JP2015087280A - 機能素子、機能素子の製造方法、センサーデバイス、電子機器、および移動体 - Google Patents
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Abstract
【課題】素子部が基板に静電誘引されることを抑制した機能素子を提供する。
【解決手段】主面を備えた第1基材と、表裏を貫通する穴を備え、主面側に載置された第2基材と、第1基材と、第2基材と、の間に設けられ、可動体を備えた素子部と、第1基材の主面に設けられ、素子部に接続されている配線部と、を備え、主面に対して垂直方向からの平面視において、穴は配線部と重なる位置に設けられ、穴を封止する導電部材が配線部に接続され、導電部材を介して可動体と第2基材とが同電位になっていることを特徴とする。
【選択図】図2
【解決手段】主面を備えた第1基材と、表裏を貫通する穴を備え、主面側に載置された第2基材と、第1基材と、第2基材と、の間に設けられ、可動体を備えた素子部と、第1基材の主面に設けられ、素子部に接続されている配線部と、を備え、主面に対して垂直方向からの平面視において、穴は配線部と重なる位置に設けられ、穴を封止する導電部材が配線部に接続され、導電部材を介して可動体と第2基材とが同電位になっていることを特徴とする。
【選択図】図2
Description
本発明は、機能素子、機能素子の製造方法、センサーデバイス、電子機器、および移動体に関するものである。
従来から、角速度や加速度等の物理量を検出するセンサーとしての素子部が搭載された空間を封止する封止構造を備える機能素子が知られている。一般にこの様な封止構造は、パッケージ内(キャビティー)を減圧、若しくは不活性ガス等で置換された状態で封止されている。例えば、特許文献1には、基板と、接着層を介して接合されたリッドとの間に生じた空間であるキャビティーに内包される様に、素子部が設けられた構造の機能素子が開示されている。
しかしながら、上述した機能素子は、接着層を介して基板とリッドとが接合されていることから、リッドと、素子部および素子部に接続される配線との間の電位が異なる。したがって、リッドと素子部との間の電位差から生じる静電引力によって、素子部がリッドに静電誘引される課題があった。素子部がリッドに静電誘引されることで、センサーとしての可動が妨げられ機能素子の機能を阻害される虞もあった。
本発明は、上述した課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態、又は適用例として実現することが可能である。
[適用例1]
本適用例に係る機能素子は、主面を備えた第1基材と、表裏を貫通する穴を備え、主面側に載置された第2基材と、第1基材と、第2基材と、の間に設けられ、可動体を備えた素子部と、第1基材の主面に設けられ、素子部に接続されている配線部と、を備え、主面に対して垂直方向からの平面視において、穴は配線部と重なる位置に設けられ、穴を封止する導電部材が配線部に接続され、導電部材を介して可動体と第2基材とが同電位になっていることを特徴とする。
本適用例に係る機能素子は、主面を備えた第1基材と、表裏を貫通する穴を備え、主面側に載置された第2基材と、第1基材と、第2基材と、の間に設けられ、可動体を備えた素子部と、第1基材の主面に設けられ、素子部に接続されている配線部と、を備え、主面に対して垂直方向からの平面視において、穴は配線部と重なる位置に設けられ、穴を封止する導電部材が配線部に接続され、導電部材を介して可動体と第2基材とが同電位になっていることを特徴とする。
この様な機能素子によれば、配線部は、穴を封止する導電部材によって第2基材に接続されている。これにより、配線部が接続されている素子部は、第2基材と同電位とすることができる。したがって、素子部は、その素子部に有する可動体が第2基材に静電誘引されることを抑制することができる。よって、静電誘引による可動体の変位が減衰されることを抑制した機能素子を得ることができる。
[適用例2]
上記適用例に係る機能素子において、第1基材の主面には、溝が設けられ、配線部は溝の内部に設けられていることが好ましい。
上記適用例に係る機能素子において、第1基材の主面には、溝が設けられ、配線部は溝の内部に設けられていることが好ましい。
この様な機能素子によれば、配線部が溝の内部に設けられていることで、互いに接続されている第1基材と第2基材との間に配線部による隙間が生じることを抑制することができる。
[適用例3]
上記適用例に係る機能素子において、穴と重なる配線部には、突起部が設けられていることが好ましい。
上記適用例に係る機能素子において、穴と重なる配線部には、突起部が設けられていることが好ましい。
この様な機能素子によれば、導電部材が設けられる穴と重なる配線部に突起部が設けられていることで、突起部の突起に応じて、穴と配線部との間に設けられる導電部材の量を低減させることができる。穴と導電部材との間に設けられる導電部材の量を低減させることで、導電部材の膨張による飛散(いわゆる「スプラッシュ」)を抑制するとともに、配線部間の短絡や、素子部の可動障害を抑制することができる。
[適用例4]
上記適用例に係る機能素子において、第2基材はシリコンを含む部材であることが好ましい。
上記適用例に係る機能素子において、第2基材はシリコンを含む部材であることが好ましい。
この様な機能素子によれば、第2基材はシリコンを含む部材で構成されるため導電性を有する。したがって、素子部は、配線部と導電部材とを介して第2基材と同電位となり、素子部に有する可動体が第2基材に静電誘引されることを抑制することができる。よって、静電誘引によって可動体の変位が減衰されることを抑制した機能素子を得ることができる。
[適用例5]
本適用例に係る機能素子の製造方法は、第1基材の主面に素子部を載置する工程と、第1基材の主面に素子部に接続される配線部を形成する工程と、表裏を貫通する穴が設けられた第2基材を主面上に載置して内部空間を形成し、内部空間に素子部を収納する工程と、を備え、第2基材を主面上に載置する工程は、主面に対して垂直方向からの平面視において穴と配線部とを重なる様に第2基材を載置し、導電部材で塞ぐとともに導電部材を配線部に接続させる封止工程を含むこと、を特徴とする。
本適用例に係る機能素子の製造方法は、第1基材の主面に素子部を載置する工程と、第1基材の主面に素子部に接続される配線部を形成する工程と、表裏を貫通する穴が設けられた第2基材を主面上に載置して内部空間を形成し、内部空間に素子部を収納する工程と、を備え、第2基材を主面上に載置する工程は、主面に対して垂直方向からの平面視において穴と配線部とを重なる様に第2基材を載置し、導電部材で塞ぐとともに導電部材を配線部に接続させる封止工程を含むこと、を特徴とする。
この様な機能素子の製造方法によれば、表裏を貫通する穴を導電部材で塞ぐとともに、素子部に接続して形成された配線部に導電部材を接続させる封止工程を含む。これにより、素子部が載置された内部空間の封止と、素子部と第2基材とを導電部材で電気的に接続することを同時におこなうことができる。よって、素子部が第2基材に静電誘引されることを抑制するとともに、素子部が載置される内部空間の雰囲気を封止することができる。
[適用例6]
上記適用例に係る機能素子の製造方法において、穴を導電部材で塞ぐ前に、内部空間の雰囲気を調整することが好ましい。
上記適用例に係る機能素子の製造方法において、穴を導電部材で塞ぐ前に、内部空間の雰囲気を調整することが好ましい。
この様な機能素子の製造方法によれば、内部空間の雰囲気調整をおこなった後に導電部材で穴を塞ぐことにより、雰囲気調整をおこなった状態で内部空間を封止することができる。
[適用例7]
上記適用例に係る機能素子の製造方法において、第1基板の主面には溝が設けられ、配線部を溝内に形成することが好ましい。
上記適用例に係る機能素子の製造方法において、第1基板の主面には溝が設けられ、配線部を溝内に形成することが好ましい。
この様な機能素子の製造方法において、溝部に配線部を形成することから、互いに接続される第1基材と第2基材との間に配線部による隙間が生じることを抑制することができるため、第1基材と第2基材とを強固に接合することができる。
[適用例8]
