本発明の発明者らは、前記従来技術の課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、以
下の知見を得た。
すなわち、本発明者らは、エッチングによるGaN層の素子分離方法をより効率的に行うにあたり、GaN層のエッチングレートの向上と選択比の向上とを両立させることが有用であるとの知見を見出した。すなわち、GaN層のエッチングレートを向上させることで、生産性が向上するとともに、選択比を向上させることで、GaN層のエッチング形状をより安定化させることができる。このような生産性の向上とGaN層のエッチング形状の安定化を図ることにより、結果的として、より効率的なGaN層の素子分離を行うことができる。さらに本発明者らは、GaN層のエッチングレートの向上と選択比の向上を両立するためには、エッチング用のエッチングガスとして、BCl3とCH2F2を混合した混合ガスを用いることが有用であることを見出した。これらの知見に基づき、本発明の発明者らは本発明を想到するに至った。
以下に、本発明にかかる実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
図1は、本実施の形態にかかる素子分離方法のためのエッチングを実行可能な装置の一例として、誘導結合プラズマ(ICP;Inductively Coupled Plasma)型のドライエッチング装置1を示す。
ドライエッチング装置1は、基板2を収容するチャンバ(真空チャンバ)3を備える。チャンバ3は図示しない出入口を備え、当該出入口を通ってチャンバ3内に基板2が搬入出される。
チャンバ3の側壁には、ガス導入口3aおよび排気口3bが設けられている。チャンバ3は、ガス導入口3aを介して、エッチングガスを保有するエッチングガス源4に接続されている。これにより、エッチングガス源4からチャンバ3内へエッチングガスが供給可能である。本実施の形態におけるエッチングガス源4は、少なくともCH2F2(ジフルオロメタン)、BCl3(三塩化ホウ素)、Cl2(塩素)、及びAr(アルゴン)を保有している。
またチャンバ3は、排気口3bを介して、図示しない減圧機構に接続されている。チャンバ3内の空気は排気口3bを介して外部に排気されるとともに、減圧機構により所望の圧力に調整可能である。
チャンバ3の頂部は、石英などで形成された誘電体壁5により閉鎖されている。誘電体壁5の上方には、上部電極としてのアンテナ(プラズマ源)6が配置されている。アンテナ6は第1の高周波電源7Aに電気的に接続されている。
一方、チャンバ3内の下部側には、基板2を載置して保持するステージ8が配置されている。ステージ8は第2の高周波電源部7Bに電気的に接続されており、下部電極として機能する。
ステージ8の内部には、静電吸着用電極と冷却装置(ともに図示せず)とが内蔵されている。静電吸着用電極は、基板2をステージ8上に静電吸着する機能を有する。冷却装置は、ステージ8上の基板2を冷却する機能を有する。本実施の形態では、基板2の冷却用ガスとして例えばHe(ヘリウム)が用いられる。
コントローラ9は、上述したドライエッチング装置1が備えるそれぞれの構成部の動作を統括的に制御する。また、コントローラ9の制御によって、エッチングガス源4に保有されている複数種類のガスがチャンバ3内に供給される流量やそれぞれの混合比を調整することができる。
次に、ドライエッチング装置1が取り扱う基板2を図2に示す。本実施の形態における基板2は、サファイアから形成される。図2に示すように、基板2上には、GaN(ガリウムナイトライド)から形成されるGaN層10が配置される。
基板2の厚みは、例えば350−1300μmとしても良く、GaN層10の厚みは、例えば5−10μmとしても良い。
このようなGaN層10が配置された基板2に対するドライエッチング装置1を用いたエッチング処理の概要を以下で説明する。
