JP2015076321A - 真空装置 - Google Patents

Abstract

【課題】放射線の漏洩を防ぎつつ、容易にベーキングを行うことができる真空装置を提供する。【解決手段】真空装置１００は、荷電粒子線または一次放射線を発生させる発生部と、前記荷電粒子線または前記一次放射線が照射されることにより二次放射線を発生させる放射線発生源が配置されている真空室２０と、前記放射線発生源で発生した前記二次放射線を遮蔽する放射線遮蔽部材２と、放射線遮蔽部材２を密閉する密閉容器４と、を含む。【選択図】図２

Description

本発明は、真空装置に関する。

鉛は質量数が大きく安価であることから、Ｘ線等の放射線の遮蔽部材として広く使用されている。例えば、電子顕微鏡でＸ線が発生する要因は、試料や絞り等が光軸に挿入され、それらに電子線が照射されることによる。Ｘ線の漏洩が懸念される場所としては、電子顕微鏡本体に排気用として設けられた横穴（排気管）が該当する。これは、排気速度を上げるために穴径を大きくしているためであり、Ｘ線の遮蔽物が肉厚の薄い排気管のみになることが要因である。

例えば特許文献１の粒子線装置では、排気管からＸ線が漏洩することを防ぐために、遮蔽板を排気管の真空室側端部に面して設置している。

実開昭５４−４９８５６号公報

生物に対して蓄積性をもつ鉛は、人が容易に触れることが可能な場所に配置することは避ける必要がある。排気管における遮蔽部材の設置方法としては、例えば、排気管内面に貼り付けるか、排気管外表面に貼り付けてその上を塗装で保護する方法をとることができる。

電子顕微鏡等の高真空環境を必要とする真空装置では、一般的に、高温のベーキングが必要不可欠である。しかしながら、低融点の鉛は、この高温のベーキングでは融解してしまう場合がある。そのため、鉛を遮蔽部材として用いた場合、例えば遮蔽部材を脱着可能とし、ベーキング時には遮蔽部材を取り外さなければならなかった。仮に、鉛の融点以下にベーキングの温度を下げた場合、数日間にわたる長時間のベーキングが必要となる。

本発明は、以上のような問題点に鑑みてなされたものであり、本発明のいくつかの態様に係る目的の１つは、放射線の漏洩を防ぎつつ、容易にベーキングを行うことができる真空装置を提供することにある。

（１）本発明に係る真空装置は、
荷電粒子線または一次放射線を発生させる発生部と、
前記荷電粒子線または前記一次放射線が照射されることにより二次放射線を発生させる放射線発生源が配置されている真空室と、
前記放射線発生源で発生した前記二次放射線を遮蔽する放射線遮蔽部材と、
前記放射線遮蔽部材を密閉する密閉容器と、
を含む。

このような真空装置では、放射線遮蔽部材が密閉容器に密閉されているため、放射線の漏洩を防ぎつつ、容易にベーキングを行うことができる。

具体的には、例えば、このような真空装置では、放射線遮蔽部材が熱によって融解しても、融解した放射線遮蔽部材が密閉容器の外にでることがない。したがって、放射線遮蔽部材として融点が低い鉛等を用いても、放射線遮蔽部材を取り外すことなくベーキングを行うことができる。したがって、放射線（二次放射線）の漏洩を防ぎつつ、容易にベーキングを行うことができる。

さらに、例えば、このような真空装置では、放射線遮蔽部材として、粉末状のものを用いることができる。

（２）本発明に係る真空装置において、
前記密閉容器は、
外管と、
前記外管の内側に配置されている内管と、
を有し、
前記放射線遮蔽部材は、前記外管と前記内管との間の密閉空間に充填されていてもよい。

このような真空装置では、例えば密閉容器を、真空室を排気するための排気管として用いることができる。これにより、排気管からの放射線の漏洩を防ぎつつ、容易にベーキングを行うことができる。また、例えば、放射線を遮蔽するための遮蔽板を排気管の真空室側端部に面して設置している場合と比べて、より確実に放射線の漏洩を防ぐことができる。