本適用例に係るセンサーデバイスは、主面を備えた第1基材と、表裏を貫通する穴を備え、主面側に載置された第2基材と、第1基材と第2基材との間に設けられ、可動体を備えた素子部と、第1基材の主面に設けられ、素子部に接続されている配線部と、を備え、素子部は、可動体に設けられた可動電極と、可動電極に対向して第1基材の主面に配置された固定電極とを含み、主面に対して垂直方向からの平面視において、穴は配線部と重なる位置に設けられ、穴を封止する導電部材が配線部に接続され、導電部材を介して可動体と第2基材とが同電位になっていることを特徴とする。
本適用例に係るセンサーデバイスは、主面を備えた第1基材と、表裏を貫通する穴を備え、主面側に載置された第2基材と、第1基材と第2基材との間に設けられ、可動体を備えた素子部と、第1基材の主面に設けられ、素子部に接続されている配線部と、を備え、素子部は、可動体に設けられた可動電極と、可動電極に対向して第1基材の主面に配置された固定電極とを含み、主面に対して垂直方向からの平面視において、穴は配線部と重なる位置に設けられ、穴を封止する導電部材が配線部に接続され、導電部材を介して可動体と第2基材とが同電位になっていることを特徴とする。
この様なセンサーデバイスによれば、センサーデバイスに加えられる物理量に応じて可動する素子部が、第2基材へ静電誘引されることが抑制されているため、加速度や角速度等の物理量の計測を高精度におこなうことができる。また、この様なセンサーデバイスの素子部は、第2基材に静電誘引されることが抑制されているため、継続的に物理量の計測をおこなう。
[適用例9]
本適用例に係る電子機器は、上述したセンサーデバイスを搭載していることを特徴とする。
本適用例に係る電子機器は、上述したセンサーデバイスを搭載していることを特徴とする。
この様な電子機器によれば、第2基材へ可動体を有する素子部の静電誘引が抑制され、継続的に物理量の計測をおこなうことができるセンサーデバイスを搭載することから、継続して落下や傾斜を計測することができる信頼性の高い電子機器を得ることができる。
[適用例10]
本適用例に係る移動体は、上述したセンサーデバイスを搭載していることを特徴とする。
本適用例に係る移動体は、上述したセンサーデバイスを搭載していることを特徴とする。
この様な電子機器によれば、第2基材へ可動体を有する素子部の静電誘引が抑制され、継続的に物理量の計測をおこなうことができるセンサーデバイスを搭載することから、継続して落下や傾斜を計測することができる信頼性の高い電子機器を得ることができる。
以下、本発明の実施形態について図面を用いて説明する。なお、以下に示す各図においては、各構成要素を図面上で認識され得る程度の大きさとするため、各構成要素の寸法や比率を実際の構成要素とは適宜に異ならせて記載する場合がある。
[第1実施形態]
第1実施形態に係る機能素子1について、図1ないし図4を用いて説明する。
図1は、本実施形態に係る機能素子を模式的に示す平面図である。図2は、図1で示す線分A−A’において矢印の方向から見た本実施形態に係る機能素子の断面を模式的に示す図である。図3および図4は、図1で示す線分A−A’において矢印の方向から見た本実施形態に係る機能素子の製造工程を説明する図である。
第1実施形態に係る機能素子1について、図1ないし図4を用いて説明する。
図1は、本実施形態に係る機能素子を模式的に示す平面図である。図2は、図1で示す線分A−A’において矢印の方向から見た本実施形態に係る機能素子の断面を模式的に示す図である。図3および図4は、図1で示す線分A−A’において矢印の方向から見た本実施形態に係る機能素子の製造工程を説明する図である。
[機能素子1の構造]
本実施形態の機能素子1は、図1および図2に示す様に、主面10aを有する第1基材10と、主面10aに対向して配設された第2基材40と、主面10aと第2基材40との間に配設された素子部30と、を含む。また、第1基材10の主面10aには、素子部30に接続されている配線部20が設けられている。
本実施形態の機能素子1は、図1および図2に示す様に、主面10aを有する第1基材10と、主面10aに対向して配設された第2基材40と、主面10aと第2基材40との間に配設された素子部30と、を含む。また、第1基材10の主面10aには、素子部30に接続されている配線部20が設けられている。
(第1基材10)
第1基材10は、素子部30や第2基材40等が配設されている基材である。
第1基材10は、板状をなし、その主面10a側に空洞部12と溝部14とが設けられている。また、第1基材10には、主面10aに対して垂直方向から平面視したときに、空洞部12と重なる様に素子部30が配設されている。
第1基材10は、素子部30や第2基材40等が配設されている基材である。
第1基材10は、板状をなし、その主面10a側に空洞部12と溝部14とが設けられている。また、第1基材10には、主面10aに対して垂直方向から平面視したときに、空洞部12と重なる様に素子部30が配設されている。
空洞部12には、内底12aを備える。この様な空洞部12は、後述する素子部30を構成する可動体35が第1基材10に接触することを抑制する空間、換言すると、逃げ部を構成する。これにより、可動体35の変位を許容することができる。
また、本実施形態おいて、主面10aに対して垂直方向から平面視したときの空洞部12の形状は、矩形をなしているが、これに限定されるものではない。素子部30の形状等により適宜変更しても良い。
また、本実施形態おいて、主面10aに対して垂直方向から平面視したときの空洞部12の形状は、矩形をなしているが、これに限定されるものではない。素子部30の形状等により適宜変更しても良い。
溝部14には、配線部20が配設されている。主面10aに対して垂直方向から平面視したときの溝部14の形状は、矩形をなしているが、これに限定されるものではない。配線部20の形状等により適宜変更しても良い。溝部14に配設されている配線部20については後述する。
第1基材10は、その材料としてガラス基板やシリコン基板等を用いることができる。本実施形態の機能素子1は、その一例としてガラス基板を用いている。第1基材10の材料としてガラス基板を用いることで、主面10aに絶縁膜を設けることなく配線部20や素子部30を配設することができる。
(配線部20)
配線部20は、配線22と電極パッド24とを含み構成されている。
配線部20は、第1基材10の主面10a上に設けられた溝部14に配設されている。配線部20は、素子部30へ電気信号を入出力するために設けられ、配線22の一端が素子部30に接続され、配線22の他端が電極パッド24に接続されている。電極パッド24には、機能素子1の外部と接続する配線(不図示)が接続されるものである。
配線22は、その材料として銅(Cu)、金(Au)、アルミニウム(Al)、またはこれらを含む合金を用いることができる。また、電極パッド24も同様に、銅(Cu)、金(Au)、アルミニウム(Al)、またはこれらを含む合金を用いることができる。本実施形態の機能素子1において配線部20は、その材料の一例として配線22には銅(Cu)を、電極パッド24には金(Au)を用いている。
配線部20は、配線22と電極パッド24とを含み構成されている。
配線部20は、第1基材10の主面10a上に設けられた溝部14に配設されている。配線部20は、素子部30へ電気信号を入出力するために設けられ、配線22の一端が素子部30に接続され、配線22の他端が電極パッド24に接続されている。電極パッド24には、機能素子1の外部と接続する配線(不図示)が接続されるものである。
配線22は、その材料として銅(Cu)、金(Au)、アルミニウム(Al)、またはこれらを含む合金を用いることができる。また、電極パッド24も同様に、銅(Cu)、金(Au)、アルミニウム(Al)、またはこれらを含む合金を用いることができる。本実施形態の機能素子1において配線部20は、その材料の一例として配線22には銅(Cu)を、電極パッド24には金(Au)を用いている。
(素子部30)
素子部30は、可動体35を含み構成されているセンサー素子である。素子部30は、例えば、固定電極(不図示)と、加速度や角速度等の物理量の変化に応じて変位する可動体35としての可動電極(不図示)と、が設けられている。この様な素子部30は、固定電極と可動電極とが対向して配設されている。素子部30は、物理量の変化に応じて可動電極が変位することで、固定電極との間隔が変動し、両電極間の静電容量の変化が生じる。素子部30は、かかる静電容量の変化を上述した配線部20を介して機能素子1の外部に出力することができる。