図1に示すように、まず、基板2をチャンバ3内に搬入してステージ8の上面に載置する。次に、ステージ8内の静電吸着用電極に対して直流電圧を印加して、基板2をステージ8に静電吸着して固定する。続いて、エッチングガス源4からエッチングガスを供給するとともに、第1の高周波電源7Aから上部電極としてのアンテナ6に高周波電圧を印加することで、チャンバ3内にプラズマ(ICP)を発生させる。このプラズマによってエッチングガスがプラズマ化され、イオン成分とラジカル成分が発生する。一方で、アンテナ6への高周波電圧の印加と共に、第2の高周波電源7Bから下部電極としてのステージ8に高周波電圧(バイアス電圧)を印加する。これにより、ステージ8にバイアスが印加され、チャンバ3内のプラズマ化されたエッチングガスのイオン成分がステージ8上の基板2に吸い寄せられる(イオン入射)。吸い寄せられたプラズマ状のイオン成分と、プラズマ状のラジカル成分とによってステージ8上の基板2に対するエッチングが行われる。エッチング中は、減圧機構を用いてチャンバ3内の圧力を所定の圧力に保つとともに、冷却装置を用いて基板2を冷却している。
以上、ドライエッチング装置1を用いた基板2に対するエッチング処理の概要について説明したが、本実施の形態のドライエッチング装置1は、基板2に対するエッチング処理として、基板2上のGaN層10をエッチングして複数の素子へと分離する素子分離加工を実施することができる。
この素子分離方法のフローの一例を図3に示す。図3のフロー図に沿って実行される素子分離方法について、図4に示す基板2の断面図を用いて、以下で詳細に説明する。
最初に、ドライエッチング装置1のステージ8上の基板2に対して、マスクの塗布・形成を行う(ステップS1)。具体的には、図4(a)に示されるように、基板2上に配置されたGaN層10上に、有機系のレジストマスクなどから形成されるマスク11を塗布し、フォトリソグラフィー等により所望のパターン状に形成する。マスク11により、GaN層10が部分的に保護される。マスク11の厚みは、例えば5−10μmとしても良い。
次に、マスク11が形成された基板2上のGaN層10に対するエッチングを行う(ステップS2)。具体的には、エッチングガス源4からチャンバ3内へ、所定のエッチングガス(例えば、BCl3にCH2F2を添加した混合ガス)を供給して、GaN層10のエッチングを行う。エッチングガスによるエッチングを行うと、図4(b)に示すように、GaN層10のうちマスク11により保護されていない部分がエッチングされ、基板2上から除去される。これにより、GaN層10が複数の素子へと分離される。また、GaN層10だけでなくマスク11も同時にエッチングされるため、エッチング後のマスク11の高さはエッチング前(図4(a))に比べて低くなっている。
次に、GaN層10上のマスク11を除去する(ステップS3)。具体的には、エッチング後の基板2に対して所定のマスク除去工程を実施することにより、基板2上のGaN層10からマスク11のみを除去する。これにより、図4(c)に示すように、複数の素子に分離されたGaN層10が配置された基板2が完成する。
以上のように、図3のフロー図に沿ってドライエッチング装置1による素子分離加工を行うことで、基板2上のGaN層10を複数の素子へと分離することができる。
(実施例)
次に、上述したドライエッチング装置1を用いたGaN層10の素子分離方法に関する実施例および比較例について説明する。
以下の表1に示すように、ドライエッチング装置1を用いて、実験No.1−5で示す種々のエッチング条件で基板2上のGaN層10を素子分離するエッチングを実行した。
実験No.1−5では、Cl2とArを混合した混合ガスをエッチングガスとして用いるとともに、エッチングガス中におけるCl2の添加割合を変化させながら、基板2上のGaN層10に対するエッチングを行った。
実験No.1−5は比較例に相当する。実験No.1−5の具体的なエッチング条件は以下の通りである。
エッチングガス中におけるCl2の添加量は、実験No.1が25sccm、実験No.2が40sccm、実験No.3が50sccm、実験No.4が75sccm、実験No.5が100sccmである。
エッチングガス中におけるArの添加量は、実験No.1が175sccm、実験No.2が160sccm、実験No.3が150sccm、実験No.4が125sccm、実験No.5が100sccmである。
エッチングガス中におけるCl2の添加割合は、実験No.1が12.5%、実験No.2が20.0%、実験No.3が25.0%、実験No.4が37.5%、実験No.5が50.0%である。
チャンバ3内の圧力は実験No.1−5で1Paである。
チャンバ3内にプラズマ(ICP)を発生させるためのパワーであるICPパワーの電力密度(ICPパワー/チャンバ3の体積)は、実験No.1−5で0.024107(W/cm3)である。なお、ここでのICPパワーとは、ドライエッチング装置1における第1の高周波電源7Aからアンテナ6に印加される電力(W)のことであり、実験No.1−5では1350Wである。また、チャンバ3の体積は実験No.1−5で56000cm3である。
