JP2015035622A - 回路基板 - Google Patents

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Abstract

【課題】微小文字などを表示することのできる回路基板を提供する。【解決手段】感光性・熱硬化性樹脂膜1と、この感光性・熱硬化性樹脂膜1の一方の面に形成したインキ層2とを有するドライフィルムを回路基板5の面上に貼り付け、この後、このドライフィルムにフォトフィルムを介して紫外線を照射し、この後、現像処理によって回路基板4上の所定箇所にソルダーレジスト膜1を形成し、紫外線の照射の際、ソルダーレジスト膜1が形成される部分のうちの所定部分の紫外線の照射量を少なくすることによって、所定部分と他の部分とで透明度に差を生じさせ、この透明度の差によりインキ層2を視認できるようにして、搭載部品の識別文字・記号及び絵等を表示するようにした。【選択図】図8

Description

本発明は、エポキシ系樹脂と一部カルボン酸残存のアクリル系樹脂を含む感光性・熱硬化性樹脂層の片面、又は、その間に官能基を持つインキ層を設けることによる、識別文字・記号及び絵等の視認が可能な回路基板に関する。
回路基板は銅回路保護のため等にソルダーレジストが施されており、このソルダーレジストには、液状タイプとドライフイルムタイプ(特許文献1、2、3参照)があるが、そのソルダーレジスト上に搭載部品の適確性を維持するため、スクリーン印刷方法で搭載部品名などの識別文字が印字される。
近年は、高機能製品が求められることから、回路基板の実装面積が小さくなり、搭載部品は小型化され、多くの部品が搭載されるようになった。スクリーン文字印刷方法では、文字用のインキが通過できるメッシュ目の大きさが限界に達しており、物理的に全ての文字を表記することが不可能になってきている。
さらに、スクリーン印刷による印刷物は、メッシュ目の関係でラインがギザギザになる欠点があり、小文字等は不明瞭で判読不能な状態である事から、部品の小型化、高密度実装から鮮明な小文字・記号等の表記が要求されている。
ソルダーレジストとして、インキタイプ或いはドライフイルムタイプを用いても、両者の上に部品搭載認識文字(以後、文字と言う)を印刷することから、表面はインキの盛り上りにより10〜20μmの凹凸が出来、クリーム半田の転写量を均一制御することが困難となり、搭載部品の接着不良や微細部品の脱落等による不良品が多々起こり、再登載に多大な時間を浪費することにより製造コストアップの要因でもある。このように、シルク文字印刷方法は致命的なマイナス要因がある。
スクリーン印刷法に代わる方法として、ソルダーレジスト上にロールコーターにより官能基を有するインキを塗布し、露光現像を行うことで文字等を印字する方法や、インクジェットプリンターによる文字等の印字方法が開示されている。(例えば、特許文献4、5参照)しかし、両者とも、前記同様インキの盛り上りを避けることが出来なく市場が要求しているフラットな面への解決には至っていない。
また、銘板においてもスクリーン印刷方法等で文字等を印刷後、光、熱等で硬化した状態で商品化される物が大部分であるが、一部クリアーラッカー等で文字表面をカバーされる物がある。
しかし、プリント基板及び銘板に印字された文字等が未カバーの状態では、接触等による物理的破壊及び、物理的摩擦研磨により文字が判読不明になるというマイナス要因がある。
さらに、液状ソルダーレジスト及びスクリーン印刷工程では多量の有機溶剤を使用することから、作業環境の悪化は言うまでもないが、大気汚染の問題が大きな課題となっている。
国際公開第2006/004158 特開2010−249886 特開2012−215718 特開2002−214778 特開平9−135062
本発明の目的は、前記のような問題を解決できる回路基板を提供することにある。
請求項1の発明は、エポキシ系樹脂と一部カルボン酸の残存アクリル系樹脂混合の感光性・熱硬化性樹脂膜と、この感光性・熱硬化性樹脂膜の一方の面に形成した官能基を有するインキ層とを有するドライフィルムをそのインキ層を下側にして回路基板の面上に貼り付け、この後、このドライフィルムにフォトフィルムを介して紫外線を照射することより感光させ、この後、現像処理によって前記回路基板上の所定箇所にソルダーレジスト膜を形成する回路基板の製造方法であって、前記紫外線の照射の際、前記ソルダーレジスト膜が形成される部分のうちの所定部分の紫外線の照射量を少なくすることによって、前記所定部分と他の部分とで透明度に差を生じさせ、この透明度の差により前記インキ層を視認できるようにして、搭載部品の識別文字・記号及び絵等を表示するようにしたことを特徴とする回路基板の製造方法によって製造された回路基板である。
従来の液状レジストインキでの、スクリーン印刷、スプレーコート、カーテンコート等による、塗布方法では、ピンホール、塗布ムラ、穴ひけ等が発生しやすく不良の原因となっているが、本発明では、レジスト自体がフイルム上であるためこれらの問題は、発生しづらく、歩留まりの向上や、作業時間の短縮が図られることから、資源等の有効活用の一助となる。
更に、バイヤーホールのテンティングが可能となりスルホール内にインキ残りが発生せず、歩留まりの向上や、作業時間の短縮が図られることから資源等の有効活用の一助となる。
