JP2015031617A - Ｘ線光学装置 - Google Patents

Abstract

【課題】複数の反射基板１１が間隙を開けて積層された積層構造をなし、該積層構造体の一側面である入口から前記間隙に入射したＸ線２が、前記間隙を構成する二枚の反射基板１１で反射されて、前記積層構造体の一側面とは反対側の側面である出口から出射されるＸ線光学装置において、薄い反射基板１１でも変形しにくい構造とする。
【解決手段】各反射基板１１の間に、前記隙間を確保するためのスペーサー１２が、前記積層構造体の中央は疎、両側は密な配置密度で挟み込まれ、前記スペーサーの配置密度が密な前記積層構造体の両側部が、前記反射基板の積層方向に挟み付けられた構造とする。
【選択図】図１

Description

本発明は、Ｘ線を被写体に照射するためのＸ線光学装置に関し、特に、発散しながら進行するＸ線を平行化して出射するＸ線光学装置に関する。

Ｘ線を一次元平行化するためのＸ線光学装置が知られている。反射基板である金属平板を一定間隔で積層したいわゆるソーラースリットはその一つであり、Ｘ線の非平行成分を金属平板に吸収させ、一定範囲の平行成分だけを透過させることができる。

従来、ソーラースリットにおける金属平板の変形や撓みを防ぐために、金属板を厚くするほか、周囲に枠を設けて金属平板を保持することが行われている（特許文献１）。また、製造過程において、金属平板の間にスペーサーを設けて、金属平板を所定の間隔に保って組み立てた後、周囲に金属平板を固定する枠を設けて、スペーサーを除去する製造方法も提案されている（特許文献２）。このようにソーラースリットでは、周囲に設けた枠が金属平板に引っ張り張力を与えることで、金属平板を所定の間隔に保っている。更に、平行平板以外の放物面をもつ金属板も、同様に枠を設けて金属平板に放物面形状を与えていた（非特許文献１）。この場合、金属板を数百μｍの厚さにすることで、形状を保持していた。

特開２０００−１３７０９８ 特開昭６１−２６７３２２

Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ ｏｆ ＳＰＩＥ Ｖｏｌ． ５４８８−４４９

Ｘ線光学装置は、周囲に設けた枠によって反射基板の形状を保持しているが、Ｘ線光学装置の面積が大きくなると、反射基板が撓んで部分的に平行度に不均一性がでてしまう問題があった。また、平面以外の反射基板では、所定の形状の外枠で反射基板を保持することで所定の形状を作ることができるが、反射基板を厚くする必要があった。そのため、反射基板間の間隔が小さくなるにつれて、反射基板間の間隔に対する反射基板の肉厚の割合が増え、開口率が下がって、反射基板で止められるＸ線の比率が多くなる欠点があった。

本発明は、上記従来の問題点に鑑みてなされたもので、複数の反射基板が隙間を開けて積層された積層構造を有するＸ線光学装置において、薄い反射基板でも変形しにくく構造とすることを目的とする。

本発明は、上記目的のために、複数の反射基板が隙間を開けて積層された積層構造をなし、該積層構造体の一側面である入口から前記隙間に入射したＸ線が、前記隙間を構成する二枚の反射基板で反射されて、前記積層構造体の一側面とは反対側の側面である出口から出射されるＸ線光学装置において、
各反射基板の間に、前記隙間を確保するためのスペーサーが挟み込まれていることを特徴とするＸ線光学装置を提供するものである。

本発明においては、各反射基板の間にスペーサーを挟み込んで隙間を維持しているので、薄い反射基板でも撓みが生じにくい。

Ｘ線光学装置の基本形態を示す模式的斜視図である。 図１のスリットレンズの、Ｘ線源を通るＹＺ平面での断面である。 図２に示す反射基板のうちの隣接する２枚のＸ線源側の拡大図である。 石英板のＸ線反射率を示すグラフである。 反射基板の間隔が徐々に広がっていく場合についての説明図である。 Ｘ線の平行度が悪化する場合の例を示す説明図である。 視射角と石英板の反射率の関係を示すグラフである。 Ｘ線が反射基板間を反射する光路の説明図である。 本発明の原理を説明する図である。 本発明の第１の実施形態の説明図である。 本発明の第２の実施形態の説明図である。 本発明の第３の実施形態の説明図である。

