JP2015036400A - インク組成物、透明導電膜、及び電子部品 - Google Patents

Abstract

【課題】高い導電率を維持しつつ耐環境性を高めたインク組成物、並びに、それを用いた透明導電膜及び電子部品を提供する。
【解決手段】（Ａ）極性有機溶媒である導電率向上エンハンサが添加された、ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸水溶液と、（Ｂ）エポキシ系クロスリンク剤と、（Ｃ）ポリビニルアルコールと、を含むインク組成物であって、（Ｂ）の含有量は、ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸の固形分１００重量部に対して７５〜１５０重量部であり、（Ｃ）の含有量は、ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸の固形分１００重量部に対して１０〜４０重量部である。
【選択図】なし

Description

本発明は、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳを含むインク組成物、並びに、それを用いた透明導電膜及び電子部品に関する。

液晶ディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、プラズマディスプレイ、エレクトロクロミックディスプレイ、太陽電池、及びタッチパネルなどの電子部品の分野においては、透明導電膜が用いられている。この透明導電膜の材料としては、ＩＴＯ（インジウム−スズ酸化物）などの導電性無機材料や、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）：ポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）などの導電性有機材料が挙げられる。

導電性有機材料を用いた透明導電膜としては、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ水溶液に対してエポキシ基を有するシラン化合物を含有させたインク組成物を用いたものが提案されている（例えば、特許文献１参照）。このインク組成物においては、インク組成物の塗布後にアルコキシシラン化合物のエポキシ基とＰＳＳのスルホン酸基との間の開環付加反応及びアルコキシシランの加水分解反応及び縮合反応が進行する。これにより、シラン化合物とＰＥＤＯＴ：ＰＳＳとの分子鎖間に架橋結合を介した３次元的なネットワーク（クロスリンク）が形成されるため、耐摩耗性に優れた高い機械的強度を有する透明導電膜を実現できる。

さらに、従来のインク組成物においては、透明導電膜の導電率を向上させるためのエンハンサとして、極性を有する溶媒を添加することが提案されている。導電率向上エンハンサを添加することにより、インク組成物の導電率が２〜３桁向上する。これは、ドーピングされてイオン化したＰＥＤＯＴが安定化することで、キャリアー（ポーラロン、バイポーラロン）が増加するためであると考えられる。

特開２００２−６０７３６号公報

しかしながら、上述の従来のインク組成物においては、透明導電膜が長時間高温にさらされると電気抵抗が上昇してしまうという問題があった。これは、極性溶媒である導電率向上エンハンサは、通常の溶媒より沸点が高いが、有限の蒸気圧を有することによるものであるため、環境温度が高くなるとエンハンサが徐々に揮発してしまうことに起因する。このため、高温下においてエンハンサが揮発すると、透明導電膜の抵抗値の増加が生じ、導電膜としての特性が劣化していくという問題があった。

そこで本発明は、高温時における導電率向上エンハンサの揮発を抑制することによって、高い導電率を維持しつつ耐環境性を高めたインク組成物、並びに、それを用いた透明導電膜及び電子部品を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために、本発明のインク組成物は、
（Ａ）極性有機溶媒である導電率向上エンハンサが添加された、ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸水溶液と、
（Ｂ）エポキシ系クロスリンク剤と、
（Ｃ）ポリビニルアルコールと、
を含むインク組成物であって、
前記（Ｂ）の含有量は、前記ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸の固形分１００重量部に対して７５〜１５０重量部であり、
前記（Ｃ）の含有量は、前記ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸の固形分１００重量部に対して１０〜４０重量部である
ことを特徴としている。

前記ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸の固形分１００重量部に対して７５〜１５０重量部の前記（Ｂ）を添加することによって、ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸との分子鎖間に架橋結合を介した３次元的なネットワークが形成されるため、耐摩耗性に優れた高い機械的強度を有する透明導電膜を実現できる。

