JPH04340295A - プリント基板の製造方法、フォトソルダ―レジストおよびソルダ―レジストインキ - Google Patents
プリント基板の製造方法、フォトソルダ―レジストおよびソルダ―レジストインキInfo
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- JPH04340295A JPH04340295A JP14091991A JP14091991A JPH04340295A JP H04340295 A JPH04340295 A JP H04340295A JP 14091991 A JP14091991 A JP 14091991A JP 14091991 A JP14091991 A JP 14091991A JP H04340295 A JPH04340295 A JP H04340295A
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はチップ部品等を搭載した
りマ―キングするプリント基板の製造方法および基板上
に永久保護被膜を形成するフォトソルダ―レジストある
いはソルダ―レジストインキに関する。
りマ―キングするプリント基板の製造方法および基板上
に永久保護被膜を形成するフォトソルダ―レジストある
いはソルダ―レジストインキに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、プリント基板は、基板に配線パタ
―ンを形成した後、基板上にフォトソルダ―レジストあ
るいはソルダ―レジストインキによって永久保護被膜を
形成する。しかる後、該永久保護被膜上に搭載するチッ
プ部品を示すための記号や文字をマ―キング印刷によっ
て形成していた。
―ンを形成した後、基板上にフォトソルダ―レジストあ
るいはソルダ―レジストインキによって永久保護被膜を
形成する。しかる後、該永久保護被膜上に搭載するチッ
プ部品を示すための記号や文字をマ―キング印刷によっ
て形成していた。
【０００３】
【本発明が解決しようとする課題】従来のプリント基板
の製造方法ではフォトソルダ―レジストやソルダ―レジ
ストインキを硬化させて永久保護被膜を形成した後、マ
―キング印刷を行ない、該マ―キング印刷を乾燥、硬化
させる作業が必要であり、製造に手数と時間がかかりコ
スト高となる欠点があった。また、永久保護被膜を形成
した後にスクリ―ン印刷でマ―キング印刷を行なうので
、マ―キング印刷位置の精度が悪いという欠点があった
。
の製造方法ではフォトソルダ―レジストやソルダ―レジ
ストインキを硬化させて永久保護被膜を形成した後、マ
―キング印刷を行ない、該マ―キング印刷を乾燥、硬化
させる作業が必要であり、製造に手数と時間がかかりコ
スト高となる欠点があった。また、永久保護被膜を形成
した後にスクリ―ン印刷でマ―キング印刷を行なうので
、マ―キング印刷位置の精度が悪いという欠点があった
。
【０００４】本発明は以上のような従来の欠点に鑑み、
永久保護被膜と記号や文字等の形成を、容易に短時間に
行なうことができるとともに、記号や文字等を高精度の
位置に形成でき、かつ低コストなプリント基板の製造方
法を提供することを目的としている。
永久保護被膜と記号や文字等の形成を、容易に短時間に
行なうことができるとともに、記号や文字等を高精度の
位置に形成でき、かつ低コストなプリント基板の製造方
法を提供することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は基板に配線パタ―ンを形成するパタ―ン形
成工程と、このパタ―ン形成工程後に配線パタ―ンを含
む基板上に異なる波長の露光によって肉眼あるいは検出
器で識別できるように発色、消色あるいは変色させるこ
とのできるアゾ系のフォトソルダ―レジスト被膜を形成
するフォトソルダ―レジスト被膜形成工程と、このフォ
トソルダ―レジスト被膜形成工程後に永久保護被膜を形
成する露光を行なう被膜形成露光工程と、この被膜形成
露光工程後に永久保護被膜部位に該被膜形成露光工程の
露光とは異なる波長の露光で記号や文字等となるように
発色、消色あるいは変色させる文字等の出現露光工程と
、この文字等の出現露光工程後に現像、水洗、乾燥等を
行なう後処理工程とでプリント基板の製造方法を構成し
