JP2015062987A - 研磨パッドの貼り付け方法 - Google Patents

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秀児 堀田
小林 一雄
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Abstract

【課題】定盤から研磨パッドを容易に剥離できるようにすることを目的とする。
【解決手段】定盤1に研磨パッド4を貼り付ける貼り付け方法は、定盤1上における研磨パッド4の直径よりも小さい直径の領域に仮接着剤3を配設して定盤1の外周に仮接着剤3を配設しない未配設領域2を形成する仮接着剤配設ステップと、少なくとも未配設領域2に接着剤5を配設して研磨パッド4を仮接着剤3及び接着剤3の上に配設することで研磨パッド4を定盤1に貼り付ける貼り付けステップと、を備えているため、定盤1において研磨パッド4が強固に接着される面積が小さくなり、定盤1から研磨パッド4を容易に剥離することができる。また、少なくとも接着剤5で研磨パッド4を定盤1に強固に固定できるため、ウェーハ6の研磨加工時に定盤1から研磨パッド4が剥離することを防止できる。
【選択図】図2

Description

本発明は、被加工物を研磨する研磨パッドを定盤上に貼り付ける研磨パッドの貼り付け方法に関する。
被加工物の表面に集積回路を形成する前の工程においては、例えば、研磨装置を用いて被加工物の表面の研磨を行っている。研磨装置としては、被加工物を研磨する研磨パッドと、研磨パッドを支持する定盤と、被加工物を上方から保持し回転可能な作用部と、研磨液を研磨パッドと被加工物との間に供給する供給部とを少なくとも備えているものがある(例えば、下記の特許文献1を参照)。この研磨装置では、研磨パッドと被加工物との間に研磨液を供給しつつ、研磨パッドと被加工物とをそれぞれ回転させて相対的に摺動させることにより被加工物の表面を研磨することができる。
通常、研磨パッドは、両面テープや接着剤を介して定盤上に貼着される。そして、研磨パッドは、被加工物を継続して研磨することに伴って研磨性能が低下すると、定盤から剥離されるとともに新たな研磨パッドに適宜交換される。
特開2004−022804号公報
しかし、例えば直径1m等の研磨パッドが両面テープや接着剤を介して強固に定盤に貼着されている状態から、研磨パッドを定盤から剥離するのは非常に手間がかかるとともに、両面テープの糊や接着剤を定盤上に残存させずに研磨パッドを定盤から剥離するのは非常に難しい。
一般には、剥離が容易な接着テープが存在するものの、研磨中に発生する負荷によって定盤から研磨パッドが剥がれないようにする必要があり、研磨加工時に使用されるスラリーや薬液に対し研磨パッドが耐性を有する必要もあるため、剥離が容易な接着テープを使用することは好ましくない。
本発明は、上記の事情にかんがみてなされたものであり、スラリーや薬液に対する耐性を維持しつつ、定盤から研磨パッドを容易に剥離できるようにすることを目的としている。
本発明は、定盤に研磨パッドを貼り付ける貼り付け方法であって、定盤上における該研磨パッドの直径よりも小さい直径の領域に仮接着剤を配設して該定盤の外周に該仮接着剤を配設しない未配設領域を形成する仮接着剤配設ステップと、少なくとも該未配設領域に接着剤を配設して該研磨パッドを該仮接着剤及び該接着剤の上に配設することで該研磨パッドを該定盤に貼り付ける貼り付けステップと、を備えている。
上記仮接着剤は、セルロース系接着剤、酢酸ビニル樹脂系接着剤または変成シリコーン系接着剤から構成されていることが望ましい。
本発明では、仮接着剤配設ステップを実施して定盤に研磨パッドの直径よりも小さい直径の領域に仮接着剤を配設して定盤の外周側に未配設領域を形成した上で貼り付けステップを実施するため、仮接着剤及び接着剤を介して研磨パッドを定盤に貼り付けることができる。