また、導電率向上エンハンサを添加することにより、インク組成物の導電率を向上させることができる。

さらに、前記ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸の固形分１００重量部に対して１０〜４０重量部の前記（Ｃ）を添加することによって、環境温度が高くなった場合の導電率向上エンハンサの揮発を抑えることができ、これにより、高い導電率を維持しつつ耐環境性を高めることができる。別言すると、前記（Ｃ）の添加によって、高温下での極性有機溶媒の揮発を抑えることができ、これによって、インク組成物から形成した透明導電膜の高温耐性を向上させることができる。
前記導電率向上エンハンサはジメチルスルホキシドであることが好ましい。

または、前記導電率向上エンハンサはグリコールであり、ジエチレングリコールであることが好ましい。

前記（Ｃ）の分子量は７，０００〜４０，０００であることが好ましい。
（Ｃ）の分子量をこの範囲にすることによって、環境温度が高くなった場合の導電率向上エンハンサの揮発抑制効果を高めることができる。

本発明の透明導電膜は、上述のいずれかのインク組成物を用いて得られたことを特徴としている。
本発明の電子部品は、上述の透明導電膜を備えたことを特徴としている。

本発明によると、高温時における導電率向上エンハンサの揮発を抑制することによって、高い導電率を維持しつつ耐環境性を高めたインク組成物、並びに、それを用いた透明導電膜及び電子部品を提供することができる。

実施例及び比較例における面積抵抗と透過率の試験結果を示すグラフである。 実施例及び比較例におけるＰＶＡの添加比と導電率の試験結果を示すグラフである。 ８５°Ｃ、常湿における経過時間に対する抵抗率の変化の試験結果を示すグラフである。 ６０°Ｃ、９５％における経過時間に対する抵抗率の変化の試験結果を示すグラフである。

以下、本発明の実施形態に係るインク組成物、透明導電膜、及び電子部品について図面を参照しつつ詳しく説明する。

（インク組成物）
まず、実施形態に係るインク組成物の概要について説明する。本発明に係るインク組成物は、（Ａ）極性有機溶媒である導電率向上エンハンサが添加された、ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸水溶液（以下「ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ水溶液」と呼ぶことがある）と、（Ｂ）エポキシ系クロスリンク剤と、（Ｃ）ポリビニルアルコールと、を含む。さらに、（Ｂ）エポキシ系クロスリンク剤は、ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸の固形分１００重量部に対して７５〜１５０重量部であり、（Ｃ）ポリビニルアルコールは、ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸の固形分１００重量部に対して１０〜４０重量部である。

このインク組成物は、各種電子部品に用いられる透明導電膜の形成に使用されるものである。透明導電膜は、基材上に塗布したインク組成物をベーク（焼成）することにより得られる。このベーク時にＰＥＤＯＴ：ＰＳＳとエポキシ基を含むクロスリンク剤との間で架橋結合を介した３次元的なネットワークが形成されるため、機械的強度が高い透明導電膜が得られる。

一般に、ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸水溶液を含んだインク組成物を用いた透明電極（以下「ＰＥＤＯＴ透明電極」と呼ぶことがある）を、液晶ディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、プラズマディスプレイ、エレクトロクロミックディスプレイ、太陽電池、タッチパネル、電子ペーパーその他の電子部品へ適用する場合、環境耐性、特に高温試験による劣化が問題となる。

従来、ＰＥＤＯＴ透明電極が高温試験下で劣化するメカニズムは、明確ではなかった。これに対して、本願発明者がＥＳＣＡ（Ｘ線光電子分光法）によって鋭意分析したところ、導電性を向上させるために添加する導電率向上エンハンサの揮発によることが判明した。例えば、導電率向上エンハンサとして使用されるジエチレングリコール（ＤＥＧ）は、８５°Ｃの高温試験において、５日間経過時に、ＤＥＧに起因する−ＣＯＨ基からのシグナルが３２％から２６％に減衰することが分かった。