素子部30は、特に限定されるものでなく、計測対象の物理量に適した可動体35を含み構成することができる。素子部30は、その材料として、可動体35の構成に応じて水晶基板やシリコン基板を用いることができる。本実施形態の素子部30は、その材料の一例としてシリコン基板を用いている。素子部30は、その材料としてシリコン基板を用いることで、ガラス基板を用いた第1基材10と陽極接合法等によって強固に接合されている。
素子部30は、可動体35を含み構成されているセンサー素子である。素子部30は、例えば、固定電極(不図示)と、加速度や角速度等の物理量の変化に応じて変位する可動体35としての可動電極(不図示)と、が設けられている。この様な素子部30は、固定電極と可動電極とが対向して配設されている。素子部30は、物理量の変化に応じて可動電極が変位することで、固定電極との間隔が変動し、両電極間の静電容量の変化が生じる。素子部30は、かかる静電容量の変化を上述した配線部20を介して機能素子1の外部に出力することができる。
素子部30は、特に限定されるものでなく、計測対象の物理量に適した可動体35を含み構成することができる。素子部30は、その材料として、可動体35の構成に応じて水晶基板やシリコン基板を用いることができる。本実施形態の素子部30は、その材料の一例としてシリコン基板を用いている。素子部30は、その材料としてシリコン基板を用いることで、ガラス基板を用いた第1基材10と陽極接合法等によって強固に接合されている。
(第2基材40)
第2基材40は、接合面40aを有し、その接合面40aを第1基材10の主面10aに対向させて配設されている。接合面40aと、主面10aとの間には、前述した素子部30が配設されている。
第2基材40は、その接合面40a側の頂面41aと、第1基材10の主面10aと、が接続されることで第1基材10に接合されている。
本実施形態の第2基材40の接合面40a側には、凹形状をなした空洞部42が設けられている。空洞部42は、接合面40aに対して垂直方向からの平面視において、素子部30を内包する様に設けられるとともに、矩形状を成している。空洞部42は、第1基材10に設けられた空洞部12と対向して設けられている。機能素子1において、空洞部12と空洞部42とが対向して配設されることで生じる空間(内部空間)を、素子部30が収容されるキャビティー50として用いることができる。
第2基材40は、接合面40aを有し、その接合面40aを第1基材10の主面10aに対向させて配設されている。接合面40aと、主面10aとの間には、前述した素子部30が配設されている。
第2基材40は、その接合面40a側の頂面41aと、第1基材10の主面10aと、が接続されることで第1基材10に接合されている。
本実施形態の第2基材40の接合面40a側には、凹形状をなした空洞部42が設けられている。空洞部42は、接合面40aに対して垂直方向からの平面視において、素子部30を内包する様に設けられるとともに、矩形状を成している。空洞部42は、第1基材10に設けられた空洞部12と対向して設けられている。機能素子1において、空洞部12と空洞部42とが対向して配設されることで生じる空間(内部空間)を、素子部30が収容されるキャビティー50として用いることができる。
第2基材40には、調整穴44と、封止穴46と、が設けられている。
調整穴44は、第1基材10の主面10aに設けられている配線22と交差する方向に延伸するとともに、第2基材40を貫通させて設けられている。調整穴44は、配線22と交差する方向に延設されている長穴である。また、調整穴44には、充填材45が設けられている。充填材45は、溝部14と第2基材40との間の隙間を埋めるために設けられている。また、充填材45は、第1基材10と第2基材40とを平行に接合するために、第2基材40の傾きを調整するために設けられている。充填材45は、その材料として、絶縁性を有し、線膨張係数の低い材料が好ましい。本実施形態の機能素子1において充填材45の材料は、その一例としてシリコン酸化膜を用いている。
調整穴44は、第1基材10の主面10aに設けられている配線22と交差する方向に延伸するとともに、第2基材40を貫通させて設けられている。調整穴44は、配線22と交差する方向に延設されている長穴である。また、調整穴44には、充填材45が設けられている。充填材45は、溝部14と第2基材40との間の隙間を埋めるために設けられている。また、充填材45は、第1基材10と第2基材40とを平行に接合するために、第2基材40の傾きを調整するために設けられている。充填材45は、その材料として、絶縁性を有し、線膨張係数の低い材料が好ましい。本実施形態の機能素子1において充填材45の材料は、その一例としてシリコン酸化膜を用いている。
封止穴46は、主面10aに対して垂直方向からの平面視において、配線22と重なる様に設けられるとともに、第2基材40を貫通させて設けられている。
封止穴46には、導電部材47が設けられている。導電部材47は、キャビティー50を封止するために設けられている。また、導電部材47は、第2基材40と、第1基材10の主面10aに設けられている配線22と、を電気的に接続するために設けられている。
導電部材47は、その材料として、導電性を有し、低融点の材料が好ましい。本実施形態の機能素子1において、その一例として金(Au)を含む合金を用いている。
封止穴46には、導電部材47が設けられている。導電部材47は、キャビティー50を封止するために設けられている。また、導電部材47は、第2基材40と、第1基材10の主面10aに設けられている配線22と、を電気的に接続するために設けられている。
導電部材47は、その材料として、導電性を有し、低融点の材料が好ましい。本実施形態の機能素子1において、その一例として金(Au)を含む合金を用いている。
第2基材40は、その材料としてガラス基板やシリコン基板等を用いることができる。本実施形態の機能素子1は、その一例として調整穴44や封止穴46の形成が容易、かつ導電性の材料であるシリコン基板を用いている。
機能素子1は、第2基材40と、素子部30に接続された配線22と、が導電部材47によって電気的に接続されている。したがって、素子部30は、第2基材40と同電位とすることができる。
[機能素子1の製造方法]
本実施形態の機能素子1の製造方法は、第1基材10を準備する工程と、素子部30を準備する工程と、第1基材10に素子部30を載置する工程と、第1基材10に形成された溝部14に配線部20を形成する工程と、第2基材40を準備する工程と、を含む。また、機能素子1の製造方法は、第2基材40を第1基材10の主面10a上に載置する工程と、調整穴44に充填材45を充填する工程と、キャビティー50内の雰囲気を調整する工程と、封止穴46を塞ぐ工程と、を含む。
本実施形態の機能素子1の製造方法は、第1基材10を準備する工程と、素子部30を準備する工程と、第1基材10に素子部30を載置する工程と、第1基材10に形成された溝部14に配線部20を形成する工程と、第2基材40を準備する工程と、を含む。また、機能素子1の製造方法は、第2基材40を第1基材10の主面10a上に載置する工程と、調整穴44に充填材45を充填する工程と、キャビティー50内の雰囲気を調整する工程と、封止穴46を塞ぐ工程と、を含む。
[第1機材準備工程]
図3(a)は、第1基材準備工程によって、第1基材10の主面10aに空洞部12と、溝部14と、が形成された状態を示している。
第1基材準備工程は、後述する工程で素子部30が載置される主面10aに、空洞部12および溝部14を形成する工程である。
空洞部12および溝部14の形成は、その一例として、空洞部12および溝部14を形成する部分が開口したマスクパターンを主面10aに一時的に形成し、周知のウエットエッチング法によって第1基材10のエッチングをおこなう。エッチングをおこなうことで、凹形状を成す空洞部12、および溝部14を形成することができる。なお、空洞部12および溝部14の形成は、ウエットエッチング法に限定されること無く、ドライエッチング法等を用いても良い。
図3(a)は、第1基材準備工程によって、第1基材10の主面10aに空洞部12と、溝部14と、が形成された状態を示している。
第1基材準備工程は、後述する工程で素子部30が載置される主面10aに、空洞部12および溝部14を形成する工程である。
空洞部12および溝部14の形成は、その一例として、空洞部12および溝部14を形成する部分が開口したマスクパターンを主面10aに一時的に形成し、周知のウエットエッチング法によって第1基材10のエッチングをおこなう。エッチングをおこなうことで、凹形状を成す空洞部12、および溝部14を形成することができる。なお、空洞部12および溝部14の形成は、ウエットエッチング法に限定されること無く、ドライエッチング法等を用いても良い。
