JP2015073065A - 太陽電池の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、品質の良いパッシベーション層の開口を形成し、さらにPERC型太陽電池の品質を高める太陽電池の製造方法を提供する。【解決手段】太陽電池の製造方法は、少なくとも、基板を供給するステップと、基板の第1表面にエミッタ層を形成し、基板とエミッタ層との間にpn接合面を形成するステップと、エミッタ層に反射防止層を形成するステップと、基板の第2表面にマスクを設置し、第2表面が第1表面に対して設置されるステップと、前記マスクにパッシベーション層を形成するステップと、マスクを除去することにより、第2表面の一部を露出させて開口を形成するステップと、第1表面と第2表面とに金属メッキ膜を行うステップと、第1表面に少なくとも1つの第1電極を形成するとともに、第2表面の開口に隣接する箇所に、裏面電界と、開口およびパッシベーション層を被覆する少なくとも1つの第2電極とを形成するステップと、を含む。【選択図】図2J
Description
本発明は、太陽電池に関し、特にPERC(Passivated Emitter Rear Cell)型太陽電池の製造方法に関する。
近年、エネルギーの世界的な不足および環境意識の高まりに伴い、関連産業では、環境にやさしく、クリーンかつ高効率のエネルギーの供給について、最も関心が寄せられている。代替エネルギーとして、太陽光により光電変換で電気エネルギーを生成する太陽電池(Solar Cell)は、幅広く普及されているとともに、研究開発の対象となっている。関連産業により太陽電池に関する研究開発が進むにつれ、太陽電池給電に関する技術は、進歩、発達してきた。さらに、パッシベーション層をパターン化し、電極接触面積を最低限にし、導電電極の膜厚を増加させることにより、PESC型太陽電池(Passivated Emitter Solar Cell)、PERC型太陽電池(Passivated Emitter Rear Cell)、およびPERL型太陽電池(Passivated Emitter Rear Locally Diffused Cell)等の高効率太陽電池は、開発されている。
PERC型太陽電池(Passivated Emitter Rear Cell)では、裏面全面にアルミニウム合金に接することに代えて、裏面接点に接することを適用する。PERC型太陽電池の特徴としては、電池の前面側と裏面側上には誘電体であるパッシベーション層(Passivation)を有するとともに、前面側のパッシベーション層を反射防止層とし、裏面側の誘電体であるパッシベーション層には開口を有するため、電荷キャリアの寿命を延長させることで光変換効率を改善することである。従来の太陽電池の製造工程に類似するように、図1A〜図1Eは、現行のPERC型太陽電池の製造工程を示す図である。図1Aに示すように、まず、P型基板10を供給し、基板10の表面に凹凸模様(Texturing)を形成することにより、光の反射率を低減させる。図1Aでは、凹凸模様が非常に微細なので省略して図示されている。次に、ドーパントを供給し、熱拡散法を用いて前面FにN型半導体からなるエミッタ層11(Emitter Layer)を形成し、かつ、基板10とエミッタ層11の間にpn接合面101(pn junction)を形成する。そのとき、エミッタ層11上にリンシリケートガラス層(Phosphorus Silicate glass:PSG)(図示せず)を形成することなる。さらに、エッチング法を用いて表面におけるリンシリケートガラス層を除去する。
次に、図1Bに示すように、堆積法(Deposition)を用いてエミッタ層11上には、珪素の窒化物(SiNx)からなる反射防止層12(Anti−Reflection Coating)を形成することにより、光の反射率を低減させてエミッタ層11を保護する。その後、図1Cに示すように、裏面Rに1層のアルミナ(Al2O3)を堆積してパッシベーション層13としている。さらに、図1D示すように、局所接点を形成するために、レーザまたはエッチングクリームを用いてパッシベーション層13上に複数の開口14を形成することにより、基板10の裏面の一部R'を露出させる。最後に、図1Eに示すように、前面Fおよび裏面Rに金属メッキ膜(Metallization)の付着を行うとともに、同時焼成(Co−Firing)工程を行うことにより、前面Fに複数の第1電極15を形成し、裏面Rの開口14に隣接する箇所には、局所裏面電界16(Back Surface Field:BSF)と、開口14およびパッシベーション層13を被覆する第2電極17とを形成した。それにより、PERC型太陽電池1の製造を行う。