従って、本実施形態においては、高温耐性や高温高湿耐性を向上させるために導電率向上エンハンサの揮発を抑制することとしている。

実施形態に係るインク組成物においては、極性有機溶媒である導電率向上エンハンサとポリビニルアルコールを含有している。

導電率向上エンハンサは、極性有機溶媒が好ましく、例えば、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）やジエチレングリコールを用いる。ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸水溶液に導電率向上エンハンサを添加することによって、インク組成物及びそれを用いた透明導電膜の導電率を向上させることができる。

ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）は、ビニルアルコール（ＣＨ_２＝ＣＨ−ＯＨ）をポリマー化したもので、ポリマーの繰返し単位毎に水酸基（−ＯＨ基）を含み、結晶性が高いポリマーである。ポリビニルアルコールは、水溶性ではあるが、高結晶性であるため、溶解させるには、１００°Ｃ近い温水（沸騰水）で煮込む必要があるほど安定である。ポリビニルアルコールを、エポキシ系のクロスリンク剤と組み合わせて使用すると、透明導電膜が緻密化するため、導電率向上エンハンサの揮発を抑制することができる。これは、ポリビニルアルコールとエポキシ系クロスリンク剤と組み合わせることで、ポリスチレンスルホン酸のスルホ基（−ＳＯ_３Ｈ）と同様に、ＰＶＡの水酸基（−ＯＨ）とエポキシ系クロスリンク剤がクロスリンク反応を起こし、上述の３次元ネットワークがより緻密に形成されるためである。

以下、各構成要素について詳細に説明する。
（Ａ）ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸水溶液（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ水溶液）
ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ水溶液としては、透明導電膜にしたときに所望の電気光学特性を発揮できる範囲であれば、その成分比に特に制限はない。また、このＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ水溶液としては、市販品をそのまま用いてもよい。ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ水溶液の市販品としては、例えば、Ｃｌｅｖｉｏｓ（登録商標：Ｈｅｒａｅｕｓ社製） Ｐ、Ｃｌｅｖｉｏｓ ＰＨ５００、Ｃｌｅｖｉｏｓ ＰＨ７５０、Ｃｌｅｖｉｏｓ ＰＨ１０００が挙げられる。

導電率向上エンハンサは、極性有機溶媒が好ましく、例えば、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）やジエチレングリコール（ＤＥＧ）を用いる。これらの添加量は、インク組成物の１００重量部に対して５重量部であるとよい。

（Ｂ）エポキシ系クロスリンク剤
エポキシ系クロスリンク剤は、エポキシ基を含むシランカップリング剤が好ましく、例えば、エポキシ基を有するジアルコキシシランや、エポキシ基を有するトリアルコキシシランなどのシランカップリング剤を用いることができる。エポキシ基を含有するジアルコキシシランとしては、例えば、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランを用いることができる。また、エポキシ基を含有するトリエポキシシランとしては、例えば、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシランが挙げられる。

エポキシ系クロスリンク剤は、ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸の固形分１００重量部に対して７５〜１５０重量部であることが好ましい。さらに、８５〜１２５重量部であるとよい。

（Ｃ）ポリビニルアルコール
ポリビニルアルコールは、分子量が７，０００〜４０，０００の範囲であることが好ましく、ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸の固形分１００重量部に対して１０〜４０重量部であることが好ましい。さらに、１０〜３０重量部であるとよい。

（Ｄ）溶媒
実施形態に係るインク組成物においては、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ水溶液、エポキシ系クロスリンク剤、ポリビニルアルコールとの間で相溶性を有するものであれば、インク組成物により得られる透明導電膜の物性を満たす範囲で各種溶媒を含むことができる。溶媒としては、例えば、エタノールやイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）などの各種アルコールを用いることができる。

（透明導電膜、電子部品）
インク組成物を成膜して透明導電膜を形成する基材としては、例えば、ＰＥＴフィルム、ＰＣフィルム、ＰＣ板、ガラスが挙げられる。

透明導電膜の形成は、まず、上述のインク組成物を基材上に成膜する。成膜は、例えばスピンコート法、スクリーン印刷により行う。次いで、インク組成物を成膜した基材を、所定の温度で所定時間加熱して透明導電膜を形成する。加熱は、例えば、インク組成物を成膜した基材をホットプレート上に載せ、及び／又は、オーブンに入れて行う。