[素子部準備工程、素子部載置工程]
図3(b)は、素子部準備工程で形成された素子部30が、素子部載置工程によって第1基材10の主面10aに載置された状態を示している。
図3(b)は、素子部準備工程で形成された素子部30が、素子部載置工程によって第1基材10の主面10aに載置された状態を示している。
素子部準備工程は、可動体35を含む素子部30を形成する工程である。素子部準備工程は、周知の半導体装置製造技術を用いて可動体35を含む素子部30を形成(準備)する。
素子部載置工程は、主面10aに対して垂直方向からの平面視において、第1基材10の主面10aに設けられた空洞部12と重なる様に素子部30を載置する工程である。
素子部30を主面10aに載置する方法は、特に限定されること無く周知の移載装置等を用いることができる。
[配線部形成工程]
図3(c)は、第1基材10の溝部14に配線部20が形成された状態を示している。
配線部形成工程は、第1基材10の主面10aに形成された溝部14に、配線部20を構成する配線22および電極パッド24を形成する工程である。
素子部30を主面10aに載置する方法は、特に限定されること無く周知の移載装置等を用いることができる。
[配線部形成工程]
図3(c)は、第1基材10の溝部14に配線部20が形成された状態を示している。
配線部形成工程は、第1基材10の主面10aに形成された溝部14に、配線部20を構成する配線22および電極パッド24を形成する工程である。
配線22の形成は、その一例として配線22を設ける部分が開口したマスクパターンを主面10a上に一時的に形成し、周知のスパッタリング法によって配線22を形成することができる。電極パッド24の形成は、その一例として電極パッド24を設ける部分が開口したマスクパターンを配線22上(主面10a上)に一時的に形成し、周知のスパッタリング法によって電極パッド24を形成することができる。配線部形成工程において、配線部20の形成は、スパッタリング法に限定されること無くCVD法などを用いても良い。
[第2基材準備工程]
図3(d)は、第2基材準備工程によって、空洞部42、調整穴44、および封止穴46が形成された状態を示している。
第2基材準備工程は、素子部30が収容されるキャビティー50(図3において不図示)を構成する空洞部42と、溝部14と第2基材40との間の隙間を埋める充填材45が設けられる調整穴44と、封止穴46と、を形成する工程である。
図3(d)は、第2基材準備工程によって、空洞部42、調整穴44、および封止穴46が形成された状態を示している。
第2基材準備工程は、素子部30が収容されるキャビティー50(図3において不図示)を構成する空洞部42と、溝部14と第2基材40との間の隙間を埋める充填材45が設けられる調整穴44と、封止穴46と、を形成する工程である。
空洞部42の形成は、その一例として、空洞部42を形成する部分が開口したマスクパターンを接合面40aに一時的に形成し、周知のウエットエッチング法によって第2基材40のエッチングをおこなう。エッチングをおこなうことで、凹形状を成す空洞部42を形成することができる。なお、空洞部42の形成は、ウエットエッチング法に限定されること無く、ドライエッチング法等を用いても良い。
調整穴44および封止穴46の形成は、その一例として、調整穴44および封止穴46を形成する部分が開口したマスクパターンを接合面40aの裏面40bに一時的に形成し、周知のドライエッチング法によって第2基材40のエッチングをおこなう。エッチングをおこなうことでテーパー形状を成す調整穴44および封止穴46を形成することができる。なお、調整穴44および封止穴46の形成は、ドライエッチング法に限定されること無く、ウエットエッチング法等を用いても良い。
[第2基材載置工程]
図4(e)は、第2基材準備工程で形成された第2基材40が、第2基材載置工程によって第1基材10の主面10aに載置された状態を示している。
図4(e)は、第2基材準備工程で形成された第2基材40が、第2基材載置工程によって第1基材10の主面10aに載置された状態を示している。
第2基材載置工程は、主面10aに対して垂直方向からの平面視において、第1基材10の主面10aに設けられた配線22と、第2基材40に設けられた封止穴46と、が重なる様に、第2基材40を主面10aに載置する工程である。第2基材40が第1基材10の主面10aに載置されることで、先に載置されている素子部30をキャビティー50(空洞部12および空洞部42)に収容することができる。素子部30を主面10aに載置する方法は、特に限定されること無く周知の移載装置等を用いることができる。なお、第2基材載置工程は、キャビティー50内に素子部30を収納する工程でもある。
また、第2基材載置工程は、主面10aに第2基材40が載置された後に、第1基材10と第2基材40との接合をおこなう。第1基材10と第2基材40との接合は、その一例として周知の技術である陽極接合法を用いることができる。第1基材10と第2基材40との接合は、陽極接合法に限定されること無く、接着材を用いた接合方法等を用いても良い。
[充填工程]
図4(f)は、第2基材準備工程で形成された調整穴44に充填材45が形成された状態を示している。
充填工程は、調整穴44に充填材45を形成することで、溝部14、配線部20、および第2基材40との間の隙間を埋める工程である。かかる隙間を埋めるとともに、後述する封止穴46を導電部材47で塞ぐことで、キャビティー50を封止することができる。充填工程は、調整穴44に充填材45を充填する方法の一例として、シリコン酸化物を含む膜を周知の技術であるCVD法によって形成することができる。調整穴44に充填材45を充填する方法は、CVD法に限定されること無くPVD法等を用いても良い。
[雰囲気調整工程、封止工程]
図4(g)は、雰囲気調整工程によってキャビティー50内の雰囲気が調整された状態を示している。また、図4(g)は、導電部材47が封止穴46に設けられることでキャビティー50が封止された状態を示している。
図4(f)は、第2基材準備工程で形成された調整穴44に充填材45が形成された状態を示している。
充填工程は、調整穴44に充填材45を形成することで、溝部14、配線部20、および第2基材40との間の隙間を埋める工程である。かかる隙間を埋めるとともに、後述する封止穴46を導電部材47で塞ぐことで、キャビティー50を封止することができる。充填工程は、調整穴44に充填材45を充填する方法の一例として、シリコン酸化物を含む膜を周知の技術であるCVD法によって形成することができる。調整穴44に充填材45を充填する方法は、CVD法に限定されること無くPVD法等を用いても良い。
[雰囲気調整工程、封止工程]
図4(g)は、雰囲気調整工程によってキャビティー50内の雰囲気が調整された状態を示している。また、図4(g)は、導電部材47が封止穴46に設けられることでキャビティー50が封止された状態を示している。
本実施形態の機能素子1においてキャビティー50内は、減圧状態や不活性ガス(例えば窒素ガス)が充填された状態で封止(密閉)されている。
例えば、素子部30が角速度等を検出するセンサーとして設けられている場合、キャビティー50内の雰囲気は、減圧状態であることが好ましい。また、キャビティー50内の雰囲気は、真空状態であることがより好ましい。これにより、キャビティー50内に残留する大気等の空気抵抗によって、素子部30に有する可動体35の変位(振動)が減衰することを抑制できる。
また、例えば、素子部30が加速度等を検出するセンサーとして設けられている場合、キャビティー50内の雰囲気は、窒素ガス等の不活性ガス(気体)に置換された状態であることが好ましい。これにより、キャビティー50内に充填された不活性ガスの粘性がダンピング効果として感度特性に寄与することができる。
例えば、素子部30が角速度等を検出するセンサーとして設けられている場合、キャビティー50内の雰囲気は、減圧状態であることが好ましい。また、キャビティー50内の雰囲気は、真空状態であることがより好ましい。これにより、キャビティー50内に残留する大気等の空気抵抗によって、素子部30に有する可動体35の変位(振動)が減衰することを抑制できる。
また、例えば、素子部30が加速度等を検出するセンサーとして設けられている場合、キャビティー50内の雰囲気は、窒素ガス等の不活性ガス(気体)に置換された状態であることが好ましい。これにより、キャビティー50内に充填された不活性ガスの粘性がダンピング効果として感度特性に寄与することができる。
