JP2017177413A - Release film - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は離型フィルムに関する。更に詳しくは偏光板、位相差フィルムの粘着層の保護フィルムに有用な離型フィルムに関する。 The present invention relates to a release film. More specifically, the present invention relates to a release film useful as a protective film for a polarizing plate and an adhesive layer of a retardation film.
シリコーン系樹脂の表面層を持つ離型フィルムは、液晶偏光板や位相差板等の光学用途フィルム製造時に用いる粘着層形成時のベースフィルムとして、上記光学フィルムが貼合されるまでの粘着層保護フィルムとして機能する。 A release film having a surface layer of a silicone-based resin protects the adhesive layer until the optical film is pasted as a base film when forming an adhesive layer used in the production of optical films such as liquid crystal polarizing plates and retardation plates. Functions as a film.
光学フィルムの粘着層は、離型フィルムから剥離され、所定の材料に貼合されることでその機能を発揮する層である。そのため離型フィルムの基本機能は、粘着層の剥離力を経時や保管環境、保管期間により変化させず、粘着層に求められる機能を発揮させることにある。 The pressure-sensitive adhesive layer of the optical film is a layer that exhibits its function by being peeled from the release film and bonded to a predetermined material. Therefore, the basic function of the release film is to exhibit the function required for the adhesive layer without changing the peeling force of the adhesive layer with the passage of time, storage environment, and storage period.
離型フィルムの機能は、前述の基本機能に加えて、粘着層の貼合工程の作業負荷や作業時間を短くする観点から、剥離力が十分に低いこと（以降「軽剥離性」とする）、離型フィルム自身や、離型フィルムから剥離した粘着層の帯電による製品の故障、帯電による粘着層への埃の付着、粘着層塗布時の表面荒れを防ぐ観点から、離型フィルムの「帯電防止性」が求められている。 In addition to the basic functions described above, the release film has a sufficiently low release force from the viewpoint of shortening the work load and work time of the adhesive layer bonding process (hereinafter referred to as “light release”). From the viewpoint of preventing product failure due to charging of the release film itself and the adhesive layer peeled from the release film, dust adhesion to the adhesive layer due to charging, and surface roughening during application of the adhesive layer, “Prevention” is required.
さらに粘着層の形成工程にて、離型層上に塗布−乾燥することにより形成された際に、離型層の離型層が溶出して粘着層に移行しないこと（以降「耐溶剤性」とする）や、粘着層側に離型フィルム基材の低分子量成分（オリゴマー）が移行し、粘着層中に異物が発生しないこと（以降「オリゴマーブロック性」とする）が求められる。 Furthermore, in the formation process of the adhesive layer, when it is formed by applying and drying on the release layer, the release layer of the release layer is not eluted and does not migrate to the adhesive layer (hereinafter “solvent resistance”) And a low molecular weight component (oligomer) of the release film substrate is transferred to the adhesive layer side, and no foreign matter is generated in the adhesive layer (hereinafter referred to as “oligomer block property”).
この離型フィルムに求められる上記の４つの点の特性に対し、特許文献１では「少なくとも一軸方向に延伸されたポリエステルフィルムの片面に塗布層と離型層とが順次設けられた離型フィルムであり、塗布層が有機珪素化合物を含み、離型層がπ共役系導電性高分子樹脂を含み、離型層表面の固有抵抗（Ｒ）が１×１０１２Ω以下であり、離型フィルムを１８０℃で１０分間加熱した後の離型層表面のポリエステルオリゴマー量が２．０ｍｇ／ｍ２以下であることを特徴とする離型フィルム。」が提案されている。 For the characteristics of the above four points required for this release film, Patent Document 1 states that “a release film in which a coating layer and a release layer are sequentially provided on one side of a polyester film stretched at least in a uniaxial direction. Yes, the coating layer contains an organosilicon compound, the release layer contains a π-conjugated conductive polymer resin, the specific resistance (R) of the release layer surface is 1 × 10 12 Ω or less, and the release film is A release film characterized in that the amount of polyester oligomer on the surface of the release layer after heating at 180 ° C. for 10 minutes is 2.0 mg / m 2 or less ”has been proposed.
また特許文献２では「少なくとも一軸方向に延伸されたポリエステルフィルムの片面に、π共役系導電性高分子樹脂と、アルミニウムを含む有機化合物とを含有する塗布層と、離型層とが順次設けられて形成された構成であり、離型層表面の表面固有抵抗（Ｒ）が１×１０１２Ω以下であることを特徴とする離型フィルム。」が提案されている。 Further, in Patent Document 2, “a coating layer containing a π-conjugated conductive polymer resin and an organic compound containing aluminum and a release layer are sequentially provided on one side of a polyester film stretched at least in a uniaxial direction. A release film characterized in that the surface resistivity (R) of the surface of the release layer is 1 × 10 12 Ω or less ”has been proposed.
さらに特許文献３では「ポリエステルフィルムの少なくとも片面に塗布層を有し、当該フィルムの少なくとも片面に離型層を有し、当該離型層中に陰イオン性界面活性剤を１〜１５重量％含有することを特徴とする離型フィルム。」が提案されている。 Furthermore, in Patent Document 3, “the polyester film has a coating layer on at least one side, the release layer has at least one side of the film, and the release layer contains 1 to 15% by weight of an anionic surfactant. A release film characterized by the above has been proposed.
かかる背景技術において、本発明が解決しようとする課題は、以下の４点をすべて満たすことにある。
１．離型フィルムの剥離力が低いこと（軽剥離性）
２．離型フィルムが帯電防止性を有すること
３．離型フィルムが、オリゴマーブロック性を有すること
４．離型フィルム上に粘着剤を塗布−乾燥した際に、離型層が溶出しないこと（耐溶剤性）。
In such background art, the problem to be solved by the present invention is to satisfy all of the following four points.