PERC型太陽電池の製造工程において、優れたパッシベーション層13および優れた局所裏面電界16の形成は、太陽電池の構成に対して最も重要な課題となっている。現行の太陽電池の製造工程では、上述したようにレーザ法またはエッチング法を用いてパッシベーション層13上に複数の開口14を形成し、さらに開口14に隣接する基板10の裏面の一部R'に、局所裏面電界16を形成する。しかしながら、従来のように、レーザで開口することは、パッシベーション層13の一部の損傷を招き易い。エッチングクリームでパッシベーション層13を開口する工程を行うと、パッシベーション層13の損傷程度を低下させることができるが、その製造コストが上昇してしまうことになる。そのため、パッシベーション層を破壊することなく局所的に開口すると同時に、製造コストを低減させて生産効率を向上させることは、急務となっています。
本発明の目的は、従来の太陽電池の裏面でパッシベーション層に開口させる時に、パッシベーション層を容易に破壊する問題を解決することができる太陽電池の製造方法を提供する。
本発明の別の目的は、パッシベーション層の開口による破壊程度を低下させることにより、太陽電池の優れたパッシベーション層および裏面電界を確保すると同時に、太陽電池の製造コストを低減し生産効率を向上させることのできる太陽電池の製造方法を提供する。
上述の目的を実現するため、本発明の実施形態に係る太陽電池の製造方法は、少なくとも、基板を供給するステップ(a)と、基板の第1表面にエミッタ層を形成し、基板とエミッタ層との間にpn接合面を形成するステップ(b)と、エミッタ層に反射防止層を形成するステップ(c)と、基板の第2表面にマスクを設置し、第2表面が第1表面に対して設置されるステップ(d)と、マスクにパッシベーション層を形成するステップ(e)と、マスクを除去することにより、第2表面の一部を露出させて開口を形成するステップ(f)と、第1表面と第2表面とに金属メッキ膜の付着を行うステップ(g)と、第1表面に少なくとも1つの第1電極を形成するとともに、第2表面の開口に隣接する箇所に、裏面電界と、前記開口および前記パッシベーション層を被覆する少なくとも1つの第2電極とを形成するステップ(h)と、を含む。
以下、本発明の特徴およびメリットを表す典型的な実施例について詳細に説明する。ここで理解すべきことは、本発明は異なる態様において様々な変更が可能で、これらはいずれも本願発明の特許請求の範囲を逸脱せず、かつ明細書および図面も本願発明に対して制限するものではなく、本質的には本願発明を説明するものである。
本発明について、図2A〜図2Jを用いて説明する。図2A〜図2Jは、本発明の好適な実施例に係るPERC型太陽電池の製造工程を示す図である。図2Aに示すように、まず、基板20を供給し、かつ、基板20の第1表面S1に凹凸模様を形成することにより、光の反射率を低減させる。図2Aは、凹凸模様が非常に微細でありため省略して図示されている。一部の実施例において、基板20は、P型シリコン基板であってもよいが、これに限定されない。しかも、基板20の第1表面S1に凹凸模様を形成する方法は、ウェットエッチングまたは反応性イオンエッチングなどの方法を用いてもよいが、これらに限定されない。
次に、図2Bに示すように、ドーパントを供給し、及び例えば、熱拡散法を用いて基板20の第1表面S1にエミッタ層21を形成する。本実施例において、エミッタ層21は、N型エミッタ層であってもよいが、これに限定されない。ここで、熱拡散の拡散源としてはオキシ塩化リン(POCl3)であってもよい。前記基板20とエミッタ層21の間にpn接合面201を形成する。そのとき、エミッタ層21上にリンシリケートガラス層22が形成される。その後、図2Cに示すように、例えば、フッ化水素酸(HF)でエッチングする方式を用いて、リンシリケートガラス層22を除去するため、基板20の表面にエミッタ層21のみ被覆される。