チャンバ3内でバイアスを発生させるためのパワーであるバイアスパワーの電力密度(バイアスパワー/ステージ8内の電極の電極面積)は、実験No.1−5で1.403162W/cm2である。なお、ここでのバイアスパワーとは、ドライエッチング装置1における第2の高周波電源7Bからステージ8内の電極に印加される電力(W)のことであり、実験No.1−5では1350Wである。また、ステージ8内の電極の電極面積は実験No.1−5で約962cm2である(電極は直径350mmの正円)。
ICPパワー(W)とバイアスパワー(W)の合計に対するバイアスパワーの比率であるバイアス比率は、実験No.1−5で0.5である。
チャンバ3内の温度は実験No.1−5で15℃である。
実験No.1―5について、GaN層10のエッチングレート(nm/min)、マスク11のエッチングレート(nm/min)、及びこれらの選択比を測定した。それぞれの測定結果は表1に記載の通りである。
選択比は、マスク11のエッチングレートに対するGaN層10のエッチングレートの比である。選択比を高くする、あるいはGaN層10のエッチングレートを高くすることにより、GaN層10のエッチング形状をより安定化することができる。ここでのエッチング形状の安定化とは、GaN層10がより垂直な方向に向かってエッチングされることや、エッチング後のGaN層10の形状がより均一になることなどを意味する。
図5に、実験No.1―5で得られたデータの分布図を示す。図5では、横軸にCl2の添加割合を、縦軸に2種類のエッチングレート(GaN層10のエッチングレート及びマスク11のエッチングレート)並びに選択比(GaN層10のエッチングレート/マスク11のエッチングレート)を示す。
図5に示すように、Cl2とArを混合した混合ガスをエッチングガスとして用いた場合には、Cl2の添加割合を20%前後に設定することにより、選択比が最も高くなることが分かる。一方で、Cl2の添加割合がいずれの値であっても選択比は2.0以上に達していない。また、Cl2の添加割合を上げるほど、GaN層10およびマスク11のエッチングレートが向上することが分かる。
次に、以下の表2に示すように、ドライエッチング装置1を用いて、実験No.6−11で示す種々のエッチング条件で基板2上のGaN層10を素子分離するエッチングを実行した。
実験No.6−11では、BCl3とCl2とを混合した混合ガスをエッチングガスとして用いるとともに、混合ガス中におけるBCl3の添加割合を変化させながら、基板2上のGaN層10に対するエッチングを行った。
実験No.6−11は比較例に相当する。実験No.6−11の具体的なエッチング条件は以下の通りである。
エッチングガス中におけるBCl3の添加量は、実験No.6が0sccm、実験No.7が24sccm、実験No.8が60sccm、実験No.9が100sccm、実験No.10が140sccm、実験No.11が200sccmである。
エッチングガス中におけるCl2の添加量は、実験No.6が200sccm、実験No.7が176sccm、実験No.8が140sccm、実験No.9が100sccm、実験No.10が60sccm、実験No.11が0sccmである。
エッチングガス中におけるBCl3の添加割合は、実験No.6が0.0%、実験No.7が12.0%、実験No.8が30.0%、実験No.9が50.0%、実験No.10が70.0%、実験No.11が100.0%である。
実験No.6−11におけるチャン3内の圧力、ICPパワーの電力密度、バイアスパワーの電力密度、バイアス比率およびチャンバ3内の温度(並びにICPパワー、バイアスパワー、チャンバ3の体積およびステージ8内の電極の電極面積)は、前述した実験No.1−5と同様である。
実験No.6―11について、GaN層10のエッチングレート(nm/min)、マスク11のエッチングレート(nm/min)、及びこれらの選択比を測定した。それぞれの測定結果は表2に記載の通りである。
図6に、実験No.6―11で得られたデータの分布図を示す。図6では、横軸にBCl3の添加割合を、縦軸に2種類のエッチングレート並びに選択比(GaN層10のエッチングレート/マスク11のエッチングレート)を示す。
