JP2015024542A - Surface protective film and optical component with surface protective film affixed - Google Patents

Surface protective film and optical component with surface protective film affixed Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a surface protective film that gives little contamination to an adherend and shows no change in low contamination property to an adherend with lapse of time, and that has excellent peeling antistatic performance without degradation with time, and to provide an optical component using the surface protective film.SOLUTION: A surface protective film 10 includes an adhesive layer 2 formed on one surface of a base film 1 comprising a resin having transparency, and a release film 5 having a release agent layer 4 laminated on the adhesive layer 2. The release film 5 includes the release agent layer 4 formed of a resin composition containing a release agent essentially comprising dimethyl polysiloxane, a silicone compound that is liquid at 20°C, and an ionic compound having a melting point of 30 to 80°C, on one surface of a resin film 3. The adhesive layer 2 is an acrylic adhesive layer.

Description

本発明は、偏光板、位相差板、ディスプレイ用のレンズフィルムなどの光学部品（以下、光学用フィルムと称する場合もある。）の表面に貼合される、表面保護フィルムに関する。さらに詳細には、被着体に対する汚染が少なく、且つ、経時劣化しないで優れた剥離帯電防止性能を有する表面保護フィルム、及びそれが貼合された光学部品を提供するものである。   The present invention relates to a surface protective film that is bonded to the surface of an optical component (hereinafter also referred to as an optical film) such as a polarizing plate, a retardation plate, and a lens film for display. More specifically, the present invention provides a surface protective film having excellent anti-peeling performance without causing deterioration with time and less contamination of the adherend, and an optical component on which the surface protective film is bonded.

偏光板、位相差板、ディスプレイ用のレンズフィルム、反射防止フィルム、ハードコートフィルム、タッチパネル用透明導電性フィルム等の光学用フィルム、及びそれを用いたディスプレイなどの光学製品を製造、搬送する際には、該光学用フィルムの表面に表面保護フィルムを貼合して、後工程における表面の汚れや傷付きを防止することがなされている。製品である光学用フィルムの外観検査は、表面保護フィルムを剥がして、再び、貼合する手間を省いて作業効率を高めるため、表面保護フィルムを光学用フィルムに貼合したまま行うこともある。
従来から、基材フィルムの片面に、粘着剤層を設けた表面保護フィルムが、光学製品の製造工程において、傷や汚れの付着を防止するために、一般的に使用されている。表面保護フィルムは、微粘着力の粘着剤層を介して光学用フィルムに貼合される。粘着剤層を微粘着力とするのは、使用済みの表面保護フィルムを光学用フィルムの表面から剥離して取り除くときに、容易に剥離でき、且つ、粘着剤が被着体である製品の光学用フィルムに付着して残留しないようにする（いわゆる、糊残りの発生を防ぐ）ためである。 When manufacturing and transporting optical products such as polarizing plates, retardation plates, lens films for displays, antireflection films, hard coat films, transparent conductive films for touch panels, and displays using the same. In this method, a surface protective film is bonded to the surface of the optical film to prevent the surface from being soiled or scratched in the subsequent step. The appearance inspection of the optical film, which is a product, may be performed while the surface protective film is bonded to the optical film in order to remove the trouble of bonding the surface protective film and increase the work efficiency again.
Conventionally, a surface protective film provided with a pressure-sensitive adhesive layer on one surface of a base film is generally used in order to prevent adhesion of scratches and dirt in the manufacturing process of optical products. The surface protective film is bonded to the optical film via a pressure-sensitive adhesive layer. The adhesive layer has a slight adhesive strength because it can be easily peeled off when the used surface protection film is removed from the surface of the optical film and the adhesive is an adherend. This is to prevent the adhesive film from adhering and remaining (preventing the occurrence of so-called adhesive residue).

近年、液晶ディスプレイパネルの生産工程において、光学用フィルムの上に貼合された表面保護フィルムを、剥離して取り除くときに発生する剥離帯電圧により、液晶ディスプレイの表示画面を制御するための、ドライバーＩＣ等の回路部品が破壊される現象や、液晶分子の配向が損傷する現象が、発生件数は少ないながらも起きている。
また、液晶ディスプレイパネルの消費電力を低減させるため、液晶材料の駆動電圧が低くなってきており、これに伴って、ドライバーＩＣの破壊電圧も低くなっている。最近では、剥離帯電圧を＋０．７ｋＶ〜−０．７ｋＶの範囲内にすることが求められてきている。
このため、表面保護フィルムを、被着体である光学用フィルムから剥離する時に、剥離帯電圧が高いことによる不具合を防止するため、剥離帯電圧を低く抑えるための帯電防止剤を含む粘着剤層を用いた表面保護フィルムが、提案されている。 In recent years, in a liquid crystal display panel production process, a driver for controlling the display screen of a liquid crystal display by means of a stripping voltage generated when the surface protective film bonded on the optical film is peeled off and removed. A phenomenon in which circuit components such as an IC are destroyed and a phenomenon in which the alignment of liquid crystal molecules is damaged occur although the number of occurrences is small.
In addition, in order to reduce the power consumption of the liquid crystal display panel, the driving voltage of the liquid crystal material has been lowered, and along with this, the breakdown voltage of the driver IC has also been lowered. Recently, it has been required to set the peeling band voltage within the range of +0.7 kV to -0.7 kV.
Therefore, when the surface protective film is peeled off from the optical film as the adherend, an adhesive layer containing an antistatic agent for suppressing the peeling voltage is kept low in order to prevent problems caused by a high peeling voltage. A surface protective film using a material has been proposed.

例えば、特許文献１には、アルキルトリメチルアンモニウム塩、水酸基含有アクリル系ポリマー、ポリイソシアネートからなる粘着剤を用いた、表面保護フィルムが開示されている。
また、特許文献２には、イオン性液体と酸価が１．０以下のアクリルポリマーからなる粘着剤組成物、及びそれを用いた粘着シート類が開示されている。
また、特許文献３には、アクリルポリマー、ポリエーテルポリオール化合物、アニオン吸着性化合物により処理したアルカリ金属塩からなる粘着組成物、及びそれを用いた表面保護フィルムが開示されている。
また、特許文献４には、イオン性液体、アルカリ金属塩、ガラス転移温度０℃以下のポリマーからなる粘着剤組成物、及びそれを用いた表面保護フィルムが開示されている。
また、特許文献５，６には、表面保護フィルムの粘着剤層の中に、ポリエーテル変性シリコーンを混合することが示されている。 For example, Patent Document 1 discloses a surface protective film using an adhesive made of an alkyltrimethylammonium salt, a hydroxyl group-containing acrylic polymer, and a polyisocyanate.
Patent Document 2 discloses a pressure-sensitive adhesive composition comprising an ionic liquid and an acrylic polymer having an acid value of 1.0 or less, and a pressure-sensitive adhesive sheet using the same.
Patent Document 3 discloses an adhesive composition composed of an alkali metal salt treated with an acrylic polymer, a polyether polyol compound, an anion adsorbing compound, and a surface protective film using the same.
Patent Document 4 discloses an adhesive composition comprising an ionic liquid, an alkali metal salt, a polymer having a glass transition temperature of 0 ° C. or less, and a surface protective film using the same.
Patent Documents 5 and 6 show that polyether-modified silicone is mixed in the pressure-sensitive adhesive layer of the surface protective film.

特開２００５−１３１９５７号公報JP 2005-131957 A 特開２００５−３３０４６４号公報Japanese Patent Laying-Open No. 2005-330464 特開２００５−３１４４７６号公報JP 2005-314476 A 特開２００６−１５２２３５号公報JP 2006-152235 A 特開２００９−２７５１２８号公報JP 2009-275128 A 特許第４５３７４５０号公報Japanese Patent No. 4537450

上記の特許文献１〜４では、粘着剤層の内部に帯電防止剤が添加されているが、粘着剤層の厚みが厚くなる程、また、経過時間が経つにつれて、表面保護フィルムの貼合された被着体に対して、粘着剤層から被着体へ移行する帯電防止剤の量が多くなる。また、ＬＲ（Ｌｏｗ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅ）偏光板やＡＧ（Ａｎｔｉ Ｇｌａｒｅ）−ＬＲ偏光板などの光学用フィルムでは、光学用フィルムの表面が、シリコーン化合物やフッ素化合物などで防汚染処理されているため、このような光学用フィルムに使用する表面保護フィルムを、被着体である光学用フィルムから剥離する時の剥離帯電圧が高くなる。   In the above Patent Documents 1 to 4, an antistatic agent is added to the inside of the pressure-sensitive adhesive layer. However, as the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer increases and the elapsed time passes, the surface protective film is bonded. The amount of the antistatic agent transferred from the pressure-sensitive adhesive layer to the adherend increases with respect to the adherend. In addition, in an optical film such as an LR (Low Reflective) polarizing plate or an AG (Anti Glare) -LR polarizing plate, the surface of the optical film is antifouling treated with a silicone compound or a fluorine compound. When the surface protective film used for such an optical film is peeled off from the optical film that is the adherend, the peeling voltage increases.

また、特許文献５，６に記載の、粘着剤層の中にポリエーテル変性シリコーンを混合した場合には、表面保護フィルムの粘着力を微調整することが難しい。また、粘着剤層内に、ポリエーテル変性シリコーンを混ぜているため、粘着剤組成物を基材フィルムの上に塗工・乾燥する条件が変化すると、表面保護フィルムの形成された粘着剤層の表面の特性が、微妙に変化する。さらに、光学用フィルムの表面を保護するという観点から、粘着剤層の厚さを極端に薄くすることができない。そのため、粘着剤層の厚みに応じて、粘着剤層内に混ぜるポリエーテル変性シリコーンの添加量を増やす必要があり、結果的に、被着体表面を汚染し易くなり、経時での粘着力や被着体に対する汚染性が変化する。   In addition, when polyether-modified silicone is mixed in the pressure-sensitive adhesive layer described in Patent Documents 5 and 6, it is difficult to finely adjust the pressure-sensitive adhesive force of the surface protective film. In addition, since polyether-modified silicone is mixed in the pressure-sensitive adhesive layer, when the conditions for applying and drying the pressure-sensitive adhesive composition on the base film change, the pressure-sensitive adhesive layer on which the surface protective film is formed is changed. The surface characteristics change slightly. Furthermore, from the viewpoint of protecting the surface of the optical film, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer cannot be extremely reduced. Therefore, it is necessary to increase the amount of polyether-modified silicone added in the pressure-sensitive adhesive layer according to the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer. As a result, the surface of the adherend is easily contaminated, and the adhesive strength over time is increased. Contamination to the adherend changes.

近年、３Ｄディスプレイ（立体視ディスプレイ）の普及に伴い、偏光板等の光学用フィルムの表面にＦＰＲ（Ｆｉｌｍ Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｒｅｔａｒｄｅｒ）フィルムを貼合したものがある。偏光板等の光学用フィルムの表面に貼合されていた表面保護フィルムを剥がした後に、ＦＰＲフィルムが貼合される。しかし、偏光板等の光学用フィルムの表面が、表面保護フィルムに使用している粘着剤や帯電防止剤で汚染されていると、ＦＰＲフィルムが接着し難いという問題がある。このため、当該用途に用いる表面保護フィルムには、被着体に対する汚染の少ないものが求められている。   In recent years, with the widespread use of 3D displays (stereoscopic displays), there are films in which an FPR (Film Patterned Retarder) film is bonded to the surface of an optical film such as a polarizing plate. After peeling off the surface protective film bonded to the surface of the optical film such as a polarizing plate, the FPR film is bonded. However, if the surface of an optical film such as a polarizing plate is contaminated with the pressure-sensitive adhesive or antistatic agent used in the surface protective film, there is a problem that the FPR film is difficult to adhere. For this reason, the surface protection film used for the said use is a thing with little contamination with respect to a to-be-adhered body.

一方、いくつかの液晶パネルメーカーにおいては、表面保護フィルムの被着体に対する汚染性の評価方法として、偏光板等の光学用フィルムに貼合されている表面保護フィルムを一度剥がし、気泡を混入させた状態で再貼合したものを所定条件で加熱処理し、その後、表面保護フィルムを剥がして被着体の表面を観察する方法が採用されている。このような評価方法では、被着体の表面汚染が微量であっても、気泡を混入させた部分と、表面保護フィルムの粘着剤が接していた部分とで、被着体の表面汚染の差があると、気泡の跡（気泡ジミと言うこともある）として残る。そのため、被着体の表面に対する汚染性の評価方法としては、非常に厳しい評価方法となる。近年、こうした厳しい評価方法による判定の結果でも、被着体の表面に対する汚染性に問題がない表面保護フィルムが求められている。しかし従来から提案されている、帯電防止剤を含有する粘着剤層を用いた表面保護フィルムでは、当該要求をクリアするのが難しい状況にあった。   On the other hand, in some liquid crystal panel manufacturers, as a method for evaluating the contamination of the adherend of the surface protective film, the surface protective film bonded to the optical film such as a polarizing plate is peeled off once and air bubbles are mixed in. In this state, a method is employed in which the re-bonded material is heat-treated under predetermined conditions, and then the surface protective film is peeled off to observe the surface of the adherend. In such an evaluation method, even if the surface contamination of the adherend is very small, the difference in surface contamination of the adherend between the portion where the bubbles are mixed and the portion where the adhesive of the surface protection film is in contact If there is, it remains as a trace of bubbles (sometimes called bubble bubbles). Therefore, it is a very strict evaluation method as a method for evaluating the contamination on the surface of the adherend. In recent years, there has been a demand for a surface protective film that does not have a problem of contamination on the surface of an adherend even as a result of such a strict evaluation method. However, it has been difficult for the surface protective film using a pressure-sensitive adhesive layer containing an antistatic agent to meet the requirements.

このため、光学用フィルムに使用する表面保護フィルムであって、被着体に対する汚染が非常に少なく、かつ、経時でも被着体に対する汚染性が変化しない表面保護フィルムで、かつ、表面保護フィルムを剥離する時の剥離帯電圧も剥離帯電圧を低く抑えた表面保護フィルムが求められている。   For this reason, it is a surface protective film used for an optical film, and is a surface protective film that has very little contamination to the adherend and that does not change the contamination of the adherend over time. There is a demand for a surface protective film in which the peeling voltage at the time of peeling is kept low.

本発明者らは、この課題について鋭意検討を行なった。
被着体に対する汚染が少なく、かつ汚染性の経時変化も少なくするためには、被着体を汚染していると推測される帯電防止成分を減量する必要がある。しかし、帯電防止成分を減量した場合には、表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、剥離帯電圧が高くなってしまう。本発明者らは、帯電防止成分の絶対量を増加しないで、表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、剥離帯電圧を低く抑える方法について検討した。
その結果、粘着剤の中に、帯電防止剤を添加し混ぜて粘着剤層を形成するのではなく、粘着剤組成物を塗工・乾燥して粘着剤層を積層した後に、粘着剤層の表面に、適量の帯電防止成分を付与することにより、表面保護フィルムを、被着体である光学用フィルムから剥離する時の、剥離帯電圧を低く抑えられることを見出し、本発明を完成した。 The present inventors have intensively studied this problem.
In order to reduce the contamination of the adherend and reduce the change in contamination with time, it is necessary to reduce the amount of the antistatic component presumed to contaminate the adherend. However, when the antistatic component is reduced, the stripping voltage when the surface protective film is stripped from the adherend becomes high. The inventors of the present invention have studied a method for suppressing the peeling voltage when peeling the surface protective film from the adherend without increasing the absolute amount of the antistatic component.
As a result, instead of adding an antistatic agent to the adhesive and mixing it to form an adhesive layer, the adhesive composition is applied and dried to laminate the adhesive layer. The inventors have found that by applying an appropriate amount of an antistatic component to the surface, it is possible to suppress the peeling voltage when the surface protective film is peeled off from the optical film as the adherend, and the present invention has been completed.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、被着体に対する汚染が少なく、かつ、経時しても被着体に対する低汚染性が変わらない表面保護フィルムであって、且つ、経時劣化しないで優れた剥離帯電防止性能を有する表面保護フィルム、及びそれを用いた光学部品を提供することを課題とする。
また、ＬＲ偏光板やＡＧ−ＬＲ偏光板などの、表面がシリコーン化合物やフッ素化合物などで防汚染処理してある光学用フィルムに対しても、剥離帯電圧を低く抑えられる表面保護フィルムを提供することを課題とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and is a surface protective film that is less contaminated to the adherend and that does not change the low contamination property to the adherend even with lapse of time. It is an object of the present invention to provide a surface protective film having excellent peeling antistatic performance without deterioration and an optical component using the same.
Also provided is a surface protective film that can keep the stripping voltage low even for optical films such as LR polarizing plates and AG-LR polarizing plates whose surfaces are antifouling treated with silicone compounds or fluorine compounds. This is the issue.

上記の課題を解決するため、本発明の表面保護フィルムは、粘着剤組成物を塗工・乾燥して粘着剤層を積層した後に、粘着剤層の表面に適量の２０℃において液体のシリコーン系化合物および帯電防止剤を付与することにより、被着体に対する汚染性を低く抑えた上、被着体である光学用フィルムから剥離する時の、剥離帯電圧を低く抑えることを技術思想としている。   In order to solve the above-mentioned problems, the surface protective film of the present invention is a silicone-based liquid at 20 ° C. in an appropriate amount on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer after the pressure-sensitive adhesive composition is applied and dried to laminate the pressure-sensitive adhesive layer. The technical idea is that the compound and the antistatic agent are applied to suppress the contamination of the adherend to a low level, and to suppress the stripping voltage when peeling from the optical film as the adherend.

上記の課題を解決するため、本発明は、透明性を有する樹脂からなる基材フィルムの片面に、粘着剤層が形成されてなり、該粘着剤層の上に、剥離剤層を有する剥離フィルムが貼合された表面保護フィルムにおいて、前記剥離フィルムが、樹脂フィルムの片面に、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、２０℃において液体のシリコーン系化合物と、融点が３０〜８０℃であるイオン性化合物とを含む樹脂組成物により前記剥離剤層が形成されてなり、前記粘着剤層がアクリル系粘着剤層であることを特徴とする表面保護フィルムを提供する。   In order to solve the above problems, the present invention provides a release film having a pressure-sensitive adhesive layer formed on one side of a base film made of a transparent resin, and having a release layer on the pressure-sensitive adhesive layer. In the surface protective film in which is attached, the release film is a release agent mainly composed of dimethylpolysiloxane on one side of the resin film, a silicone compound that is liquid at 20 ° C, and a melting point of 30 to 80 ° C. Provided is a surface protective film, wherein the release agent layer is formed of a resin composition containing a certain ionic compound, and the pressure-sensitive adhesive layer is an acrylic pressure-sensitive adhesive layer.

また、前記シリコーン系化合物が、ポリエーテル変性シリコーンであることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the said silicone type compound is a polyether modified silicone.

また、前記アクリル系粘着剤層が、（メタ）アクリレート共重合体を架橋させてなることが好ましい。   The acrylic pressure-sensitive adhesive layer is preferably formed by crosslinking a (meth) acrylate copolymer.

また、前記剥離フィルムの前記アクリル系粘着剤層からの剥離力が、０．２Ｎ／５０ｍｍ以下であることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the peeling force from the said acrylic adhesive layer of the said peeling film is 0.2 N / 50mm or less.

また、本発明は、上記の表面保護フィルムが貼合されてなる光学部品を提供する。   Moreover, this invention provides the optical component formed by bonding said surface protection film.

本発明の表面保護フィルムは、被着体に対する汚染が少なく、経時しても被着体に対する低汚染性が変わらない。また、本発明によれば、ＬＲ偏光板やＡＧ−ＬＲ偏光板などの、被着体の表面が、シリコーン化合物やフッ素化合物などで防汚染処理してある光学用フィルムであっても、表面保護フィルムを、被着体から剥離する時に発生する剥離帯電圧を低く抑えることができ、経時劣化しないで優れた剥離帯電防止性能を有する表面保護フィルム、及びそれを用いた光学部品を提供できる。
本発明の表面保護フィルムによれば、光学用フィルムの表面を確実に保護することができることから、生産性の向上と歩留まりの向上を図ることができる。 The surface protective film of the present invention has little contamination on the adherend, and the low contamination on the adherend does not change over time. In addition, according to the present invention, even if the surface of an adherend such as an LR polarizing plate or an AG-LR polarizing plate is an optical film that is antifouling treated with a silicone compound or a fluorine compound, the surface protection is performed. It is possible to provide a surface protective film that can suppress the peeling voltage generated when the film is peeled off from the adherend, and has excellent peeling antistatic performance without deterioration over time, and an optical component using the same.
According to the surface protective film of the present invention, the surface of the optical film can be reliably protected, so that productivity and yield can be improved.

本発明の表面保護フィルムの、概念を示した断面図である。It is sectional drawing which showed the concept of the surface protection film of this invention. 本発明の表面保護フィルムから、剥離フィルムを剥がした状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which peeled off the peeling film from the surface protection film of this invention. 本発明の光学部品の、実施例の１つを示した断面図である。It is sectional drawing which showed one of the Examples of the optical component of this invention.

以下、実施の形態に基づいて、本発明を詳しく説明する。
図１は、本発明の表面保護フィルムの、概念を示した断面図である。この表面保護フィルム１０は、透明な基材フィルム１の片面の表面に、粘着剤層２が形成されている。この粘着剤層２の表面には、樹脂フィルム３の表面に剥離剤層４が形成された剥離フィルム５が、貼合されている。 Hereinafter, the present invention will be described in detail based on embodiments.
FIG. 1 is a cross-sectional view showing the concept of the surface protective film of the present invention. The surface protective film 10 has a pressure-sensitive adhesive layer 2 formed on the surface of one side of a transparent base film 1. A release film 5 having a release agent layer 4 formed on the surface of the resin film 3 is bonded to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2.

本発明に係わる表面保護フィルム１０に使用される基材フィルム１としては、透明性及び可撓性を有する樹脂からなる基材フィルムが用いられる。これにより、表面保護フィルムを、被着体である光学部品に貼合した状態で、光学部品の外観検査を行うことができる。基材フィルム１として用いる透明性を有する樹脂からなるフィルムは、好適には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステルフィルムが用いられる。ポリエステルフィルムのほか、必要な強度を有し、かつ光学適性を有するものであれば、他の樹脂からなるフィルムも使用可能である。基材フィルム１は、無延伸フィルムであっても、一軸または二軸延伸されたフィルムであってもよい。また、延伸フィルムの延伸倍率や、延伸フィルムの結晶化に伴い形成される軸方法の配向角度を、特定の値に制御してもよい。
本発明に係わる表面保護フィルム１０に使用される基材フィルム１の厚みは、特に限定はないが、例えば、１２〜１００μｍ程度の厚みが好ましく、２０〜５０μｍ程度の厚みであれば取り扱い易く、より好ましい。
また、必要に応じて、基材フィルム１の粘着剤層２が形成された面の反対側の面に、表面の汚れを防止する防汚層、帯電防止層、傷つき防止のハードコート層などを設けることができる。また、基材フィルム１の表面に、コロナ放電による表面改質、アンカーコート剤の塗付などの易接着処理を施してもよい。 As the base film 1 used for the surface protective film 10 according to the present invention, a base film made of a resin having transparency and flexibility is used. Thereby, the external appearance test | inspection of an optical component can be performed in the state which bonded the surface protection film to the optical component which is a to-be-adhered body. The film made of a resin having transparency used as the base film 1 is preferably a polyester film such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene isophthalate, or polybutylene terephthalate. In addition to the polyester film, a film made of another resin can be used as long as it has a required strength and optical suitability. The base film 1 may be an unstretched film or a uniaxially or biaxially stretched film. Moreover, you may control the draw ratio of a stretched film, and the orientation angle of the axial method formed with crystallization of a stretched film to a specific value.
Although the thickness of the base film 1 used for the surface protection film 10 according to the present invention is not particularly limited, for example, a thickness of about 12 to 100 μm is preferable, and a thickness of about 20 to 50 μm is easy to handle. preferable.
Further, if necessary, an antifouling layer for preventing surface contamination, an antistatic layer, a hard coat layer for preventing scratches, etc. on the surface opposite to the surface on which the adhesive layer 2 of the base film 1 is formed. Can be provided. Further, the surface of the base film 1 may be subjected to easy adhesion treatment such as surface modification by corona discharge and application of an anchor coating agent.

また、本発明に係わる表面保護フィルム１０に使用される粘着剤層２は、被着体の表面に接着し、用済み後に簡単に剥がせ、かつ、被着体を汚染しにくい粘着剤であれば特に限定されるものではないが、光学用フィルムに貼合後の耐久性などを考慮すると、（メタ）アクリレート共重合体を架橋させてなるアクリル系粘着剤層を用いるのが一般的である。   The pressure-sensitive adhesive layer 2 used in the surface protective film 10 according to the present invention is a pressure-sensitive adhesive that adheres to the surface of the adherend, can be easily peeled off after use, and does not easily contaminate the adherend. Although it is not particularly limited, it is common to use an acrylic pressure-sensitive adhesive layer obtained by crosslinking a (meth) acrylate copolymer in consideration of durability after bonding to an optical film. .

（メタ）アクリレート共重合体としては、ｎ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、イソノニルアクリレートなどの主モノマーと、アクリロニトリル、酢酸ビニル、メチルメタクリレート、エチルアクリレートなどのコモノマー、アクリル酸、メタクリル酸、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシブチルアクリレート、グリシジルメタクリレート、Ｎ−メチロールメタクリルアミドなどの官能性モノマー、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート等のポリオキシアルキレン基を含有するモノマーを共重合した共重合体を挙げることができる。（メタ）アクリレート共重合体は、主モノマー及び他のモノマーがすべて（メタ）アクリレートであってもよく、主モノマー以外のモノマーとして、（メタ）アクリレート以外のモノマーを１種又は２種以上含んでもよい。主モノマー以外のモノマーは、上記のコモノマー、官能性モノマー、ポリオキシアルキレン基を含有するモノマーなどから特に限定することなく選択できる。   As the (meth) acrylate copolymer, main monomers such as n-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, isooctyl acrylate, and isononyl acrylate, comonomers such as acrylonitrile, vinyl acetate, methyl methacrylate, and ethyl acrylate, acrylic acid, Mention may be made of copolymers obtained by copolymerizing functional monomers such as methacrylic acid, hydroxyethyl acrylate, hydroxybutyl acrylate, glycidyl methacrylate, N-methylol methacrylamide, and monomers containing polyoxyalkylene groups such as methoxypolyethylene glycol methacrylate. it can. In the (meth) acrylate copolymer, the main monomer and other monomers may all be (meth) acrylates, and may include one or more monomers other than (meth) acrylate as monomers other than the main monomer. Good. Monomers other than the main monomer can be selected without particular limitation from the above-mentioned comonomers, functional monomers, monomers containing a polyoxyalkylene group, and the like.

粘着剤層２に添加する硬化剤としては、（メタ）アクリレート共重合体を架橋させる架橋剤として、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、メラミン化合物、金属キレート化合物などが挙げられる。また、粘着付与剤としては、ロジン系、クマロンインデン系、テルペン系、石油系、フェノール系などが挙げられる。   Examples of the curing agent added to the pressure-sensitive adhesive layer 2 include an isocyanate compound, an epoxy compound, a melamine compound, and a metal chelate compound as a crosslinking agent for crosslinking the (meth) acrylate copolymer. Examples of the tackifier include rosin, coumarone indene, terpene, petroleum, and phenol.

本発明に係わる表面保護フィルム１０に使用される粘着剤層２の厚みは、特に限定はないものの、例えば、５〜４０μｍ程度の厚みが好ましく、１０〜３０μｍ程度の厚みがより好ましい。表面保護フィルムの被着体の表面に対する剥離強度（粘着力）が、０．０３〜０．３Ｎ／２５ｍｍ程度の、微粘着力を有する粘着剤層２であることが、被着体から表面保護フィルムを剥がす時の操作性に優れることから好ましい。また、表面保護フィルム１０から剥離フィルム５を剥がす時の操作性に優れることから、剥離フィルム５のアクリル系粘着剤層２からの剥離力が、０．２Ｎ／５０ｍｍ以下であることが好ましい。   Although the thickness of the adhesive layer 2 used for the surface protection film 10 according to the present invention is not particularly limited, for example, a thickness of about 5 to 40 μm is preferable, and a thickness of about 10 to 30 μm is more preferable. It is the surface protection from the adherend that the peel strength (adhesive strength) of the surface protective film to the surface of the adherend is about 0.03 to 0.3 N / 25 mm and has a slight adhesive strength. It is preferable because it is excellent in operability when peeling the film. Moreover, since it is excellent in the operativity at the time of peeling the peeling film 5 from the surface protection film 10, it is preferable that the peeling force from the acrylic adhesive layer 2 of the peeling film 5 is 0.2 N / 50mm or less.

また、本発明に係わる表面保護フィルム１０に使用される剥離フィルム５は、樹脂フィルム３の片面に、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、２０℃において液体のシリコーン系化合物と、融点が３０〜８０℃であるイオン性化合物とを含む樹脂組成物により剥離剤層４が形成されている。   The release film 5 used in the surface protective film 10 according to the present invention has a release agent mainly composed of dimethylpolysiloxane, a silicone compound that is liquid at 20 ° C., and a melting point on one side of the resin film 3. The release agent layer 4 is formed of a resin composition containing an ionic compound having a temperature of 30 to 80 ° C.

樹脂フィルム３としては、ポリエステルフィルム、ポリアミドフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリイミドフィルムなどが挙げられるが、透明性に優れていることや価格が比較的に安価であることから、ポリエステルフィルムが特に好ましい。樹脂フィルムは、無延伸フィルムであっても、一軸または二軸延伸されたフィルムであってもよい。また、延伸フィルムの延伸倍率や、延伸フィルムの結晶化に伴い形成される軸方法の配向角度を、特定の値に制御してもよい。
樹脂フィルム３の厚みは、特に限定はないが、例えば、１２〜１００μｍ程度の厚みが好ましく、２０〜５０μｍ程度の厚みであれば取り扱い易く、より好ましい。
また、必要に応じて、樹脂フィルム３の表面に、コロナ放電による表面改質、アンカーコート剤の塗付などの易接着処理を施してもよい。 Examples of the resin film 3 include a polyester film, a polyamide film, a polyethylene film, a polypropylene film, and a polyimide film, and a polyester film is particularly preferable because of its excellent transparency and a relatively low price. . The resin film may be an unstretched film or a uniaxially or biaxially stretched film. Moreover, you may control the draw ratio of a stretched film, and the orientation angle of the axial method formed with crystallization of a stretched film to a specific value.
Although the thickness of the resin film 3 is not particularly limited, for example, a thickness of about 12 to 100 μm is preferable, and a thickness of about 20 to 50 μm is more preferable because it is easy to handle.
Further, if necessary, the surface of the resin film 3 may be subjected to easy adhesion treatment such as surface modification by corona discharge or application of an anchor coating agent.

剥離剤層４を構成するジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤には、付加反応型、縮合反応型、カチオン重合型、ラジカル重合型などの、公知のシリコーン系剥離剤が挙げられる。付加反応型シリコーン系剥離剤として市販されている製品には、例えば、ＫＳ−７７６Ａ、ＫＳ−８４７Ｔ、ＫＳ−７７９Ｈ、ＫＳ−８３７、ＫＳ−７７８、ＫＳ−８３０（信越化学工業（株）製）、ＳＲＸ−２１１、ＳＲＸ−３４５、ＳＲＸ−３５７、ＳＤ７３３３、ＳＤ７２２０、ＳＤ７２２３、ＬＴＣ−３００Ｂ、ＬＴＣ−３５０Ｇ、ＬＴＣ−３１０（東レダウコーニング（株）製）などが挙げられる。縮合反応型として市販されている製品には、例えば、ＳＲＸ−２９０、ＳＹＬＯＦＦ−２３（東レダウコーニング（株）製）などが挙げられる。カチオン重合型として市販されている製品には、例えば、ＴＰＲ−６５０１、ＴＰＲ−６５００、ＵＶ９３００、ＶＵ９３１５、ＵＶ９４３０（モメンティブ・パーフォーマンス・マテリアルズ社製）、Ｘ６２−７６２２（信越化学工業（株）製）などが挙げられる。ラジカル重合型として市販されている製品には、例えば、Ｘ６２−７２０５（信越化学工業（株）製）などが挙げられる。   Examples of the release agent mainly composed of dimethylpolysiloxane constituting the release agent layer 4 include known silicone release agents such as an addition reaction type, a condensation reaction type, a cationic polymerization type, and a radical polymerization type. Examples of products that are commercially available as addition reaction type silicone release agents include KS-776A, KS-847T, KS-779H, KS-837, KS-778, and KS-830 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). SRX-211, SRX-345, SRX-357, SD7333, SD7220, SD7223, LTC-300B, LTC-350G, LTC-310 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), and the like. Examples of products marketed as a condensation reaction type include SRX-290 and SYLOFF-23 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.). Examples of products marketed as a cationic polymerization type include TPR-6501, TPR-6500, UV9300, VU9315, UV9430 (manufactured by Momentive Performance Materials), X62-7622 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). ) And the like. Examples of the product marketed as a radical polymerization type include X62-7205 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).

剥離剤層４を構成する２０℃において液体のシリコーン系化合物としては、ポリエーテル変性シリコーン、アルキル変性シリコーン、カルビノール高級脂肪酸エステル変性シリコーンなどが挙げられる。本発明では、粘着剤層の表面の帯電防止性を向上するために、ジメチルポリシロキサンを主成分とした剥離剤層の中に相溶している状態の２０℃において液体のシリコーン系化合物が用いられる。本発明の用途には、変性シリコーン化合物の中でも、ポリエーテル変性シリコーンが好ましい。ポリエーテル変性シリコーンにおけるポリエーテル鎖は、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイドなどで構成され、例えば、側鎖に用いるポリエチレンオキサイドの分子量を選択することにより、シリコーン剥離剤との相溶性や帯電防止効果などの物性が調整される。
また、ポリエーテル変性シリコーンとして市販されている製品には、例えば、ＫＦ−３５１Ａ、ＫＦ−３５２Ａ、ＫＦ−３５３、ＫＦ−３５４Ｌ、ＫＦ−３５５Ａ、ＫＦ−６４２（信越化学工業（株）製）、ＳＨ８４００、ＳＨ８７００、ＳＦ８４１０（東レダウコーニング（株）製）、ＴＳＦ−４４４０、ＴＳＦ−４４４１、ＴＳＦ−４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ−４４５０（モメンティブパーフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＢＹＫ−３００、ＢＹＫ−３０６、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３２０、ＢＹＫ−３２５、ＢＹＫ−３３０（ビックケミー社製）などが挙げられる。
ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤に対する２０℃において液体のシリコーン系化合物の添加量は、シリコーン化合物の種類や剥離剤との相溶性の度合いにより異なるが、表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、望まれる剥離帯電圧、被着体に対する汚染性、粘着特性などを考慮して設定すればよい。 Examples of the silicone compound that is liquid at 20 ° C. constituting the release agent layer 4 include polyether-modified silicone, alkyl-modified silicone, and carbinol higher fatty acid ester-modified silicone. In the present invention, in order to improve the antistatic property on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, a silicone compound that is liquid at 20 ° C. in a state of being compatible with the release agent layer mainly composed of dimethylpolysiloxane is used. It is done. Among the modified silicone compounds, polyether-modified silicone is preferable for the use of the present invention. The polyether chain in polyether-modified silicone is composed of ethylene oxide, propylene oxide, etc. For example, by selecting the molecular weight of polyethylene oxide used for the side chain, physical properties such as compatibility with silicone release agent and antistatic effect Is adjusted.
Examples of products commercially available as polyether-modified silicone include KF-351A, KF-352A, KF-353, KF-354L, KF-355A, KF-642 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), SH8400, SH8700, SF8410 (manufactured by Toray Dow Corning), TSF-4440, TSF-4441, TSF-4445, TSF-4446, TSF-4450 (manufactured by Momentive Performance Materials), BYK-300, BYK -306, BYK-307, BYK-320, BYK-325, BYK-330 (manufactured by BYK Chemie) and the like.
The amount of silicone compound that is liquid at 20 ° C to the release agent based on dimethylpolysiloxane varies depending on the type of silicone compound and the degree of compatibility with the release agent, but the surface protective film is released from the adherend. What is necessary is just to set in consideration of the desired stripping voltage, the contamination with respect to the adherend, the adhesive property, and the like.

剥離剤層４を構成する帯電防止剤としては、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤溶液に対して分散性の良いもので、かつ、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の硬化を阻害しないものが好ましい。こうした帯電防止剤としては融点が３０〜８０℃であるイオン性化合物が好適である。   The antistatic agent constituting the release agent layer 4 has good dispersibility in a release agent solution mainly composed of dimethylpolysiloxane and inhibits curing of the release agent mainly composed of dimethylpolysiloxane. Those that do not are preferred. As such an antistatic agent, an ionic compound having a melting point of 30 to 80 ° C. is suitable.

融点が３０〜８０℃であるイオン性化合物としては、カチオンとアニオンを有するイオン性化合物であって、カチオンが、ピリジニウムカチオン、イミダゾリウムカチオン、ピリミジニウムカチオン、ピラゾリウムカチオン、ピロリジニウムカチオン、アンモニウムカチオン等の含窒素オニウムカチオンや、ホスホニウムカチオン、スルホニウムカチオン等であり、アニオンが、六フッ化リン酸塩（ＰＦ６ −）、チオシアン酸塩（ＳＣＮ−）、アルキルベンゼンスルホン酸塩（ＲＣ６Ｈ４ＳＯ３ −）、過塩素酸塩（ＣｌＯ４ −）、四フッ化ホウ酸塩（ＢＦ４ −）等の無機もしくは有機アニオンである化合物が挙げられる。アルキル基の鎖長や置換基の位置、個数等の選択により、融点が３０〜８０℃のものを得ることができる。カチオンは、好ましくは４級含窒素オニウムカチオンであり、１−アルキルピリジニウム（２〜６位の炭素原子は置換基を有しても無置換でもよい。）等の４級ピリジニウムカチオン、や１，３−ジアルキルイミダゾリウム（２，４，５位の炭素原子は置換基を有しても無置換でもよい。）等の４級イミダゾリウムカチオン、テトラアルキルアンモニウム等の４級アンモニウムカチオン等が挙げられる。
ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤に対する帯電防止剤の添加量は、帯電防止剤の種類や剥離剤との親和性の度合いにより異なるが、表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、望まれる剥離帯電圧、被着体に対する汚染性、粘着特性などを考慮して設定すればよい。 The ionic compound having a melting point of 30 to 80 ° C. is an ionic compound having a cation and an anion, and the cation is pyridinium cation, imidazolium cation, pyrimidinium cation, pyrazolium cation, pyrrolidinium cation A nitrogen-containing onium cation such as an ammonium cation, a phosphonium cation, a sulfonium cation, etc., and the anion is hexafluorophosphate (PF 6 − ), thiocyanate (SCN − ), alkylbenzene sulfonate (RC 6). Examples thereof include compounds that are inorganic or organic anions such as H 4 SO 3 − ), perchlorate (ClO 4 − ), and tetrafluoroborate (BF 4 − ). By selecting the chain length of the alkyl group, the position and number of substituents, etc., those having a melting point of 30 to 80 ° C. can be obtained. The cation is preferably a quaternary nitrogen-containing onium cation, and a quaternary pyridinium cation such as 1-alkylpyridinium (the carbon atom at the 2-6 position may be substituted or unsubstituted), or 1, Quaternary imidazolium cations such as 3-dialkylimidazolium (the carbon atoms at 2, 4, and 5 positions may be substituted or unsubstituted), quaternary ammonium cations such as tetraalkylammonium, and the like. .
The amount of antistatic agent added to the release agent based on dimethylpolysiloxane varies depending on the type of antistatic agent and the degree of affinity with the release agent, but when peeling the surface protective film from the adherend, What is necessary is just to set in consideration of the peeling voltage desired, the contamination with respect to a to-be-adhered body, an adhesive characteristic, etc.

ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、ポリエーテル変性シリコーンおよび帯電防止剤との混合方法には、特に限定はない。ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤に、ポリエーテル変性シリコーンおよび帯電防止剤を添加して、混合した後に剥離剤硬化用の触媒を添加・混合する方法、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤を、あらかじめ有機溶剤で希釈したのちにポリエーテル変性シリコーン及び帯電防止剤と剥離剤硬化用の触媒を添加、混合する方法、シロキサンを主成分とする剥離剤をあらかじめ有機溶剤に希釈後、触媒を添加・混合し、その後ポリエーテル変性シリコーンと帯電防止剤を添加、混合する方法など、いずれの方法でも良い。また、必要に応じて、シランカップリング剤などの密着向上剤やポリオキシアルキレン基を含有する化合物などの帯電防止効果を補助する材料、を添加しても良い。   There are no particular limitations on the method of mixing the release agent mainly composed of dimethylpolysiloxane, the polyether-modified silicone and the antistatic agent. A method of adding a polyether-modified silicone and an antistatic agent to a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, mixing and then adding and mixing a catalyst for curing the release agent, a release containing dimethylpolysiloxane as a main component After diluting the agent with an organic solvent in advance, adding a polyether-modified silicone, antistatic agent and release agent curing catalyst, and mixing the release agent based on siloxane in the organic solvent in advance, the catalyst Any method may be used, such as a method in which a polyether-modified silicone and an antistatic agent are added and mixed. Moreover, you may add the material which assists the antistatic effect, such as adhesion improving agents, such as a silane coupling agent, and the compound containing a polyoxyalkylene group as needed.

ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、ポリエーテル変性シリコーンおよび帯電防止剤との混合比率は、特に限定はないが、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の固形分１００に対して、ポリエーテル変性シリコーンおよび帯電防止剤を固形分として５〜１００程度の割合が好ましい。ポリエーテル変性シリコーンおよび帯電防止剤の固形分換算の添加量が、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の固形分１００に対して５の割合より少ないと、粘着剤層の表面への帯電防止剤の転写量も少なくなり、粘着剤に帯電防止の機能が発揮され難くなる。また、ポリエーテル変性シリコーンおよび帯電防止剤の固形分換算の添加量が、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の固形分１００に対して１００の割合を越えると、ポリエーテル変性シリコーンおよび帯電防止剤とともにジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤も、粘着剤層の表面に転写されてしまうため、粘着剤の粘着特性を低下させる可能性がある。   The mixing ratio of the release agent based on dimethylpolysiloxane, the polyether-modified silicone and the antistatic agent is not particularly limited, but with respect to the solid content 100 of the release agent based on dimethylpolysiloxane, A ratio of about 5 to 100 is preferred, with the polyether-modified silicone and antistatic agent as solids. When the addition amount of the polyether-modified silicone and the antistatic agent in terms of solid content is less than 5 with respect to the solid content 100 of the release agent mainly composed of dimethylpolysiloxane, the surface of the pressure-sensitive adhesive layer is prevented from being charged. The transfer amount of the agent is also reduced, and it becomes difficult for the adhesive to exhibit an antistatic function. Further, when the amount of addition of the polyether-modified silicone and the antistatic agent in terms of solid content exceeds 100 with respect to the solid content 100 of the release agent mainly composed of dimethylpolysiloxane, the polyether-modified silicone and the antistatic agent are used. Since the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component together with the adhesive is also transferred to the surface of the adhesive layer, the adhesive properties of the adhesive may be reduced.

本発明に係わる表面保護フィルム１０の基材フィルム１に、粘着剤層２を形成する方法、及び剥離フィルム５を貼合する方法は、公知の方法で行えばよく、特に限定されない。具体的には、（１）基材フィルム１の片面に、粘着剤層２を形成するための樹脂組成物を塗布、乾燥し粘着剤層を形成した後に、剥離フィルム５を貼合する方法、（２）剥離フィルム５の表面に、粘着剤層２を形成するための樹脂組成物を塗布・乾燥し粘着剤層を形成した後に、基材フィルム１を貼合する方法などが挙げられるが、いずれの方法を用いても良い。   The method for forming the pressure-sensitive adhesive layer 2 and the method for laminating the release film 5 on the base film 1 of the surface protective film 10 according to the present invention may be carried out by known methods and are not particularly limited. Specifically, (1) A method of laminating the release film 5 after applying a resin composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 2 on one side of the base film 1 and drying to form a pressure-sensitive adhesive layer, (2) On the surface of the release film 5, after applying and drying the resin composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 2 to form the pressure-sensitive adhesive layer, a method of pasting the base film 1 can be mentioned. Any method may be used.

また、基材フィルム１の表面に、粘着剤層２を形成するのは、公知の方法で行えばよい。具体的には、リバースコーティング、コンマコーティング、グラビアコーティング、スロットダイコーティング、メイヤーバーコーティング、エアーナイフコーティングなどの、公知の塗工方法を使用することができる。   Moreover, what is necessary is just to perform the adhesive layer 2 on the surface of the base film 1 by a well-known method. Specifically, known coating methods such as reverse coating, comma coating, gravure coating, slot die coating, Mayer bar coating, and air knife coating can be used.

また、同様に、樹脂フィルム３に、剥離剤層４を形成するのは、公知の方法で行えばよい。具体的には、グラビアコーティング、メイヤーバーコーティング、エアーナイフコーティングなどの、公知の塗工方法を使用することができる。   Similarly, the release agent layer 4 may be formed on the resin film 3 by a known method. Specifically, known coating methods such as gravure coating, Mayer bar coating, and air knife coating can be used.

上記の構成を有する本発明に係わる表面保護フィルム１０は、被着体である光学用フィルムから剥離する際の表面電位が、＋０．７ｋＶ〜−０．７ｋＶであることが好ましい。さらに、表面電位が、＋０．５ｋＶ〜−０．５ｋＶであることがより好ましく、表面電位が、＋０．１ｋＶ〜−０．１ｋＶであることが特に好ましい。この表面電位は、剥離剤層に含有されるポリエーテル変性シリコーン及び帯電防止剤の種類、添加量等を加減することによって調整できる。   The surface protective film 10 according to the present invention having the above configuration preferably has a surface potential of +0.7 kV to −0.7 kV when peeled from the optical film as an adherend. Furthermore, the surface potential is more preferably +0.5 kV to −0.5 kV, and the surface potential is particularly preferably +0.1 kV to −0.1 kV. This surface potential can be adjusted by adjusting the type and amount of the polyether-modified silicone and antistatic agent contained in the release agent layer.

図２は、本発明の表面保護フィルムから、剥離フィルムを剥がした状態を示す断面図である。
図１に示した表面保護フィルム１０から、剥離フィルム５を剥がすことにより、剥離フィルム５の剥離剤層４に含まれる、２０℃において液体のシリコーン系化合物および帯電防止剤（符号７）の一部が、表面保護フィルム１０の粘着剤層２の表面に、転写される（付着する）。そのため、図２においては、表面保護フィルムの粘着剤層２の表面に付着した、２０℃において液体のシリコーン系化合物および帯電防止剤を、符号７の斑点で模式的に示している。
本発明に係わる表面保護フィルムでは、図２に示した剥離フィルムを剥がした状態の表面保護フィルム１１を、被着体に貼合するに当たり、この粘着剤層２の表面に転写された、２０℃において液体のシリコーン系化合物および帯電防止剤が、被着体の表面に接触する。そのことにより、再度、被着体から表面保護フィルムを剥がす時の剥離帯電圧を低く抑えることができる。 FIG. 2 is a cross-sectional view showing a state where the release film is peeled off from the surface protective film of the present invention.
A part of the silicone compound and antistatic agent (symbol 7) that are liquid at 20 ° C. contained in the release agent layer 4 of the release film 5 by peeling off the release film 5 from the surface protective film 10 shown in FIG. Is transferred (attached) to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 of the surface protective film 10. Therefore, in FIG. 2, the silicone compound and the antistatic agent that are liquid at 20 ° C. and adhered to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 of the surface protective film are schematically shown by the reference numeral 7.
In the surface protective film according to the present invention, the surface protective film 11 with the release film shown in FIG. 2 peeled off was transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 at 20 ° C. In this case, the liquid silicone compound and the antistatic agent come into contact with the surface of the adherend. As a result, the stripping voltage when the surface protective film is peeled off from the adherend can be kept low again.

図３は、本発明の光学部品の実施例を示した断面図である。
本発明の表面保護フィルム１０から、剥離フィルム５が剥がされて、粘着剤層２が表出した状態で、その粘着剤層２を介して被着体である光学部品８に貼合される。
すなわち、図３には、本発明の表面保護フィルム１０が貼合された光学部品２０を示している。光学部品としては、偏光板、位相差板、レンズフィルム、位相差板兼用の偏光板、レンズフィルム兼用の偏光板などの光学用フィルムが挙げられる。このような光学部品は、液晶表示パネルなどの液晶表示装置、各種計器類の、光学系装置等の構成部材として使用される。また、光学部品としては、反射防止フィルム、ハードコートフィルム、タッチパネル用透明導電性フィルムなどの、光学用フィルムも挙げられる。特に、表面がシリコーン化合物やフッ素化合物などで防汚染処理してある低反射処理偏光板（ＬＲ偏光板）やアンチグレア低反射処理偏光板（ＡＧ−ＬＲ偏光板）などの光学用フィルムの、防汚染処理した面に貼合される表面保護フィルムとして好適に使用することができる。
本発明の光学部品によれば、表面保護フィルム１０を、被着体である光学部品（光学用フィルム）から剥離除去するとき、剥離帯電圧を充分に低く抑制することができるので、ドライバーＩＣ、ＴＦＴ素子、ゲート線駆動回路などの回路部品を破壊する恐れがなく、液晶表示パネル等を製造する工程での生産効率を高め、生産工程の信頼性を保つことができる。 FIG. 3 is a cross-sectional view showing an embodiment of the optical component of the present invention.
The release film 5 is peeled off from the surface protective film 10 of the present invention, and the pressure-sensitive adhesive layer 2 is exposed, and is bonded to the optical component 8 that is an adherend through the pressure-sensitive adhesive layer 2.
That is, FIG. 3 shows the optical component 20 to which the surface protective film 10 of the present invention is bonded. Examples of the optical component include optical films such as a polarizing plate, a retardation plate, a lens film, a polarizing plate that also serves as a retardation plate, and a polarizing plate that also serves as a lens film. Such an optical component is used as a constituent member of a liquid crystal display device such as a liquid crystal display panel and an optical system device of various instruments. Examples of the optical component include optical films such as an antireflection film, a hard coat film, and a transparent conductive film for a touch panel. In particular, antifouling of optical films such as low reflection treatment polarizing plates (LR polarizing plates) and anti-glare low reflection processing polarizing plates (AG-LR polarizing plates) whose surfaces are antifouling treated with silicone compounds or fluorine compounds. It can be suitably used as a surface protective film to be bonded to the treated surface.
According to the optical component of the present invention, when the surface protective film 10 is peeled and removed from the optical component (optical film) that is an adherend, the stripping voltage can be suppressed sufficiently low. There is no risk of destroying circuit components such as TFT elements and gate line driving circuits, and the production efficiency in the process of manufacturing a liquid crystal display panel or the like can be increased and the reliability of the production process can be maintained.

次に、実施例により、本発明をさらに説明する。
（実施例１）
（表面保護フィルムの作製）
付加反応型のシリコーン（東レダウコーニング（株）製、品名：ＳＲＸ−３４５）５重量部、ポリエーテル変性シリコーン（東レダウコーニング（株）製、品名：ＳＨ８４００）０．３重量部、融点が４８℃のイオン性化合物であるＮ−ブチル−４−メチルピリジニウム ヘキサフルオロホスフェート １重量部、トルエンと酢酸エチルの１：１の混合溶媒９５重量部、白金触媒（東レダウコーニング（株）製、品名：ＳＲＸ−２１２）０．０５重量部を混ぜ合わせて撹拌・混合して、実施例１の剥離剤層を形成する塗料を調整した。厚みが３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、実施例１の剥離剤層を形成する塗料を、乾燥後の厚さが０．２μｍになるようにメイヤバーにて塗布し、１２０℃の熱風循環式オーブンにて１分間乾燥し、実施例１の剥離フィルムを得た。一方、２−エチルヘキシルアクリレートと、２−ヒドロキシエチルアクリレートとを、１００：４の重量比で共重合した、重量平均分子量４７万のアクリレート共重合体３０重量部を、酢酸エチル７０重量部に溶解した粘着剤（固形分３０％の酢酸エチル溶液）１００重量部に対して、ＨＤＩ系硬化剤（日本ポリウレタン工業（株）製。品名：コロネートＨＸ）１．２重量部を添加、混合した塗付液を、厚みが３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、乾燥後の厚さが２０μｍとなるように、塗布した後、１００℃の熱風循環式オーブンにて２分間乾燥させて粘着剤層を形成した。その後、この粘着剤層の表面に、上記にて作製した、実施例１の剥離フィルムの剥離剤層（シリコーン処理面）を貼合した。得られた粘着フィルムを４０℃の環境下で５日間保温し、粘着剤を硬化させて実施例１の表面保護フィルムを得た。 Next, the present invention will be further described with reference to examples.
Example 1
(Production of surface protective film)
Addition reaction type silicone (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX-345) 5 parts by weight, polyether-modified silicone (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SH8400) 0.3 parts by weight, melting point 48 1 part by weight of N-butyl-4-methylpyridinium hexafluorophosphate which is an ionic compound at 0 ° C., 95 parts by weight of a 1: 1 mixed solvent of toluene and ethyl acetate, platinum catalyst (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX-212) 0.05 part by weight was mixed and stirred and mixed to prepare a coating material for forming the release agent layer of Example 1. The paint for forming the release agent layer of Example 1 was applied to the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm with a Mayer bar so that the thickness after drying was 0.2 μm, and a 120 ° C. hot-air circulating oven And dried for 1 minute to obtain a release film of Example 1. On the other hand, 30 parts by weight of an acrylate copolymer having a weight average molecular weight of 470,000 obtained by copolymerizing 2-ethylhexyl acrylate and 2-hydroxyethyl acrylate at a weight ratio of 100: 4 was dissolved in 70 parts by weight of ethyl acetate. Coating solution in which 1.2 parts by weight of an HDI curing agent (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., product name: Coronate HX) is added to and mixed with 100 parts by weight of an adhesive (ethyl acetate solution having a solid content of 30%). Was applied to the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm so that the thickness after drying was 20 μm, and then dried in a hot air circulation oven at 100 ° C. for 2 minutes to form an adhesive layer. Then, the release agent layer (silicone treatment surface) of the release film of Example 1 produced above was bonded to the surface of this adhesive layer. The obtained pressure-sensitive adhesive film was kept warm in an environment of 40 ° C. for 5 days, and the pressure-sensitive adhesive was cured to obtain the surface protective film of Example 1.

（実施例２）
実施例１の剥離剤層を形成する塗料の、乾燥後の厚さを０．１μｍにした以外は、実施例１と同様にして、実施例２の表面保護フィルムを得た。 (Example 2)
A surface protective film of Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the coating material forming the release agent layer of Example 1 was 0.1 μm after drying.

（実施例３）
実施例１の付加反応型のシリコーンを、東レダウコーニング（株）製、品名：ＳＲＸ−２１１、ポリエーテル変性シリコーンを信越化学工業（株）製、品名：ＫＳ−３５２Ａにし、Ｎ−ブチル−４−メチルピリジニウム ヘキサフルオロホスフェートの代りに、融点が６２℃のイオン性化合物である１−メチル−３−エチルイミダゾリウム へキサフルオロホスフェートにした以外は、実施例１と同様にして、実施例３の表面保護フィルムを得た。 Example 3
The addition reaction type silicone of Example 1 was manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX-211, and the polyether-modified silicone was manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product name: KS-352A, and N-butyl-4 -Instead of methylpyridinium hexafluorophosphate, the same procedure as in Example 1 was repeated except that 1-methyl-3-ethylimidazolium hexafluorophosphate, which is an ionic compound having a melting point of 62 ° C, was used. A surface protective film was obtained.

（比較例１）
付加反応型のシリコーン（東レダウコーニング（株）製、品名：ＳＲＸ−３４５）５重量部、トルエンと酢酸エチルの１：１の混合溶媒９５重量部、白金触媒（東レダウコーニング（株）製、品名：ＳＲＸ−２１２）０．０５重量部を混ぜ合わせて撹拌・混合して、比較例１の剥離剤層を形成する塗料を調整した。厚みが３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、比較例１の剥離剤層を形成する塗料を、乾燥後の厚さが０．２μｍになるようにメイヤバーにて塗布し、１２０℃の熱風循環式オーブンにて１分間乾燥し、比較例１の剥離フィルムを得た。一方、実施例１の粘着剤（固形分３０％の酢酸エチル溶液）１００重量部に対して、ポリエーテル変性シリコーン（東レダウコーニング（株）製、品名：ＳＨ８４００）０．６重量部、Ｎ−ブチル−４−メチルピリジニウム ヘキサフルオロホスフェート ２重量部、ＨＤＩ系硬化剤（日本ポリウレタン工業（株）製。品名：コロネートＨＸ）１．２重量部を添加、混合した塗付液を、厚みが３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、乾燥後の厚さが２０μｍとなるように、塗布した後、１００℃の熱風循環式オーブンにて２分間乾燥させて粘着剤層を形成した。その後、この粘着剤層の表面に、上記にて作製した、比較例１の剥離フィルムの剥離剤層（シリコーン処理面）を貼合した。得られた粘着フィルムを４０℃の環境下で５日間保温し、粘着剤を硬化させて、比較例１の表面保護フィルムを得た。 (Comparative Example 1)
Addition-reaction type silicone (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX-345), 95 parts by weight of 1: 1 mixed solvent of toluene and ethyl acetate, platinum catalyst (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) Product name: SRX-212) 0.05 parts by weight were mixed and stirred and mixed to prepare a coating material for forming the release agent layer of Comparative Example 1. A paint for forming the release agent layer of Comparative Example 1 was applied to the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm with a Mayer bar so that the thickness after drying was 0.2 μm, and a 120 ° C. hot air circulation oven And dried for 1 minute to obtain a release film of Comparative Example 1. On the other hand, with respect to 100 parts by weight of the pressure-sensitive adhesive of Example 1 (ethyl acetate solution having a solid content of 30%), 0.6 parts by weight of polyether-modified silicone (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SH8400), N- 2 parts by weight of butyl-4-methylpyridinium hexafluorophosphate and 1.2 parts by weight of an HDI-based curing agent (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., product name: Coronate HX) were added and mixed to obtain a coating solution having a thickness of 38 μm. After applying onto the surface of the polyethylene terephthalate film so that the thickness after drying was 20 μm, it was dried in a hot air circulation oven at 100 ° C. for 2 minutes to form an adhesive layer. Thereafter, the release agent layer (silicone-treated surface) of the release film of Comparative Example 1 prepared above was bonded to the surface of this pressure-sensitive adhesive layer. The obtained pressure-sensitive adhesive film was kept warm at 40 ° C. for 5 days to cure the pressure-sensitive adhesive, and the surface protective film of Comparative Example 1 was obtained.

（比較例２）
ポリエーテル変性シリコーン（東レダウコーニング（株）製、品名：ＳＨ８４００）０．０６重量部、Ｎ−ブチル−４−メチルピリジニウム ヘキサフルオロホスフェート０．２重量部にした以外は、比較例１と同様にして、比較例２の表面保護フィルムを得た。 (Comparative Example 2)
Comparative Example 1 except that the polyether-modified silicone (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SH8400) 0.06 part by weight, N-butyl-4-methylpyridinium hexafluorophosphate was 0.2 part by weight. Thus, a surface protective film of Comparative Example 2 was obtained.

（実施例４）
実施例１の塗付液の代わりに、２−エチルヘキシルアクリレートと、ブチルアクリレートと、２−ヒドロキシエチルアクリレートとを、６０：４０：４の重量比で共重合した、重量平均分子量４８万のアクリレート共重合体３０重量部を、酢酸エチル７０重量部で溶解した粘着剤（固形分３０％の酢酸エチル溶液）１００重量部に対して、ＨＤＩ系硬化剤（日本ポリウレタン工業（株）製。品名：コロネートＨＸ）１．２重量部を添加、混合した塗付液を用いた以外は、実施例１と同様にして、実施例４の表面保護フィルムを得た。 Example 4
Instead of the coating solution of Example 1, 2-ethylhexyl acrylate, butyl acrylate, and 2-hydroxyethyl acrylate were copolymerized at a weight ratio of 60: 40: 4, and the acrylate copolymer having a weight average molecular weight of 480,000 was used. 30 parts by weight of the polymer is dissolved in 70 parts by weight of ethyl acetate and 100 parts by weight of the pressure-sensitive adhesive (ethyl acetate solution having a solid content of 30%). An HDI curing agent (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd. Product name: Coronate (HX) A surface protective film of Example 4 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 1.2 parts by weight of the added and mixed coating liquid was used.

（実施例５）
実施例１の塗付液の代わりに、２−エチルヘキシルアクリレートと、メトキシポリエチレングリコール（４００）メタクリレートと、２−ヒドロキシエチルアクリレートとを、９０：１０：４の重量比で共重合した、重量平均分子量３８万のアクリレート共重合体３０重量部を、酢酸エチル７０重量部で溶解した粘着剤（固形分３０％の酢酸エチル溶液）１００重量部に対して、ＨＤＩ系硬化剤（日本ポリウレタン工業（株）製。品名：コロネートＨＸ）１．２重量部を添加、混合した塗付液を用いた以外は、実施例１と同様にして、実施例５の表面保護フィルムを得た。 (Example 5)
Instead of the coating liquid of Example 1, 2-ethylhexyl acrylate, methoxypolyethylene glycol (400) methacrylate, and 2-hydroxyethyl acrylate were copolymerized at a weight ratio of 90: 10: 4. 100 parts by weight of an adhesive (30% solid content ethyl acetate solution) in which 30 parts by weight of 380,000 acrylate copolymer was dissolved in 70 parts by weight of ethyl acetate, HDI-based curing agent (Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) Product name: Coronate HX) A surface protective film of Example 5 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 1.2 parts by weight of an added and mixed coating solution was used.

（実施例６）
実施例１の塗付液の代わりに、２−エチルヘキシルアクリレートと、アクリル酸とを、１００：４の重量比で共重合した、重量平均分子量５２万のアクリレート共重合体３０重量部を、酢酸エチル７０重量部で溶解した粘着剤（固形分３０％の酢酸エチル溶液）１００重量部に対して、エポキシ系硬化剤（三菱瓦斯化学（株）製。品名：ＴＥＴＲＡＤ−Ｃ）１．０重量部を添加、混合した塗付液を用いた以外は、実施例１と同様にして、実施例６の表面保護フィルムを得た。 (Example 6)
Instead of the coating liquid of Example 1, 2-ethylhexyl acrylate and acrylic acid were copolymerized at a weight ratio of 100: 4, and 30 parts by weight of an acrylate copolymer having a weight average molecular weight of 520,000 was mixed with ethyl acetate. To 100 parts by weight of the pressure-sensitive adhesive (solid solution of 30% solid content) dissolved in 70 parts by weight, 1.0 part by weight of an epoxy curing agent (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., product name: TETRAD-C) A surface protective film of Example 6 was obtained in the same manner as Example 1 except that the added and mixed coating solution was used.

以下、評価試験の方法および結果について示す。
〈剥離フィルムの剥離力の測定方法〉
表面保護フィルムのサンプルを、幅５０ｍｍ、長さ１５０ｍｍに裁断する。２３℃×５０％ＲＨの試験環境下、引張試験機を用いて３００ｍｍ／分の剥離速度で１８０°の方向に、剥離フィルムを剥離したときの強度を測定し、これを剥離フィルムの剥離力（Ｎ／５０ｍｍ）とした。 The evaluation test methods and results are shown below.
<Measurement method of peel strength of release film>
A sample of the surface protective film is cut into a width of 50 mm and a length of 150 mm. In a test environment of 23 ° C. × 50% RH, the strength when the release film was peeled in the direction of 180 ° at a peel rate of 300 mm / min was measured using a tensile tester, and this was measured as the peel strength ( N / 50 mm).

〈表面保護フィルムの粘着力の測定方法〉
ガラス板の表面に、アンチグレア低反射処理偏光板（ＡＧ−ＬＲ偏光板）を、貼合機を用いて貼合した。その後、偏光板の表面に、幅２５ｍｍに裁断した表面保護フィルムを貼合した後、２３℃×５０％ＲＨの試験環境下に１日間保管した。その後、引張試験機を用いて３００ｍｍ／分の剥離速度で１８０°の方向に、表面保護フィルムを剥離したときの強度を測定し、これを粘着力（Ｎ／２５ｍｍ）とした。 <Measurement method of adhesive strength of surface protective film>
An anti-glare low reflection treatment polarizing plate (AG-LR polarizing plate) was bonded to the surface of the glass plate using a bonding machine. Thereafter, a surface protective film cut to a width of 25 mm was bonded to the surface of the polarizing plate, and then stored for 1 day in a test environment of 23 ° C. × 50% RH. Then, the strength when the surface protective film was peeled in the direction of 180 ° at a peeling speed of 300 mm / min was measured using a tensile tester, and this was defined as adhesive strength (N / 25 mm).

〈表面保護フィルムの剥離帯電圧の測定方法〉
ガラス板の表面に、アンチグレア低反射処理偏光板（ＡＧ−ＬＲ偏光板）を、貼合機を用いて貼合した。その後、偏光板の表面に、幅２５ｍｍに裁断した表面保護フィルムを貼合した後、２３℃×５０％ＲＨの試験環境下に１日間保管した。その後、高速剥離試験機（テスター産業製）を用いて毎分４０ｍの剥離速度で表面保護フィルムを剥離しながら、前記偏光板表面の表面電位を、表面電位計（キーエンス（株）製）を用いて１０ｍｓ毎に測定したときの、表面電位の絶対値の最大値を、剥離帯電圧（ｋＶ）とした。 <Measuring method of peeling voltage of surface protective film>
An anti-glare low reflection treatment polarizing plate (AG-LR polarizing plate) was bonded to the surface of the glass plate using a bonding machine. Thereafter, a surface protective film cut to a width of 25 mm was bonded to the surface of the polarizing plate, and then stored for 1 day in a test environment of 23 ° C. × 50% RH. Thereafter, the surface potential of the polarizing plate surface was measured using a surface potentiometer (manufactured by Keyence Corporation) while peeling the surface protective film at a peeling speed of 40 m / min using a high speed peel tester (manufactured by Tester Sangyo). The maximum value of the absolute value of the surface potential when measured every 10 ms was defined as the stripping voltage (kV).

〈表面保護フィルムの表面汚染性の確認方法〉
ガラス板の表面に、アンチグレア低反射処理偏光板（ＡＧ−ＬＲ偏光板）を、貼合機を用いて貼合した。その後、偏光板の表面に、幅２５ｍｍに裁断した表面保護フィルムを貼合した後、２３℃×５０％ＲＨの試験環境下に３日および３０日保管した。その後、表面保護フィルムを剥がし、偏光板の表面の汚染性を目視にて観察した。表面汚染性の判定基準として、偏光板に汚染移行が無かった場合を（○）とし、偏光板に汚染移行が確認された場合を（×）とした。 <Method for confirming surface contamination of surface protective film>
An anti-glare low reflection treatment polarizing plate (AG-LR polarizing plate) was bonded to the surface of the glass plate using a bonding machine. Thereafter, a surface protective film cut to a width of 25 mm was bonded to the surface of the polarizing plate, and then stored for 3 days and 30 days in a test environment of 23 ° C. × 50% RH. Thereafter, the surface protective film was peeled off, and the contamination of the surface of the polarizing plate was visually observed. As a criterion for determining the surface contamination, the case where there was no contamination transfer on the polarizing plate was indicated by (◯), and the case where contamination transfer was confirmed on the polarizing plate was indicated by (×).

得られた実施例１〜６及び比較例１〜２の表面保護フィルムについて、測定した測定結果を表１〜２に示した。「２ＥＨＡ」は、２−エチルヘキシルアクリレートを、「ＨＥＡ」は、２−ヒドロキシエチルアクリレートを、「ＢＡ」はブチルアクリレートを、「＃４００Ｇ」はメトキシポリエチレングリコール（４００）メタクリレートを、「ＡＡ」はアクリル酸を、「ＡＳ−ａ」は、Ｎ−ブチル−４−メチルピリジニウム ヘキサフルオロホスフェートを、「ＡＳ−ｂ」は、１−メチル−３−エチルイミダゾリウム へキサフルオロホスフェートを、それぞれ意味する。   About the obtained surface protective films of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2, measured measurement results are shown in Tables 1 and 2. “2EHA” is 2-ethylhexyl acrylate, “HEA” is 2-hydroxyethyl acrylate, “BA” is butyl acrylate, “# 400G” is methoxypolyethylene glycol (400) methacrylate, and “AA” is acrylic. “AS-a” means N-butyl-4-methylpyridinium hexafluorophosphate, and “AS-b” means 1-methyl-3-ethylimidazolium hexafluorophosphate.

Figure 2015024542
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Figure 2015024542
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表１及び表２に示した測定結果から、以下のことが分かる。
本発明に係わる実施例１〜６の表面保護フィルムは、適度な粘着力があり、被着体の表面に対する汚染がなく、かつ、表面保護フィルムを被着体から剥離した時の剥離帯電圧が低い。
一方、シリコーン化合物および帯電防止剤を粘着剤層に添加した、比較例１の表面保護フィルムは、表面保護フィルムを被着体から剥離した時の、剥離帯電圧が低く良好であるが、剥離した後の、被着体に対する汚染が多くなった。また、帯電防止剤およびシリコーン化合物を減量した、比較例２では、被着体に対する汚染性は改善したが、表面保護フィルムを被着体から剥離した時の剥離帯電圧が高くなった。粘着剤に、シリコーン化合物と帯電防止剤を混合する方法では、剥離帯電圧の低減と被着体に対する汚染性を両立することが難しい。一方、剥離剤層に、シリコーン化合物および帯電防止剤を添加して、粘着剤層の表面に転写させる本発明の方法では、少量の添加量で剥離帯電圧の低減効果があるため、被着体に対する汚染もなく良好なものが得られた。 From the measurement results shown in Tables 1 and 2, the following can be understood.
The surface protective films of Examples 1 to 6 according to the present invention have moderate adhesive strength, no contamination on the surface of the adherend, and the stripping voltage when the surface protective film is peeled from the adherend. Low.
On the other hand, the surface protective film of Comparative Example 1 in which the silicone compound and the antistatic agent were added to the pressure-sensitive adhesive layer had a low peeling voltage when the surface protective film was peeled off from the adherend, but was peeled off. Later, the contamination of the adherend increased. Further, in Comparative Example 2 in which the amounts of the antistatic agent and the silicone compound were reduced, the contamination with respect to the adherend was improved, but the peeling voltage when the surface protective film was peeled from the adherend was increased. In the method in which the silicone compound and the antistatic agent are mixed in the pressure-sensitive adhesive, it is difficult to achieve both reduction of the peeling voltage and contamination to the adherend. On the other hand, in the method of the present invention in which a silicone compound and an antistatic agent are added to the release agent layer and transferred onto the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, the effect of reducing the release voltage is obtained with a small addition amount. A good product was obtained without contamination.

本発明の表面保護フィルムは、例えば、偏光板や位相差板、レンズフィルムなどの光学用フィルム、その他、各種の光学部品等の生産工程などにおいて、該光学部品等の表面に貼合して表面を保護するために用いることができる。特に、表面がシリコーン化合物やフッ素化合物などで防汚染処理してあるＬＲ偏光板やＡＧ−ＬＲ偏光板などの光学用フィルムの表面保護フィルムとして使用する場合には、被着体から剥離する時に発生する静電気の量を低くでき、かつ、剥離帯電防止性能の経時変化および被着体に対する汚染が少なく、光学部品の表面を確実に保護し、生産工程の歩留まりを向上させることができる。   The surface protective film of the present invention is, for example, an optical film such as a polarizing plate, a phase difference plate, and a lens film, and other optical components and the like, and is bonded to the surface of the optical component in the production process. Can be used to protect. In particular, when used as a surface protective film for optical films such as LR polarizing plates and AG-LR polarizing plates, the surface of which is treated with anti-contamination treatment with a silicone compound or a fluorine compound, it occurs when peeling from the adherend. The amount of static electricity to be generated can be reduced, the change in anti-separation performance with time and the contamination of the adherend are small, the surface of the optical component can be reliably protected, and the yield of the production process can be improved.

１…基材フィルム、２…粘着剤層、３…樹脂フィルム、４…剥離剤層、５…剥離フィルム、７…２０℃において液体のシリコーン系化合物および帯電防止剤、８…被着体（光学部品）、１０…表面保護フィルム、１１…剥離フィルムを剥がした表面保護フィルム、２０…表面保護フィルムを貼合した光学部品。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base film, 2 ... Adhesive layer, 3 ... Resin film, 4 ... Release agent layer, 5 ... Release film, 7 ... Liquid silicone compound and antistatic agent in 20 degreeC, 8 ... Adhering body (optical) Parts) 10 ... surface protective film, 11 ... surface protective film from which the release film has been peeled off, 20 ... optical component having the surface protective film bonded thereto

Claims (5)

透明性を有する樹脂からなる基材フィルムの片面に、粘着剤層が形成されてなり、該粘着剤層の上に、剥離剤層を有する剥離フィルムが貼合された表面保護フィルムにおいて、前記剥離フィルムが、樹脂フィルムの片面に、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、２０℃において液体のシリコーン系化合物と、融点が３０〜８０℃であるイオン性化合物とを含む樹脂組成物により前記剥離剤層が形成されてなり、前記粘着剤層がアクリル系粘着剤層であることを特徴とする表面保護フィルム。   In the surface protective film in which a pressure-sensitive adhesive layer is formed on one side of a base film made of a resin having transparency, and a release film having a release agent layer is bonded onto the pressure-sensitive adhesive layer, the release The film is a resin composition comprising a release agent mainly composed of dimethylpolysiloxane, a silicone compound that is liquid at 20 ° C., and an ionic compound having a melting point of 30 to 80 ° C. on one side of the resin film. A surface protective film comprising a release agent layer, wherein the pressure-sensitive adhesive layer is an acrylic pressure-sensitive adhesive layer. 前記シリコーン系化合物が、ポリエーテル変性シリコーンであることを特徴とする請求項１に記載の表面保護フィルム。   The surface protection film according to claim 1, wherein the silicone compound is a polyether-modified silicone. 前記アクリル系粘着剤層が、（メタ）アクリレート共重合体を架橋させてなることを特徴とする請求項１又は２に記載の表面保護フィルム。   The surface protection film according to claim 1, wherein the acrylic pressure-sensitive adhesive layer is obtained by crosslinking a (meth) acrylate copolymer. 前記剥離フィルムの前記アクリル系粘着剤層からの剥離力が、０．２Ｎ／５０ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の表面保護フィルム。   The surface protection film according to any one of claims 1 to 3, wherein a peeling force of the release film from the acrylic pressure-sensitive adhesive layer is 0.2 N / 50 mm or less. 請求項１ないし４のいずれかに記載の表面保護フィルムが貼合されてなる光学部品。   An optical component comprising the surface protective film according to claim 1 bonded thereto.
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TW105115026A TWI582193B (en) 2013-07-25 2014-06-20 Peeling film for antistatic surface protection film
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Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017109447A (en) * 2015-12-18 2017-06-22 旭硝子株式会社 Glass laminate with protective film
JP2017144608A (en) * 2016-02-16 2017-08-24 藤森工業株式会社 Surface protective film and optical component laminated with the same
JP2017144610A (en) * 2016-02-16 2017-08-24 藤森工業株式会社 Surface protective film and optical component laminated with the same
JP2017177413A (en) * 2016-03-29 2017-10-05 東レフィルム加工株式会社 Release film
JP2019014258A (en) * 2018-08-21 2019-01-31 藤森工業株式会社 Release film for antistatic surface protective film
JP2019086788A (en) * 2019-01-04 2019-06-06 藤森工業株式会社 Antistatic surface protective film
JP2019155921A (en) * 2019-04-10 2019-09-19 藤森工業株式会社 Release film for surface protective film, and surface protective film for optical film, to which the release film is stuck
JP2019188822A (en) * 2019-07-24 2019-10-31 Ａｇｃ株式会社 Glass laminate with protective film
JP2019191556A (en) * 2018-04-24 2019-10-31 住友化学株式会社 Laminate body
JP2021006638A (en) * 2020-09-24 2021-01-21 藤森工業株式会社 Anti-static surface protective film
JP2021041711A (en) * 2019-07-24 2021-03-18 Ａｇｃ株式会社 Display device
JP2021104674A (en) * 2019-07-10 2021-07-26 藤森工業株式会社 Anti-static surface protective film
JP2021165040A (en) * 2020-08-27 2021-10-14 藤森工業株式会社 Release film for surface protective film, and surface protective film for optical film with the release film laminated thereto

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5853001B2 (en) * 2013-08-13 2016-02-09 藤森工業株式会社 Surface protective film and optical component on which it is bonded
JP5963788B2 (en) * 2014-01-10 2016-08-03 藤森工業株式会社 Method for producing antistatic surface protective film, and antistatic surface protective film
JP6226904B2 (en) * 2015-03-26 2017-11-08 藤森工業株式会社 Surface protective film and optical component to which it is attached
JP2016200709A (en) * 2015-04-10 2016-12-01 コニカミノルタ株式会社 Polarizing plate protective film and polarizing plate having the same, and method for producing the polarizing plate protective film
CN111480014B (en) * 2017-12-15 2022-04-29 千住金属工业株式会社 Sliding member and bearing

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001106991A (en) * 1999-10-01 2001-04-17 Teijin Ltd Surface-protecting film and laminate composed thereof
JP2009275128A (en) * 2008-05-15 2009-11-26 Nippon Carbide Ind Co Inc Adhesive composition for surface protective film of optical member, and surface protective film for optical member

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2996840B2 (en) * 1993-07-26 2000-01-11 ダイセル化学工業株式会社 Composite film and method for producing the same
JP4279118B2 (en) * 2003-10-30 2009-06-17 藤森工業株式会社 Surface protective film and optical component on which it is adhered
JP5406615B2 (en) * 2009-07-15 2014-02-05 日東電工株式会社 Transparent film and surface protective film using the film

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001106991A (en) * 1999-10-01 2001-04-17 Teijin Ltd Surface-protecting film and laminate composed thereof
JP2009275128A (en) * 2008-05-15 2009-11-26 Nippon Carbide Ind Co Inc Adhesive composition for surface protective film of optical member, and surface protective film for optical member

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017109447A (en) * 2015-12-18 2017-06-22 旭硝子株式会社 Glass laminate with protective film
JP2017144608A (en) * 2016-02-16 2017-08-24 藤森工業株式会社 Surface protective film and optical component laminated with the same
JP2017144610A (en) * 2016-02-16 2017-08-24 藤森工業株式会社 Surface protective film and optical component laminated with the same
JP2017177413A (en) * 2016-03-29 2017-10-05 東レフィルム加工株式会社 Release film
JP2019191556A (en) * 2018-04-24 2019-10-31 住友化学株式会社 Laminate body
JP2019014258A (en) * 2018-08-21 2019-01-31 藤森工業株式会社 Release film for antistatic surface protective film
JP2019086788A (en) * 2019-01-04 2019-06-06 藤森工業株式会社 Antistatic surface protective film
JP2019155921A (en) * 2019-04-10 2019-09-19 藤森工業株式会社 Release film for surface protective film, and surface protective film for optical film, to which the release film is stuck
JP2021104674A (en) * 2019-07-10 2021-07-26 藤森工業株式会社 Anti-static surface protective film
JP7197622B2 (en) 2019-07-10 2022-12-27 藤森工業株式会社 Antistatic surface protection film
JP7362882B2 (en) 2019-07-10 2023-10-17 藤森工業株式会社 Antistatic surface protection film
JP2019188822A (en) * 2019-07-24 2019-10-31 Ａｇｃ株式会社 Glass laminate with protective film
JP2021041711A (en) * 2019-07-24 2021-03-18 Ａｇｃ株式会社 Display device
JP2021165040A (en) * 2020-08-27 2021-10-14 藤森工業株式会社 Release film for surface protective film, and surface protective film for optical film with the release film laminated thereto
JP2021006638A (en) * 2020-09-24 2021-01-21 藤森工業株式会社 Anti-static surface protective film
JP7007440B2 (en) 2020-09-24 2022-01-24 藤森工業株式会社 Antistatic surface protective film

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