エポキシ系樹脂と一部カルボン酸の残存アクリル系樹脂混合の感光性・熱硬化性樹脂に、官能基を有したインキ層を設けたドライフイルムに対し、紫外線の照射量を変化させることで、シルク印刷では不可能であった、微小文字などの印字ができ、より極小部品搭載回路基板の対応が可能となり、資源の有効活用の一助となるものである。
有機溶剤の使用量は、シルク印刷法と比較して1/1000以下に減少でき、さらに、ソルダーレジストインキ使用方法と比較して1/10〜1/20に減少が出来ることから、作業環境の改善の一助となるばかりでなく、資源の使用量が少なくてすみ、環境負荷の低減に大いに貢献するものである。
ソルダーレジスト面がフラットであることから、極小部品の搭載が容易で、搭載部品の欠落などのやり直しが減少することで生産性の向上に貢献できるものである。
文字などは、レジスト内に一体化されて構成する為に、物理的破壊・摩擦による、文字の欠損・消去等が起きにくい。その結果、銘板等に使用した場合、文字の判読不明による操作誤差等による事故防止が期待でき、又文字の印刷工程を省くことが出来る。
保管が必要な資材は、フォトフイルムのみであることから、シルク印刷法シルク版等の保管場所と比較し保管面積は約1/100以上に減少でき、保管費用の低減に貢献できるものである。
インキ層を片面に設けたドライフイルムの断面図 インキ層を中間に設けたドライフイルムの断面図 図1のドライフイルムを回路基板に貼り付けた断面図 図2のドライフイルムを回路基板に貼り付けた断面図 一次露光での露光量分布状態 二次露光での露光量分布状態 濃淡の付いたマスクフイルムでの露光量分布状態 現像処理後の基板断面図
本発明を実施例にて説明するが、本発明の範囲はこの実施例のみに限定されるものでなく、本発明の趣旨を損ねない範囲内において種々の変更を加えることが可能である。
本発明の実施例及び比較例に使用する共通機材などは、
1. ソルダーレジストは山栄化学(株)の製品名SSR−6600W−100。
2. インキは、山栄化学(株)社製のSSR6500C。
3.保護フイルムとして市売品のポリエステルフイルム。
4. ソルダーレジストインキの塗布は、(株)柳田技研社製スプレーコーター機FSC−510。
5. インキの塗布は、(株)柳田技研社製スプレーコーター機FSC−510。
6. 温風乾燥機は、メッシュ(株)社製のBOX乾燥機。
7. 東海神栄電子工業(株)のテスト用基板の、エッチングまで終了した両面スルホール基板、そのサイズは500dm(250mm×200mm)(以後、基板と言う)。
8. 銘板のテスト基板は、厚み0.3mmの市売品の銅版、そのサイズは200dm(200mm×100mm)(以後銘板と言う)。
9. 整面(ブラシ研磨)には、(株)石井表記製のスクラブ研磨機で砥粒#180。
10. 露光機は、(株)ハイテック社製のTHE−7000MC。
11. 現像液は、(株)ヤマトヤ商会の商品名現像液D−701の2%(v/v)溶液。
12. 現像機は、東京化工機(株)製のスプレー現像機。
13. ソルダーレジスト用のマスクフイルムは、東海神栄電子工業(株)のテスト用のネガタイプ。
14. 文字用マスクフイルムは、東海神栄電子工業(株)のテスト用のポジタイプ。
本発明の実施例に用いた評価機材の作成方法。
インキ層を片面に設けたドライフイルムの作成の概略。
ポリエステルフイルムの整面・乾燥⇒インキ塗布⇒乾燥⇒ソルダーレジストインキ塗布⇒乾燥⇒ポリエステルフイルム⇒ドライフイルムの完成(以後DSR−1と言う)
インキ層を中間に設けたドライフイルムの作成の概略。
ポリエステルフイルムの整面・乾燥⇒ソルダーレジストインキ塗布⇒乾燥⇒インキ塗布⇒乾燥⇒ソルダーレジストインキ塗布⇒乾燥⇒ポリエステルフイルム⇒ドライフイルムの完成(以後DSR−2と言う)
実施例の評価機材の作成の概略1
基板⇒整面・乾燥⇒インキ側の保護フイルム剥離⇒基板にDSR−1(又は、DSR−2)を貼り付け⇒ソルダーフォトマスク設置⇒一次露光⇒ソルダーフォトマスクと文字用フォトマスクを重ねて設置⇒二次露光⇒残りの保護フイルム剥離⇒現像(30℃、0.25MPa、有効チャンバー長の1/2で現像ができるように速度調整)⇒乾燥(50分/150℃)⇒評価
概略1の実施例1〜9の作業条件は表―1に示す。
表―1
概略1の実施例10〜13の作業条件は表―2に示す。
表―2
濃淡フイルムを用いた場合の評価機材の作成。
実施例の評価機材の作成の概略2
基板⇒整面・乾燥⇒インキ側の保護フイルム剥離⇒基板にDSR−1(又は、DSR−2)を貼り付け⇒濃淡を付けたフォトマスク設置⇒露光⇒残りの保護フイルム剥離⇒現像(30℃、0.25MPa、有効チャンバー長の1/2で現像ができるように速度調整)⇒乾燥(50分/150℃)⇒評価
概略2の実施例14〜16の作業条件は表―3に示す。
表―3
比較例として使用するドライフイルムは、エポキシ系樹脂を含まない、太陽インキ製造(株)の製品名フォトファイナーPSR−4000CC02/CA−40とインキ実施例に用いた山栄化学(株)の製品名SSR6500Cを用いてDSR−1と同様な方法で作成した。
比較例1〜4の作業条件は表―4に示す。