したがって、定盤において研磨パッドが強固に接着される面積が小さくなるため、定盤から研磨パッドを容易に剥離することができる。また、少なくとも接着剤を介して研磨パッドを定盤に強固に接着できるため、スラリーや薬液に対する耐性を維持し、ウェーハの研磨加工時に定盤から研磨パッドが剥離するのを防止できる。
また、本発明では、上記仮接着剤として、セルロース系接着剤、酢酸ビニル樹脂系接着剤または変成シリコーン系接着剤を用いるため、比較的安価で経済的であるとともに、研磨パッドを定盤に良好な状態で接着することが可能となる。
仮接着剤配設ステップを示す断面図及び平面図である。 貼り付けステップを示す断面図である。 研磨ステップを示す断面図である。 剥離ステップを示す断面図である。
以下では、添付の図面を参照しながら図1に示す定盤1に仮接着剤3を介して研磨パッド4を貼り付ける方法を説明するとともに、被加工物を研磨し、定盤1から研磨パッド4を剥離する方法について説明する。
(1)仮接着剤配設ステップ
図1(a)に示す定盤1は、円盤状の基台であって、その上面は円盤状に形成された研磨パッド4が貼着される被貼着面1aとなっている。一方、後に研磨パッド4を定盤1から剥離しやすくするために、仮接着剤3は、研磨パッド4を定盤1に固定するほどの接着力は有しないが、定盤1に対して密着性を有するものであり、シート状または液状に形成されており、例えば、硝酸セルロースをアセトンやエタノール等で溶融したセルロース系接着剤、酢酸ビニル樹脂系接着剤または変成シリコーン系接着剤などがある。
まず、図1(a)に示すように、定盤1の被貼着面1aにおける研磨パッド4の直径よりも小さい直径の領域に仮接着剤3を配設する。すなわち、仮接着剤3を定盤1の外周側にまで至らない範囲に塗布ないし敷設することにより、図1(b)に示すように、定盤1の外周側においてリング状の未配設領域2を形成する。未配設領域2の幅Wは、例えば、定盤1の直径が1mであれば、定盤1の直径に対して例えば1〜5mmとなっている。
セルロース系接着剤で仮接着剤3を構成した場合には、安価に定盤1及び研磨パッド4に対する接着性を低くすることができる。そして、このように構成された仮接着剤3は、例えばニトロセルロースをエタノール、ジエチルエーテルの混合液に溶融させて生成されたコロジオンを主成分とした密着性を有する液状のものである。
また、酢酸ビニル樹脂系接着剤で仮接着剤3を構成した場合には、安価かつ塗布が容易であるとともに、定盤1及び研磨パッド4に対する接着性を低くすることができる。さらに、変成シリコーン系接着剤で仮接着剤3を構成した場合には、比較的素早く硬化・接着するため、定盤1及び研磨パッド4に対し速く仮接着することができる。
(2)貼り付けステップ
仮接着剤配設ステップを実施した後、図2に示すように、研磨パッド4を定盤1に貼り付ける。研磨パッド4は、例えばウレタンや不織布から構成されている。研磨パッド4の上面側が被加工物を研磨する研磨面4aとなっており、この研磨面4aと反対側にある下面側が定盤1に貼り付けられる貼り付け面4bとなっている。
まず、図1(b)で示した定盤1に形成された未配設領域2に接着剤5を配設する。接着剤5としては、例えばゴム系接着剤、接着剤を塗布した両面テープを利用することができる。接着剤5は、未配設領域2の全面に配設するようにしてもよいし、未配設領域2においてドット状に所定の間隔を設けて配設するなど全面に配設しないようにしてもよい。また、接着剤5は、図1(a)に示した研磨パッド4の貼り付け面4bの全面に配設するようにしてもよい。
少なくとも定盤1に形成された未配設領域2に接着剤5を配設した後、図2の部分拡大図に示すように、研磨パッド4の研磨面4aを上向きにして貼り付け面4b側を仮接着剤3及び接着剤5の上に配設する。これにより、研磨パッド4の外周部分が接着剤5を介して定盤1に強固に接着されるとともに、研磨パッド4の中央部分が仮接着剤3を介して定盤1に弱く接着される。
このとき、仮接着剤3は定盤1に密着するものの強固に貼り付かないため、研磨パッド4の交換時に、研磨パッド4を定盤1から容易に剥がすことができる。このようにして、研磨パッド4を仮接着剤3及び接着剤5を介して定盤1に貼り付ける。