図面を参照して本発明を更に説明する。なお、以下に参照する図面において、同じ符号は同様の構成要素を示す。

＜基本原理＞
まず、本発明に係るＸ線光学装置の基本原理について説明する。

（１）スリットレンズ
本発明のＸ線光学装置は、Ｘ線源から放射されたＸ線の疑似平行化素子で、図１に示すように、両面で反射する多数の反射基板１１を所定の隙間を開けて積層した積層構造をもつ。Ｘ線源１から放射されたＸ線は、積層構造体の一側面である入口から間隙に入射し、間隙を構成する二枚の反射基板１１で反射されて、積層構造体の一側面とは反対側の側面である出口から出射される。積層された反射基板１１の間の隙間に入射したＸ線２は、積層された反射基板１１で反射されながら進む。反射基板１１を所定の間隔で積層した積層構造体をスリットレン３と呼ぶことにする。このスリットレンズ３を、スリットレンズ３を透過したＸ線を試料に照射してその透過像を得るＸ線撮像装置に用いた場合を例に、本発明の原理を説明する。

（２）解像力
疑似平行化素子であるスリットレンズ３を透過してきたＸ線２によって像を投影したときの分解能を説明する。図２に示すように、スリットレンズ３の出口に無限小の物体Ａがあって、そのボケを像の分解能Δｐと定義すると、Δｐはスリットレンズ３の出口の発散角θ_outと、スリットレンズ３の出口とＸ線検出器４の距離Ｌ₃によって、

で表わせる。従って、解像力を上げるには、Ｌ₃が一定であるとすると、スリットレンズ３の出口の発散角θ_outを小さくすること、即ちＸ線２の平行度を上げることが重要である。

（３）擬似平行化原理
次に、スリットレンズ３の平行化原理について図２及び図３を用いて説明する。

Ｘ線源１から発せられたＸ線２は、発散光で全方位に放射される。図２に示すようにＸ線源１から距離Ｌ₁の位置にスリットレンズ３が置かれている。スリットレンズ３は、多数の反射基板１１からなる。反射基板１１は、例えばガラス薄板で構成することができる。反射基板１１は、１枚の厚さが数μｍ〜数十μｍで、数十枚から数百枚重ねられている。反射基板１１のうち、隣接する二枚を反射基板１１ａと１１ｂとすると、その間に入射したＸ線２は、反射基板１１ａと１１ｂの両者で反射されながら進んでいき、Ｘ線源１とは反対側の出口から放射される。ここで、反射基板１１は緩やかな曲率をもっている。

図３に示すように、反射基板１１ａと１１ｂの間の隙間内に、両側の反射基板１１ａ，１１ｂとそれぞれ等距離に仮想面５をおき、仮想面５のＸ線入射位置における接平面６を考える。スリットレンズ３は、図３と同様にして複数の反射基板１１間の全隙間に想定した複数の仮想面５の接平面６が、１本の直線で交わり、その線上にＸ線源１がある構成とする。このような関係にあるＸ線源１から発せられたＸ線２は、例えば反射基板１１ａと１１ｂの２面で反射しながら進んでいく。また、反射基板１１ｂの反射基板１１ａとは反対側に反射基板１１ｃが隣接しているとすると、隣接する反射基板１１ｂと１１ｃで構成された隙間でも同様に、入射したＸ線２が反射しながら進む。このため、反射基板１１ｂは両面でＸ線を反射する。すなわち、最外部に位置する２枚の反射基板１１を除き、中間部の反射基板１１は両面でＸ線を反射するものとなっている。

第４図に波長０．０７１ｎｍに対する石英板のＸ線の反射率を示す。横軸が視射角、縦軸が反射率である。視射角が０．５ｍｒａｄでは、反射率が９９．８％以上であり、５０回の反射で９０％以上透過することがわかる。また、第４図から分かるように、視射角が１．８ｍｒａｄで反射率が急激に減衰する。この視射角を臨界角とよびθｃで表わす。総ての接平面６は、共通の直線で交わるように構成されているが、接平面６の角度ずれが大きくなると、Ｘ線源１を見込む反射基板１１の角度がずれ、視射角が臨界角θｃより大きくなる、Ｘ線源１から発せられたＸ線２が反射しなくなる。そのため、全ての接平面６と光源１の距離Δｓは、

であることが好ましい。ここで、Ｌ₁はＸ線源１とスリットレンズ３の入口までの距離である。全ての反射基板１１が式２を満たすように、反射基板１１の角度ずれ及びスリットレンズ３とＸ線源１の位置関係が満たされていることが好ましい。

反射基板１１が一定の間隔ｇで重ねられたスリットレンズ３から出射されるＸ線２の放射角θ_outを求める。このようなスリットレンズ３は、楔形の厚さの反射基板１１を積層することでつくることができる。反射基板１１で反射するＸ線２の接平面６と最大の視射角θｇ_maxは、

となる。ここで、ｓはＸ線源１の直径であり、Ｘ線源１の強度分布がガウシアン分布に近似できる場合、分散をσ²とするとｓ＝２σとすることができる。ｇは反射基板１１間の間隔である。但し、θｇ_maxは反射基板１１の臨界角θｃより小さいことが好ましい。

一方、スリットレンズ３のＸ線２の出射側（出口側）において、反射基板１１は平行になっている。つまり、反射基板１１の間の隙間内に、この隙間を構成する両側の反射基板１１と等距離に仮想面５（図３参照）をおいたとき、Ｘ線２の出射点における複数の仮想面５の接平面６が概略平行になっている。これにより、スリットレンズ３を透過してきたＸ線２の放射角θ_outは、

になる。反射基板１１はお互いに平行である必要があるが、その平行度Δがθ_outよりずれると、Ｘ線検出器４（図２参照）の画素にＸ線２が到達しなかったり、極端にＸ線照度が低い画素を生じたりする。そのため、全ての反射基板１１の平行度Δｐは、θ_outより小さいことが好ましく、式３と式４より、

を満たすことが好ましい。

次に、反射基板１１の一定の間隔が徐々に広がっていく場合、出射側のＸ線２の平行度を求める。簡単にするために、第５図に示すように、２枚の反射基板１１ａと１１ｂが、両者間の間隔が徐々に広がるように斜めに向き合わされた場合について考える。２枚のガラス薄板１１ａと１１ｂが角度θａをなす場合、点Ｐ₀における発散角θ₀（θ₀＋０．５×θａ＜θｃ）で反射基板１１ａに入射したＸ線は反射して、反射基板１１ｂの点Ｐ₁で反射するものとする。ここで、発散角を２枚の反射基板１１ａと１１ｂ間の等距離にある仮想面５とＸ線２のなす角とする。１回目の反射後の発散角θ₁は、

となる。従って、ｎ回目の反射後の角度θｎは、θ₀−ｎ×θａ＞０の範囲で、

となる。θｎ＜０．５×θａとなると、反射基板１１で反射しないため、発散角は変わらない。

また、やはり図５に示すように、反射基板１１ａと１１ｂの間の隙間のＸ線２の入口側の間隔をｇ₁、出口側の間隔をｇ₂とし、Ｘ線２の入り口と出口間の間隔［光軸１０（図２参照）方向の反射基板１１ａと１１ｂの長さ］をＬ₂とするとき、

である。

一方、反射基板１１が曲率持たない次元、即ち、紙面に垂直の方向の分解能Δｘは、

となり、スリットレンズ３とＸ線源１とＸ線検出器４の位置で決まる。なお、前記のとおり、ｓはＸ線源１の直径、Ｌ₁はＸ線源１とスリットレンズ３間の距離、Ｌ₃はスリットレンズ３の出口とＸ線検出器４の距離である。

以上説明したとおり、反射基板１１間が一定の間隔ｇとなったスリットレンズ３では、出射時のＸ線発散角は入射時のＸ線視射角に依存する。さらに、反射基板１１間の間隔がＸ線２の入り口側から出口側に向かって徐々に広がっていく場合、出射側のＸ線の平行度は、反射基板１１間の開き角によってきまる。ところが、図６に示すように、反射基板１１の一部（例えば反射点Ｐ₂近傍）撓みがあると、それ以降の視射角θ₃＞θ₀となり、再びθ₀に戻ることが無い。反射基板１１の一部に撓みがあると、Ｘ線２の放射角θ_outは、２×θ₀より大きくなって、解像力が下がってしまう。更に、撓み量が大きくθ₃＞θｃの場合、反射しなくなる。反射基板１１間の間隔が徐々に広がっていくスリットレンズ３においても、反射基板１１の一部に撓みがあると解像力が下がる。従って、いずれの形状においても、反射基板１１は緩やかに曲がって、所定の間隔で積層されていることが重要となる。そのため、本発明では、所定の間隔を確保するために、所定の高さのスペーサー１２（図１参照）をＸ線２の光路中に配置し、反射基板１１の撓み等の変形を防止する。

中央部のスペーサー１２はＸ線２の光路中におかれるため、Ｘ線２を減衰させる。そのため、中央部においては疎となる配置密度でスペーサー１２を挟み込むことが好ましい。また、スリットレンズ３の保持や形状維持のため、外側から力を加えて、その外形を固定しなければならない。しかしながら、力を加えると、スペーサー１２の密度が小さいと反射基板１１が撓んでしまう。そこで、図１に示すように、Ｘ線２の光路から外れた両側部のスペーサー１２の密度を増加させて、そこの位置の反射基板１１の積層体に力を加えて、スリットレンズ３全体の形状と反射基板１１間の間隔を所定の値に保つ。

次に、第２図に示すように、Ｘ線の光路をθ₀だけ偏向させる、透過率がもっとも高い反射基板１１の形状を求める。Ｎ回反射して主光線が発散角θinのＸ線が光軸１０に平行に出て行く場合を考える。図７に、波長０．０７１ｎｍにおける視射角と石英板の反射率の関係を示す。縦軸に反射率をとった。視射角θの反射率をＲ_θとし、反射率を視射角θの二次の項までで近似する。

視射角が大きくなると、反射率は非線形で下がる、即ち視射角に対する反射率曲線が上に凸なためＣ₂＞０である。縦軸に反射率をとった。反射基板１１間を反射する光路は図８（ａ）と（ｂ）の２つが考えられる。破線はＸ線反射点における反射基板１１の接平面である。まず、図８（ａ）の一面だけで透過する場合について検討する。第ｎ回目の視射角をθｎとすると、Ｎ回の反射率Ｒ_Nは、下記式１１で示される。

平均視射角をθ_aとすると、θ_n＝θ_a＋Δθ_nとし、更にθ_nの三次以上の項を無視すれば、

・・・（式１２）
となる。更に、

なので、

なる。Ｃ₂＞０なので、全てのｎに対して、Δθｎ＝０がＮ回の反射率Ｒ_Nをもっとも高くなる。結局、全て同じ視射角をもつ曲線、即ちＸ線の光軸方向の断面において、円弧形状をもつ反射基板１１がもっとも高い反射率をもつ。但し、その視射角θａは、

である。次に図８（ｂ）に示すように、隙間を構成する反射基板１１に交互に反射しながら進む場合について考える。反射基板１１ａと１１ｂの反射率をそれぞれ、Ｒ_θ2n-1とＲ_θ2nとすると、Ｎ回の反射率Ｒ_Nは、下記式１６で表わせる。

図８（ａ）の計算と同じようにして、Ｒ_θ2n-1＝一定でＲ_θ2n＝一定がもっとも高い反射率となる。即ち、円弧形状をもつ反射基板１１がもっとも高い反射率をもつ。結局、図８（ａ）と（ｂ）いずれの場合のスリットレンズ３も、反射基板１１が円弧形状である場合がもっとも高い透過率となる。

スリットレンズ３は、数十枚から数百枚の反射基板１１を積層しているため、全ての反射基板１１を円弧状にできない。そのため、最もＸ線２を曲げる角度の大きい外側付近の反射基板１１を円弧状にして、透過率を稼ぐことが望ましい。積層する反射基板１１の枚数が多いため、作製方法の容易性から、全ての反射基板１１について、同じ位置に同じ高さのスペーサー１２を配置することが好ましい。ここで、図９のように、反射基板１１のＸ線２の出口からスペーサー１２までの距離ｌ（ｚ軸方向の座標値を示す変数）と、反射基板１１の高さｈ（ｙ軸方向の座標値を示す変数）は、

ここで、Ｒは円弧の曲率で、

である。ここで、Ｎ枚の反射基板１１を重ねるとき、反射基板１１のピッチｐを、

のように決めれば、最外殻の反射基板１１が円弧状になる。このとき、外側の円弧にそった長さと、中心の反射基板１１のスペーサーの位置ずれが生じるが、そのずれの最大値ΔＬ₂₂は、

で表わせる。Ｌ₂＝１００ｍｍとｈ₂−ｈ₁＝２ｍｍとしてΔＬ₂₂＝２０μｍとなる。中心の反射基板１１を、最外殻の反射基板１１間の中心に設置するとして、スペーサー１２の大きさｗ（円柱状のスペーサーの場合では直径）を

とすれば、スペーサー１２に外力を加えても、反射基板１１が撓むことがない。

一方、スリットレンズ３を構成するＸ線の入射側（入口側）の反射基板１１の延長線上にＸ線源１があることが好ましい。そのため、外側の反射基板１１であっても、全光路が円弧ではなく、Ｘ線入口付近は直線であることが望ましい。例えば第９図のＬ₂の直線長さを有する反射基板１１で、長さＬ₂₂部分が円弧形状をなすようにスペーサー１２の高さを決め、Ｘ線入口付近の長さＬ₂₁部分は、円弧状の長さＬ₂₂の接線に沿った直線になるようにスペーサー１２の高さを決めることができる。本場合において、反射基板１１の長さＬ₂₁部分の傾きは、

になる。

＜第１の実施形態＞
第１の実施例について、図１、図９及び図１０を用いて説明する。Ｘ線源１から放射されたＸ線２は、反射基板１１間の隙間を反射しながら進む。反射基板１１が複数枚積層されてスリットレンズ３を構成している。反射基板１１間にはスペーサー１２が設けられており、反射基板１１間は所定の間隔を保っている。総ての反射基板１１間には、図１０（ａ），（ｂ）に示すスペーサー１２が挟み込まれている。ここで、反射基板１１は総て図１０（ａ）に示す形状をしている。図１０（ｂ）は、図１０（ａ）におけるＡ−Ａ断面である。Ｓ₁〜Ｓ₆はスペーサー１２で、その高さをＨ₁〜Ｈ₆、位置をｌ₁〜ｌ₆をとする。ｈ₁〜ｈ₄とｌ₁〜ｌ₄は式８を満たし、ｈ₄〜ｈ₆とｌ₄〜ｌ₆は式１４を満たすように作製されている。

さらに、Ｘ線の照射される領域は、Ｌｉｎｅ₁とＬｉｎｅ₂及び辺Ｅ₁₁とＥ₁₂で囲まれた領域である。その外側の領域１３にスペーサー１２を高密度に配置する。領域１３のスペーサー１２も、式１７、１９及び式２１を満たすように位置と高さが決められている。

図１０に示す反射基板１１を、Ｘ線の入口及び出口側の辺Ｅ１１及びＥ２１の縁が揃うように重ねる。これにより、図９及び図１０（ｂ）の様に、断面がｌ₁〜ｌ₄（Ｌ₂₂の領域）までが円弧、ｌ₄〜ｌ₆（Ｌ₂₁の領域）が直線で構成されたスリットレンズ３が構成される。スリットレンズ３の形状が維持されるように、領域１３の部分で上下から力を加えて、反射基板１１の積層体を挟み付けて保持する。

＜第２の実施形態＞
第２の実施例について、図１１を用いて説明する。本例は、Ｘ線の入口側及び出口側の辺Ｅ₁₁及びＥ₂₁が撓むことを防ぐものである。両辺Ｅ₁₁及びＥ₂₁は、片持ち梁構造のために撓みやすい。撓むとＸ線の反射率が下がる、場合によっては全く反射しない場合が発生する。反射基板１１が撓むと、反射率以外にも図６に示すように、視射角が変化し、スリットレンズ３から放出されるＸ線の平行度が悪化する。そのため、図１１に示すように、Ｘ線の入口及び出口側の辺Ｅ₁₁及びＥ₂₁に、辺Ｅ₁₁及びＥ₂₁にそれぞれ平行に、Ｘ線の透過を許容する、断面矩形の棒状のスペーサー１４を設ける。棒状のスペーサー１４はＸ線の光軸方向に数〜１００μｍの長さを有し、出入口を全部塞ぐように取り付けられる。高さは、式１７、１９及び２１に従って決められる。１００μｍの厚さのＳｉＯ₂は、波長０．０７ｎｍのＸ線を９０％以上透過するので、多少の光量減衰があるが、Ｘ線は一様に減衰するので照度むらを生じることはない。この様な反射基板１１を辺Ｅ₁₁及びＥ₂₁の縁が揃うように積層し、スリットレンズ３の形状が維持されるように、反射基板１１の積層方向に挟み付ける。挟み付けは、棒状のスペーサー１４が挟み込まれた入口及び出口側の領域を含めて、反射基板１１の積層体の四方の辺について行う。

