない。
やや不良:クラックがやや観察される。
不良:クラックが明らかに観察される。
後述する実施例及び比較例で製造したコーティング組成物層の表面に脱イオン水の滴(1.0μL)を乗せ、23℃で10秒間放置した。
その後、日本国協和界面科学製CA−X150型接触角計を用いて表面水接触角を測定した。
コーティング組成物層に対する水の接触角が小さいほど、皮膜表面の親水性が高いと評価した。
形状測定レーザーマイクロスコープ(キーエンス社製、商品名「VX−8700」)を用い、自動モードで測定し、基材の表面の凹凸を測定し、1mm角の範囲で前記凹凸の最大高さと最低高さを測定し、これらの差(高低差)を算出した。
後述する実施例及び比較例において製造するコーティング組成物層中の、(A)成分:金属酸化物の質量と、(B)成分:重合体エマルジョン粒子の質量と、(C)成分:加水分解性珪素化合物の質量を測定した。
なお、(C)成分の質量は、加水分解したときの質量に換算した。
また、(A)成分の質量及び(B)成分の質量は分散溶媒の質量を含まず、金属酸化物、重合体エマルジョン粒子そのものの質量とする。
これらの値を用いて、(A)/(B)/(C)の比率を算出した。
還流冷却器、滴下槽、温度計及び撹拌装置を有する反応容器に、イオン交換水1600g、ドデシルベンゼンスルホン酸6gを投入した後、撹拌下で温度を80℃に加温した。
これに、ジメチルジメトキシシラン185gとフェニルトリメトキシシラン117gとの混合液を反応容器中の温度を80℃に保った状態で約2時間かけて滴下し、その後、反応容器中の温度を80℃に維持した状態で約1時間撹拌を続行した。
次にアクリル酸ブチル86gとフェニルトリメトキシシラン133gと3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン1.3gとの混合液と、ジエチルアクリルアミド137gとアクリル酸3gと反応性乳化剤(商品名「アデカリアソープSR−1025」、旭電化(株)製、固形分25%水溶液)13gと過硫酸アンモニウムの2質量%水溶液40gとイオン交換水1900gとの混合液とを、反応容器中の温度を80℃に保った状態で約2時間かけて同時に滴下した。
さらに、反応容器中の温度を80℃に維持した状態で約2時間撹拌を続行した後、液を室温まで冷却し、100メッシュの金網で濾過した後、イオン交換水で液中の固形分濃度を10.0質量%に調整し、(B)成分である数平均粒子径70nmの重合体エマルジョン粒子の水分散体(B−1)を得た。
還流冷却器、滴下槽、温度計及び撹拌装置を有する反応器に、イオン交換水2600g、及びドデシルベンゼンスルホン酸12g、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルの25%水溶液(エマルゲン950、花王(株)製)20部を投入した後、撹拌しながら80℃に加温して混合液(1)を得た。
得られた混合液(1)に、コア層としてメタクリル酸18g、メタクリル酸メチル216g、アクリル酸ブチル216g、過硫酸アンモニウムの2質量%水溶液40g、の混合液(2)を反応容器中の温度を80℃に保った状態で約2時間かけて滴下して混合液(3)を得た。
その後、反応容器中の温度が80℃の状態で混合液(3)を約1時間撹拌した。
次に、得られた混合液(3)に、シェル層としてアクリル酸ブチル245g、メタクリル酸メチル245g、アクリル酸10g、及び3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(b1−3)6.9g、メチルトリメトキシシラン101g、反応性乳化剤(商品名「アデカリアソープSR−1025」、旭電化(株)製、固形分25質量%水溶液)13g、過硫酸アンモニウムの2質量%水溶液40g、及びイオン交換水1900gの混合液(4)とを、反応容器中の温度を80℃に保った状態で約2時間かけて同時に滴下して混合物(5)を得た。
さらに熱養生として、反応容器中の温度が80℃の状態で混合物(5)を約2時間撹拌した。
その後、0.1Nのアンモニア水を徐々に加え、混合物のpHが8になるまで撹拌した。
混合物(5)100メッシュの金網で濾過し、精製水で濃度を調整して数平均粒子径120nmの重合体エマルジョン粒子(B−2)の水分散体(固形分10質量%)を得た。
還流冷却器、滴下槽、温度計及び撹拌装置を有する反応器に、イオン交換水2600g、及びドデシルベンゼンスルホン酸12g、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルの25%水溶液(エマルゲン950、花王(株)製)20部を投入した後、撹拌しながら80℃に加温して混合液(1)を得た。
得られた混合液(1)に、コア層としてメタクリル酸18g、メタクリル酸メチル216g、アクリル酸ブチル216g、過硫酸アンモニウムの2質量%水溶液40g、の混合液(2)を反応容器中の温度を80℃に保った状態で約2時間かけて滴下して混合液(3)を得た。