（３）本発明に係る真空装置において、
前記内管の内側の空間は、前記真空室に連通していてもよい。

このような真空装置では、例えば密閉容器を、真空室を排気するための排気管として用いることができる。したがって、排気管からの放射線の漏洩することを防ぐことができる。

（４）本発明に係る真空装置において、
前記放射線遮蔽部材は、前記荷電粒子線または前記一次放射線の進行方向から見て、環状に設けられていてもよい。

このような真空装置では、例えば放射線（二次放射線）が広がる方向を荷電粒子線または一次放射線の進行方向に制限することができる。

（５）本発明に係る真空装置において、
前記放射線発生源は、前記放射線遮蔽部材の内側に配置されていてもよい。

このような真空装置では、放射線（二次放射線）が広がることを抑えて、より確実に放射線の漏洩を防ぐことができる。

（６）本発明に係る真空装置において、
前記放射線遮蔽部材は、鉛であってもよい。

このような真空装置では、例えば鉛が熱によって融解しても密閉容器の外に出ないため、放射線遮蔽部材を取り外すことなくベーキングを行うことができる。

（７）本発明に係る真空装置において、
前記放射線遮蔽部材の形状は、粉末であってもよい。

このような真空装置では、例えば放射線遮蔽部材の製造を容易化することができる。

（８）本発明に係る真空装置において、
前記放射線遮蔽部材は、タングステン粉末であってもよい。

このような真空装置では、放射線の漏洩を防ぎつつ、容易にベーキングを行うことができる。

（９）本発明に係る真空装置において、
前記密閉容器の材質は、ステンレス鋼、チタン、または、チタン合金であってもよい。

このような真空装置では、放射線の漏洩を防ぎつつ、容易にベーキングを行うことができる。

第１実施形態に係る真空装置を模式的に示す図。 第１実施形態に係る真空装置の排気管を模式的に示す断面図。 第１実施形態に係る真空装置の排気管の製造工程を模式的に示す断面図。 第１実施形態の変形例に係る真空装置の排気管を模式的に示す断面図。 第２実施形態に係る真空装置を模式的に示す図。 第２実施形態に係る真空装置の放射線遮蔽部材および密閉容器を模式的に示す断面図。 第２実施形態に係る真空装置の密閉容器を光軸の方向から見た図。 第２実施形態の第１変形例に係る真空装置の放射線遮蔽部材および密閉容器を模式的に示す断面図。

以下、本発明の好適な実施形態について図面を用いて詳細に説明する。なお、以下に説明する実施形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではない。また、以下で説明される構成の全てが本発明の必須構成要件であるとは限らない。

１． 第１実施形態
１．１ 真空装置
まず、第１実施形態に係る真空装置について図面を参照しながら説明する。図１は、第１実施形態に係る真空装置１００を模式的に示す図である。

真空装置１００は、真空状態の持つ特性を利用した装置である。ここでは、真空装置１００が透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）である例について説明する。

真空装置１００は、図１に示すように、発生部１０と、真空室２０と、試料ホルダー３０と、光学系４０と、撮像装置５０と、排気管６０と、を含んで構成されている。

発生部１０は、電子線（荷電粒子線）ＥＢを発生させる。すなわち、真空装置１００において、発生部１０は電子線源である。発生部１０としては、例えば、公知の電子銃を用いることができる。

真空室２０は、鏡筒２２内の空間である。真空室２０は、鏡筒２２の内壁で区画される空間である。すなわち、鏡筒２２は、真空室２０を備えた真空容器ともいえる。

真空室２０内は、排気管６０を介して、排気装置（図示せず）によって排気されている。これにより、真空室２０は、真空に保たれている。ここで、真空とは、圧力が大気圧より低い空間状態のことをいう。真空室２０には、発生部１０、試料ホルダー３０の先端部（試料保持部）、光学系４０、撮像装置５０等が収容されている。

真空室２０には、試料ホルダー３０の先端部が配置されている。真空室２０において、試料ホルダー３０に電子線ＥＢが照射されると、Ｘ線（二次放射線）が発生する。すなわち、試料ホルダー３０は、電子線ＥＢの照射によりＸ線を発生させる放射線（Ｘ線）発生源である。Ｘ線は、放射線発生源から放射状に広がる。そして、Ｘ線の一部は、排気管６０に到達する。