雰囲気調整工程は、キャビティー50に収容される素子部30(可動体35)の構成に応じて、キャビティー50内を減圧状態や不活性ガスを充満させた状態にする工程である。
本実施形態の機能素子1は、その一例として加速度等を計測するセンサーとして素子部30がキャビティー50に内包されている。したがって、雰囲気調整工程は、封止穴46から不活性ガスを注入し、キャビティー50内の大気と置換をおこなう。
本実施形態の機能素子1は、その一例として加速度等を計測するセンサーとして素子部30がキャビティー50に内包されている。したがって、雰囲気調整工程は、封止穴46から不活性ガスを注入し、キャビティー50内の大気と置換をおこなう。
封止工程は、前述の雰囲気調整工程によって雰囲気が調整されたキャビティー50を封止する工程である。
封止工程は、雰囲気調整工程で調整されたキャビティー50内の雰囲気を維持するため、雰囲気調整に用いられた封止穴46を導電部材47で封止する。封止工程は、導電部材47を溶融させ封止穴46に滴下するとともに、滴下された導電部材47が冷却されることで封止穴46の封止をおこなう。また、封止工程は、溶融させた導電部材47を主面10aに設けられた配線22に至らせることで、導電部材47を介して配線22および第2基材40の接続をおこなう。
封止工程は、雰囲気調整工程で調整されたキャビティー50内の雰囲気を維持するため、雰囲気調整に用いられた封止穴46を導電部材47で封止する。封止工程は、導電部材47を溶融させ封止穴46に滴下するとともに、滴下された導電部材47が冷却されることで封止穴46の封止をおこなう。また、封止工程は、溶融させた導電部材47を主面10aに設けられた配線22に至らせることで、導電部材47を介して配線22および第2基材40の接続をおこなう。
これにより、第2基材40と、配線22が接続されている素子部30と、を電気的に接続して、同電位とすることができる。
キャビティー50の封止は、その一例として周知の技術であるソルダ−封止法を用いることができる。キャビティー50の封止は、ソルダ−封止法に限定されること無く、導電性の導電部材47を用いてキャビティー50を封止するとともに、配線22および第2基材40を電気的に接続することができる方法を用いても良い。
機能素子1の製造方法は、封止工程が終了することで完了する。
キャビティー50の封止は、その一例として周知の技術であるソルダ−封止法を用いることができる。キャビティー50の封止は、ソルダ−封止法に限定されること無く、導電性の導電部材47を用いてキャビティー50を封止するとともに、配線22および第2基材40を電気的に接続することができる方法を用いても良い。
機能素子1の製造方法は、封止工程が終了することで完了する。
上述した第1実施形態によれば、以下の効果が得られる。
この様な機能素子1によれば、第2基材40、および素子部30に接続されている配線部20は、第2基材40に設けられている封止穴46を封止する導電部材47によって接続されている。これにより、素子部30は、第2基材40と同電位とすることができる。したがって、第1基材10と第2基材40との間に設けられている素子部30は、その素子部30に有する可動体35が第2基材40に静電誘引されることを抑制することができる。よって、静電誘引による可動体35の変位が減衰されることを抑制した機能素子1を得ることができる。
また、この様な機能素子の製造方法によれば、素子部30が載置されたキャビティー50を塞ぐ封止工程において、キャビティー50の雰囲気を調整した後に、キャビティー50に貫通する封止穴46を導電部材47で塞ぐとともに、素子部30に接続して形成された配線部20に導電部材47を接続させる。これにより、素子部30が載置されたキャビティー50の封止と、素子部30と第2基材40とを電気的に接続することと、を同時におこなうことができる。よって、機能素子1の生産効率を高めるとともに、素子部30が第2基材40に静電誘引されることを抑制した機能素子1を得ることができる。
この様な機能素子1によれば、第2基材40、および素子部30に接続されている配線部20は、第2基材40に設けられている封止穴46を封止する導電部材47によって接続されている。これにより、素子部30は、第2基材40と同電位とすることができる。したがって、第1基材10と第2基材40との間に設けられている素子部30は、その素子部30に有する可動体35が第2基材40に静電誘引されることを抑制することができる。よって、静電誘引による可動体35の変位が減衰されることを抑制した機能素子1を得ることができる。
また、この様な機能素子の製造方法によれば、素子部30が載置されたキャビティー50を塞ぐ封止工程において、キャビティー50の雰囲気を調整した後に、キャビティー50に貫通する封止穴46を導電部材47で塞ぐとともに、素子部30に接続して形成された配線部20に導電部材47を接続させる。これにより、素子部30が載置されたキャビティー50の封止と、素子部30と第2基材40とを電気的に接続することと、を同時におこなうことができる。よって、機能素子1の生産効率を高めるとともに、素子部30が第2基材40に静電誘引されることを抑制した機能素子1を得ることができる。
[第2実施形態]
第2実施形態に係るセンサーデバイスについて、図5を用いて説明する。
図5は、第2実施形態に係るセンサーデバイスの概略を示すブロック図である。
センサーデバイス100は、当該センサーデバイス100に加えられた加速度や角速度等の物理量を計測するセンサーとして機能する。
第2実施形態に係るセンサーデバイスについて、図5を用いて説明する。
図5は、第2実施形態に係るセンサーデバイスの概略を示すブロック図である。
センサーデバイス100は、当該センサーデバイス100に加えられた加速度や角速度等の物理量を計測するセンサーとして機能する。
[センサーデバイス100の構成]
図5に示す本実施形態のセンサーデバイス100は、第1実施形態で上述した機能素子1と、回路部2と、機能素子1および回路部2等を収容するパッケージ3と、を含み構成されている。センサーデバイス100は、加速度を計測するセンサーとして素子部30が設けられている場合、加速度に応じて素子部30から出力される信号を回路部2で増幅することができる。回路部2で増幅された信号は、パッケージ内部配線(不図示)で回路部2と接続されたパッケージ外部端子(不図示)から、センサーデバイス100に加えられた物理量に応じた電気信号として出力することができる。
また、センサーデバイス100は、角速度を計測するセンサーとして素子部30が設けられている場合、素子部30に対し可動体35を駆動させる励振信号の印加と、角速度に応じて素子部30から出力される信号の増幅を回路部2でおこなうことができる。回路部2で増幅された電気信号は、パッケージ内部配線(不図示)で回路部2と接続されたパッケージ外部端子(不図示)からセンサーデバイス100の外部に出力することができる。
図5に示す本実施形態のセンサーデバイス100は、第1実施形態で上述した機能素子1と、回路部2と、機能素子1および回路部2等を収容するパッケージ3と、を含み構成されている。センサーデバイス100は、加速度を計測するセンサーとして素子部30が設けられている場合、加速度に応じて素子部30から出力される信号を回路部2で増幅することができる。回路部2で増幅された信号は、パッケージ内部配線(不図示)で回路部2と接続されたパッケージ外部端子(不図示)から、センサーデバイス100に加えられた物理量に応じた電気信号として出力することができる。
また、センサーデバイス100は、角速度を計測するセンサーとして素子部30が設けられている場合、素子部30に対し可動体35を駆動させる励振信号の印加と、角速度に応じて素子部30から出力される信号の増幅を回路部2でおこなうことができる。回路部2で増幅された電気信号は、パッケージ内部配線(不図示)で回路部2と接続されたパッケージ外部端子(不図示)からセンサーデバイス100の外部に出力することができる。
本実施形態のセンサーデバイス100によれば、以下の効果が得られる。
この様なセンサーデバイス100は、当該センサーデバイス100に加えられる物理量に応じて可動(変位)する素子部30が、第2基材40に静電誘引されることが抑制されているため、加速度や角速度等の物理量の計測を高精度におこなうことができる。