表―4
評価方法は、事務所の明るさの中で、識別用文字・記号等の文字が、鮮明に読み取れる、読み取れる、不鮮明であるが読み取れる、読み取れないかを目視により4段階で評価した。
評価結果を表―5に示す。
表―5
1感光性・熱硬化性樹脂
2官能基を有するインキ
3保護フイルム
4基材
5回路
6ソルダーレジスト用フォトマスク
7文字用フォトマスク
8濃度差をつけたフォトマスク

Claims (1)

  1. エポキシ系樹脂と一部カルボン酸の残存アクリル系樹脂混合の感光性・熱硬化性樹脂膜と、この感光性・熱硬化性樹脂膜の一方の面に形成した官能基を有するインキ層とを有するドライフィルムをそのインキ層を下側にして回路基板の面上に貼り付け、この後、このドライフィルムにフォトフィルムを介して紫外線を照射することより感光させ、この後、現像処理によって前記回路基板上の所定箇所にソルダーレジスト膜を形成する回路基板の製造方法であって、前記紫外線の照射の際、前記ソルダーレジスト膜が形成される部分のうちの所定部分の紫外線の照射量を少なくすることによって、前記所定部分と他の部分とで透明度に差を生じさせ、この透明度の差により前記インキ層を視認できるようにして、搭載部品の識別文字・記号及び絵等を表示するようにしたことを特徴とする回路基板の製造方法によって製造された回路基板。
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