図示はしないが、真空室２０に配置されるコンデンサー絞りや、対物絞り、制限視野絞り等の絞りに電子線ＥＢが照射されても、Ｘ線が発生する。すなわち、これらの絞りも、Ｘ線を発生させる放射線（Ｘ線）発生源である。

試料ホルダー３０は、試料Ｓを真空室２０内に保持する。試料ホルダー３０の先端部には、試料Ｓを保持するための試料保持部が設けられている。試料ホルダー３０に保持された試料Ｓの真空室２０内における位置決めは、試料位置決め装置（ゴニオメーター）３２で行う。

光学系４０は、試料Ｓに電子線ＥＢを照射するための照射レンズ４２と、試料Ｓを透過した電子線ＥＢで結像するための結像系を構成している対物レンズ４４、中間レンズ４６、および投影レンズ４８と、を含んで構成されている。

撮像装置５０は、結像系（レンズ４４，４６，４８）によって結像された電子顕微鏡像を撮像する。撮像装置５０は、例えば、２次元的に配置された固体撮像素子を有するＣＣＤカメラを含んで構成されている。撮像装置５０は、電子顕微鏡像を撮像し、この電子顕微鏡像の情報を出力する。

排気管６０は、真空室２０内を排気するための管である。排気管６０は、鏡筒２２に接続されている。排気管６０は、図示の例では、複数（４つ）設けられており、各レンズ４２，４４，４６，４８の近傍に設けられている。排気管６０は、真空室２０と排気装置（図示せず）とを接続している。排気装置は、排気管６０を介して、真空室２０を排気している。排気装置は、例えば、イオンポンプ、スクロールポンプ、ターボ分子ポンプ等である。

図２は、真空装置１００の排気管６０を模式的に示す断面図である。

排気管６０は、図２に示すように、放射線遮蔽部材２と、密閉容器４と、を含んで構成されている。

放射線遮蔽部材２は、Ｘ線を遮蔽する。放射線遮蔽部材２は、真空室２０の放射線発生源で発生したＸ線が装置の外部に漏洩することを防ぐための部材である。

放射線遮蔽部材２の材質は、例えば、鉛である。鉛は、Ｘ線、γ線等の波長の短い電磁波に対して極めて良好な吸収材であり、また加工も容易である。そのため、鉛は、放射線遮蔽部材２の材質として好ましい。放射線遮蔽部材２は、図示の例では、鉛板を円筒状に形成したものである。放射線遮蔽部材２の材質は、Ｘ線に対する遮蔽効果が高いものであれば特に限定されず、タングステン、タンタル、その他の重金属等であってもよい。

密閉容器４は、放射線遮蔽部材２を密閉する容器である。密閉容器４は、図２に示すように、外管４ａと、外管４ａの内側に配置されている内管４ｂと、を有する。外管４ａは、内管４ｂよりも径が大きい管である。密閉容器４（外管４ａ、内管４ｂ）の材質は、ステンレス鋼、チタン、またはチタン合金である。密閉容器４（外管４ａ、内管４ｂ）の材質は、特に限定されず、その他の金属であってもよい。

外管４ａと内管４ｂとの間には、密閉空間が形成される。図示の例では、密閉空間は、外管４ａの端部と内管４ｂの端部とが接合部５ａ，５ｂで接合されることで形成されている。接合部５ａは、内管４ｂの真空室２０側の端部が外側に延在して外管４ａに接合されている箇所である。接合部５ｂは、外管４ａの排気装置側の端部が内側に延在して内管４ｂと接合されている箇所である。

密閉空間には、放射線遮蔽部材２が充填されている。密閉空間には、放射線遮蔽部材２が、例えば、放射線遮蔽部材２が融解したときに偏りがでない程度に充填されている。放射線遮蔽部材２は、密閉空間に隙間なく充填されていることが望ましい。これにより、より確実にＸ線の漏洩を防ぐことができる。図示の例では、密閉空間において、内管４ｂの外面および外管４ａの内面に接するように放射線遮蔽部材２が配置されている。

密閉容器４は、例えば、放射線遮蔽部材２が融解したときに、融解した放射線遮蔽部材２が密閉空間から外に出ないように放射線遮蔽部材２を封じ込めている。密閉容器４は、例えば、融解した鉛が密閉空間から外に出ないように放射線遮蔽部材２を密閉している。

