JP2015092537A - 基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 基板処理装置10であって、溶媒供給部58が磁場形成手段を付帯的に有してなり、磁場形成手段100は洗浄液と揮発性溶媒が併存している基板Wの表面に磁場をかけ、基板Wの表面の洗浄液を揮発性溶媒と攪拌混合し、該洗浄液の該揮発性溶媒への置換を促進するもの。
【選択図】 図2
Description
洗浄液が供給された基板の表面に揮発性溶媒を供給し、基板の表面の洗浄液を揮発性溶媒に置換する溶媒供給部と、
揮発性溶媒が供給された基板の表面を加熱し、加熱作用で基板の表面に生成された揮発性溶媒の液玉を除去し、基板の表面を乾燥する加熱乾燥手段とを有してなる基板処理装置であって、
洗浄液と揮発性溶媒が併存している基板の表面に磁場をかけ、基板の表面の洗浄液を揮発性溶媒と攪拌混合し、洗浄液の揮発性溶媒への置換を促進する磁場形成手段を有することを特徴とする。
洗浄液が供給された基板の表面に揮発性溶媒を供給し、基板の表面の洗浄液を揮発性溶媒に置換する工程と、
揮発性溶媒が供給された基板の表面を加熱し、加熱作用で基板の表面に生成された揮発性溶媒の液玉を除去し、基板の表面を乾燥する工程とを有してなる基板処理方法であって、
磁場形成手段を用いて洗浄液と揮発性溶媒が併存している基板の表面に磁場をかけ、基板の表面の洗浄液を揮発性溶媒と攪拌混合し、洗浄液の揮発性溶媒への置換を促進するようにしたものである。
基板洗浄室50は、図2に示す如く、処理室となる処理ボックス51と、その処理ボックス51内に設けられたカップ52と、そのカップ52内で基板Wを水平状態で支持するテーブル53と、そのテーブル53を水平面内で回転させる回転機構54と、テーブル53の周囲で昇降する溶媒吸引排出部55とを備えている。更に、基板洗浄室50は、テーブル53上の基板Wの表面に薬液を供給する薬液供給部56と、テーブル53上の基板Wの表面に洗浄液を供給する洗浄液供給部57と、揮発性溶媒を供給する溶媒供給部58と、各部を制御する制御部60とを備えている。
(1)搬送ロボット11が基板給排部20の基板収納カセット21から基板保管用バッファ部30のイン専用バッファ31に供給した基板Wを搬送ロボット12により取り出し、この基板Wを基板処理室40における基板洗浄室50のテーブル53上にセットした状態で、基板洗浄室50の制御部60は回転機構54を制御し、テーブル53を所定の回転数で回転させ、次いで、溶媒吸引排出部55を待機位置に位置付けた状態で、薬液供給部56を制御し、回転するテーブル53上の基板Wの表面にノズル56Aから薬液、即ちAPMを所定時間供給する。薬液としてのAPMは、ノズル56Aから、回転するテーブル53上の基板Wの中央に向けて吐出され、基板Wの回転による遠心力によって基板Wの表面全体に広がっていく。これにより、テーブル53上の基板Wの表面はAPMにより覆われて処理されることになる。
洗浄液供給部57により基板Wの表面に洗浄液を供給した後に、この基板Wの表面に溶媒供給部58によってIPAを供給したとき、磁場形成手段100を用いて洗浄液とIPAが併存している基板Wの表面に磁場をかけ、基板Wの表面の洗浄液を揮発性溶媒と攪拌混合した。このモーゼ効果による洗浄液と揮発性溶媒の攪拌混合は、基板Wのパターン間隙の内部の全域にくまなく及び、基板Wのパターン間隙の内部の全域に浸入していた水の全体をIPAに良く混合し得るものになる。これにより、基板Wのパターン間隙に存在する洗浄液を表面張力の低いIPAに確実に置換し、基板Wの乾燥時のパターン倒壊を有効に防止できる。
50 基板洗浄室
57 洗浄液供給部
58 溶媒供給部
70 基板乾燥室
76 加熱手段
77 吸引乾燥手段(乾燥手段)
100 磁場形成手段
101 上磁石
102 下磁石
200 磁場形成手段
210 上磁石
212 スイングアーム
214 溶媒供給部
214A ノズル
220 下磁石
W 基板
洗浄液が供給された基板の表面に揮発性溶媒を供給し、基板の表面の洗浄液を揮発性溶媒に置換する溶媒供給部と、
揮発性溶媒が供給された基板の表面を加熱し、加熱作用で基板の表面に生成された揮発性溶媒の液玉を除去し、基板の表面を乾燥する加熱乾燥手段とを有してなる基板処理装置であって、
洗浄液と揮発性溶媒が併存している基板の表面に磁場をかけ、洗浄液の揮発性溶媒への置換を促進する磁場形成手段を有することを特徴とする。
洗浄液が供給された基板の表面に揮発性溶媒を供給し、基板の表面の洗浄液を揮発性溶媒に置換する工程と、
揮発性溶媒が供給された基板の表面を加熱し、加熱作用で基板の表面に生成された揮発性溶媒の液玉を除去し、基板の表面を乾燥する工程とを有してなる基板処理方法であって、
磁場形成手段を用いて洗浄液と揮発性溶媒が併存している基板の表面に磁場をかけ、洗浄液の揮発性溶媒への置換を促進するようにしたものである。
Claims (6)
- 基板の表面に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
洗浄液が供給された基板の表面に揮発性溶媒を供給し、基板の表面の洗浄液を揮発性溶媒に置換する溶媒供給部と、
揮発性溶媒が供給された基板の表面を加熱し、加熱作用で基板の表面に生成された揮発性溶媒の液玉を除去し、基板の表面を乾燥する加熱乾燥手段とを有してなる基板処理装置であって、
洗浄液と揮発性溶媒が併存している基板の表面に磁場をかけ、基板の表面の洗浄液を揮発性溶媒と攪拌混合し、洗浄液の揮発性溶媒への置換を促進する磁場形成手段を有することを特徴とする基板処理装置。 - 前記磁場形成手段が基板の表面側と裏面側の2位置のそれぞれに配置されて一対をなす磁石からなる請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記磁場形成手段が基板の表面に対して相対移動するアームに設けられ、このアームには揮発性溶媒の供給ノズルを備え、基板の表面に対する揮発性溶媒の供給と磁場の形成を同時に行なう請求項1又は2に記載の基板処理装置。
- 基板の表面に洗浄液を供給する工程と、
洗浄液が供給された基板の表面に揮発性溶媒を供給し、基板の表面の洗浄液を揮発性溶媒に置換する工程と、
揮発性溶媒が供給された基板の表面を加熱し、加熱作用で基板の表面に生成された揮発性溶媒の液玉を除去し、基板の表面を乾燥する工程とを有してなる基板処理方法であって、
磁場形成手段を用いて洗浄液と揮発性溶媒が併存している基板の表面に磁場をかけ、基板の表面の洗浄液を揮発性溶媒と攪拌混合し、洗浄液の揮発性溶媒への置換を促進する基板処理方法。 - 前記磁場形成手段が基板の表面側と裏面側の2位置のそれぞれに配置されて一対をなす磁石からなる請求項4に記載の基板処理方法。
- 前記磁場形成手段が基板の表面に対して相対移動するアームに設けられ、このアームには揮発性溶媒の供給ノズルを備え、基板の表面に対する揮発性溶媒の供給と磁場の形成を同時に行なう請求項4又は5に記載の基板処理方法。
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