1. Low release force of release film (light release)
2. 2. The release film has antistatic properties. 3. The release film has oligomer block properties. When a pressure-sensitive adhesive is applied to a release film and dried, the release layer does not elute (solvent resistance).
これに対し、本発明者らが確認したところ前述の公知技術は以下の状況にある。 On the other hand, as a result of confirmation by the present inventors, the above-mentioned known technique is in the following situation.
特許文献１の技術は、オリゴマーブロック性、帯電防止性、溶媒密着性は良好だが、剥離力が高い。特許文献２の技術は、帯電防止性と溶媒密着性は良好だが、オリゴマーブロック性が悪い。特許文献３の技術は、帯電防止性とオリゴマーブロック性は良好だが、溶媒密着性が悪い。 The technique of Patent Document 1 has good oligomer block properties, antistatic properties, and solvent adhesion, but has high peel strength. The technique of Patent Document 2 has good antistatic properties and solvent adhesion, but poor oligomer block properties. The technique of Patent Document 3 has good antistatic properties and oligomer block properties, but poor solvent adhesion.
以上の点から、これらいずれの技術、またはこれらの技術の組み合わせを行っても４つの課題を満たすことはできない。 In view of the above, the four problems cannot be satisfied even if any of these techniques or a combination of these techniques is performed.
本発明者らは、従来技術の実情に鑑み鋭意検討の結果、以下の発明に至った
１．支持基材の少なくとも一方の面に、ポリオルガノシロキサンを主たる構成成分とし、ポリアルキレンオキサイドセグメントを含む高分子化合物と金属元素を有する化合物とを含有する中間層と、シリコーン系樹脂を含む離型層とを支持基材側からこの順に有することを特徴とする、離型フィルム。
２．前記ポリオルガノシロキサンが、以下の化合物群１に記載のアルコキシシランの加水分解物縮合体であることを特徴とする、１に記載の離型フィルム。
（化合物群１） （メタ）アクリロキシアルコキシシラン、エポキシアルコキシシラン、ビニルアルコキシシラン、フェニルアルコキシシランおよびアミノアルコキシシランからなる群より選ばれる少なくとも１種のアルコキシシラン
３．前記中間層が、以下の化合物群２に由来する金属元素をおよび化合物群３に由来する金属元素を含むことを特徴とする、１または２に記載の離型フィルム。
（化合物群２） アルミニウム、チタン、ジルコニウム、亜鉛および鉄からなる群より選ばれる少なくとも１種の金属元素のキレートまたはアルコレート
（化合物群３） 過塩素酸アルカリ金属塩、パーフルオロスルホン酸アルカリ金属塩およびビス（パーフルオロスルホン酸イミド）アルカリ金属塩からなる群より選ばれる少なくとも１種のアルカリ金属塩
４．前記中間層が、イオン液体を含むことを特徴とする１から３のいずれかに記載の離型フィルム。
As a result of intensive studies in view of the actual state of the prior art, the present inventors have reached the following inventions. On at least one surface of the support substrate, an intermediate layer containing polyorganosiloxane as a main constituent, a polymer compound containing a polyalkylene oxide segment and a compound having a metal element, and a release layer containing a silicone resin A release film, characterized in that, in this order from the support substrate side.
2. 2. The release film according to 1, wherein the polyorganosiloxane is an alkoxysilane hydrolyzate condensate according to the following compound group 1.
(Compound Group 1) At least one alkoxysilane selected from the group consisting of (meth) acryloxyalkoxysilane, epoxyalkoxysilane, vinylalkoxysilane, phenylalkoxysilane, and aminoalkoxysilane. 3. The release film according to 1 or 2, wherein the intermediate layer contains a metal element derived from the following compound group 2 and a metal element derived from the compound group 3.
(Compound Group 2) Chelate or alcoholate of at least one metal element selected from the group consisting of aluminum, titanium, zirconium, zinc and iron (Compound Group 3) alkali metal perchlorate, alkali metal perfluorosulfonate And at least one alkali metal salt selected from the group consisting of bis (perfluorosulfonic acid imide) alkali metal salts. The release film according to any one of 1 to 3, wherein the intermediate layer contains an ionic liquid.
本発明によれば、軽剥離性、帯電防止性、オリゴマーブロック性、耐溶剤密着性に優れた離型フィルムを得ることができる。 According to the present invention, a release film excellent in light peelability, antistatic property, oligomer block property, and solvent resistance adhesion can be obtained.
上記課題を達成するにあたり、まず本発明者らは従来技術の問題点について以下のように考察した。まず、特許文献１に記載の技術で剥離力が高くなる直接的な原因は、離型層表面の弾性率や表面組成の均質さの低下、もしくは離型層の表面自由エネルギーが高くなったためであり、その本質原因は離型層に帯電防止剤としてπ共役系導電性高分子樹脂を含有した結果、離型層の極性が高くなって表面自由エネルギーが上昇、もしくは離型層との相溶性の関係で、最表面の粘弾性や表面組成の均一さが低下したためと考えている。 In achieving the above object, the present inventors first considered the problems of the prior art as follows. First, the direct cause of the high peel force by the technique described in Patent Document 1 is the decrease in the elastic modulus and surface composition uniformity of the release layer surface, or the increase in the surface free energy of the release layer. Yes, the essential cause is that the release layer contains π-conjugated conductive polymer resin as an antistatic agent. As a result, the polarity of the release layer increases and the surface free energy increases, or the compatibility with the release layer. Therefore, it is considered that the viscoelasticity of the outermost surface and the uniformity of the surface composition have decreased.