また、研磨パッド4の貼り付け面4bの全面に接着剤5を配設した場合には、当該貼り付け面4bに配設された接着剤5側から仮接着剤3の上に配設する。この場合でも、研磨パッド4を仮接着剤3及び接着剤5を介して定盤1に貼り付けることができる。
(3)研磨ステップ
次に、図3に示す保持手段10によって保持されるウェーハ6を研磨パッド4で研磨する。ウェーハ6は、被加工物の一例であって特に材質等が限定されるものではない。保持手段10は、鉛直方向の軸心を有する回転軸11と、回転軸11の下端に連結されたヘッド12とを少なくとも有する。ヘッド12の下面はウェーハ6を吸引保持する保持面12aとなっている。
ウェーハ6を研磨する方法としては、例えば、研磨液による化学的作用と研磨パッドによる機械的作用とによって被加工物を研磨するCMP(Chemical Mechanical Polishing)がある。以下では、CMPによる研磨を行う場合について説明する。
図3に示すように、定盤1は図示しないモータによって、研磨パッド4を例えば矢印A方向に回転させる。さらに、ウェーハ6を吸引保持した保持手段10が、ヘッド12を研磨パッド4の研磨面4aにウェーハ6が接触するまで下降させる。
回転する研磨パッド4の研磨面4aにウェーハ6が接触すると、研磨パッド4の回転にともなってウェーハ6も矢印A方向に連れ回り、研磨される。このとき、研磨パッド4は、少なくとも接着剤5を介して定盤1に強固に接着されているため、ウェーハ6と研磨パッド4とが接触する際に発生する横方向の負荷によって研磨パッド4がずれたり、剥離したりすることはない。特に、接着力の強い接着剤5によって仮接着剤3が外周側から囲繞されているため、研磨パッド4のずれや剥離をより確実に防止することができる。
ウェーハ6の研磨中は、研磨液供給ノズル20から研磨液であるスラリーを研磨パッド4に供給する。具体的には、研磨液供給ノズル20を研磨パッド4の上方に位置づけ、研磨液供給ノズル20の先端に形成された供給口21から研磨面4aに向けてスラリー22を供給する。スラリー22には、シリカなどの遊離砥粒が含まれている。
スラリー22を研磨パッド4の研磨面4aに供給すると、研磨パッド4の回転に伴って、研磨パッド4とウェーハ6との間にスラリー22が流れ込む。そして、研磨パッド4とウェーハ6とをそれぞれ回転させて相対的に摺動させることによってウェーハ6を研磨する。
(4)剥離ステップ
研磨ステップを実施した後、研磨パッド4の研磨性能が低下すると、図4に示すように、定盤1の被貼着面1aから研磨パッド4を剥離する。具体的には、定盤1に貼り付けられた研磨パッド4を、接着剤5とともに、接着剤5が配設された未配設領域2側から剥がす。仮接着剤3は、定盤1の被貼着面1aに強固に接着されていないため、未配設領域2に貼着された接着剤5を定盤1から剥がすことにより、仮接着剤3ごと研磨パッド4を定盤1から容易に剥離することができる。
以上のとおり、仮接着剤配設ステップで定盤1において研磨パッド4の直径よりも小さい直径の領域に仮接着剤3を配設して定盤1の外周側に未配設領域2を形成した上で貼り付けステップを実施するため、仮接着剤3及び接着剤5を介して研磨パッド4を定盤1に貼り付けることができる。これにより、定盤1において研磨パッド4が強固に接着される面積が小さくなるため、定盤1から研磨パッド4を容易に剥離することができ、新たな研磨パッドの交換作業が容易となる。また、定盤1において仮接着剤3が配設されていた領域に糊や接着剤などが残存したとしても、仮接着剤3の接着力が弱いため、定盤1の洗浄を容易に行うことができる。
1:定盤 1a:被貼着面 2:未配設領域 3:仮接着剤 4:研磨パッド
4a:研磨面 4b:貼り付け面 5:接着剤 6:ウェーハ
10:保持手段 11:回転軸 12:ヘッド 12a:保持面
20:研磨液供給ノズル20 21:供給口 22:スラリー
W:幅