その後、反応容器中の温度が80℃の状態で混合液(3)を約1時間撹拌した。
次に、得られた混合液(3)に、シェル層としてアクリル酸ブチル245g、メタクリル酸メチル245g、アクリル酸10g、メチルトリメトキシシラン101g、反応性乳化剤(商品名「アデカリアソープSR−1025」、旭電化(株)製、固形分25質量%水溶液)13g、過硫酸アンモニウムの2質量%水溶液40g、及びイオン交換水1900gの混合液(4)とを、反応容器中の温度を80℃に保った状態で約2時間かけて同時に滴下して混合物(5)を得た。
さらに熱養生として、反応容器中の温度が80℃の状態で混合物(5)を約2時間撹拌した。
その後、0.1Nのアンモニア水を徐々に加え、混合物のpHが8になるまで撹拌した。
混合物(5)100メッシュの金網で濾過し、精製水で濃度を調整して数平均粒子径140nmの重合体エマルジョン粒子(B−3)の水分散体(固形分10質量%)を得た。
コロイダルシリカ(日産化学工業(株)製、商品名「スノーテックス−OXS」(ST−OXS)、(A)成分))を水中に分散させたもの(固形分濃度10質量%、数平均粒子径10nm)と、上述した〔製造例1〕で合成した重合体エマルジョン粒子((B−1)成分)の水分散体と、テトラエトキシシラン(信越化学社製、商品名「KBE−04」、(C)成分)とを、(A)成分200質量部、(B)成分100質量部、(C)成分の加水分解縮合後の質量換算で60質量部の配合比にて配合した後、温度23℃の99.9%エタノール(和光純薬社製 試薬特級)で希釈し、ポリアクリル酸増粘剤(東亞合成化学社製 商品名「アロンA10−H」)で調整して、固形分濃度が4%、粘度は10mPa・sになるように調整してコーティング組成物を得た。
なお、希釈した溶媒の中で沸点の最も低いものはエタノール(沸点78℃)である。
コロイダルシリカ(日産化学工業(株)製、商品名「スノーテック−OXS」(ST−OXS)、(A)成分))を水中に分散させたもの(固形分濃度10質量%、数平均粒子径10nm)と、上述した〔製造例1〕で合成した重合体エマルジョン粒子((B)成分)の水分散体と、テトラエトキシシラン(信越化学社製、商品名「KBE−04」、(C)成分)とを、(A)成分200質量部、(B)成分100質量部、(C)成分の加水分解縮合後の質量換算で60質量部の配合比にて配合した後、温度23℃の純水で希釈して、固形分濃度が1%、粘度は2mPa・sになるように調整してコーティング組成物を得た。
なお、希釈した溶媒の中で沸点の最も低いものは水(沸点100℃)である。
第1の工程として、上述した〔製造例4〕で得られたコーティング組成物を、基材の白板ガラス(厚さ3.2mm、6×6cm角、可視光における光線透過率89%、ヘイズ値50%、表面の凹凸の高低差30μm)に、リバースロールコートで塗布し、コーティング組成物層を得た。当該コーティング組成物層の固形分濃度は4%、粘度は10mPa・sであった。
第2の工程として、26℃の乾燥温度で乾燥させて、固形分濃度を8質量%まで高めた。
固形分濃度が8質量%であることは、乾燥前後の質量変化から確認した。
第3の工程として、110℃で3分間乾燥して積層体を作製した。
得られた積層体の表面を観察してマイクロクラックが無いことを確認した。
上述した〔製造例4〕で得られたコーティング組成物を、基材の白板ガラス(厚さ3.2mm、6×6cm角、可視光における光線透過率91.5%、ヘイズ50%、表面の凹凸の高低差30μm)に、リバースロールコートで塗布した。
第2の工程として、30℃の乾燥温度で乾燥させて、固形分濃度を18質量%まで高めた。
固形分濃度が18質量%であることは乾燥前後の質量変化から確認した。
第3の工程として、110℃で3分間乾燥して積層体を作製した。
得られた積層体の表面を観察してマイクロクラックが無いことを確認した。
上述した〔製造例4〕で得られたコーティング組成物を、基材の白板ガラス(厚さ3.2mm、6×6cm角、可視光における光線透過率91.5%、ヘイズ50%、表面の凹凸の高低差30μm)に、リバースロールコートで塗布した。
第2の工程として、35℃の乾燥温度で乾燥させて、固形分濃度を30質量%まで高めた。
固形分濃度が30質量%であることは乾燥前後の質量変化から確認した。
第3の工程として、110℃で3分間乾燥して積層体を作製した。
得られた積層体の表面を観察してマイクロクラックが無いことを確認した。
各種物性を測定した結果を表1に示す。
上述した〔製造例5〕で得られたコーティング組成物を、基材の白板ガラス(厚さ3.2mm、6×6cm角、可視光における光線透過率91.5%、ヘイズ50%、表面の凹凸の高低差30μm)に、リバースロールコートで塗布した。
第2の工程として、26℃の乾燥温度で乾燥させて、固形分濃度を3質量%まで高まった。
固形分濃度が3質量%であることは乾燥前後の質量変化から確認した。
第3の工程として、110℃で3分間乾燥して積層体を作製した。
得られた積層体の表面を観察してマイクロクラックが多いことを確認した。