特許文献２に記載の技術でオリゴマーブロック性が低くなる直接的な原因は、支持基材と離型層の間にある塗布層の架橋構造が不十分で、オリゴマーを通過させたためであり、その本質的な原因は、塗布層に帯電防止剤として含むπ共役系導電性高分子樹脂が、塗布層のつくる架橋構造に直接結合できないためと考えている。 The direct cause that the oligomer block property is lowered by the technique described in Patent Document 2 is that the crosslinked structure of the coating layer between the supporting substrate and the release layer is insufficient, and the oligomer is allowed to pass through. The essential reason is that the π-conjugated conductive polymer resin contained as an antistatic agent in the coating layer cannot be directly bonded to the cross-linked structure formed by the coating layer.
また、特許文献３に記載の技術について耐溶媒密着性が悪くなる直接的な原因は、支持基材と離型層の間にある塗布層が、離型層に対して密着性が弱いことにあり、その本質的な原因は、塗布層に含まれる陰イオン性界面活性剤にあると考えている。 In addition, the direct cause of poor solvent resistance adhesion for the technique described in Patent Document 3 is that the coating layer between the support substrate and the release layer has poor adhesion to the release layer. It is believed that the essential cause is the anionic surfactant contained in the coating layer.
次に、本発明の実施の形態について具体的に述べる。本発明者らは、前述の４つの課題に対して、支持基材の少なくとも一方の面に、ポリオルガノシロキサンを主たる構成成分とし、ポリアルキレンオキサイドセグメントを含む高分子化合物と金属元素を有する化合物とを含有する中間層と、シリコーン系樹脂を含む離型層とを支持基材側からこの順に有することを特徴とすることが好ましいことを見いだした。 Next, embodiments of the present invention will be specifically described. In response to the above-described four problems, the inventors of the present invention have a polyorganosiloxane as a main constituent component on at least one surface of a support substrate, a polymer compound containing a polyalkylene oxide segment, and a compound having a metal element, It has been found that it is preferable to have an intermediate layer containing selenium and a release layer containing a silicone resin in this order from the support substrate side.
ここで「離型層」とは、離型フィルムにおいて支持基材の少なくとも一方に形成された層で、例えば粘着性や接着性を有する層（粘着層、接着層）に接触した状態で使用され、粘着層や接着層の機能を損ないにくく剥離することができ、それにより粘着層や接着層を保護する機能を有する層である。層の定義については後述する。 Here, the “release layer” is a layer formed on at least one of the supporting substrates in the release film, and is used in a state where it is in contact with a layer having adhesiveness or adhesiveness (adhesive layer, adhesive layer), for example. The layer having a function of protecting the pressure-sensitive adhesive layer and the adhesive layer can be peeled off without impairing the function of the pressure-sensitive adhesive layer and the adhesive layer. The definition of the layer will be described later.
また離型層に含まれる「シリコーン系樹脂」とは、ジメチルシロキサン骨格を主鎖、または側鎖に含む樹脂であり、その硬化方法により大別することができる。本発明においては、硬化型シリコーン系樹脂が好ましく、剥離力の観点から付加反応型シリコーン系樹脂がより好ましい。その詳細については後述する。 The “silicone resin” contained in the release layer is a resin containing a dimethylsiloxane skeleton in the main chain or side chain, and can be roughly classified according to the curing method. In the present invention, a curable silicone resin is preferable, and an addition reaction type silicone resin is more preferable from the viewpoint of peel strength. Details thereof will be described later.
さらに「中間層」とは、上記離型層と支持基材との間に存在する層であって、支持基材と離型層間の層間密着性付与を主たる目的とし、さらに離型フィルムの帯電防止、離型層の耐溶剤性や、支持基材の低分子量成分の表面移行を抑制する機能を担う層を指す。 Further, the “intermediate layer” is a layer existing between the release layer and the support substrate, and is mainly intended to provide interlayer adhesion between the support substrate and the release layer, and further charge the release film. It refers to the layer responsible for prevention, solvent resistance of the release layer and the function of suppressing the surface migration of low molecular weight components of the support substrate.
この中間層の組成について、前述にて「ポリオルガノシロキサン」を主たる構成成分とし、ポリアルキレンオキサイドセグメントを含む高分子化合物を含むことが好ましいことを述べている。 Regarding the composition of this intermediate layer, it has been described above that it is preferable to include a polymer compound containing “polyorganosiloxane” as a main constituent and a polyalkylene oxide segment.
この「ポリオルガノシロキサン」とは、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉからなるシロキサン骨格を繰り返し単位としたセグメントが、１次元から３次元に規則的またはランダムに連なり、さらにＳｉに有機基がついた高分子化合物を指す。また、「主たる構成成分」とは、中間層を形成する全セグメントのうちその質量が５０質量％を超えることを意図している。 This “polyorganosiloxane” is a polymer compound in which segments having a siloxane skeleton composed of Si—O—Si are repeated regularly or randomly from one to three dimensions, and further, an organic group is attached to Si. Point to. In addition, the “main constituent component” intends that the mass of all the segments forming the intermediate layer exceeds 50% by mass.
ポリオルガノシロキサンを主たる構成成分とすることで、その架橋構造によりオリゴマーブロック性を発現し、さらに離型層との親和性が得られるシロキサン骨格と、基材との親和性が得られる有機基の存在により、離型層−基材間の密着性を得ることができる。 By using polyorganosiloxane as the main constituent component, the cross-linked structure exhibits an oligomer block property, and furthermore, an organic group capable of obtaining an affinity with the release layer and an organic group capable of obtaining an affinity with the substrate. Due to the presence, adhesion between the release layer and the substrate can be obtained.
さらにポリオルガノシロキサンは、以下の化合物群１に記載のアルコキシシランの加水分解縮合物であることが好ましい。
（化合物群１）（メタ）アクリロキシアルコキシシラン、エポキシアルコキシシラン、ビニルアルコキシシラン、フェニルアルコキシシラン、およびアミノアルコキシシランからなる群より選ばれる少なくとも１種のアルコキシシラン。
Further, the polyorganosiloxane is preferably a hydrolysis-condensation product of alkoxysilane described in the following compound group 1.