ている。
に、本発明は基板に配線パタ―ンを形成するパタ―ン形
成工程と、このパタ―ン形成工程後に配線パタ―ンを含
む基板上に異なる波長の露光によって肉眼あるいは検出
器で識別できるように発色、消色あるいは変色させるこ
とのできるアゾ系のフォトソルダ―レジスト被膜を形成
するフォトソルダ―レジスト被膜形成工程と、このフォ
トソルダ―レジスト被膜形成工程後に永久保護被膜を形
成する露光を行なう被膜形成露光工程と、この被膜形成
露光工程後に永久保護被膜部位に該被膜形成露光工程の
露光とは異なる波長の露光で記号や文字等となるように
発色、消色あるいは変色させる文字等の出現露光工程と
、この文字等の出現露光工程後に現像、水洗、乾燥等を
行なう後処理工程とでプリント基板の製造方法を構成し
ている。
【０００６】
【作用】上記のように構成されたプリント基板の製造方
法は、永久保護被膜を形成した後、異なる波長の露光に
よって永久保護被膜に記号や文字等を出現させることが
できる。
法は、永久保護被膜を形成した後、異なる波長の露光に
よって永久保護被膜に記号や文字等を出現させることが
できる。
【０００７】
【本発明の実施例】以下、図面に示す実施例により、本
発明を詳細に説明する。
発明を詳細に説明する。
【０００８】図１ないし図８の本発明の第１の実施例に
おいて、１は基板２に配線パタ―ン３を形成するパタ―
ン形成工程で、このパタ―ン形成工程１は図２および図
３に示すように、従来と同様な方法を用いて基板２上に
パタ―ン３を形成する。
おいて、１は基板２に配線パタ―ン３を形成するパタ―
ン形成工程で、このパタ―ン形成工程１は図２および図
３に示すように、従来と同様な方法を用いて基板２上に
パタ―ン３を形成する。
【０００９】４は前記配線パタ―ン３を含む基板２上に
所定の厚さのフォトソルダ―レジスト被膜５を形成する
フォトソルダ―レジスト被膜形成工程で、このフォトソ
ルダ―レジスト被膜形成工程４は図４に示すように、画
像のないスクリ―ン印刷版を用いた印刷あるいはロ―ル
コ―ト、スプレ―コ―トによってほぼ全面にフォトソル
ダ―レジスト被膜５を形成する。
所定の厚さのフォトソルダ―レジスト被膜５を形成する
フォトソルダ―レジスト被膜形成工程で、このフォトソ
ルダ―レジスト被膜形成工程４は図４に示すように、画
像のないスクリ―ン印刷版を用いた印刷あるいはロ―ル
コ―ト、スプレ―コ―トによってほぼ全面にフォトソル
ダ―レジスト被膜５を形成する。
【００１０】このフォトソルダ―レジスト被膜形成工程
４で使用されるフォトソルダ―レジストは、あらかじめ
選定された、例えば３００ｎｍ以上の波長の露光によっ
て硬化するフォトソルダ―レジスト剤と、このフォトソ
ルダ―レジスト剤に所定の割合で混合された該フォトソ
ルダ―レジスト剤を硬化させる波長とは異なる、例えば
３００ｎｍ以下の波長の露光によって肉眼あるいは検出
器で識別できるように発色、消色あるいは変色できる色
素剤とで構成されたものを使用する。
４で使用されるフォトソルダ―レジストは、あらかじめ
選定された、例えば３００ｎｍ以上の波長の露光によっ
て硬化するフォトソルダ―レジスト剤と、このフォトソ
ルダ―レジスト剤に所定の割合で混合された該フォトソ
ルダ―レジスト剤を硬化させる波長とは異なる、例えば
３００ｎｍ以下の波長の露光によって肉眼あるいは検出
器で識別できるように発色、消色あるいは変色できる色
素剤とで構成されたものを使用する。
【００１１】前記フォトソルダ―レジスト剤としては、
露光、現像可能であり、かつ永久保護被膜としての特性
を有するものであれば、特に限定されないが、通常、不
飽和結合を有する樹脂、反応性希釈剤、光開始剤、必要
に応じて硬化剤、体質顔料、溶剤より構成される。
露光、現像可能であり、かつ永久保護被膜としての特性
を有するものであれば、特に限定されないが、通常、不
飽和結合を有する樹脂、反応性希釈剤、光開始剤、必要
に応じて硬化剤、体質顔料、溶剤より構成される。
【００１２】上記不飽和結合を有する樹脂としては、例
えばエポキシアクリレ―ト、エポキシメタクリレ―ト、
ウレタンアクリレ―ト、ウレタンメタクリレ―ト、ポリ
エステルアクリレ―ト、ポリエステルメタクリレ―ト、
メラミンアクリレ―ト等が挙げられ、現像工程がアルカ
リ水溶液にて行なわれる場合には、側鎖にカルボキシル
基を有していることが望ましい。
えばエポキシアクリレ―ト、エポキシメタクリレ―ト、
ウレタンアクリレ―ト、ウレタンメタクリレ―ト、ポリ
エステルアクリレ―ト、ポリエステルメタクリレ―ト、
メラミンアクリレ―ト等が挙げられ、現像工程がアルカ
リ水溶液にて行なわれる場合には、側鎖にカルボキシル
基を有していることが望ましい。
【００１３】反応性希釈剤としては、不飽和結合を有す
る低分子量モノマ―であればよく、例えば２−ヒドロキ
シエチルアクリレ―ト、２−ヒドロキシエチルメタクリ
レ―ト、２−ヒドロキシプロピルアクリレ―ト、２−ヒ
ドロキシプロピルメタクリレ―ト、ジエチレングリコ―
ルジアクリレ―ト、トリエチレングリコ―ルジアクリレ
―ト、ジプロピレングリコ―ルジアクリレ―ト、１，６
−ヘキサンジオ―ルジアクリレ―ト、ネオペンチルグリ
コ―ルジアクリレ―ト、トリメチロ―ルプロパントリア
クリレ―ト、ペンタエリスリト―ルトリアクリレ―ト、
ペンタエリスリト―ルテトラアクリレ―ト、ジペンタエ
リスリト―ルヘキサアクリレ―ト等が挙げられる。
る低分子量モノマ―であればよく、例えば２−ヒドロキ
シエチルアクリレ―ト、２−ヒドロキシエチルメタクリ
レ―ト、２−ヒドロキシプロピルアクリレ―ト、２−ヒ
ドロキシプロピルメタクリレ―ト、ジエチレングリコ―
ルジアクリレ―ト、トリエチレングリコ―ルジアクリレ
―ト、ジプロピレングリコ―ルジアクリレ―ト、１，６
−ヘキサンジオ―ルジアクリレ―ト、ネオペンチルグリ
コ―ルジアクリレ―ト、トリメチロ―ルプロパントリア
クリレ―ト、ペンタエリスリト―ルトリアクリレ―ト、
ペンタエリスリト―ルテトラアクリレ―ト、ジペンタエ
リスリト―ルヘキサアクリレ―ト等が挙げられる。
【００１４】光開始剤としては、例えばビアセチル、ア
セトフェノン、ベンゾフェノン、ベンゾインアルキルエ
―テル類、チオキサントン類、アントラキノン類、ベン
ジルジメチルケタ―ル、テトラメチルチウラムスルフィ
ド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェルニケトン、α
−ヒドロキシイソブチルフェノン、ｐ−イソプロピル−
α−ヒドロキシイソブチルフェノン等が挙げられるが、
３００ｎｍ以上の波長の露光のみにても重合開始作用を
有することが必要である。
セトフェノン、ベンゾフェノン、ベンゾインアルキルエ
―テル類、チオキサントン類、アントラキノン類、ベン
ジルジメチルケタ―ル、テトラメチルチウラムスルフィ
ド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェルニケトン、α
−ヒドロキシイソブチルフェノン、ｐ−イソプロピル−
α−ヒドロキシイソブチルフェノン等が挙げられるが、
３００ｎｍ以上の波長の露光のみにても重合開始作用を
有することが必要である。
【００１５】永久保護被膜の特性の改質のため、熱架橋
性を有する硬化剤を加えても構わない。本硬化剤と加熱
下に反応する官能基は、上記樹脂に存在する残存官能基
であってもまた、官能基を有しかつ不飽和結合を有しな
い樹脂が加えられても構わない。
性を有する硬化剤を加えても構わない。本硬化剤と加熱
下に反応する官能基は、上記樹脂に存在する残存官能基
であってもまた、官能基を有しかつ不飽和結合を有しな
い樹脂が加えられても構わない。
【００１６】これら硬化剤の例としては、エポキシアク
リレ―ト、エポキシメタクリレ―ト樹脂に残存するエポ
キシ基あるいは別途添加されたエポキシ樹脂に存在する
エポキシ基に対する硬化剤としては脂肪族ポリアミン類
、芳香族ポリアミン類、ポリアミド類、酸無水物類、フ
ェノ―ル類、３級アミン類、イミダゾ―ル誘導体類、ジ
シアンジアミドおよびその誘導体、有機酸ヒドラジド類
、ジアミノマレオニトリルおよびその誘導体、メラミン
およびその誘導体等が挙げられる。
リレ―ト、エポキシメタクリレ―ト樹脂に残存するエポ
キシ基あるいは別途添加されたエポキシ樹脂に存在する
エポキシ基に対する硬化剤としては脂肪族ポリアミン類
、芳香族ポリアミン類、ポリアミド類、酸無水物類、フ
ェノ―ル類、３級アミン類、イミダゾ―ル誘導体類、ジ
シアンジアミドおよびその誘導体、有機酸ヒドラジド類
、ジアミノマレオニトリルおよびその誘導体、メラミン
およびその誘導体等が挙げられる。
【００１７】また、不飽和結合を有する樹脂中に存在す
る水酸基に対する硬化剤としては、メチル化メラミン、
ブチル化メラミン、イソシアネ―トプレポリマ―等が挙
げられる。これら硬化剤は単独でも２種類以上混合して
使用しても構わない。
る水酸基に対する硬化剤としては、メチル化メラミン、
ブチル化メラミン、イソシアネ―トプレポリマ―等が挙
げられる。これら硬化剤は単独でも２種類以上混合して
使用しても構わない。
【００１８】さらに、被膜形成工程における印刷、コ―
ティング性を向上する目的として、溶剤、体質顔料を加
えても構わない。
ティング性を向上する目的として、溶剤、体質顔料を加
えても構わない。
【００１９】また色素剤としては、例えばオレオゾ―ル
レッドＢＢ等のアゾ系染料やレ―キレッドＣ、ウォッチ
ャンレッド、ハンザエロ―、クロモフタ―ルレッドＢＲ
Ｎ、グリ―ンエロ―５Ｇ等のアゾ系顔料が使用される。 なお、アゾ系染料やアゾ系顔料等の色素剤以外の色素剤
を用いてもよい。また、他の２種以上の色素剤を組み合
わせて用いてもよい。
レッドＢＢ等のアゾ系染料やレ―キレッドＣ、ウォッチ
ャンレッド、ハンザエロ―、クロモフタ―ルレッドＢＲ
Ｎ、グリ―ンエロ―５Ｇ等のアゾ系顔料が使用される。 なお、アゾ系染料やアゾ系顔料等の色素剤以外の色素剤
を用いてもよい。また、他の２種以上の色素剤を組み合
わせて用いてもよい。
【００２０】６はフォトソルダ―レジスト被膜５が形成
された基板２に永久保護被膜７を形成する露光を行なう
被膜形成露光工程で、この被膜形成露光工程６は図５に
示すように、永久保護被膜７を形成する画像８が形成さ
れたポジフィルム９と、このポジフィルム９上に設置さ
れた、例えば３００ｎｍ以上の波長の紫外線を透過させ
る波長選定フィルタ―１０とをフォトソルダ―レジスト
被膜５上に位置させ、例えば３００ｎｍ以上の紫外線で
所定時間露光を行なうことで永久保護被膜７部分が硬化
する。
された基板２に永久保護被膜７を形成する露光を行なう
被膜形成露光工程で、この被膜形成露光工程６は図５に
示すように、永久保護被膜７を形成する画像８が形成さ
れたポジフィルム９と、このポジフィルム９上に設置さ
れた、例えば３００ｎｍ以上の波長の紫外線を透過させ
る波長選定フィルタ―１０とをフォトソルダ―レジスト
被膜５上に位置させ、例えば３００ｎｍ以上の紫外線で
所定時間露光を行なうことで永久保護被膜７部分が硬化
する。
【００２１】１１は前記被膜形成露光工程６後に硬化し
た永久保護被膜７部位に記号や文字等を発色、消色ある
いは変色によって形成する文字等の出現露光工程で、こ
の文字等の出現露光工程１１は、図６に示すように永久
保護被膜７上に特殊素材、例えば紫外線波長が３００ｎ
ｍ以下まで透過する材料で形成された記号や文字等を形
成できるネガフィルム１２を用いて３００ｎｍ以下まで
の紫外線で所定時間行なうことにより、消色あるいは変
色した記号や文字等１３が出現する。
た永久保護被膜７部位に記号や文字等を発色、消色ある
いは変色によって形成する文字等の出現露光工程で、こ
の文字等の出現露光工程１１は、図６に示すように永久
保護被膜７上に特殊素材、例えば紫外線波長が３００ｎ
ｍ以下まで透過する材料で形成された記号や文字等を形
成できるネガフィルム１２を用いて３００ｎｍ以下まで
の紫外線で所定時間行なうことにより、消色あるいは変
色した記号や文字等１３が出現する。
【００２２】１４は前記文字等の出現露光工程１１後に
現像工程１５、水洗工程１６および乾燥工程１７等を順
次行なう後処理工程で、この後処理工程１４によって、
基板２上の未硬化部分のフォトソルダ―レジストが剥離
され、図７および図８に示すように記号や文字等が出現
した永久保護被膜７が形成されたプリント基板１８がで
き上がる。
現像工程１５、水洗工程１６および乾燥工程１７等を順
次行なう後処理工程で、この後処理工程１４によって、
基板２上の未硬化部分のフォトソルダ―レジストが剥離
され、図７および図８に示すように記号や文字等が出現
した永久保護被膜７が形成されたプリント基板１８がで
き上がる。
【００２３】
【本発明の異なる実施例】次に図９ないし図１５に示す
本発明の異なる実施例につき説明する。
本発明の異なる実施例につき説明する。
【００２４】なお、これらの実施例の説明に当って、前
記本発明の第１の実施例と同一構成部分には同一符号を