電子部品は、その構成や機能に応じて、基板上にインク組成物を所定のパターンで成膜した後に透明導電膜を形成したものを用いる。

次に、上記実施形態の実施例について説明する。なお、本発明は、以下の実施例によって限定されるものではない。

以下の実施例においては、作製したインク組成物を用いて透明導電膜を作製してその物性について評価した。

実施例１、２及び比較例１、２のインク組成物を構成する各材料の添加量は表１に示すとおりである。

実施例１、２及び比較例１、２の全てについて、塗布膜厚の差を制御するため、固形分濃度を０．８９％に固定した。ここで、希釈溶媒は水とエタノールである。

＜実施例１＞
（インク組成物の作製）
ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ水溶液としては、固形分の濃度が１．２重量％の市販品（商品名：ＰＨ７５０、Ｈｅｒａｅｕｓ社製）を５ｍｌ用いた。

このＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ水溶液に対して、導電率向上エンハンサとして、ＤＭＳＯ（ジメチルスルホキシド）を０．７５ｍｌ添加し、ｐＨ調整のために有機アルカリであるＤＭＡＥ（ジメチルアミノエタノール）の１０％水溶液を０．１２４５ｍｌ添加した。ＤＭＳＯの添加量は、インク組成物の１００重量部に対して、５重量部である。

上記ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ水溶液に対して、エポキシ系クロスリンク剤として、東レダウコーニング社製のＣ剤（エポキシリランカップリング剤）を０．１２ｍｌ添加した。このＣ剤は５０％水溶液であって、添加量は、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳの固形分の１００重量部に対して、１００重量部である。

ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ水溶液に対して、ポリビニルアルコールを０．６ｍｌ添加した。このポリビニルアルコールは２％水溶液であり、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳの固形分の１００重量部に対して、２０重量部のポリビニルアルコールを添加している。

（透明導電膜の作製）
以上のように調整したインク組成物をスピンコート法によって基材に塗布した。基材は易接着処理したＰＥＴフィルム（帝人製：メリネックス（商品名））を使用した。スピンコートは、４００ｒｐｍで５秒間の後に１３００ｒｐｍで２０秒間行った。

スピンコートによる塗布後、インク組成物を成膜した基材を焼成した。焼成は、ホットプレートを用いて８５°Ｃで５分間行った後に、オーブンを用いて１２０°Ｃで２０分間行った。

＜実施例２＞
ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ水溶液としては、実施例１と同じＰＨ７５０を５ｍｌ用いている。
このＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ水溶液に対して、導電率向上エンハンサとして、ＤＭＳＯ（ジメチルスルホキシド）を０．８２ｍｌ添加し、ｐＨ調整のために有機アルカリであるＤＭＡＥ（ジメチルアミノエタノール）１０％エタノール溶液を０．１２４５ｍｌ添加した。ＤＭＳＯの添加量は、インク組成物の１００重量部に対して、５重量部である。

エポキシ系クロスリンク剤は、実施例１と同じく、東レダウコーニング社製のＣ剤の５０％エタノール溶液を０．１２ｍｌ添加した。

ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ水溶液に対して、実施例１と同じポリビニルアルコールを１．２ｍｌ添加した。ポリビニルアルコールの添加量は、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳの固形分の１００重量部に対して、４０重量部である。
透明導電膜の作製については実施例１と同様であるので説明は省略する。

＜比較例１＞
比較例１では、ポリビニルアルコールを添加していない。
ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ水溶液としては、実施例１と同じＰＨ７５０を６ｍｌ用いている。
このＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ水溶液に対して、導電率向上エンハンサとして、ＤＭＳＯ（ジメチルスルホキシド）を０．８１ｍｌ添加し、ｐＨ調整のために有機アルカリであるＤＭＡＥ（ジメチルアミノエタノール）１０％エタノール溶液を０．１４９４ｍｌ添加した。ＤＭＳＯの添加量は、インク組成物の１００重量部に対して、５重量部である。