図6に示すように、BCl3とCl2とを混合した混合ガスをエッチングガスとして用いた場合には、BCl3の添加割合が大きいほど高い選択比が得られるということが分かる。一方で、BCl3の添加割合がいずれの値であっても選択比は2.0以上に達していない。また、BCl3の添加割合が小さいほど、GaN層10およびマスク11のエッチングレートが向上することが分かる。
次に、以下の表3に示すように、ドライエッチング装置1を用いて、実験No.12、13で示す種々のエッチング条件で基板2上のGaN層10を素子分離するエッチングを実行した。
実験No.12、13では、CH2F2にCl2を混合した混合ガス(実験No.12)あるいはCH2F2にBCl3を混合した混合ガス(実験No.13)をエッチングガスとして用いて基板2上のGaN層10に対するエッチングを行った。
実験No.12は比較例に相当し、実験No.13は実施例に相当する。実験No.12、13の具体的なエッチング条件は以下の通りである。
エッチングガス中におけるBCl3の添加量は、実験No.12が0sccm、実験No.13が140sccmである。
エッチングガス中におけるCl2の添加量は、実験No.12が140sccm、実験No.13が0sccmである。
エッチングガス中におけるCH2F2の添加量は、実験No.12、13でともに45sccmである。
ICPパワーの電力密度は実験No.12、13で0.028571W/cm3である。なお、実験No.12、13ではICPパワーは1600Wである。
バイアスパワーの電力密度は実験No.12、13で0.675596W/cm2である。なお、実験No.12、13では、バイアスパワーは650Wである。
バイアス比率は実験No.12、13で0.288889である。
実験No.12、13におけるチャン3内の圧力およびチャンバ3内の温度(並びにチャンバ3の体積およびステージ8内の電極の電極面積)は、前述した実験No.1−11と同様である。
実験No.12、13について、GaN層10のエッチングレート(nm/min)、マスク11のエッチングレート(nm/min)、及びこれらの選択比を測定した。それぞれの測定結果は表3に記載の通りである。
図7に、実験No.12、13で得られたデータの分布図を示す。図7では、横軸にCH2F2に添加するガスの種類(Cl2又はBCl3)を、縦軸に2種類のエッチングレート並びに選択比(GaN層10のエッチングレート/マスク11のエッチングレート)を示す。
図7に示すように、CH2F2にCl2を混合した混合ガスをエッチングガスとして用いた場合には、2.0という選択比が得られないのに対し、CH2F2にBCl3を混合した混合ガスをエッチングガスとして用いた場合には、2.0以上という選択比が得ることができた。また、Cl2あるいはBCl3のいずれを混合する場合であっても、GaN層10のエッチングレートは概ね300nm/minとなっている。
エッチングガスにCH2F2を添加すると、レジストであるマスク11上にカーボンの重合膜が堆積することで、マスク11のエッチングが抑制される。これにより、マスク11のエッチングレートが下がり、選択比が向上するものと考えられる。一方で、今回の実験結果(特に、実験No.12、13)からは、Cl2にCH2F2を添加しても選択比を良好に向上させることができなかったのに対して、BCl3にCH2F2を添加した場合には選択比を良好に向上させることができた。
これには、エッチングガスにCl2を添加した場合の方がBCl3を添加した場合よりも、Clラジカルの発生量が多くなるという点が関係しているものと考えられる。
GaN層10のエッチングは、Clラジカルとイオン入射により促進される。Cl2を添加した場合にはClラジカルの発生が増加することにより、GaN層10を良好にエッチングできるが、その一方でマスク11も速い速度でエッチングされてしまう。カーボンの重合膜が付着する土台であるマスク11が速い速度で後退するため、CH2F2を添加してもカーボンの重合膜を効果的に堆積させることができない。結果として、カーボンの重合膜による十分なエッチング抑制効果が得られず、マスク11のエッチングレートを十分下げることができない。このような原理により選択比を良好に向上させることができないと推測される。
それに対して、エッチングガスにBCl3を添加した場合には、Clラジカルの発生が少なくなるため、マスク11はそれほど速い速度でエッチングされず、マスク11のエッチングレートは低下する。これにより、マスク11上に効果的にカーボンの重合膜を堆積させることができるため、マスク11のエッチングレートはさらに低くなる。一方で、Cl2を添加した場合に比べてClラジカルの発生が少ないものの、BCl3を添加することによるその他の要因によりGaN層10を良好にエッチングすることができるため、GaN層10のエッチングレートはそれほど低下しない。すなわち、BCl3を添加した場合はCl2を添加した場合に比べて、マスク11のエッチングレートが低下する割合の方がGaN層10のエッチングレートが低下する割合よりも大きくなり、これにより選択比を良好に向上させることができるものと考えられる。
以上、実験No.1―13の結果を考察した結果、本発明者らは、GaN層10の素子分離方法において、BCl3にCH2F2を添加した混合ガスを用いてGaN層10をエッチングすることで、GaN層10における高エッチングレートと高選択比とを両立できることを見出した。高エッチングレートを実現できれば生産性が向上し、高選択比を実現できればGaN層10のエッチング形状をより安定化することができる。結果的に、GaN層10の素子分離をより効率的に行うことができる。
また、高エッチングレートと高選択比とを両立することができれば、エッチングの際に用いるマスク11の厚みを小さくしながらも、エッチング後のGaN層10において所望のエッチング形状を得ることができる。よって、エッチングにかかるコストを低減することができる。
ここで、本発明者らは、BCl3にCH2F2を添加した混合ガスをエッチングガスとして用いたGaN層10の素子分離方法に関して、エッチングガス中におけるBCl3とCH2F2の添加割合などを変化させながら、さらなる実験を行った。
すなわち、以下の表4に示すように、ドライエッチング装置1を用いて、実験No.14−32で示す種々のエッチング条件でGaN層10を素子分離するエッチングを実行した。
実験No.14−31の具体的なエッチング条件は以下の通りである。
エッチングガス中におけるBCl3の添加量は、実験No.14−16、25、30が140sccm、実験No17−21、23、28が170sccm、実験No.22、27が185sccm、実験No.24、29が160sccm、実験No.26、31が120sccmである。
エッチングガス中におけるCH2F2の添加量は、実験No.14−16、25、30が45sccm、実験No17−21、23、28が15sccm、実験No.22、27が0sccm、実験No.24、29が25sccm、実験No.26、31が65sccmである。
エッチングガス中におけるCH2F2の添加割合は、実験No.14−16、25、30が24.3%、実験No17−21、23、28が8,1%、実験No.22、27が0%、実験No.24、29が13.5%、実験No.26、31が35.1%である。
ICPパワーの電力密度は、実験No.14−16、18、22−26で0.028571W/cm3、実験No.17で0.032143W/cm3、実験No.19、27−31で0.025893W/cm3、実験No.20で0.024107W/cm3、実験No.21で0.019643W/cm3である。なお、実験No.14−16、18、22−26では、ICPパワーは1600W、実験No.17では、ICPパワーは1800W、実験No.19、27−31では、ICPパワーは1450W、実験No.20では、ICPパワーは1350W、実験No.21では、ICPパワーは1100Wである。
バイアスパワーの電力密度は、実験No.14で0.467721W/cm2、実験No.15で0.675596W/cm2、実験No.16、18、22−26で1.195286W/cm2、実験No.17で0.98741W/cm2、実験No.19で1.351193W/cm2、実験No.20で1.455131W/cm2、実験No.21で1.714976W/cm2である。なお、実験No.14では、バイアスパワーは450W、実験No.15では、バイアスパワーは650W、実験No.16、18、22−26では、バイアスパワーは1150W、実験No.17では、バイアスパワーは950W、実験No.19、27−31では、バイアスパワーは1300W、実験No.20では、バイアスパワーは1400W、実験No.21では、バイアスパワーは1650Wである。
バイアス比率は、実験No.14で0.220、実験No.15で0.289、実験No.16、18、22−26で0.418、実験No.17で0.345、実験No.19、27−31で0.473、実験No.20で0.509、実験No.21で0.600である。
実験No.14−31におけるチャン3内の圧力およびチャンバ3内の温度(並びにチャンバ3の体積およびステージ8内の電極の電極面積)は、前述した実験No.1−13と同様である。
実験No.14―31について、GaN層10のエッチングレート(nm/min)、マスク11のエッチングレート(nm/min)、及びこれらの選択比を測定した。それぞれの測定結果は表4に記載の通りである。
実験No.14−16で得られたデータの分布図を図8に、実験No.17−21で得られたデータの分布図を図9に、実験No.22−26で得られたデータの分布図を図10に、実験No.27−31で得られたデータの分布図を図11に示す。
図8では、横軸にバイアスパワーの電力密度を、縦軸に2種類のエッチングレートと選択比を示す。図9では、横軸にバイアス比率を、縦軸に2種類のエッチングレートと選択比を示す。図10では、横軸にCH2F2の添加割合を、縦軸に2種類のエッチングレートと選択比を示す。図11では、横軸にCH2F2の添加割合を、縦軸に2種類のエッチングレートと選択比を示す。図8−11における選択比とは、GaN層10のエッチングレート/マスク11のエッチングレートである。
図9に示される結果より、バイアス比率が概ね0.37−0.55の範囲内(図9の領域A1に相当)であれば、GaN層10のエッチングレートが300以上かつ選択比が2以上となり、好ましい範囲にあることがわかる。さらに、バイアス比率が概ね0.46−0.51の範囲内(図9の領域A2に相当)であれば、GaN層10のエッチングレートが350nm/min以上かつ選択比が3以上となり、より好ましい範囲にあることがわかる。
図10に示される結果より、バイアス比率が0.418の場合には、CH2F2の添加割合が概ね4.0%〜35.1%の範囲内(図10の領域A3に相当)であれば、GaN層10のエッチングレートが300以上かつ選択比が2以上と、好ましい範囲にあることがわかる。また同様に、CH2F2の添加割合が概ね11.0%〜35.1%の範囲内(図10の領域A4に相当)であれば、GaN層10のエッチングレートが350以上かつ選択比が3以上と、より好ましい範囲にあることがわかる。
図11に示される結果より、バイアス比率が0.473の場合には、CH2F2の添加割合が概ね2.0%〜35.1%の範囲内(図11の領域A5に相当)であれば、GaN層10のエッチングレートが300以上かつ選択比が2以上と、好ましい範囲にあることがわかる。また同様に、CH2F2の添加割合が概ね8.0%〜35.1%の範囲内(図11の領域A6に相当)であれば、GaN層10のエッチングレートが350以上かつ選択比が3以上と、より好ましい範囲にあることがわかる。
以上、図9―11に示される結果を考察した結果、本発明者らは、BCl3にCH2F2を添加した混合ガスをエッチングガスとして用いたGaN層10の素子分離方法において、バイアス比率とCH2F2の添加割合、それぞれ2つの値を所定の範囲内に設定することで、GaN層10のエッチングレートと選択比をさらに向上させることができることを見出した。
今回の実験結果から、エッチングガスとしてCH2F2にBCl3を添加したものを用いることで、GaN層10の高エッチングレートを維持したまま高選択比を得られることができたが、CH2F2の添加割合を上げると選択比は高くなる一方で、チャンバ3内部のデポジション(堆積物)も多くなる。デポジションが増えると、チャンバ3の内壁などからデポジションが剥がれることによりパーティクルなどが発生したり、ドライエッチング装置1の排気配管などが詰まる可能性がある。これを防ぐためには、定期的なドライクリーニングを行うかあるいはチャンバ3を大気開放してウェットメンテナンスを行う必要がある。しかしながら、ドライクリーニングおよびウェットメンテナンスのいずれの方法であってもドライエッチング装置1の稼働率が下がってしまう。
これより本発明者らは、メンテナンス性の向上、GaN層10の高エッチングレート及び高選択比を全て両立させるという更なる課題を見出し、その課題の解決に関して鋭意検討を行った。その結果、前記課題を解決するためには、GaN層10のエッチングレートが下がらない範囲でバイアス比率を高くするとともに、そのバイアス比率において、必要な選択比を上回るようにCH2F2の添加割合を最低限の割合以上に設定することが有効であることを見出した。なおこの場合には、CH2F2の添加割合を、最低限の割合から少しマージンを保った割合に設定するようにしても良い。
そこで、実験No.14−31におけるバイアス比率とCH2F2の添加割合の関係を図12に示す。
図12では、横軸にバイアス比率を、縦軸にCH2F2の添加割合を示す。
図12に示すように、バイアス比率は概ね0.37−0.55の範囲内(図12の領域A7に相当)が好ましく、概ね0.46−0.51の範囲内(図12の領域A8に相当)がより好ましい。
図12に示すように、CH2F2の添加割合が多いと、GaN層10のエッチングレートや選択比を向上させやすくなるが、CH2F2がデポジションとして残存することを考慮すると、CH2F2の添加割合は所定の上限値以下であることが好ましい。一方で、GaN層10の高エッチングレートと高選択比との両立が好ましいことを考慮すると、CH2F2の添加割合は所定の下限値以上であることが好ましい。
以上を踏まえ、本発明者らは各種実験の結果、CH2F2の添加割合の実用上の好ましい範囲が概ね7%−35.1%(図12の領域A9に相当)であることを見出した。また、CH2F2の添加割合のより好ましい範囲は、図12に示される結果より概ね8%―13.5%(図12の領域A10に相当)とすることができる。
上述したように、本実施の形態の実施例にかかるGaN層10の素子分離方法によれば、エッチングガス中におけるCH2F2の添加割合を7%以上35.1%以下として、GaN層10に対するエッチングを行い、GaN層10のエッチングレートは300nm/min以上とする。これにより、GaN層10のエッチングレートと選択比をより向上させることができる。
また、本実施の形態の実施例にかかるGaN層10の素子分離方法によれば、エッチングガス中におけるCH2F2の添加割合を8%以上13.5%以下として、GaN層10に対するエッチングを行う。これにより、GaN層10のエッチングレートと選択比をより向上させることができる。
また、本実施の形態の実施例にかかるGaN層10の素子分離方法によれば、エッチング時に基板2に印加されるバイアスを発生させるための電力をA(W)、エッチング時に基板2を収容するチャンバ3内にプラズマを発生させるための電力をB(W)としたときに、A/(A+B)の値を0.37以上0.55以下としながら、GaN層10に対するエッチングを行い、GaN層10のエッチングレートは300nm/min以上である。これにより、GaN層10のエッチングレートと選択比をより向上させることができる。
また、本実施の形態の実施例にかかるGaN層10の素子分離方法によれば、A/(A+B)の値を0.46以上0.51以下としながら、GaN層10に対するエッチングを行う。これにより、GaN層10のエッチングレートと選択比をより向上させることができる。
なお、本実施の形態の実施例では、BCl3とCH2F2のみを混合した混合ガスを用いる場合について説明したが、混合ガスにはこれら以外のガスが含まれていても良く、BCl3が主体のガス(例えば、BCl3を含む割合が80%以上)にCH2F2を混合した混合ガスであれば、上述した効果と同様の効果を奏することができる。
なお、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、その他種々の態様で実施できる。例えば、本実施の形態では、基板2がサファイアにより形成される場合について説明したが、このような場合に限らず例えば、Si(シリコン)、SiC(炭化シリコン)、GaNなど、サファイア以外の材料により基板2が形成されも良い。
また、本実施の形態では、基板2とGaN層10とを区別する場合について説明したが、このような場合に限らず例えば、GaN層10が基板2の一部であるものとして取り扱っても良い。
また、本実施の形態では、基板2上にGaN層10が直接的に配置される場合について説明したが、このような場合に限らず例えば、基板2とGaN層10との間に別の層(バッファ層など)が配置されても良い。
なお、上記様々な実施の形態のうちの任意の実施の形態を適宜組み合わせることにより、それぞれの有する効果を奏するようにすることができる。