この様なセンサーデバイス100は、当該センサーデバイス100に加えられる物理量に応じて可動(変位)する素子部30が、第2基材40に静電誘引されることが抑制されているため、加速度や角速度等の物理量の計測を高精度におこなうことができる。
なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、上述した実施形態に種々の変更や改良などを加えることが可能である。変形例を以下に述べる。
[変形例]
図6ないし図8は、変形例に係る機能素子を模式的に示す断面図であり、図1で示した線分A−A’における機能素子1の断面に対応する部分を示すものである。
変形例に係る機能素子1は、配線部20の構成、第1基材10の構成、および第2基材40の構成が異なる。以下に機能素子1との相違点を説明し、機能素子1と同一の構成、及び製造工程については説明を一部省略する。
図6ないし図8は、変形例に係る機能素子を模式的に示す断面図であり、図1で示した線分A−A’における機能素子1の断面に対応する部分を示すものである。
変形例に係る機能素子1は、配線部20の構成、第1基材10の構成、および第2基材40の構成が異なる。以下に機能素子1との相違点を説明し、機能素子1と同一の構成、及び製造工程については説明を一部省略する。
[変形例1]
図6は、変形例1に係る機能素子1aの断面を模式的に示す断面図である。
変形例1に係る機能素子1aは、主面10aに対して垂直方向から第1基材10および第2基材40を平面視した場合に、配線22と重なる様に封止穴46が設けられるとともに、封止穴46と重なる突起部26が配線22から延設されている。
突起部26は、配線22から第2基材40の接合面40a(封止穴46)に向かって延設されている。突起部26は、電極パッド24と同様に、銅(Cu)、金(Au)、アルミニウム(Al)、またはこれらを含む合金を用いることができる。本実施形態の機能素子1aにおいて突起部26は、金(Au)を用いている。また、突起部26の形成は、電極パッド24と同様に、電極パッド24を設ける部分が開口したマスクパターンを配線22上(主面10a上)に形成し、周知のスパッタリング法によって突起部26を形成することができる。突起部26の形成は、スパッタリング法に限定されること無くCVD法などを用いても良い。また、第1実施形態で上述した配線部形成工程によって、電極パッド24と同時に形成しても良い。
図6は、変形例1に係る機能素子1aの断面を模式的に示す断面図である。
変形例1に係る機能素子1aは、主面10aに対して垂直方向から第1基材10および第2基材40を平面視した場合に、配線22と重なる様に封止穴46が設けられるとともに、封止穴46と重なる突起部26が配線22から延設されている。
突起部26は、配線22から第2基材40の接合面40a(封止穴46)に向かって延設されている。突起部26は、電極パッド24と同様に、銅(Cu)、金(Au)、アルミニウム(Al)、またはこれらを含む合金を用いることができる。本実施形態の機能素子1aにおいて突起部26は、金(Au)を用いている。また、突起部26の形成は、電極パッド24と同様に、電極パッド24を設ける部分が開口したマスクパターンを配線22上(主面10a上)に形成し、周知のスパッタリング法によって突起部26を形成することができる。突起部26の形成は、スパッタリング法に限定されること無くCVD法などを用いても良い。また、第1実施形態で上述した配線部形成工程によって、電極パッド24と同時に形成しても良い。
この様な機能素子1は、突起部26の頂面26aと、封止穴46の端面46aと、の間隔が狭くなり、配線22と第2基材40とを電気的に接続する導電部材47のキャビティー50内への流入量を抑制することができる。また、キャビティー50内への導電部材47の流入量が抑制されるため、溶融した導電部材47の膨張による飛散(いわゆる「スプラッシュ現象」)を抑制するとともに、配線22間の短絡や素子部30の短絡および素子部30の可動障害を抑制することができる。また、高価な導電部材47の使用量を削減することで、機能素子1aの製造費用の低減を図ることができる。
[変形例2]
図7は、変形例2に係る機能素子1bの断面を模式的に示す断面図である。
変形例2に係る機能素子1bは、第2基材40の接合面40aに導電部48が設けられている。
導電部48は、主面10aに対して垂直方向から第1基材10および第2基材40を平面視した場合に、封止穴46および素子部30と重なる様に第2基材40の接合面40aに設けられている。
導電部48は、銅(Cu)、金(Au)、アルミニウム(Al)、またはこれらを含む合金を用いることができる。本実施形態の機能素子1bにおいて導電部48は、銅(Cu)を用いている。
図7は、変形例2に係る機能素子1bの断面を模式的に示す断面図である。
変形例2に係る機能素子1bは、第2基材40の接合面40aに導電部48が設けられている。
導電部48は、主面10aに対して垂直方向から第1基材10および第2基材40を平面視した場合に、封止穴46および素子部30と重なる様に第2基材40の接合面40aに設けられている。
導電部48は、銅(Cu)、金(Au)、アルミニウム(Al)、またはこれらを含む合金を用いることができる。本実施形態の機能素子1bにおいて導電部48は、銅(Cu)を用いている。
導電部48の形成は、導電部48を設ける部分が開口したマスクパターンを第2基材40(接合面40a上)に形成し、周知のスパッタリング法によって導電部48を形成することができる。導電部48の形成は、スパッタリング法に限定されること無くCVD法などを用いても良い。なお、導電部48の形成は、第1実施形態で上述した第2基材準備工程において空洞部42および封止穴46が形成された後に導電部48の形成をおこなうことができる。導電部48は、接合面40aから封止穴46の内面46cに延伸する様に設けることで、導電部材47との密着性を高めることができる。
この様な機能素子1bは、導電部材47を介して導電部48と、配線22とが接続されている素子部30と、を電気的に接続して、同電位とすることができる。したがって、素子部30が第2基材40に静電誘引されることを抑制することができる。また、第2基材40の接合面40aに導電部48が設けられることで、第2基材40の材料として安価なガラス基板を用いることがでるとともに、機能素子1bの製造費用の低減を図ることができる。
[変形例3]
図8は、変形例3に係る機能素子1cの断面を模式的に示す断面図である。
変形例3に係る機能素子1cは、主面10aに対して垂直方向から平面視した場合に、素子部30と重なる様にスペーサー部材16が設けられている。スペーサー部材16は、主面10aに対して垂直方向から平面視した場合に、素子部30と重なる様に設けられた空洞部12に替えて設けられている。
図8は、変形例3に係る機能素子1cの断面を模式的に示す断面図である。
変形例3に係る機能素子1cは、主面10aに対して垂直方向から平面視した場合に、素子部30と重なる様にスペーサー部材16が設けられている。スペーサー部材16は、主面10aに対して垂直方向から平面視した場合に、素子部30と重なる様に設けられた空洞部12に替えて設けられている。
スペーサー部材16は、主面10aに対して垂直方向から第1基材10および素子部30平面視した場合に、素子部30の外形の辺に沿って主面10a上に設けられている。スペーサー部材16は、素子部30に有する可動体35の可動を妨げないように、主面10aと素子部30との間に空間18を得るために設けられている。変形例3にかかるスペーサー部材16は、主面10aに設けられた配線22と交差する素子部30の外形の辺、およびその辺の対辺に沿って設けられている。スペーサー部材16は、素子部30を主面10aに支持するとともに、素子部30に有する可動体35の可動を妨げないように設けられていれば、配線22と並行する素子部30の外径の辺、およびその辺の対辺に沿って設けられていても良い。スペーサー部材16は、その材料の一例としてガラス基板などを用いることができる。
また、スペーサー部材16の形成および主面10aへの載置は、その一例として素子部30の辺に沿った長さのガラス基板を準備するとともに、主面10aに対して垂直方向から平面視した場合に素子部30と重なる様に載置する。スペーサー部材16としてのガラス基板の載置は、第1実施形態で上述した素子部移載工程に先立ち周知の移載装置等によっておこなうことができる。