次に、図2Dに示すように、エミッタ層21上に反射防止層23を形成する。当該反射防止層23は、化学気相堆積法(Chemical Vapor Deposition:CVD)を用いて珪素の窒化物を堆積して形成されることが好ましいが、これに限定されない。反射防止層23は、光の反射率を低減し、かつ高透過性を有するなどのメリットを持つため、反射防止層23内から基板20の内部に水素を大量に透過させて水素不活性化工程を行うことができ、それにより、太陽電池の性能を向上させる。一部の実施例において、反射防止層23は、窒化珪素、シリカ、酸化亜鉛、酸化錫、二酸化マンガンなどの材質によりなるものであってもよいが、これらに限定されない。
その後、図2Eに示すように、基板20の第2表面S2上にマスク24を設置する。ここで、前記基板20の第2表面S2は、その第1表面S1に対して設置される。前記マスク24は、格子または網状構造であってもよいが、これらに限定されない。本実施例において、前記マスク24は、複数の中空貫通孔241を有している。貫通孔241の形態は、所望のパッシベーション層25のサイズ、形状に応じて変更されることができる。そのため、マスク24を基板20の第2表面S2に設置している場合、マスク24の貫通孔241によって第2表面の一部S2'を露出させることができる。次に、図2Fに示すように、前記マスク24にパッシベーション層25を堆積する。当該パッシベーション層25がスク24の貫通孔241中に充填されることにより、露出されていた基板20の第2表面の一部S2'は、マスク24およびパッシベーション層25によって完全に被覆される。本実施例において、前記パッシベーション層25は、原子層堆積法(Atomic Layer Deposition:ALD)でアルミナ(Al2O3)を堆積して形成されることが好ましいが、これに限定されない。前記原子層堆積法は、従来の物理気相堆積法(Physical Vapor Deposition:PVD)または化学気相堆積法に比べ、大面積での被覆性、均一性に優れ、薄膜構造が繊密かつ無孔質で、膜厚を確実に制御することが可能で、作動温度が低いなどのメリットを持つ。さらに、図2Gに示すように、マスク24を除去することで、基板20の第2表面S2は、パッシベーション層25のみに被覆される。しかも、パッシベーション層25の外観形態は、マスク24の貫通孔241に対応している。それと同時に、元の基板20の第2表面S2のマスク24で被覆される箇所は、マスク24の除去によって露出され、かつ、開口26が形成される。
最後に、図2H、図2Iおよび図2Jに示すように、第1導電材料を反射防止層23に、第2導電材料をパッシベーション層25にそれぞれ設置するとともに、金属メッキ膜(Metallization)の付着処理、即ち、電気めっき(Plating)またはスクリーン印刷(Screen Printing)の技術などを用いて第1導電材料を反射防止層23に塗布する。本実施例において、第1導電材料は銀であってもよいがこれに限定されない。同様に、金属メッキ膜の付着処理によって第2導電材料をパッシベーション層25に塗布し、かつ、前記第2導電材料はアルミニウムであることが好ましいが、これに限定されない。その後、第1導電材料および第2導電材料に対して同時焼成(Co−Firing)工程を行う。それにより、第1導電材料は、基板20の第1表面S1において第1電極27に形成されるとともに、反射防止層23を貫通し、かつ延在してエミッタ層21に接続される。一方、基板20の第2表面S2では、第2導電材料の熱伝達によって、基板20の第2表面S2の開口26に隣接する一部、即ち、パッシベーション層25により被覆されていない第2表面S2に、局所裏面電界28を形成し(図2Jに示す)、裏面局所接点を生成すると同時に、第2表面S2の一部およびパッシベーション層25に第2電極29を形成し、かつ、当該第2電極29は開口26およびパッシベーション層25を被覆する。それにより、本発明に係るPERC型太陽電池2の製造を完成する。
以上の説明により、本発明に係るPERC型太陽電池の製造工程において、基板の第2表面にマスクを設置することで、パッシベーション層に品質の良い開口を形成し、その後の局所裏面電界の形成に寄与する。そのため、従来の、レーザまたはエッチングクリームによってパッシベーション層に開口する工程に比べ、本発明は、パッシベーション層の破壊を最低限にすることができ、さらに太陽電池が品質の良いパッシベーション層および裏面電界を有することを確保するとともに、製造コストを低減させ、生産性を高める。本発明に係るPERC型太陽電池の製造方法は、実用性が高く、産業的価値を有する発明である。
本発明は当該技術を熟知する当業者によって各種の修飾を加えてもよいが、いずれも特許請求の保護範囲から逸脱しない。