(Compound Group 1) At least one alkoxysilane selected from the group consisting of (meth) acryloxyalkoxysilane, epoxyalkoxysilane, vinylalkoxysilane, phenylalkoxysilane, and aminoalkoxysilane.
中間層のポリオルガノシロキサンを形成する前駆体は、（メタ）アクリロキシアルコキシシラン、エポキシアルコキシシラン、ビニルアルコキシシラン、フェニルアルコキシシランおよびアミノアルコキシシランからなる群より選ばれる少なくとも１種のアルコキシシランであることが好ましい。 The precursor for forming the polyorganosiloxane of the intermediate layer is at least one alkoxysilane selected from the group consisting of (meth) acryloxyalkoxysilane, epoxyalkoxysilane, vinylalkoxysilane, phenylalkoxysilane, and aminoalkoxysilane. It is preferable.
加水分解縮合物とは化学式１にその一例が示されるもので、Ｒ１は（メタ）アクリル基、エポキシ基、ビニル基、フェニル基、アミノ基等、Ｒ２は炭素数１から４のアルキル基が好ましい。上記シランのアルコキシ基（ＯＲ２）が部分的に加水分解してシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）になると共に、シラノール縮合することにより、シロキサン結合（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ）を形成したものを指す。 An example of a hydrolysis condensate is shown in Chemical Formula 1, wherein R 1 is a (meth) acryl group, an epoxy group, a vinyl group, a phenyl group, an amino group, etc., and R 2 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Is preferred. The alkoxy group (OR 2 ) of the silane is partially hydrolyzed to become a silanol group (Si—OH) and silanol condensed to form a siloxane bond (Si—O—Si).
ポリオルガノシロキサンが、（メタ）アクリロアルコキシシラン、エポキシアルコキシシラン、ビニルアルコキシシラン、フェニルアルコキシシラン、アミノアルコキシシランの加水分解縮合物であることにより、支持基材側との親和性がより高くなり、離型層−基材間の密着性を向上することができる。 Since the polyorganosiloxane is a hydrolyzed condensate of (meth) acryloalkoxysilane, epoxyalkoxysilane, vinylalkoxysilane, phenylalkoxysilane, aminoalkoxysilane, it has a higher affinity with the support substrate side. The adhesion between the release layer and the substrate can be improved.
さらに「ポリアルキレンオキサイドセグメント」とは、Ｒ−Ｏ−Ｒからなるエーテル骨格を繰り返し単位とした重合体で、化学式２に一般式が示され、具体的にはＲ３が炭素数１から４のアルキル基が好ましい。 Furthermore, the “polyalkylene oxide segment” is a polymer having an ether skeleton composed of R—O—R as a repeating unit, the general formula is shown in Chemical Formula 2, and specifically, R 3 is a C 1-4 carbon atom. Alkyl groups are preferred.
中間層がポリアルキレンオキサイドセグメントを含有することで、中間層中での電荷担体であるイオンの移動が容易になり、高い安定した帯電防止性を有することができる。 When the intermediate layer contains the polyalkylene oxide segment, movement of ions as charge carriers in the intermediate layer is facilitated, and high antistatic properties can be obtained.
さらに、アルキレンオキサイドセグメントは、前述の化学式１で示されるポリオルガノシロキサンのＲ１、またはシラノール基と縮合反応もしくは付加反応により共有結合を形成し、ポリオルガノシロキサンと共縮合、共重合体を形成していることが、オリゴマーブロック性の観点からより好ましい。この観点から、中間層のポリアルキレンオキサイドセグメントの形成過程に用いる前駆体は、前述のポリオルガノシロキサンの好ましい前駆体と反応可能な反応性部位を有する材料、例えば、アルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレートや、アルキレンオキサイド変性アルコキシシラン、アルキレンオキサイド変性エポキシであることが好ましい。 Further, the alkylene oxide segment forms a covalent bond by condensation reaction or addition reaction with R 1 of the polyorganosiloxane represented by the above chemical formula 1 or silanol group, and forms a copolymer with the polyorganosiloxane to form a copolymer. It is more preferable from the viewpoint of the oligomer block property. From this viewpoint, the precursor used in the process of forming the polyalkylene oxide segment of the intermediate layer is a material having a reactive site capable of reacting with the preferred precursor of the polyorganosiloxane described above, for example, an alkylene oxide-modified (meth) acrylate or the like. An alkylene oxide-modified alkoxysilane and an alkylene oxide-modified epoxy are preferable.
また、この中間層の組成について、前述にて「金属元素を有する化合物」を含有することが好ましいことを述べている。 In addition, regarding the composition of the intermediate layer, it has been described above that it is preferable to contain the “compound having a metal element”.
「金属元素を有する化合物」とは、金属元素の共有結合性、イオン結合性、配位結合性または水素結合性化合物を指し、具体的には有機酸、無機酸の塩、錯体（キレート）、アルコレートなどを指す。 The “compound having a metal element” refers to a covalent bond, ionic bond, coordination bond or hydrogen bond compound of a metal element, specifically, an organic acid, a salt of an inorganic acid, a complex (chelate), This refers to alcoholates.
さらに中間層は下記の化合物群２に由来する金属元素および化合物群３に由来する金属元素を含むことがより好ましい。
（化合物群２） アルミニウム、チタン、ジルコニウム、亜鉛および鉄からなる群より選ばれる少なくとも１種の金属元素のキレートまたはアルコレート
（化合物群３） 過塩素酸アルカリ金属塩、パーフルオロスルホン酸アルカリ金属塩およびビス（パーフルオロスルホン酸イミド）アルカリ金属塩からなる群より選ばれる少なくとも１種のアルカリ金属塩。
Further, the intermediate layer more preferably contains a metal element derived from the following compound group 2 and a metal element derived from the compound group 3.