第3の工程の乾燥温度を600℃に変更した以外は実施例2と同様にして積層体を製造した。
得られた積層体の表面を観察してマイクロクラックが無いことを確認した。
第3の工程の乾燥温度を700℃に変更した以外は実施例2と同様にして積層体を製造した。
得られた積層体の表面を観察してマイクロクラックが無いことを確認した。
重合体粒子を(B−2)に変更した以外は実施例2と同様にして積層体を製造した。
得られた積層体の表面を観察してマイクロクラックが無いことを確認した。
重合体粒子を(B−3)に変更した以外は実施例2と同様にして積層体を製造した。
得られた積層体の表面を観察してマイクロクラックが無いことを確認した。
重合体エマルジョン粒子(B)として重合体エマルジョン粒子(B−4)(アクリルエマルジョン、固形分32%、pH7.7、粘度150mPa・s、酸価39、ガラス転移温度74℃、最低成膜温度−10℃)を製造した。
重合体粒子を(B−4)に変更した以外は実施例2と同様にして積層体を製造した。
得られた積層体の表面を観察してマイクロクラックが無いことを確認した。
コロイダルシリカ(日産化学工業(株)製、商品名「スノーテックス−OXS」(ST−OXS)、(A)成分))を水中に分散させたもの(固形分濃度10質量%、数平均粒子径10nm)と、上述した〔製造例1〕で合成した重合体エマルジョン粒子((B−1)成分)の水分散体と、テトラメトキシシランオリゴマー(三菱化学社製、商品名「MS−56」、(C)成分)とを、(A)成分200質量部、(B)成分100質量部、(C)成分の加水分解縮合後の質量換算で60質量部の配合比にて配合した後、温度23℃の純水とエチレングリコール(和光純薬社製 試薬特級)とを、質量比で100:1で混合した溶媒で希釈し、ポリアクリル酸増粘剤(東亞合成化学社製 商品名「アロンA10−H」)で調整して、固形分濃度が4%、粘度は10mPa・sになるように調整してコーティング組成物を得た。
なお、希釈した溶媒の中で沸点の低いものは水(沸点100℃)である。
上述したコーティング組成物を、基材の白板ガラス(厚さ3.2mm、6×6cm角、可視光における光線透過率91.5%、ヘイズ50%、表面の凹凸の高低差30μm)に、リバースロールコートで塗布した。
第2の工程として、30℃の乾燥温度で乾燥させて、固形分濃度を18質量%まで高めた。
固形分濃度が18質量%であることは乾燥前後の質量変化から確認した。
第3の工程として、200℃で3分間乾燥して積層体を作製した。
得られた積層体の表面を観察してマイクロクラックが無いことを確認した。
上述した〔製造例4〕で得られたコーティング組成物を、基材の白板ガラス(厚さ3.2mm、6×6cm角、可視光における光線透過率89%、ヘイズ50%、表面の凹凸の高低差30μm)に、リバースロールコートで塗布した。
その直後に、第3の工程として、110℃で3分間乾燥して積層体を作製した。
得られた積層体の表面を観察して、膜厚ムラが大きくマイクロクラックが多いことを確認した。
Claims (8)
- 基材の少なくとも片面に、(A)成分:数平均粒子径が1nm〜400nmの金属酸化物、(B)成分:数平均粒子径が10nm〜800nmの重合体エマルジョン粒子、及び少なくとも一種の溶媒を含むコーティング組成物を塗布し、コーティング組成物層を形成する第1の工程と、
5〜40℃の環境下で前記コーティング組成物層を乾燥し、当該コーティング組成物層中の固形分量を2〜40質量%とする第2の工程と、
前記溶媒のうち、沸点が最も低い溶媒の沸点以上の温度環境下で前記コーティング組成物層を乾燥する第3の工程と、
を、有する積層体の製造方法。 - 前記基材は、表面に、高低差が0.1〜100μmの凹凸を有している、請求項1に記載の積層体の製造方法。
- 前記基材は、可視光に対する全光線透過率が60%〜99%、及び/又はヘイズ率が20%〜80%である、請求項1又は2に記載の積層体の製造方法。
- 前記第3の工程の乾燥温度が80〜700℃である、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
- 請求項1乃至4のいずれか一項に記載の積層体の製造方法によって製造された、積層体。
- 請求項5に記載の積層体を含む、太陽電池用カバーガラス。
- 請求項5に記載の積層体を含む、太陽熱発電用ミラー。
- 請求項5に記載の積層体を含む、建材用ガラス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013234225A JP6285152B2 (ja) | 2013-11-12 | 2013-11-12 | 積層体の製造方法、積層体、太陽電池用カバーガラス、及び太陽熱発電用ミラー |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013234225A JP6285152B2 (ja) | 2013-11-12 | 2013-11-12 | 積層体の製造方法、積層体、太陽電池用カバーガラス、及び太陽熱発電用ミラー |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015093246A true JP2015093246A (ja) | 2015-05-18 |