排気管６０は、鏡筒２２に接続されている。図示の例では、排気管６０の真空室２０側の端部が、鏡筒２２に接続管２４を介して接続されている。また、排気管６０の排気装置側の端部は、フランジ２６等を介して、排気装置に接続される。排気管６０の内側の空間６、すなわち、内管４ｂの内側の空間６は、真空室２０に連通している。

排気管６０の製造方法について図面を参照しながら説明する。図３は、真空装置１００の排気管６０の製造工程を模式的に示す断面図である。

図３に示すように、内管４ｂに円筒状の放射線遮蔽部材２を挿入する。これにより、放射線遮蔽部材２の内側に内管４ｂが位置する。次に、放射線遮蔽部材２に外管４ａを挿入する。これにより、放射線遮蔽部材２の外側に外管４ａが位置する。

次に、図２に示すように、外管４ａと内管４ｂとを接合部５ａ，５ｂで溶接により接合する。溶接の手法としては、レーザー溶接を用いる。アーク溶接のような手法では外管４ａおよび内管４ｂの温度が上昇し、溶接作業中において放射線遮蔽部材２（例えば鉛）が融解してしまうためである。放射線遮蔽部材２が融解してしまうと、密閉容器４の密閉空間に十分な放射線遮蔽部材２の充填ができない場合や、作業者へ危険が及ぶ場合がある。それに対して、レーザー溶接の場合は、接合部５ａ，５ｂが局所的に高温になるのみであり、放射線遮蔽部材２（鉛）を融解させないことができる。そのため、放射線遮蔽部材２を密閉空間に十分に充填することができ、かつ安全である。

真空装置１００は、図示の例では、除振機７２を介して架台７０上に設置されている。

１．２． 真空装置の動作
次に、真空装置１００の動作について、図１および図２を参照しながら説明する。

真空装置１００では、図１に示すように、発生部１０が電子線ＥＢを発生させ、発生し
た電子線ＥＢは、照射レンズ４２によって、試料ホルダー３０に保持された試料Ｓに照射される。試料Ｓを透過した電子は、対物レンズ４４、中間レンズ４６、投影レンズ４８によって結像される。このようにして結像された電子顕微鏡像は、撮像装置５０によって撮像される。

ここで、真空室２０において、発生部１０からの電子線ＥＢが試料ホルダー３０に照射されると、試料ホルダー３０が放射線発生源となりＸ線が発生する。このＸ線は放射状に広がる。真空室２０と連通している排気管６０にもこのＸ線が照射されるが、放射線遮蔽部材２によってＸ線が外部に漏洩することを防ぐことができる。

また、真空装置１００では、高い真空度が要求される。そのため、真空装置１００では、高温（例えば３００℃以上）でのベーキングが必要となる。ここで、ベーキングとは、真空室２０の内壁や排気管６０を含む排気系の内壁に付着する不純物を熱により離脱させて外部に放出することをいう。

真空装置１００では、排気管６０を鉛の融点（約３２７．５℃）以上にベーキングした場合、放射線遮蔽部材２が融解しても、密閉容器４から外に出てくることがない。したがって、真空装置１００では、３００℃以上の高温でのベーキングが可能となる。

１．３． 特徴
第１実施形態に係る真空装置１００では、例えば、以下の特徴を有する。

真空装置１００では、放射線遮蔽部材２が密閉容器４に密閉されているため、放射線遮蔽部材２が熱によって融解しても、融解した放射線遮蔽部材２が密閉容器４の外にでることがない。したがって、放射線遮蔽部材２として融点が低い鉛等を用いても、例えば放射線遮蔽部材２を取り外すことなくベーキングを行うことができる。したがって、Ｘ線の漏洩を防ぎつつ、容易にベーキングを行うことができる。

さらに、放射線遮蔽部材２が密閉容器４に密閉されているため、放射線遮蔽部材２を直接触れることができない。そのため、安全である。

真空装置１００では、密閉容器４は、外管４ａと、外管４ａの内側に配置されている内管４ｂと、を有し、放射線遮蔽部材２は、外管４ａと内管４ｂとの間の密閉空間に充填されている。そのため、密閉容器４を、真空室２０を排気するための排気管６０として用いることができる。これにより、排気管６０からのＸ線の漏洩を防ぎつつ、容易にベーキングを行うことができる。また、例えば、遮蔽板を排気管の真空室側端部に面して設置している場合と比べて、より確実にＸ線の漏洩を防ぐことができる。

真空装置１００では、密閉容器４の内管４ｂの内側の空間６は、真空室２０に連通しているため、例えば密閉容器４を、真空室２０を排気するための排気管６０として用いることができる。したがって、排気管６０からのＸ線の漏洩を防ぎつつ、容易にベーキングを行うことができる。

真空装置１００では、放射線遮蔽部材２の材質は、鉛である。真空装置１００では、例えば鉛が熱によって融解しても密閉容器４の外に出ないため、放射線遮蔽部材２として鉛を用いた場合でも、放射線遮蔽部材２を取り外すことなくベーキングを行うことができる。

真空装置１００では、密閉容器４の材質は、ステンレス鋼、チタン、またはチタン合金である。これにより、例えば、真空室２０において、高い真空度を実現できる。また、Ｘ
線の漏洩を防ぎつつ、容易にベーキングを行うことができる。

１．４． 変形例
次に、第１実施形態に係る真空装置１００の変形例について説明する。図４は、第１実施形態の変形例に係る真空装置２００の排気管６０を模式的に示す断面図である。以下、第１実施形態の変形例に係る真空装置２００において、上述した第１実施形態に係る真空装置１００の構成部材と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その説明を省略する。

上述した真空装置１００では、放射線遮蔽部材２は、図２に示すように、例えば鉛板を円筒状にして密閉容器４に密閉した例について説明した。

これに対し、真空装置２００では、放射線遮蔽部材２は、図４に示すように、例えばタングステン粉末である。このタングステン粉末状が密閉容器４に密閉されている。

タングステンは、Ｘ線に対する遮蔽効果が高いため、放射線遮蔽部材２の材質として有効である。また、タングステンは融点が高いため、ベーキングによって融解しない。しかしながら、タングステンは、例えば鉛に比べて、加工が困難であり高価である。真空装置２００では、放射線遮蔽部材２としてタングステン粉末を用いているため、例えばタングステンの塊を加工して用いる場合と比べて、密閉容器４に密閉するだけで加工の必要がなく、また材料の利用効率もよい。

なお、放射線遮蔽部材２は、タングステン粉末に限定されず、その他の金属の粉末であってもよい。また、放射線遮蔽部材２は、例えば、タングステン粉末の焼結体などの金属の粉末の焼結体であってもよい。

真空装置２００では、放射線遮蔽部材２を密閉容器４に密閉することにより、放射線遮蔽部材２として粉末状のものや粉末の焼結体を用いることができる。これにより、例えば放射線遮蔽部材２の製造を容易化することができる。

２． 第２実施形態
２．１． 真空装置
次に、第２実施形態に係る真空装置について図面を参照しながら説明する。図５は、第２実施形態に係る真空装置３００を模式的に示す図である。なお、図５では、放射線遮蔽部材２および密閉容器４を簡略化している。

図６は、真空装置３００の放射線遮蔽部材２、および密閉容器４を模式的に示す断面図である。図７は、真空装置３００の密閉容器４を光軸Ａの方向から見た図である。なお、図６は、図７のＶＩ−ＶＩ線断面図である。

以下、第２実施形態に係る真空装置３００において、上述した第１実施形態に係る真空装置１００の構成部材と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その説明を省略する。

上述した第１実施形態に係る真空装置１００では、図１に示すように、放射線遮蔽部材２が排気管６０に設けられていた。

これに対して、真空装置３００では、図５〜図７に示すように、放射線遮蔽部材２は、電子線ＥＢの進行方向から見て、環状に設けられている。

放射線遮蔽部材２は、真空室２０に収容されている。放射線遮蔽部材２は、光軸Ａを中心として、環状に設けられている。ここで、光軸Ａとは、各レンズ４２，４４，４６，４８の中心を結ぶ軸である。電子線ＥＢは、光軸Ａに沿って真空室２０を進行する。放射線遮蔽部材２は、放射線遮蔽部材２が作る環のなかを電子線ＥＢが通るように設けられている。また、放射線遮蔽部材２の内側（すなわち放射線遮蔽部材２が作る環のなか）には、コンデンサー絞り３２０の先端部が位置している。すなわち、放射線遮蔽部材２は、コンデンサー絞り３２０を囲むように設けられている。