(Compound Group 2) Chelate or alcoholate of at least one metal element selected from the group consisting of aluminum, titanium, zirconium, zinc and iron (Compound Group 3) alkali metal perchlorate, alkali metal perfluorosulfonate And at least one alkali metal salt selected from the group consisting of bis (perfluorosulfonic acid imide) alkali metal salts.
ここで、「化合物群２に由来する金属元素」と「化合物群３に由来する金属元素」の意図は、中間層用塗料組成物の中に化合物群２のキレートもしくはアルコレートまたは化合物群２のアルカリ金属塩として添加され、それが塗布−乾燥工程を経て中間層内に存在するとき、化合物群２のキレートもしくはアルコレートまたは化合物群２のアルカリ金属塩が金属元素を含むそのままの形で存在する、もしくは、化合物群２のキレートもしくはアルコレートまたは化合物群２のアルカリ金属塩が中間層を構成する他の成分と反応し、金属元素を含む形で存在することを指す。 Here, the intention of “metal element derived from compound group 2” and “metal element derived from compound group 3” is that the chelate or alcoholate of compound group 2 or compound group 2 is included in the coating composition for intermediate layer. When added as an alkali metal salt and it is present in the intermediate layer through a coating-drying step, the chelate or alcoholate of compound group 2 or the alkali metal salt of compound group 2 is present as it is containing the metal element. Alternatively, it means that the chelate or alcoholate of compound group 2 or the alkali metal salt of compound group 2 reacts with other components constituting the intermediate layer and exists in a form containing a metal element.
前述の化合物群２において、金属元素のアルコレートは化学式３で表され、Ｍは金属元素（アルミニウム、チタン、ジルコニウム、亜鉛、鉄）、Ｒ４は炭素数１〜４のアルキル基、ｎは金属元素の酸化数を指す。金属元素はアルミニウム、チタン、ジルコニウムが、Ｒ４は炭素数２または３がより好ましい。 In the above-mentioned compound group 2, the alcoholate of the metal element is represented by the chemical formula 3, M is a metal element (aluminum, titanium, zirconium, zinc, iron), R 4 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and n is a metal Refers to the oxidation number of an element. The metal element is preferably aluminum, titanium, or zirconium, and R 4 has more preferably 2 or 3 carbon atoms.
金属元素のキレートは、化学式４で表され、Ｍは金属元素（アルミニウム、チタン、ジルコニウム、亜鉛、鉄）、Ｒ５、Ｒ６は炭素数１から４のアルキル基、ｎは金属元素の酸化数、ｍは１からｎまでの整数を指す。より好ましくは金属元素がアルミニウム、チタン、ジルコニウムで、Ｒ５、Ｒ６は炭素数１から３である。 The chelate of the metal element is represented by chemical formula 4, M is a metal element (aluminum, titanium, zirconium, zinc, iron), R 5 and R 6 are alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, and n is the oxidation number of the metal element , M refers to an integer from 1 to n. More preferably, the metal element is aluminum, titanium, or zirconium, and R 5 and R 6 have 1 to 3 carbon atoms.
化合物群２は、ポリオルガノシロキサンの好ましい前駆体である（メタ）アクリロキシアルコキシシラン、エポキシアルコキシシラン、ビニルアルコキシシラン、フェニルアルコキシシラン、アミノアルコキシシランと共に中間層用塗料組成物に含まれ、塗布−乾燥過程を経ることで前記アルコキシシランの加水分解縮合反応触媒、架橋剤として機能し、ポリオルガノシロキサンを主たる構成成分とした中間層の形成反応を促進する機能を有する。そのため、本発明において中間層が化合物群２に由来する金属元素を有する化合物を含有することにより、優れたオリゴマーブロック性と支持基材−離型層間の溶剤密着性を得ることができる。 The compound group 2 is contained in the coating composition for an intermediate layer together with (meth) acryloxyalkoxysilane, epoxyalkoxysilane, vinylalkoxysilane, phenylalkoxysilane, and aminoalkoxysilane, which are preferable precursors of polyorganosiloxane. By passing through the drying process, it functions as a hydrolysis condensation reaction catalyst of the alkoxysilane and a crosslinking agent, and has a function of accelerating the formation reaction of the intermediate layer containing polyorganosiloxane as the main constituent. Therefore, in the present invention, when the intermediate layer contains a compound having a metal element derived from the compound group 2, excellent oligomer block property and solvent adhesion between the supporting substrate and the release layer can be obtained.
前述の化合物群３は、化学式５（過塩素酸アルカリ金属塩）、化学式６（パーフルオロスルホン酸アルカリ金属塩）、化学式７（ビス（パーフルオロスルホン酸イミド）アルカリ金属塩）で表され、Ａはアルカリ金属元素（リチウム、ナトリウム、カリウム）が、ｎとｍは１〜６が好ましく、より好ましくは金属元素がリチウムで、ｎとｍは１〜４である。 The above-mentioned compound group 3 is represented by chemical formula 5 (alkali metal perchlorate), chemical formula 6 (perfluorosulfonic acid alkali metal salt), chemical formula 7 (bis (perfluorosulfonic acid imide) alkali metal salt), and A Is an alkali metal element (lithium, sodium, potassium), n and m are preferably 1 to 6, more preferably lithium is a metal element, and n and m are 1 to 4.
化合物群３は、アルカリ金属元素の有機強酸塩またはその誘導体であり、中間層中でアルカリ金属がイオン伝導を行う電荷担体として機能する。そのため、本発明において中間層が、化合物群３に由来する金属元素を有する化合物を含有することにより、高い帯電防止性を有することができる。 The compound group 3 is an organic strong acid salt of an alkali metal element or a derivative thereof, and the alkali metal functions as a charge carrier that conducts ions in the intermediate layer. Therefore, in the present invention, the intermediate layer can have a high antistatic property by containing a compound having a metal element derived from the compound group 3.