JP6285152B2 JP6285152B2 (ja) | 2018-02-28 |
Family
ID=53196032
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013234225A Active JP6285152B2 (ja) | 2013-11-12 | 2013-11-12 | 積層体の製造方法、積層体、太陽電池用カバーガラス、及び太陽熱発電用ミラー |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6285152B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017036424A (ja) * | 2015-08-13 | 2017-02-16 | 旭化成株式会社 | 塗膜及びその製造方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010072484A (ja) * | 2008-09-19 | 2010-04-02 | Hitachi Maxell Ltd | 光学素子、光学素子成形用の金型の製造方法および光学素子の製造方法 |
US20100166950A1 (en) * | 2007-07-04 | 2010-07-01 | Theta Optics Ltd Oy | Method and equipment for producing an optical piece |
JP2011101863A (ja) * | 2009-11-11 | 2011-05-26 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 複層塗膜及び複層塗膜の製造方法 |
JP2011148120A (ja) * | 2010-01-19 | 2011-08-04 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 積層体及びその製造方法 |
JP2012219209A (ja) * | 2011-04-11 | 2012-11-12 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 複合組成物、当該複合組成物を用いた塗膜の製造方法、当該製造方法により得られる塗膜、及び当該塗膜を具備する部材 |
JP2013054223A (ja) * | 2011-09-05 | 2013-03-21 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | ナノインプリントフィルムを用いた粒子の転写方法及びそれによって作成された粒子が転写された基板 |
JPWO2011070714A1 (ja) * | 2009-12-11 | 2013-04-22 | 日本板硝子株式会社 | 光電変換装置用カバーガラスおよびその製造方法 |
-
2013
- 2013-11-12 JP JP2013234225A patent/JP6285152B2/ja active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20100166950A1 (en) * | 2007-07-04 | 2010-07-01 | Theta Optics Ltd Oy | Method and equipment for producing an optical piece |
JP2010072484A (ja) * | 2008-09-19 | 2010-04-02 | Hitachi Maxell Ltd | 光学素子、光学素子成形用の金型の製造方法および光学素子の製造方法 |
JP2011101863A (ja) * | 2009-11-11 | 2011-05-26 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 複層塗膜及び複層塗膜の製造方法 |
JPWO2011070714A1 (ja) * | 2009-12-11 | 2013-04-22 | 日本板硝子株式会社 | 光電変換装置用カバーガラスおよびその製造方法 |
JP2011148120A (ja) * | 2010-01-19 | 2011-08-04 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 積層体及びその製造方法 |
JP2012219209A (ja) * | 2011-04-11 | 2012-11-12 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 複合組成物、当該複合組成物を用いた塗膜の製造方法、当該製造方法により得られる塗膜、及び当該塗膜を具備する部材 |