付して重複する説明を省略する。
記本発明の第１の実施例と同一構成部分には同一符号を
付して重複する説明を省略する。
【００２５】図９および図１０の本発明の第２の実施例
において、前記本発明の第１の実施例と主に異なる点は
、フォトソルダ―レジスト被膜形成工程４後に永久保護
被膜７および記号や文字等１３を形成する、全光に対し
て３種類以上の波長分光を選択し、同時に透過させるこ
とができる、例えば３００ｎｍ以下の光だけを透す部分
、３００ｎｍ以上の光だけを透す部分および光を遮断す
る部分を有する特殊ポジ、ネガフィルム１９を用いた紫
外線照射による露光工程２０を行ない、該露光工程２０
で同時に永久保護被膜７部位を硬化させるとともに、該
硬化部位に記号や文字等１３を発色、消色あるいは変色
により形成する。
において、前記本発明の第１の実施例と主に異なる点は
、フォトソルダ―レジスト被膜形成工程４後に永久保護
被膜７および記号や文字等１３を形成する、全光に対し
て３種類以上の波長分光を選択し、同時に透過させるこ
とができる、例えば３００ｎｍ以下の光だけを透す部分
、３００ｎｍ以上の光だけを透す部分および光を遮断す
る部分を有する特殊ポジ、ネガフィルム１９を用いた紫
外線照射による露光工程２０を行ない、該露光工程２０
で同時に永久保護被膜７部位を硬化させるとともに、該
硬化部位に記号や文字等１３を発色、消色あるいは変色
により形成する。
【００２６】このような露光工程２０を行なってプリン
ト基板１８を製造することにより、１回の波長の異なる
露光工程で永久保護被膜７と記号や文字１３等を形成で
き、容易にプリント基板１８を製造することができる。
ト基板１８を製造することにより、１回の波長の異なる
露光工程で永久保護被膜７と記号や文字１３等を形成で
き、容易にプリント基板１８を製造することができる。
【００２７】図１１ないし図１５の本発明の第３の実施
例において、前記本発明の第１の実施例と主に異なる点
は、永久保護被膜７を異なる波長の露光により発色、消
色あるいは変色させることできるソルダ―レジストイン
キを用いたスクリ―ン印刷によって配線パタ―ン３を含
む基板２上に形成する永久保護被膜形成工程２１を行な
った後、永久保護被膜７を紫外線の照射等によって硬化
させる永久保護被膜硬化工程２２および硬化した永久保
護被膜７より記号や文字１３等となるように発色、消色
あるいは変色により文字等の出現露光工程１１を行なっ
た点で、このような永久保護被膜工程２１、永久保護被
膜硬化工程２２、文字等の出現露光工程１１等を用いて
プリント基板１８を製造してもよい。
例において、前記本発明の第１の実施例と主に異なる点
は、永久保護被膜７を異なる波長の露光により発色、消
色あるいは変色させることできるソルダ―レジストイン
キを用いたスクリ―ン印刷によって配線パタ―ン３を含
む基板２上に形成する永久保護被膜形成工程２１を行な
った後、永久保護被膜７を紫外線の照射等によって硬化
させる永久保護被膜硬化工程２２および硬化した永久保
護被膜７より記号や文字１３等となるように発色、消色
あるいは変色により文字等の出現露光工程１１を行なっ
た点で、このような永久保護被膜工程２１、永久保護被
膜硬化工程２２、文字等の出現露光工程１１等を用いて
プリント基板１８を製造してもよい。
【００２８】なお、前記本発明の各実施例では露光を波
長の異なる紫外線を用いるものについて説明したが、本
発明はこれに限らず、他の波長等を用いてもよい。
長の異なる紫外線を用いるものについて説明したが、本
発明はこれに限らず、他の波長等を用いてもよい。
【００２９】また、照射量の異なる露光によって永久保
護被膜を形成するとともに、記号や文字等を発色、消色
あるいは変色させることのできるフォトソルダ―レジス
トあるいはソルダ―レジストインキを用いてプリント基
板を製造してもよい。
護被膜を形成するとともに、記号や文字等を発色、消色
あるいは変色させることのできるフォトソルダ―レジス
トあるいはソルダ―レジストインキを用いてプリント基
板を製造してもよい。
【００３０】
【本発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発
明にあっては次に列挙する効果が得られる。
明にあっては次に列挙する効果が得られる。
【００３１】（１）基板に配線パタ―ンを形成するパタ
―ン形成工程と、このパタ―ン形成工程後に配線パタ―
ンを含む基板上に異なる波長の露光によって肉眼あるい
は検出器で識別できるように発色、消色あるいは変色さ
せることのできるアゾ系のフォトソルダ―レジスト被膜
を形成するフォトソルダ―レジスト被膜形成工程と、こ
のフォトソルダ―レジスト被膜形成工程後に永久保護被
膜を形成する露光を行なう被膜形成露光工程と、この被
膜形成露光工程後に永久保護被膜部位に該被膜形成露光
工程の露光とは異なる波長の露光で記号や文字等となる
ように発色、消色あるいは変色させる文字等の出現露光
工程と、この文字等の出現露光工程後に現像、水洗、乾
燥等を行なう後処理工程とからなるので、永久保護被膜
と記号や文字等を容易に形成することができる。したが
って、製造コストの低減を図ることができる。
―ン形成工程と、このパタ―ン形成工程後に配線パタ―
ンを含む基板上に異なる波長の露光によって肉眼あるい
は検出器で識別できるように発色、消色あるいは変色さ
せることのできるアゾ系のフォトソルダ―レジスト被膜
を形成するフォトソルダ―レジスト被膜形成工程と、こ
のフォトソルダ―レジスト被膜形成工程後に永久保護被
膜を形成する露光を行なう被膜形成露光工程と、この被
膜形成露光工程後に永久保護被膜部位に該被膜形成露光
工程の露光とは異なる波長の露光で記号や文字等となる
ように発色、消色あるいは変色させる文字等の出現露光
工程と、この文字等の出現露光工程後に現像、水洗、乾
燥等を行なう後処理工程とからなるので、永久保護被膜
と記号や文字等を容易に形成することができる。したが
って、製造コストの低減を図ることができる。
【００３２】（２）前記（１）によって、文字や記号等
を写真法で形成できるので、文字等の寸法精度の向上を
図ることができる。
を写真法で形成できるので、文字等の寸法精度の向上を
図ることができる。
【００３３】（３）前記（１）によって、文字等の形成
に従来のようにマ―キング印刷後の熱硬化させたり、紫
外線硬化させたりする作業が不要なので、短時間に製造
することができる。
に従来のようにマ―キング印刷後の熱硬化させたり、紫
外線硬化させたりする作業が不要なので、短時間に製造
することができる。
【００３４】（４）請求項２、３、４、５、６、７も前
記（１）〜（３）と同様な効果が得られる。
記（１）〜（３）と同様な効果が得られる。
【図１】本発明の第１の実施例を示す工程図。
【図２および図３】パタ―ン成形工程の説明図。
【図４】フォトソルダ―レジスト被膜形成工程の説明図
。
。
【図５】被膜形成露光工程の説明図。
【図６】文字等の出現露光工程の説明図。
【図７および図８】記号や文字等が出現したプリント基
板の説明図。
板の説明図。
【図９および図１０】本発明の第２の実施例を示す説明
図。
図。
【図１１ないし図１５】本発明の第３の実施例を示す説
明図。
明図。
１：パタ―ン形成工程、 ２：
基板、３：配線パタ―ン、４：フォトソルダ―レジスト
被膜形成工程、５：フォトソルダ―レジスト被膜、
６：被膜形成露光工程、７：永久保護被膜、
８：画像、９：ポジフィルム、
１０：波長選定フィ
ルタ―、１１：文字等の出現露光工程、 １
２：ネガフィルム、１３：文字等、
１４：後処理工程、１５：現像
工程、 １６：水
洗工程、１７：乾燥工程、
１８：プリント基板、１９：特殊ポジ、ネガ
フィルム、 ２０：露光工程、２１：永久保護被膜形
成工程、 ２２：永久保護被膜硬化工程。
基板、３：配線パタ―ン、４：フォトソルダ―レジスト
被膜形成工程、５：フォトソルダ―レジスト被膜、
６：被膜形成露光工程、７：永久保護被膜、
８：画像、９：ポジフィルム、
１０：波長選定フィ
ルタ―、１１：文字等の出現露光工程、 １
２：ネガフィルム、１３：文字等、
１４：後処理工程、１５：現像
工程、 １６：水
洗工程、１７：乾燥工程、
１８：プリント基板、１９：特殊ポジ、ネガ
フィルム、 ２０：露光工程、２１：永久保護被膜形
成工程、 ２２：永久保護被膜硬化工程。
Claims (7)
- 【請求項１】 基板に配線パタ―ンを形成するパタ―
ン形成工程と、このパタ―ン形成工程後に配線パタ―ン
を含む基板上に異なる波長の露光によって肉眼あるいは
検出器で識別できるように発色、消色あるいは変色させ