エポキシ系クロスリンク剤は、実施例１と同じ東レダウコーニング社製のＣ剤の５０％エタノール溶液を０．１４４ｍｌ添加した。Ｃ剤の添加量は、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳの固形分１００重量部に対して、１００重量部である。
透明導電膜の作製については実施例１と同様であるので説明は省略する。

＜比較例２＞
比較例２では、実施例１、２のポリビニルアルコールに代えてポリエチレングリコールを添加している。
ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ水溶液としては、実施例１と同じＰＨ７５０を３．５ｍｌ用いている。

このＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ水溶液に対して、導電率向上エンハンサとして、ＤＭＳＯ（ジメチルスルホキシド）を０．５２ｍｌ添加し、ｐＨ調整のために有機アルカリであるＤＭＡＥ（ジメチルアミノエタノール）を０．８７１５ｍｌ添加した。ＤＭＳＯの添加量は、インク組成物の１００重量部に対して、５重量部である。

エポキシ系クロスリンク剤は、実施例１と同じ東レダウコーニング社製のＣ剤の５０％エタノール溶液を０．０８４ｍｌ添加した。Ｃ剤の添加量は、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳの固形分１００重量部に対して、１００重量部である。

ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ水溶液に対して、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）を０．４２ｍｌ添加した。このポリエチレングリコールは２％水溶液であって、その添加量は、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳの固形分１００重量部に対して、２０重量部である。
透明導電膜の作製については実施例１と同様であるので説明は省略する。

以下、上記実施例及び比較例における試験結果について説明する。
（電気光学特性）
図１は、実施例及び比較例の透明導電膜における面積抵抗Ｒ□（単位Ω／□、Ω／ｓｑ）と透過率Ｔ（単位％）の試験結果を示すグラフである。図２は、実施例及び比較例の透明導電膜における、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ水溶液に対するＰＶＡの添加比（重量部の比）と導電率Ｓ（単位：Ｓ／ｃｍ）の試験結果を示すグラフである。図１、図２に示す電気光学特性の試験は常温・常湿の条件で行った。ここで、「常温」は２０°Ｃ±１５°Ｃの温度範囲であり、「常湿」は相対湿度４５〜８５％の湿度範囲（ＪＩＳ Ｚ ８７０３）である。

評価に使用した装置は、面積抵抗・導電率の測定は、三菱化学株式会社製ＬＯＲＥＳＴＡ ＥＰ ＭＣＰ−１３６０（商品名）、透過率（全光線透過率）の測定は、ヘイズメータ（商品名：ＨＺ−２Ｐ、スガ試験機社製）、膜厚の測定は、株式会社アルバック製ＤＥＫＴＡＫ（商品名）である。透過率の測定は、ＪＩＳ−Ｋ７３６１−１に基づいて行った。

図１に示すように、透過率Ｔ（縦軸）と面積抵抗Ｒ□（横軸）の関係は、ほぼ同一の曲線上にあり、実施例１（図１中の□印）、実施例２（図１中の◇印）、及び比較例１（図１中の○印）で同等の光学特性であった。また、図２に示すように、導電率Ｓ（縦軸）とＰＶＡの添加比（横軸）の関係は、ＰＶＡの添加量が増加するにつれて、導電率Ｓが低下することを示している。ここで導電率低下の許容範囲を約２０％と考えると、ＰＶＡの添加限界としては、添加比で約０．４（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ水溶液１００重量部に対して４０重量部）となる。ここで、図２に示す試験において、ＰＶＡの添加量がＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ水溶液１００重量部に対して０〜４０重量部の範囲においては、抵抗率の変化ΔＲは０〜１７％であった。

なお、ＰＶＡに代えてポリエチレングリコール（ＰＥＧ）を、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ水溶液１００重量部に対して２０重量部添加した透明導電膜の導電率Ｓは、同量のＰＶＡを添加した場合と同等であった。