また、本発明において中間層は、「イオン液体」を含むことが好ましい。ここで、イオン液体とは、イオン性液体や低融点溶融塩とも呼ばれる材料で、イオンのみから構成される塩であり、室温付近でも液体状態で存在する塩を指す。 In the present invention, the intermediate layer preferably contains an “ionic liquid”. Here, the ionic liquid is a material called an ionic liquid or a low-melting-point molten salt, and is a salt composed only of ions, and indicates a salt that exists in a liquid state even near room temperature.
その構造は基本的に、カチオンとアニオンが対になった塩を形成しており、カチオンがイミダゾリウム系、ピリジニウム系、脂肪族系、ホスホネート系、ヨウ素系などの分類がある。またアニオンとしては、硫酸エステル、ホウ酸エステル、燐酸エステル、スルホン酸、ハロゲン、などがあり、その組み合わせにより得られる。イオン液体の詳細な具体例については、後述する。 The structure basically forms a salt in which a cation and an anion are paired, and the cation has a classification such as imidazolium, pyridinium, aliphatic, phosphonate, and iodine. Examples of anions include sulfuric acid ester, boric acid ester, phosphoric acid ester, sulfonic acid, halogen, and the like, which can be obtained by a combination thereof. Detailed specific examples of the ionic liquid will be described later.
さらに、イオン液体は前述の化学式１で示されるポリオルガノシロキサンのＲ１、またはシラノール基と縮合反応もしくは付加反応により共有結合を形成し、ポリオルガノシロキサンと共縮合、共重合体を形成していることが、オリゴマーブロック性の観点から好ましい。 Further, the ionic liquid forms a covalent bond by condensation reaction or addition reaction with R 1 of the polyorganosiloxane represented by the above chemical formula 1 or silanol group, and forms a co-condensation or copolymer with the polyorganosiloxane. It is preferable from the viewpoint of oligomer block property.
この観点から中間層のイオン液体は、前述のポリオルガノシロキサンの好ましい前駆体と反応可能な反応性部位を有するイオン液体、例えば、（メタ）アクリレート基や、アルコキシシリル基を有するイオン液体であることが好ましい。 From this point of view, the ionic liquid in the intermediate layer is an ionic liquid having a reactive site capable of reacting with the preferred precursor of the aforementioned polyorganosiloxane, for example, an ionic liquid having a (meth) acrylate group or an alkoxysilyl group. Is preferred.
中間層がイオン液体を含有することにより、中間層中での電荷担体が増加するため、帯電防止性を高めることができる。 When the intermediate layer contains the ionic liquid, charge carriers in the intermediate layer increase, and thus the antistatic property can be improved.
以下、本発明の実施の形態について詳細を述べる
［離型フィルム、および離型層］
本発明の離型フィルムは、支持基材の少なくとも一方の面に、前述の条件を満たす離型層および中間層を有するものであればよく、支持基材の両方の面に離型層を有してもよいし、離型層と支持基材との密着性を向上させるために、離型層に帯電防止性、耐溶剤性等を付与するため支持基材と離型層の間に複数の中間層を設けてもよい。
Hereinafter, the embodiment of the present invention will be described in detail. [Release film and release layer]
The release film of the present invention only needs to have a release layer and an intermediate layer satisfying the above conditions on at least one surface of the support substrate, and have release layers on both surfaces of the support substrate. In order to improve adhesion between the release layer and the support substrate, a plurality of layers may be provided between the support substrate and the release layer to impart antistatic properties, solvent resistance, etc. to the release layer. An intermediate layer may be provided.
前述の離型層の厚みは、１０〜５００ｎｍであることが好ましく、２０〜２００ｎｍであることがより好ましい。例えば塗布により離型層を形成する場合、離型層の厚みを上記範囲とすることで、不必要な厚みを塗布することで生産性を低下させにくく、安定した剥離性能を実現させることができるため好ましい。 The thickness of the release layer is preferably 10 to 500 nm, and more preferably 20 to 200 nm. For example, when a release layer is formed by coating, by setting the thickness of the release layer in the above range, it is difficult to reduce productivity by applying an unnecessary thickness, and stable peeling performance can be realized. Therefore, it is preferable.
本発明の離型フィルムの離型層は、前述の条件を満たすことができれば特に限定されないが、本発明における離型層用樹脂組成物により形成されていることが好ましく、本発明の離型層用塗料組成物を後述する離型フィルムの製造方法により、塗布、乾燥、硬化することにより形成することが好ましい。 The release layer of the release film of the present invention is not particularly limited as long as the above-described conditions can be satisfied, but is preferably formed of the release layer resin composition of the present invention, and the release layer of the present invention. The coating composition for coating is preferably formed by coating, drying and curing by a method for producing a release film, which will be described later.
ここで本発明における「層」とは、前記離型フィルムの表面から厚み方向に向かい、隣接する部位との構成元素の組成、粒子等の含有物の形状、厚み方向の物理特性が不連続な境界面を有することで区別される有限の厚みを有する部位を指す。より具体的には、前記離型フィルムを表面から厚み方向に各種組成／元素分析装置（ＦＴ−ＩＲ、ＸＰＳ、ＸＲＦ、ＥＤＡＸ、ＳＩＭＳ、ＥＰＭＡ、ＥＥＬＳ等）、電子顕微鏡（透過型、走査型）または光学顕微鏡にて断面観察した際、前記不連続な境界面により区別され、有限の厚みを有する部位を指す。 Here, the “layer” in the present invention is directed from the surface of the release film in the thickness direction, the composition of constituent elements with the adjacent portion, the shape of inclusions such as particles, and the physical properties in the thickness direction are discontinuous. The part which has a finite thickness distinguished by having a boundary surface is pointed out. More specifically, various compositions / element analyzers (FT-IR, XPS, XRF, EDAX, SIMS, EPMA, EELS, etc.) in the thickness direction from the surface to the release film, electron microscope (transmission type, scanning type) Alternatively, when a cross-section is observed with an optical microscope, the region is distinguished by the discontinuous boundary surface and has a finite thickness.
［離型層用樹脂組成物］
離型層用樹脂組成物は、前述の本発明の離型フィルムの離型層に好ましい樹脂組成物を指す。離型層または離型層用樹脂組成物として前述の条件を満たすことができれば、その組成は特に限定されないが、シリコーン系樹脂、有機系とシリコーン系の混合もしくは共重合樹脂などが好ましく、優れた離型性や耐熱性からシリコーン系樹脂がより好ましく、特に硬化型シリコーン系樹脂が好ましい。
[Resin composition for release layer]
The release layer resin composition refers to a resin composition that is preferable for the release layer of the above-described release film of the present invention. The composition is not particularly limited as long as the above-described conditions can be satisfied as the release layer or the release layer resin composition, but a silicone resin, a mixed or copolymer resin of organic and silicone is preferable, and excellent. In view of releasability and heat resistance, a silicone resin is more preferable, and a curable silicone resin is particularly preferable.
硬化型シリコーン系樹脂には、末端にビニル基を含有するポリジメチルシロキサンとハイドロジェンシロキサンを白金触媒のもとに、加熱硬化させた「付加反応型」、末端に水酸基を含有するポリジメチルシロキサンとハイドロジェンシロキサンとを有機錫触媒を用いて加熱硬化させた「縮重合反応型」、アルケニル基を含むシロキサンとメルカプト基を含むシロキサンとを光重合触媒を用いて硬化させる「ラジカル付加型」、エポキシ基をオニウム塩開始剤にて光開環させて硬化させる「カチオン重合型」があり、いずれを用いてもよいが、生産性、剥離力の観点から末端ビニル基を含有するポリジメチルシロキサンとハイドロジェンシロキサンを白金触媒のもとに、加熱硬化させた付加反応型が好ましい。 The curable silicone resin includes an “addition reaction type” in which polydimethylsiloxane containing a vinyl group at the terminal and hydrogensiloxane are heat-cured using a platinum catalyst, and a polydimethylsiloxane containing a hydroxyl group at the terminal. "Condensation polymerization type" in which hydrogen siloxane is heated and cured using an organotin catalyst, "Radical addition type" in which siloxane containing an alkenyl group and siloxane containing a mercapto group are cured using a photopolymerization catalyst, epoxy There is a “cationic polymerization type” in which a group is photo-opened with an onium salt initiator and cured, and either of them may be used. From the viewpoint of productivity and peeling force, polydimethylsiloxane containing a terminal vinyl group and hydro An addition reaction type in which gensiloxane is heat-cured using a platinum catalyst is preferred.
本発明の離型層用樹脂組成物は、好ましくは後述する離型層用塗料組成物を必要に応じて乾燥工程で溶媒を除去の上、硬化することにより形成することができる。 The release layer resin composition of the present invention can be preferably formed by curing the release layer coating composition, which will be described later, after removing the solvent in a drying step as necessary.
［離型層用塗料組成物、離型層用樹脂前駆体］
離型層用塗料組成物は、前述の離型フィルムの離型層もしくは離型層用樹脂組成物を形成することができる、室温にて液体の性状を示す混合物であり、少なくとも後述する離型フィルムの製造方法によって、離型層用樹脂組成物を形成可能な材料（こ前駆体と呼ぶ）と、重合開始剤、硬化剤、硬化触媒含み、さらに溶媒、粒子、帯電防止剤などの各種添加剤を含んでもよい。
[Release Layer Coating Composition, Release Layer Resin Precursor]
The release layer coating composition is a mixture that can form the release layer of the release film or the release layer resin composition described above, and is a mixture that exhibits liquid properties at room temperature. A material that can form a resin composition for a release layer (referred to as a precursor), a polymerization initiator, a curing agent, a curing catalyst, and various additions such as a solvent, particles, and an antistatic agent, depending on the film production method An agent may be included.
離型層用塗料組成物はシリコーン系樹脂前駆体が好ましく、特に硬化型シリコーン系樹脂を形成可能な樹脂前駆体が好ましく、「付加反応型」、「縮重合反応型」、「ラジカル付加型」、「カチオン重合型」の樹脂前駆体、および重合開始剤、硬化剤、硬化触媒を含む塗料組成物がより好ましい。 The release layer coating composition is preferably a silicone-based resin precursor, particularly preferably a resin precursor capable of forming a curable silicone-based resin, and includes “addition reaction type”, “condensation polymerization reaction type”, and “radical addition type”. A coating composition containing a “cationic polymerization type” resin precursor, a polymerization initiator, a curing agent, and a curing catalyst is more preferable.
付加反応型シリコーン系樹脂前駆体と触媒の具体例としては、末端にビニル基を含有するポリジメチルシロキサンとハイドロジェンシロキサンとを含むものが好ましく、信越化学工業（株）社製のＫＳ−３６５０、ＫＳ８４３、ＫＳ８４７、ＫＳ８４７Ｈ、ＫＳ８４７Ｔ、Ｘ６２−２８２９、ＫＳ８３８、ＰＬ−５０Ｔ、東レ・ダウコーニング（株）社製のＳＤ７３３３、ＳＲＸ３５７、ＳＲＸ３４５、ＬＴＣ３１０、ＬＴＣ３０３Ｅ、ＬＴＣ３００Ｂ、ＬＴＣ３５０Ｇ、ＬＴＣ７５０Ａ、ＬＴＣ８５１、ＬＴＣ７５９、ＬＴＣ７５５、ＬＴＣ７６１、ＬＴＣ８５６、ＳＲＸ２１２、などが挙げられる。 As specific examples of the addition reaction type silicone resin precursor and the catalyst, those containing polydimethylsiloxane containing a vinyl group at the terminal and hydrogensiloxane are preferable, KS-3650 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KS843, KS847, KS847H, KS847T, X62-2829, KS838, PL-50T, Toray Dow Corning Co., Ltd. SD7333, SRX357, SRX345, LTC310, LTC303E, LTC300B, LTC350G, LTC751A, LTC751 LTC761, LTC856, SRX212, etc. are mentioned.