ることのできるアゾ系のフォトソルダ―レジスト被膜を
形成するフォトソルダ―レジスト被膜形成工程と、この
フォトソルダ―レジスト被膜形成工程後に永久保護被膜
を形成する露光を行なう被膜形成露光工程と、この被膜
形成露光工程後に永久保護被膜部位に該被膜形成露光工
程の露光とは異なる波長の露光で記号や文字等となるよ
うに発色、消色あるいは変色させる文字等の出現露光工
程と、この文字等の出現露光工程後に現像、水洗、乾燥
等を行なう後処理工程とを含むことを特徴とするプリン
ト基板の製造方法。 - 【請求項２】 基板に配線パタ―ンを形成する配線パ
タ―ン形成工程と、このパタ―ン形成工程後に配線パタ
―ンを含む基板上に異なる波長の露光によって肉眼ある
いは検出器で識別できるように発色、消色あるいは変色
させることのできるアゾ系のフォトソルダ―レジスト被
膜を形成するフォトソルダ―レジスト被膜形成工程と、
このフォトソルダ―レジスト被膜形成工程後に永久保護
被膜を波長選定フィルタ―とポジフィルムとを用いて露
光を行なって形成する被膜形成露光工程と、この被膜形
成露光工程後に永久保護被膜部位に特殊ネガフィルムを
用いて記号や文字となるように発色、消色あるいは変色
させる文字等の出現露光工程と、この文字等の出現露光
工程後に現像、水洗、乾燥等を行なう後処理工程とを含
むことをプリント基板の製造方法。 - 【請求項３】 基板に配線パタ―ンを形成するパタ―
ン形成工程と、このパタ―ン形成工程後に配線パタ―ン
を含む基板上に異なる波長の露光によって肉眼あるいは
検出器で識別できるように発色、消色あるいは変色させ
ることのできるアゾ系のフォトソルダ―レジスト被膜を
形成するフォトソルダ―レジスト被膜形成工程と、この
フォトソルダ―レジスト被膜形成工程後に全光に対して
、３種類以上の波長分光を選択し、同時に透過させるこ
とができる特殊ポジ、ネガ兼用フィルムを用いた露光に
より永久保護被膜および発色、消色あるは変色により記
号や文字等を形成する露光工程と、この露光工程後に現
像、水洗、乾燥等を行なう後処理工程とを含むことを特
徴とするプリンシ基板の製造方法。 - 【請求項４】 基板に配線パタ―ンを形成するパタ―
ン形成工程と、このパタ―ン形成工程後に配線パタ―ン
を含む基板上に照射量の異なる露光によって肉眼あるい
は検出器で識別できるように発色、消色あるいは変色さ
せることのできるアゾ系のフォトソルダ―レジスト被膜
を形成するフォトソルダ―レジスト被膜形成工程と、こ
のフォトソルダ―レジスト被膜形成工程後に永久保護被
膜を形成する露光を行なう被膜形成露光工程と、この被
膜形成露光工程後に永久保護被膜部位に該被膜形成露光
工程の露光とは照射量の異なる露光で記号や文字等とな
るように発色、消色あるいは変色させる文字等の出現露
光工程と、この文字等の出現露光工程後に現像、水洗、
乾燥等を行なう後処理工程とを含むことを特徴とするプ
リント基板の製造方法。 - 【請求項５】 基板に配線パタ―ンを形成するパタ―
ン形成工程と、このパタ―ン形成工程後に配線パタ―ン
を含む基板上に永久保護被膜を異なる波長の露光あるい
は照射量の異なる露光により肉眼あるいは検出器で識別
できるように発色、消色あるいは変色させることのでき
るアゾ系のソルダ―レジストインキを用いたスクリ―ン
印刷によって形成する永久保護被膜形成工程と、この永
久保護被膜形成工程後に永久保護被膜を硬化させる永久
保護被膜硬化工程と、この永久保護被膜硬化工程後に記
号や文字等となるように発色、消色あるいは変色させる
文字等の出現露光工程とを含むことを特徴とするプリン
ト基板の製造方法。 - 【請求項６】 あらかじめ選定された波長の露光によ
って硬化するフォトソルダ―レジスト剤と、このフォト
ソルダ―レジスト剤に混合された該フォトソルダ―レジ
スト剤を硬化させる波長の露光とは異なる波長の露光に
よって肉眼あるいは検出器で識別できるように発色、消
色あるいは変色するアゾ系の色素剤とからなることを特
徴とするフォトソルダ―レジスト。 - 【請求項７】 あらかじめ選定された波長の露光によ
って硬化するソルダ―レジストインキ剤と、このソルダ
―レジストインキ剤に混合された該ソルダ―レジストイ
ンキ剤を硬化させる波長の露光とは異なる波長の露光に
よって肉眼あるいは検出器で識別できるように発色、消
色あるいは変色するアゾ系の色素剤とからなることを特