この様な機能素子1cは、素子部30の外形状や可動体35の構造に応じてスペーサー部材16を準備し、主面10aに載置することから、素子部30の外形状や可動体35の構造に応じた空洞部12を有する第1基材10の準備を必要とせず、機能素子1cの生産効率を高めることができる。
なお、スペーサー部材16は、第2基材40の接合面40aに設けても良い。スペーサー部材16は、接合面40aに対して垂直方向から平面視した場合に、素子部30と重なる様に接合面40aに設けるとともに、素子部30を接続することで可動体35の変位を可能とすることができる。
(実施例)
本発明の実施形態に係る機能素子1が搭載されたセンサーデバイス100を適用した実施例について、図9から図12を参照しながら説明する。
本発明の実施形態に係る機能素子1が搭載されたセンサーデバイス100を適用した実施例について、図9から図12を参照しながら説明する。
[電子機器]
本発明の実施形態に係るセンサーデバイス100を適用した電子機器について、図9から図11を参照しながら説明する。
本発明の実施形態に係るセンサーデバイス100を適用した電子機器について、図9から図11を参照しながら説明する。
図9は、本発明の実施形態に係るセンサーデバイス100を備える電子機器としてのラップトップ型(またはモバイル型)のパーソナルコンピューターの構成の概略を示す斜視図である。この図において、ラップトップ型パーソナルコンピューター1100は、キーボード1102を備えた本体部1104と、表示部1008を備えた表示ユニット1106とにより構成され、表示ユニット1106は、本体部1104に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。この様なラップトップ型パーソナルコンピューター1100には、その落下や傾斜を計測するための加速度や角速度等の物理量を計測するセンサーデバイス100が搭載されている。この様なセンサーデバイス100は、素子部30と、素子部30を覆う第2基材40と、の間が同電位とされている。素子部30および第2基材40が同電位とされていることで、第2基材40に対する素子部30(可動体35)の静電誘引が抑制されるとともに、継続的に物理量の計測をおこなうことができる。よって、上述したセンサーデバイス100が搭載されることで継続して落下や傾斜を計測することができることから、信頼性の高いラップトップ型パーソナルコンピューター1100を得ることができる。
図10は、本発明の一実施形態に係るセンサーデバイス100を備える電子機器としての携帯電話機(PHSも含む)の構成の概略を示す斜視図である。この図において、携帯電話機1200は、複数の操作ボタン1202、受話口1204および送話口1206を備え、操作ボタン1202と受話口1204との間には、表示部1208が配置されている。この様な携帯電話機1200には、その落下や傾斜を計測するための加速度や角速度等の物理量を計測するセンサーデバイス100が搭載されている。この様なセンサーデバイス100は、素子部30と、素子部30を覆う第2基材40と、の間が同電位とされている。素子部30および第2基材40が同電位とされていることで、第2基材40に対する素子部30(可動体35)の静電誘引が抑制されるとともに、継続的に物理量の計測をおこなうことができる。よって、上述したセンサーデバイス100が搭載されることで継続して落下や傾斜を計測することができることから、信頼性の高い携帯電話機1200を得ることができる。
図11は、本発明の一実施形態に係るセンサーデバイス100を備える電子機器としてのデジタルスチールカメラの構成の概略を示す斜視図である。なお、この図には、外部機器との接続についても簡易的に示されている。ここで、通常のカメラは、被写体の光像により銀塩写真フィルムを感光するのに対し、デジタルスチールカメラ1300は、被写体の光像をCCD(Charge Coupled Device)等の撮像素子により光電変換して撮像信号(画像信号)を生成する。
デジタルスチールカメラ1300におけるケース(ボディー)1302の背面には、表示部1308が設けられ、CCDによる撮像信号に基づいて表示をおこなう構成になっており、表示部1308は、被写体を電子画像として表示するファインダーとして機能する。また、ケース1302の正面側(図中裏面側)には、光学レンズ(撮像光学系)やCCD等を含む受光ユニット1304が設けられている。
撮影者が表示部1308に表示された被写体像を確認し、シャッターボタン1306を押下すると、その時点におけるCCDの撮像信号が、メモリー1310に転送・格納される。また、このデジタルスチールカメラ1300においては、ケース1302の側面に、ビデオ信号出力端子1312と、データ通信用の入出力端子1314とが設けられている。そして、図示される様に、ビデオ信号出力端子1312には液晶ディスプレイ1430が、データ通信用の入出力端子1314にはパーソナルコンピューター1440が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、メモリー1310に格納された撮像信号が、液晶ディスプレイ1430や、パーソナルコンピューター1440に出力される構成になっている。この様なデジタルスチールカメラ1300には、その落下や傾斜を計測するための加速度や角速度等の物理量を計測するセンサーデバイス100が搭載されている。この様なセンサーデバイス100は、素子部30と、素子部30を覆う第2基材40と、の間が同電位とされている。素子部30および第2基材40が同電位とされていることで、第2基材40に対する素子部30(可動体35)の静電誘引が抑制されるとともに、継続的に物理量の計測をおこなうことができる。よって、上述したセンサーデバイス100が搭載されることで継続して落下や傾斜を計測することができることから、信頼性の高いデジタルスチールカメラ1300を得ることができる。
デジタルスチールカメラ1300におけるケース(ボディー)1302の背面には、表示部1308が設けられ、CCDによる撮像信号に基づいて表示をおこなう構成になっており、表示部1308は、被写体を電子画像として表示するファインダーとして機能する。また、ケース1302の正面側(図中裏面側)には、光学レンズ(撮像光学系)やCCD等を含む受光ユニット1304が設けられている。
撮影者が表示部1308に表示された被写体像を確認し、シャッターボタン1306を押下すると、その時点におけるCCDの撮像信号が、メモリー1310に転送・格納される。また、このデジタルスチールカメラ1300においては、ケース1302の側面に、ビデオ信号出力端子1312と、データ通信用の入出力端子1314とが設けられている。そして、図示される様に、ビデオ信号出力端子1312には液晶ディスプレイ1430が、データ通信用の入出力端子1314にはパーソナルコンピューター1440が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、メモリー1310に格納された撮像信号が、液晶ディスプレイ1430や、パーソナルコンピューター1440に出力される構成になっている。この様なデジタルスチールカメラ1300には、その落下や傾斜を計測するための加速度や角速度等の物理量を計測するセンサーデバイス100が搭載されている。この様なセンサーデバイス100は、素子部30と、素子部30を覆う第2基材40と、の間が同電位とされている。素子部30および第2基材40が同電位とされていることで、第2基材40に対する素子部30(可動体35)の静電誘引が抑制されるとともに、継続的に物理量の計測をおこなうことができる。よって、上述したセンサーデバイス100が搭載されることで継続して落下や傾斜を計測することができることから、信頼性の高いデジタルスチールカメラ1300を得ることができる。
なお、本発明の一実施形態に係るセンサーデバイス100は、図9のラップトップ型パーソナルコンピューター(モバイル型パーソナルコンピューター)、図10の携帯電話機、図11のデジタルスチールカメラの他にも、例えば、インクジェット式吐出装置(例えばインクジェットプリンター)、テレビ、ビデオカメラ、ビデオテープレコーダー、カーナビゲーション装置、ページャー、電子手帳(通信機能付も含む)、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニター、電子双眼鏡、POS端末、医療機器(例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電図計測装置、超音波診断装置、電子内視鏡)、魚群探知機、各種測定機器、計器類(例えば、車両、航空機、船舶の計器類)、フライトシミュレーター等の電子機器に適用することができる。