放射線遮蔽部材２の形状は、図示の例では、円筒状である。より具体的には、放射線遮蔽部材２の形状は、光軸Ａを中心軸とする円筒状である。放射線遮蔽部材２には、コンデンサー絞り３２０を通すための穴（穴３１０）が設けられている。この穴は、光軸Ａと直交する方向に設けられている。

密閉容器４は、図６および図７に示すように、収容部３０４ａと、蓋部３０４ｂと、を有している。収容部３０４ａは、放射線遮蔽部材２を収容するための容器である。密閉容器４の形状は、光軸Ａを中心とする円筒状である。収容部３０４ａには、コンデンサー絞り３２０を通すための穴３１０が設けられている。穴３１０は、光軸Ａに対して、直交する方向に延びる穴である。穴３１０は、収容部３０４ａに管３１０ａを通して接合することで形成することができる。

蓋部３０４ｂは、収容部３０４ａを封止して、放射線遮蔽部材２を密閉するための部材である。蓋部３０４ｂは、収容部３０４ａに放射線遮蔽部材２を充填した（例えば融解した鉛を充填した）後に、レーザー溶接等で収容部３０４ａに接合される。

真空装置３００は、コンデンサー絞り３２０を含んで構成されている。コンデンサー絞り３２０は、例えば、電子線ＥＢの開き角、照射量を決定するための絞りである。真空室２０において、コンデンサー絞り３２０に電子線ＥＢが照射されると、Ｘ線が発生する。すなわち、コンデンサー絞り３２０は、電子線ＥＢの照射によりＸ線を発生させる放射線（Ｘ線）発生源である。

コンデンサー絞り３２０は、放射線遮蔽部材２の内側に位置している。コンデンサー絞り３２０は、放射線遮蔽部材２で囲まれた空間内に配置されている。そのため、電子線ＥＢの照射によりコンデンサー絞り３２０からＸ線が発生しても、Ｘ線が広がることを防ぐことができ、より確実にＸ線の漏洩を防ぐことができる。具体的には、放射線遮蔽部材２によって、Ｘ線の広がる方向は、光軸Ａ方向および穴３１０の方向に限定されるため、漏洩の対策が容易である。

２．２． 特徴
第２実施形態に係る真空装置３００では、例えば、以下の特徴を有する。

真空装置３００では、放射線遮蔽部材２は、電子線ＥＢの進行方向から見て、環状に設けられている。そのため、放射線発生源（コンデンサー絞り３２０の先端部）から発生したＸ線が広がる方向を制限することができる。したがって、より確実にＸ線の漏洩を防ぐことができる。

真空装置３００では、放射線発生源（コンデンサー絞り３２０の先端部）は、放射線遮蔽部材２の内側に配置されている。そのため、Ｘ線が広がることを抑えて、より確実にＸ線の漏洩を防ぐことができる。

２．３． 変形例
次に、第２実施形態に係る真空装置３００の変形例について説明する。

（１）第１変形例
図８は、第２実施形態の第１変形例に係る真空装置４００の放射線遮蔽部材２、および密閉容器４を模式的に示す断面図である。以下、第２実施形態の第１変形例に係る真空装置４００において、上述した第２実施形態に係る真空装置３００の構成部材と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その説明を省略する。

上述した真空装置３００では、放射線遮蔽部材２は、図６に示すように、例えば鉛を融解して密閉容器４に密閉した例について説明した。

これに対し、真空装置３００では、放射線遮蔽部材２は、例えばタングステン粉末である。このタングステン粉末状が密閉容器４に密閉されている。

なお、放射線遮蔽部材２は、タングステン粉末に限定されず、その他の金属の粉末であってもよい。また、放射線遮蔽部材２は、例えば、タングステン粉末の焼結体であってもよい。

真空装置４００では、放射線遮蔽部材２を密閉容器４に密閉することにより、放射線遮蔽部材２として粉末状のものや粉末の焼結体を用いることができる。これにより、例えば放射線遮蔽部材２の製造を容易化することができる。