JP2013054223A (ja) * | 2011-09-05 | 2013-03-21 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | ナノインプリントフィルムを用いた粒子の転写方法及びそれによって作成された粒子が転写された基板 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017036424A (ja) * | 2015-08-13 | 2017-02-16 | 旭化成株式会社 | 塗膜及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6285152B2 (ja) | 2018-02-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9630208B2 (en) | Coating composition, coating film, laminate, and process for manufacturing the laminate | |
JP5728278B2 (ja) | 複合組成物、当該複合組成物を用いた塗膜の製造方法、当該製造方法により得られる塗膜、及び当該塗膜を具備する部材 | |
JP5905658B2 (ja) | 機能性塗膜 | |
JP5666803B2 (ja) | エネルギー変換装置用部材、リフレクター装置及び太陽熱発電システム | |
JP5497480B2 (ja) | 遮熱組成物、太陽電池用部材及び太陽電池 | |
JP2010235676A (ja) | ハードコート用コーティング組成物 | |
JP2009253203A (ja) | 太陽電池用コーティング組成物 | |
JP2012173428A (ja) | 反射防止コーティング組成物 | |
JP5518299B2 (ja) | 太陽電池用コーティング組成物 | |
JP4738367B2 (ja) | 水系有機・無機複合組成物 | |
JP2012170859A (ja) | 機能性塗膜の製造方法 | |
JP2020050808A (ja) | コーティング組成物 | |
JP5466868B2 (ja) | 反射防止用コーティング組成物 | |
JP5514463B2 (ja) | 耐熱用コーティング組成物 | |
JP2011207170A (ja) | 機能性積層体及び機能性積層体の製造方法 | |
JP2010235678A (ja) | 帯電防止用コーティング組成物 | |
JP6006912B2 (ja) | 塗膜、その製造方法、並びに積層体及び保護部材 | |
JP6285152B2 (ja) | 積層体の製造方法、積層体、太陽電池用カバーガラス、及び太陽熱発電用ミラー | |
JP6105344B2 (ja) | 積層体の製造方法、積層体、太陽電池用カバーガラス、及び太陽熱発電用ミラー | |
JP5530725B2 (ja) | 積層体及びその製造方法 | |
JP6022663B2 (ja) | 機能性塗膜 | |
JP2010235682A (ja) | 耐溶剤用コーティング組成物 | |
JP5599635B2 (ja) | 機能性塗膜 | |
JP6794151B2 (ja) | コーティング膜、コーティング膜の製造方法、及びコーティング組成物 | |
JP5409078B2 (ja) | 機能性複合体及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160909 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170414 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170420 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170531 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20171016 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171102 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180105 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180201 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6285152 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |