JP2015028425A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6665589B2 (ja) * 2016-03-02 2020-03-13 オムロン株式会社 圧力センサチップ及び圧力センサ
JP6665588B2 (ja) * 2016-03-02 2020-03-13 オムロン株式会社 圧力センサ
EP3392633B1 (en) 2017-04-19 2019-12-11 Huba Control Ag Pressure transducer
JP7009857B2 (ja) * 2017-09-13 2022-01-26 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッド、液体噴射装置、及び、圧電デバイス
DE202018006884U1 (de) * 2017-11-14 2024-01-24 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Metallplatte zur Herstellung von Gasphasenabscheidungsmasken
CN109026630B (zh) * 2018-08-14 2024-01-26 青岛天工智造创新科技有限公司 压缩装置及其压缩方法
DE102018214634B3 (de) 2018-08-29 2019-09-12 Robert Bosch Gmbh Sensoreinrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Sensoreinrichtung
CN112867913A (zh) * 2018-10-10 2021-05-28 约阿内研究有限责任公司 压电传感器
CN111627723B (zh) * 2020-04-27 2021-08-17 清华大学 一种自匹配冲击幅值的自传感超级电容器及其制造方法
CN113211997B (zh) * 2021-04-21 2022-04-08 四川天邑康和通信股份有限公司 一种双并排蝶形引入光缆智能喷印生产工艺控制方法
CN113406147B (zh) * 2021-05-08 2022-11-29 中北大学 一种氢气敏感元件及制备方法
CN114279599A (zh) * 2021-12-27 2022-04-05 北京京东方技术开发有限公司 柔性压力传感器、柔性压力应变传感组件及压力检测方法
CN114551641B (zh) * 2022-02-10 2023-09-12 中国科学院上海技术物理研究所 一种物理隔离耦合应力的焦平面探测器热层结构
CN117722486B (zh) * 2024-02-07 2024-04-26 江苏凯同威工业装备科技有限公司 一种力矩传感器的扭矩传动装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005101973A2 (en) * 2004-04-27 2005-11-03 Tel Aviv University Future Technology Development L.P. 3-d microbatteries based on interlaced micro-container structures
FR2880197B1 (fr) * 2004-12-23 2007-02-02 Commissariat Energie Atomique Electrolyte structure pour microbatterie
JP5181413B2 (ja) * 2005-09-13 2013-04-10 日立電線株式会社 電気化学装置用電極、固体電解質／電極接合体及びその製造方法
JP2008078119A (ja) * 2006-08-25 2008-04-03 Ngk Insulators Ltd 全固体蓄電素子
JP5452898B2 (ja) * 2008-08-20 2014-03-26 積水化学工業株式会社 電極装置及びその製造方法
JP5510448B2 (ja) * 2009-03-18 2014-06-04 富士通株式会社 圧電発電装置
JP5572974B2 (ja) * 2009-03-24 2014-08-20 セイコーエプソン株式会社 固体二次電池の製造方法
US8912522B2 (en) * 2009-08-26 2014-12-16 University Of Maryland Nanodevice arrays for electrical energy storage, capture and management and method for their formation
JP2011004598A (ja) * 2010-09-03 2011-01-06 Seiko Epson Corp 圧電型発電機および圧電型発電機を用いた電子機器
JP2012104691A (ja) * 2010-11-11 2012-05-31 Nec Corp 振動発電デバイス

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