[移動体]
図12は、移動体の一例としての自動車を概略的に示す斜視図である。自動車1500は、種々の制御信号を処理するセンサーデバイス100を備えた各種制御ユニットが搭載されている。例えば、同図に示す様に、移動体としての自動車1500には、当該自動車1500の加速度を検知するセンサーを内蔵してエンジンの出力を制御する電子制御ユニット(ECU:electronic Control Unit)1508が車体1507に搭載されている。第2基材40に対する素子部30(可動体35)の静電誘引が抑制され、継続的に物理量の計測をおこなうことができるセンサーデバイス100が電子制御ユニット1508に搭載されることで、車体1507の姿勢に応じた適切なエンジン出力制御を高精度に実行し、燃料等の消費を抑制した効率的な移動体としての自動車1500を得ることができる。
また、センサーデバイス100は、他にも、車体姿勢制御ユニット、アンチロックブレーキシステム(ABS)、エアバック、タイヤ・プレッシャー・モニタリング・システム(TPMS:Tire Pressure Monitoring System)、に広く適用できる。
図12は、移動体の一例としての自動車を概略的に示す斜視図である。自動車1500は、種々の制御信号を処理するセンサーデバイス100を備えた各種制御ユニットが搭載されている。例えば、同図に示す様に、移動体としての自動車1500には、当該自動車1500の加速度を検知するセンサーを内蔵してエンジンの出力を制御する電子制御ユニット(ECU:electronic Control Unit)1508が車体1507に搭載されている。第2基材40に対する素子部30(可動体35)の静電誘引が抑制され、継続的に物理量の計測をおこなうことができるセンサーデバイス100が電子制御ユニット1508に搭載されることで、車体1507の姿勢に応じた適切なエンジン出力制御を高精度に実行し、燃料等の消費を抑制した効率的な移動体としての自動車1500を得ることができる。
また、センサーデバイス100は、他にも、車体姿勢制御ユニット、アンチロックブレーキシステム(ABS)、エアバック、タイヤ・プレッシャー・モニタリング・システム(TPMS:Tire Pressure Monitoring System)、に広く適用できる。
1,1a〜1c…機能素子、2…回路部、3…パッケージ、10…第1基材、10a…主面、12…空洞部、14…溝部、16…スペーサー部材、18…空間、20…配線部、22…配線、24…電極パッド、26…突起部、26a…頂面、30…素子部、35…可動体、40…第2基材、40a…接合面、40b…裏面、42…空洞部、44…調整穴、45…充填材、46…封止穴、46a…端面、46c…内面、48…導電部、50…キャビティー、100…センサーデバイス、1100…ラップトップ型パーソナルコンピューター、1200…携帯電話機、1300…デジタルスチールカメラ、1500…自動車。
Claims (10)
- 主面を備えた第1基材と、
表裏を貫通する穴を備え、前記主面側に載置された第2基材と、
前記第1基材と前記第2基材との間に設けられ、可動体を備えた素子部と、
前記第1基材の前記主面に設けられ、前記素子部に接続されている配線部と、を備え、
前記主面に対して垂直方向からの平面視において、前記穴は前記配線部と重なる位置に設けられ、前記穴を封止する導電部材が前記配線部に接続され、
前記導電部材を介して前記可動体と前記第2基材とが同電位になっていることを特徴とする機能素子。 - 請求項1に記載の機能素子において、
前記第1基材の前記主面には、溝が設けられ、
前記配線部は前記溝の内部に設けられていることを特徴とする機能素子。 - 請求項2に記載の機能素子において、
前記穴と重なる前記配線部には、突起部が設けられていることを特徴とする機能素子。 - 請求項1ないし3のいずれか一項に記載の機能素子において、
前記第2基材はシリコンを含む部材であることを特徴とする機能素子。 - 第1基材の主面に素子部を載置する工程と、
前記第1基材の主面に素子部に接続される配線部を形成する工程と、
表裏を貫通する穴が設けられた第2基材を前記主面上に載置して内部空間を形成し、該内部空間に前記素子部を収納する工程と、を備え、
前記第2基材を前記主面上に載置する工程は、前記主面に対して垂直方向からの平面視において前記穴と前記配線部とを重なる様に前記第2基材を載置し、
前記穴を導電部材で塞ぐとともに前記導電部材を前記配線部に接続させる封止工程を含むこと、を特徴とする機能素子の製造方法。 - 請求項5に記載の機能素子の製造方法において、
前記穴を前記導電部材で塞ぐ前に、前記内部空間の雰囲気を調整することを特徴とする機能素子の製造方法。 - 請求項5または6に記載の機能素子の製造方法において、
前記第1基板の主面には溝が設けられ、前記配線部を前記溝内に形成することを特徴とする機能素子の製造方法。 - 主面を備えた第1基材と、
表裏を貫通する穴を備え、前記主面側に載置された第2基材と、
前記第1基材と前記第2基材との間に設けられ、可動体を備えた素子部と、
前記第1基材の前記主面に設けられ、前記素子部に接続されている配線部と、を備え、
前記素子部は、前記可動体に設けられた可動電極と、該可動電極に対向して前記第1基材の前記主面に配置された固定電極とを含み、
前記主面に対して垂直方向からの平面視において、前記穴は前記配線部と重なる位置に設けられ、前記穴を封止する導電部材が前記配線部に接続され、
前記導電部材を介して前記可動体と前記第2基材とが同電位になっていることを特徴とするセンサーデバイス。 - 請求項8に記載したセンサーデバイスを備えることを特徴とする電子機器。
- 請求項8に記載したセンサーデバイスを備えることを特徴とする移動体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013226517A JP2015087280A (ja) | 2013-10-31 | 2013-10-31 | 機能素子、機能素子の製造方法、センサーデバイス、電子機器、および移動体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013226517A JP2015087280A (ja) | 2013-10-31 | 2013-10-31 | 機能素子、機能素子の製造方法、センサーデバイス、電子機器、および移動体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2015087280A true JP2015087280A (ja) | 2015-05-07 |
Family
ID=53050201
Family Applications (1)
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JP2013226517A Pending JP2015087280A (ja) | 2013-10-31 | 2013-10-31 | 機能素子、機能素子の製造方法、センサーデバイス、電子機器、および移動体 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2015087280A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111398630A (zh) * | 2018-12-25 | 2020-07-10 | 精工爱普生株式会社 | 惯性传感器、电子设备以及移动体 |
-
2013
- 2013-10-31 JP JP2013226517A patent/JP2015087280A/ja active Pending
Cited By (2)
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CN111398630A (zh) * | 2018-12-25 | 2020-07-10 | 精工爱普生株式会社 | 惯性传感器、电子设备以及移动体 |
CN111398630B (zh) * | 2018-12-25 | 2022-04-19 | 精工爱普生株式会社 | 惯性传感器、电子设备以及移动体 |
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