＜第３の実施形態＞
本例はスリットレンズ３の作製法で、図１２に従って、本例のスリットレンズ３の作製法について述べる。スリットレンズ３を構成する各反射基板１１のスペーサー１２の形成位置はそれぞれ同じで、同じ反射基板１１において異なる位置に形成されたスペーサー１２は高さが異なる。また、各反射基板１１における対応する位置に形成されたスペーサー１２の高さは同じになっている。

ステップ１：露光等によって、反射基板１１上にスペーサー１２の形状をしたレジストパターンを形成する。スペーサー１２の高さに応じてレジストパターンを小さく設計しておく。このとき、図７の領域１３のスペーサー１２もＸ線の光路と同じ高さになるようにする。

ステップ２：エッチングよってスペーサー１２が形成されない部分の反射基板１１を一様に薄くし、スペーサー１２に対応する部分だけを残す。そのとき、小さいスペーサー１２は早期にレジストパターンが無くなるために、オーバーエッチされ、スペーサー１２天頂部がエッチングされ低くなる。

ステップ３：エッチングが終了後、辺Ｅ₁₁及びＥ²¹の縁が揃うようにして、式９と式１４に沿った形状の型に反射基板１１を積層していく。そのとき、領域１３のスペーサー１２間に光硬化性の接着剤を添加してもよい。

ステップ４：この様にして必要な枚数の反射基板１１を型に入れた後枠に取り付けて上下から力を加えて形成することで、所望の形状のスリットレンズ３が出来上がる。また、領域１３のスペーサー１２間に光硬化性の接着剤を充填した場合、光を照射して接着剤を硬化させて完成する。

＜第４の実施形態＞
以上の例はガラス板でＸ線を反射させたが、金属平板を使用してもよい。その場合、金属表面にカーボン膜や有機膜を形成して反射率を上げてもよい。更に、スペーサーを所定の厚さをもつ金属を射出させて形成してもよい。

本発明は、光源から発散されたＸ線の一次元方向成分を集光あるいは平行化させる光学素子に関するものである。特に、Ｘ線ＣＴに利用される光学素子である。

１：Ｘ線源、２：Ｘ線、３：スリットレンズ、４：Ｘ線検出器、５：反射基板と等距離に設置された仮想面、６：Ｘ線入射位置における仮想面の接平面、１１：反射基板、１２：スペーサー、１３：Ｘ線が反射しない領域、１４：スペーサー

Claims (8)

1. 複数の反射基板が間隙を開けて積層された積層構造をなし、該積層構造体の一側面である入口から前記間隙に入射したＸ線が、前記間隙を構成する二枚の反射基板で反射されて、前記積層構造体の一側面とは反対側の側面である出口から出射されるＸ線光学装置において、
   各反射基板の間に、前記隙間を確保するためのスペーサーが挟み込まれていることを特徴とするＸ線光学装置。
2. 前記スペーサーが、前記積層構造体の両側部において密で、中央部において疎となる配置密度で挟み込まれていることを特徴とする請求項１に記載のＸ線光学装置。
3. 前記スペーサーの配置密度が密な前記積層構造体の両側部が、前記反射基板の積層方向に挟み付けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載のＸ線光学装置。
4. Ｘ線の光軸方向の断面において、最外殻の反射基板の少なくとも一部が円弧状をなしていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載のＸ線光学装置。
5. 前記反射基板の前記入口及び出口側の辺に沿って、Ｘ線の透過を許容する棒状のスペーサーが挟み込まれていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載のＸ線光学装置。
6. 前記棒状のスペーサーが挟み込まれた前記入口及び出口側の領域が、前記反射基板の積層方向に挟み付けられていることを特徴とする請求項５に記載のＸ線光学装置。
7. 前記各隙間に挟み込まれた前記スペーサーの位置が同じで、対応する位置に挟み込まれた前記スペーサーの高さが同じであることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載のＸ線光学装置。
8. 前記スペーサーが、反射基板をエッチングすることで形成されていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載のＸ線光学装置。

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