Claims (2)

  1. 定盤に研磨パッドを貼り付ける貼り付け方法であって、
    定盤上における該研磨パッドの直径よりも小さい直径の領域に仮接着剤を配設して該定盤の外周に該仮接着剤を配設しない未配設領域を形成する仮接着剤配設ステップと、
    少なくとも該未配設領域に接着剤を配設して該研磨パッドを該仮接着剤及び該接着剤の上に配設することで該研磨パッドを該定盤に貼り付ける貼り付けステップと、
    を備えた研磨パッドの貼り付け方法。
  2. 前記仮接着剤は、セルロース系接着剤、酢酸ビニル樹脂系接着剤または変成シリコーン系接着剤からなる、請求項1に記載の研磨パッドの貼り付け方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021181138A (ja) * 2020-05-19 2021-11-25 信越半導体株式会社 両面研磨装置の研磨パッド貼り付け方法

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06145611A (ja) * 1992-03-26 1994-05-27 Hitachi Kasei Polymer Kk 研磨材固定用テープ
JP2002036098A (ja) * 2000-07-25 2002-02-05 Mitsubishi Materials Corp 研磨パッド
JP2003286460A (ja) * 2002-03-28 2003-10-10 Sekisui Chem Co Ltd 両面粘着テープ
JP2003313520A (ja) * 2002-04-24 2003-11-06 Dainippon Printing Co Ltd 粘着シート
JP2004022804A (ja) * 2002-06-17 2004-01-22 Disco Abrasive Syst Ltd 研磨装置
JP2007075949A (ja) * 2005-09-14 2007-03-29 Ebara Corp 研磨プラテン、研磨装置
JP2010077232A (ja) * 2008-09-25 2010-04-08 Dainippon Printing Co Ltd 保護フィルム
JP2011000671A (ja) * 2009-06-18 2011-01-06 Okamoto Machine Tool Works Ltd 基板用研磨定盤
JP2013048215A (ja) * 2011-07-27 2013-03-07 Shin Etsu Chem Co Ltd ウエハ加工体、ウエハ加工用部材、ウエハ加工用仮接着材、及び薄型ウエハの製造方法

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06145611A (ja) * 1992-03-26 1994-05-27 Hitachi Kasei Polymer Kk 研磨材固定用テープ
JP2002036098A (ja) * 2000-07-25 2002-02-05 Mitsubishi Materials Corp 研磨パッド
JP2003286460A (ja) * 2002-03-28 2003-10-10 Sekisui Chem Co Ltd 両面粘着テープ
JP2003313520A (ja) * 2002-04-24 2003-11-06 Dainippon Printing Co Ltd 粘着シート
JP2004022804A (ja) * 2002-06-17 2004-01-22 Disco Abrasive Syst Ltd 研磨装置
JP2007075949A (ja) * 2005-09-14 2007-03-29 Ebara Corp 研磨プラテン、研磨装置
JP2010077232A (ja) * 2008-09-25 2010-04-08 Dainippon Printing Co Ltd 保護フィルム
JP2011000671A (ja) * 2009-06-18 2011-01-06 Okamoto Machine Tool Works Ltd 基板用研磨定盤
JP2013048215A (ja) * 2011-07-27 2013-03-07 Shin Etsu Chem Co Ltd ウエハ加工体、ウエハ加工用部材、ウエハ加工用仮接着材、及び薄型ウエハの製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021181138A (ja) * 2020-05-19 2021-11-25 信越半導体株式会社 両面研磨装置の研磨パッド貼り付け方法
WO2021235050A1 (ja) * 2020-05-19 2021-11-25 信越半導体株式会社 両面研磨装置の研磨パッド貼り付け方法
CN115461194A (zh) * 2020-05-19 2022-12-09 信越半导体株式会社 双面研磨装置的研磨垫粘贴方法

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