（環境特性評価）
図３は、８５°Ｃ、常湿における経過時間（単位：時間）に対する透明導電膜の抵抗率の変化ΔＲ（単位％）の試験結果を示すグラフである。図４は、６０°Ｃ、９５％における経過時間（単位：時間）に対する透明導電膜の抵抗率の変化ΔＲ（単位％）の試験結果を示すグラフである。

図３、図４に示す環境特性評価は、実施例１、２、比較例１、２のそれぞれについて同じ条件で２回の測定を行った。図３、図４において、実施例１、２、比較例１、２の１回目の測定は■、◆、●、▲でそれぞれ示し、２回目の測定は、□、◇、○、△でそれぞれ示している。

環境特性評価のためのサンプルは、透明導電膜を短冊状（１．５ｃｍ×７．０ｃｍ）にカットしたものであって、長手方向両端に銀ペースト電極をそれぞれ形成している。また、このサンプルは、１４０°Ｃで１０分間のアニール処理を施している。

図３に示す高温（８５°Ｃ）試験においては、時間の経過に伴って抵抗値変化ΔＲが上昇している。経過時間に対する抵抗値変化ΔＲの傾きは、比較例１及び比較例２よりも実施例１及び実施例２の方が小さくなっており、ＰＶＡを添加した効果が見られる。これは、添加したＰＶＡがＣ剤とのクロスリンク反応で、より強力な３次元ネットワークを形成しているためである。

実施例１と実施例２を比べると、実施例１の方が経過時間に対する抵抗値変化ΔＲの傾きが小さくなっており、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ水溶液１００重量部に対するＰＶＡの添加量は４０重量部より２０重量部の方が好ましいことが示されている。

一方、ＰＶＡに代えてＰＥＧを添加した比較例２では、ＰＶＡとＰＥＧのいずれも添加していない比較例１よりも、経過時間に対する抵抗値変化ΔＲの傾きが大きくなっている。これは、ＰＥＧがＣ剤と反応しないため、吸湿性が高まって脆弱な膜となり高温環境下において抵抗値変化が大きくなったものである。

図４に示す高温高湿（６０°Ｃ、湿度９５％）の試験においては、図３に示す結果と同様に、時間の経過に伴って抵抗値変化ΔＲが上昇している。

また、ＰＶＡに代えてＰＥＧを添加した比較例２では、経過時間に対する抵抗値変化ΔＲの傾きが、図３に示す常湿の場合よりも大きくなっており、この膜の吸湿性の高さを示している。

本発明について上記実施形態を参照しつつ説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、改良の目的または本発明の思想の範囲内において改良または変更が可能である。

本発明は、高い導電率を維持しつつ耐環境性を高めたインク組成物を実現できるという効果を有し、特に、液晶ディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、プラズマディスプレイ、エレクトロクロミックディスプレイ、太陽電池、タッチパネル、電子ペーパー等に用いられる透明電極及び電磁波シールド等、各種透明導電膜を用いたデバイスに適用可能である。

Claims (7)

1. （Ａ）極性有機溶媒である導電率向上エンハンサが添加された、ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸水溶液と、
   （Ｂ）エポキシ系クロスリンク剤と、
   （Ｃ）ポリビニルアルコールと、
   を含むインク組成物であって、
   前記（Ｂ）の含有量は、前記ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸の固形分１００重量部に対して７５〜１５０重量部であり、
   前記（Ｃ）の含有量は、前記ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸の固形分１００重量部に対して１０〜４０重量部である
   ことを特徴とするインク組成物。
2. 前記導電率向上エンハンサはジメチルスルホキシドであることを特徴とする請求項１に記載のインク組成物。
3. 前記導電率向上エンハンサはグリコールであることを特徴とする請求項１に記載のインク組成物。
4. 前記導電率向上エンハンサはジエチレングリコールであることを特徴とする請求項３に記載のインク組成物。
5. 前記（Ｃ）の分子量は７，０００〜４０，０００であることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載のインク組成物。
6. 請求項１から請求項５のいずれか１項に記載のインク組成物を用いて得られたことを特徴とする透明導電膜。
7. 請求項６に記載の透明導電膜を備えたことを特徴とする電子部品。

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