徴とするソルダ―レジストインキ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14091991A JPH04340295A (ja) | 1991-05-16 | 1991-05-16 | プリント基板の製造方法、フォトソルダ―レジストおよびソルダ―レジストインキ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14091991A JPH04340295A (ja) | 1991-05-16 | 1991-05-16 | プリント基板の製造方法、フォトソルダ―レジストおよびソルダ―レジストインキ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04340295A true JPH04340295A (ja) | 1992-11-26 |
Family
ID=15279870
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14091991A Pending JPH04340295A (ja) | 1991-05-16 | 1991-05-16 | プリント基板の製造方法、フォトソルダ―レジストおよびソルダ―レジストインキ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04340295A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7077506B2 (en) | 2002-08-01 | 2006-07-18 | Benq Corporation | Identifiable inkjet cartridge and method of preventing misplacing inkjet cartridge in an inkjet apparatus |
| US7138171B2 (en) | 2001-09-25 | 2006-11-21 | Benq Corporation | Identifiable flexible printed circuit board |
| JP5643416B1 (ja) * | 2013-12-24 | 2014-12-17 | 互応化学工業株式会社 | 被覆配線板の製造方法 |
| JP2015035622A (ja) * | 2014-10-24 | 2015-02-19 | 東海神栄電子工業株式会社 | 回路基板 |
-
1991
- 1991-05-16 JP JP14091991A patent/JPH04340295A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7138171B2 (en) | 2001-09-25 | 2006-11-21 | Benq Corporation | Identifiable flexible printed circuit board |
| US7181838B2 (en) | 2001-09-25 | 2007-02-27 | Benq Corporation | Method of fabricating identifiable flexible printed circuit board |
| US7279216B2 (en) | 2001-09-25 | 2007-10-09 | Benq Corporation | Identifiable flexible printed circuit board and method of fabricating the same |
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| JP2015121653A (ja) * | 2013-12-24 | 2015-07-02 | 互応化学工業株式会社 | 被覆配線板の製造方法 |
| JP2015035622A (ja) * | 2014-10-24 | 2015-02-19 | 東海神栄電子工業株式会社 | 回路基板 |
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