1、2:PERC型太陽電池
10:基板
101、201:pn接合面
11:エミッタ層
12:反射防止層
13:パッシベーション層
14:開口
15:第1電極
16:裏面電界
17:第2電極
F:前面
R:裏面
R':裏面の一部
20:基板
21:エミッタ層
22:リンシリケートガラス層
23:反射防止層
24:マスク
241:貫通孔
25:パッシベーション層
26:開口
27:第1電極
28:裏面電界
29:第2電極
S1:第1表面
S2:第2表面
S2':第2表面の一部
10:基板
101、201:pn接合面
11:エミッタ層
12:反射防止層
13:パッシベーション層
14:開口
15:第1電極
16:裏面電界
17:第2電極
F:前面
R:裏面
R':裏面の一部
20:基板
21:エミッタ層
22:リンシリケートガラス層
23:反射防止層
24:マスク
241:貫通孔
25:パッシベーション層
26:開口
27:第1電極
28:裏面電界
29:第2電極
S1:第1表面
S2:第2表面
S2':第2表面の一部
Claims (10)
- 太陽電池の製造方法であって、少なくとも、
基板を供給するステップ(a)と、
前記基板の第1表面にエミッタ層を形成し、前記基板と前記エミッタ層との間にpn接合面を形成するステップ(b)と、
前記エミッタ層に反射防止層を形成するステップ(c)と、
前記基板の第2表面にマスクを設置し、前記第2表面が前記第1表面に対して設置されるステップ(d)と、
前記マスクにパッシベーション層を形成するステップ(e)と、
前記マスクを除去することにより、前記第2表面の一部を露出させて開口を形成するステップ(f)と、
前記第1表面と前記第2表面とに金属メッキ膜を行うステップ(g)と、
前記第1表面に少なくとも1つの第1電極を形成するとともに、前記第2表面の前記開口に隣接する箇所に、裏面電界と、前記開口および前記パッシベーション層を被覆する少なくとも1つの第2電極とを形成するステップ(h)と、を含むことを特徴とする太陽電池の製造方法。 - 前記ステップ(a)の後に、前記基板の前記第1表面に凹凸模様を形成するステップ(a1)をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の太陽電池の製造方法。
- 前記ステップ(b)の後に、
前記エミッタ層にリンシリケートガラス層を形成するステップ(b1)と、
前記リンシリケートガラス層を除去するステップ(b2)と、をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の太陽電池の製造方法。 - 前記ステップ(c)は、化学気相堆積法により行われ、
前記エミッタ層は、珪素の窒化物からなることを特徴とする請求項1に記載の太陽電池の製造方法。 - 前記マスクが複数の中空貫通孔を有することにより、前記ステップ(d)において、前記マスクを前記基板の前記第2表面に設置する時に、前記マスクの前記貫通孔によって前記第2表面の一部を露出可能にすることを特徴とする請求項1に記載の太陽電池の製造方法。
- 前記ステップ(e)において、前記マスクの前記貫通孔中に前記パッシベーション層を充填することにより、前記基板の前記第2表面を前記マスクおよび前記パッシベーション層で完全被覆することを特徴とする請求項5に記載の太陽電池の製造方法。
- 前記ステップ(e)は、原子層堆積法により行われ、
前記パッシベーション層は、アルミナによりなることを特徴とする請求項1に記載の太陽電池の製造方法。 - 前記ステップ(f)において、前記パッシベーション層の形状は、前記マスクの前記貫通孔に対応し、
前記パッシベーション層の前記マスクに覆われた箇所は、露出されて前記開口を形成することを特徴とする請求項5に記載の太陽電池の製造方法。 - 前記ステップ(f)の後に、第1導電材料と第2導電材料とを、それぞれ、前記第1表面と前記第2表面とに設置するステップ(f1)をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の太陽電池の製造方法。
- 前記太陽電池は、PERC型太陽電池であることを特徴とする請求項1に記載の太陽電池の製造方法。
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A02 | Decision of refusal |
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