（２）第２変形例
上述した真空装置３００の例では、図５〜７に示すように、コンデンサー絞り３２０を囲むように放射線遮蔽部材２を設ける場合について説明したが、放射線遮蔽部材２を、対物絞りや、制限視野絞り等のその他の絞りを囲むように設けてもよい。また、例えば、鏡筒２２の内壁の全面に放射線遮蔽部材２を設けてもよい。このような場合にも、真空装置３００と同様の作用効果を奏することができる。

３． その他の実施形態
なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。

例えば、上述した実施形態および変形例では、本発明に係る真空装置が透過電子顕微鏡である場合について説明したが、本発明に係る真空装置はこれに限定されず、真空状態の持つ特性を利用した装置であればよい。本発明に係る真空装置は、例えば、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）、電子線マイクロアナライザー（ＥＰＭＡ）であってもよい。

また、例えば、上述した実施形態および変形例では、本発明に係る真空装置の発生部１０が電子線を発生させる場合について説明したが、発生部１０は、イオン化された原子や分子を含む荷電粒子線を発生させてもよい。

また、例えば、発生部１０は放射線（一次放射線）を発生させてもよい。ここで放射線とは、例えば、紫外線、Ｘ線、γ線等のその経路の媒質において電離・励起をもたらす電磁波をいう。すなわち、本発明に係る真空装置は、例えば、蛍光Ｘ線分析装置であってもよい。

また、例えば、本発明に係る真空装置は、分析装置に限定されず、加工装置であってもよい。すなわち、本発明に係る真空装置は、例えば、イオンビームを用いて加工を行う集束イオンビーム装置（ＦＩＢ装置）であってもよい。

また、例えば、上述した実施形態および変形例では、放射線発生源がＸ線を発生させる場合について説明したが、放射線発生源は、発生部１０が発生させる荷電粒子線や放射線が照射されることにより発生する放射線（二次放射線）であれば特に限定されない。このような放射線としては、例えば、γ線、β線、α線等の電離放射線が挙げられる。

本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成（例えば、機能、方法および結果が同一の構成、あるいは目的及び効果が同一の構成）を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。

２…放射線遮蔽部材、４…密閉容器、４ａ…外管、４ｂ…内管、５ａ…接合部、５ｂ…接合部、６…空間、１０…発生部、２０…真空室、２２…鏡筒、２４…接続管、２６…フランジ、３０…試料ホルダー、４０…光学系、４２…照射レンズ、４４…対物レンズ、４６…中間レンズ、４８…投影レンズ、５０…撮像装置、６０…排気管、７０…架台、７２…除振機、１００，２００，３００…真空装置、３０４ａ…収容部、３０４ｂ…蓋部、３１０…穴、３１０ａ…管、３２０…コンデンサー絞り、４００…真空装置

Claims (9)

1. 荷電粒子線または一次放射線を発生させる発生部と、
   前記荷電粒子線または前記一次放射線が照射されることにより二次放射線を発生させる放射線発生源が配置されている真空室と、
   前記放射線発生源で発生した前記二次放射線を遮蔽する放射線遮蔽部材と、
   前記放射線遮蔽部材を密閉する密閉容器と、
   を含む、真空装置。
2. 請求項１において、
   前記密閉容器は、
   外管と、
   前記外管の内側に配置されている内管と、
   を有し、
   前記放射線遮蔽部材は、前記外管と前記内管との間の密閉空間に充填されている、真空装置。
3. 請求項２において、
   前記内管の内側の空間は、前記真空室に連通している、真空装置。
4. 請求項１において、
   前記放射線遮蔽部材は、前記荷電粒子線または前記一次放射線の進行方向から見て、環状に設けられている、真空装置。
5. 請求項４において、
   前記放射線発生源は、前記放射線遮蔽部材の内側に配置されている、真空装置。
6. 請求項１ないし５のいずれか１項において、
   前記放射線遮蔽部材の材質は、鉛である、真空装置。
7. 請求項１ないし６のいずれか１項において、
   前記放射線遮蔽部材の形状は、粉末である、真空装置。
8. 請求項７において、
   前記放射線遮蔽部材は、タングステン粉末である、真空装置。
9. 請求項１ないし８のいずれか１項において、
   前記密閉容器の材質は、ステンレス鋼、チタン、またはチタン合金である、真空装置。

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