縮重合反応型シリコーン系樹脂前駆体と触媒の具体例としては、末端に水酸基を含有するポリジメチルシロキサンとハイドロジェンシロキサンとを有機錫触媒を含むものが好ましく、東レダウコーニング（株）社製ＳＲＸ２９０やＳＹ ＬＯＦＦ２３が挙げられる。 As a specific example of the polycondensation reaction type silicone resin precursor and the catalyst, a polydimethylsiloxane containing a hydroxyl group at the terminal and a hydrogensiloxane containing an organotin catalyst are preferable. SRX290 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. And SY LOFF23.
ラジカル付加型シリコーン系樹脂前駆体と触媒の具体例としては、アルケニル基を含むシロキサンとメルカプト基を含むシロキサンと光重合触媒を含むものが好ましく、東レ・ダウコーニング（株）社製ＢＹ２４−５１０ＨおよびＢＹ２４−５４４などが挙げられる。 Specific examples of the radical addition type silicone resin precursor and catalyst include those containing a siloxane containing an alkenyl group, a siloxane containing a mercapto group, and a photopolymerization catalyst. BY24-510H manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. BY24-544 etc. are mentioned.
カチオン重合型シリコーン系樹脂前駆体と触媒の具体例としては、エポキシ基を含むシロキサンと、オニウム塩開始剤を含むものが好ましく、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製ＴＰＲ６５０１、ＵＶ９３００およびＸＳ５６−Ａ２７７５などが挙げられる。 As specific examples of the cationic polymerization type silicone resin precursor and the catalyst, those containing an epoxy group-containing siloxane and an onium salt initiator are preferable. TPR6501, UV9300 and XS56- manufactured by Momentive Performance Materials Japan GK A2775 etc. are mentioned.
本発明における離型層用塗料組成物の固形分濃度は、特に限定されるものではないが、離型層用塗料組成物が溶媒を含む場合には、通常１０質量％以下であり、更には０．５〜５質量％であることが好ましい。０．５質量％未満であると、支持基材もしくは後述する中間層上でハジキが発生しやすくなる場合があり、他方１０質量％を超えると表面が粗くなる場合がある。 The solid content concentration of the release layer coating composition in the present invention is not particularly limited, but when the release layer coating composition contains a solvent, it is usually 10% by mass or less. It is preferable that it is 0.5-5 mass%. If it is less than 0.5% by mass, repellency may easily occur on the supporting base material or an intermediate layer described later, and if it exceeds 10% by mass, the surface may become rough.
［中間層］
本発明の離型フィルムでは、支持基材と離型層間の層間密着性向上、離型フィルムの帯電防止、離型層の耐溶剤性や、支持基材からの低分子量成分の表面移行を抑制するオリゴマーブロック性の観点から、支持基材と離型層の間に１層以上の中間層を設けることが好ましく、機能に合せて複数の中間層を設けてもよい。
[Middle layer]
In the release film of the present invention, the interlayer adhesion between the support substrate and the release layer is improved, the antistatic property of the release film, the solvent resistance of the release layer, and the surface migration of low molecular weight components from the support substrate is suppressed. From the viewpoint of the oligomer block property, it is preferable to provide one or more intermediate layers between the support substrate and the release layer, and a plurality of intermediate layers may be provided in accordance with the function.
中間層の形成方法は、上記の目的を達する中間層が形成できれば、その形成方法は特に限定されない。支持基材の製膜途中で後述する中間層用塗料組成物を塗布したフィルムを作成後、別の工程で離型層を塗布してもよく、支持基材の製膜後、中間層用塗料組成物を支持基材に塗布−乾燥−巻き取りを行い、次いで離型層を塗布−乾燥−巻き取り（逐次塗布）を行ってもよいが、好ましくは、中間層用塗料組成物を塗布、溶媒除去後、直ちに離型層を塗布することが、支持基材と離型層間の密着性、塗膜品位の面から好ましい。 The formation method of the intermediate layer is not particularly limited as long as the intermediate layer that achieves the above-described purpose can be formed. An intermediate layer coating composition may be applied in a separate step after forming a film coated with an intermediate layer coating composition, which will be described later, during the formation of the supporting base material. After forming the supporting base material, the intermediate layer coating material may be applied. The composition may be applied to a supporting substrate, dried, wound, and then the release layer may be coated, dried, wound (sequential coating), preferably, the intermediate layer coating composition is applied, Immediately after removal of the solvent, it is preferable to apply the release layer from the viewpoints of adhesion between the supporting substrate and the release layer and the quality of the coating film.
例えば中間層を塗布により形成する場合、中間層の乾燥塗布厚みは、好ましくは、１０〜５００ｎｍ、より好ましくは２０〜２００ｎｍ、さらに好ましくは２０〜１００ｎｍである。塗布厚みが１０ｎｍ〜５００ｎｍであると、離型層の本来の目的である離型性能が安定し、かつ中間層によって付与したい機能、即ち支持基材と離型層間の密着性向上、オリゴマーブロック性、帯電防止性、耐溶剤性と優れた塗膜品位を得ることができるため好ましい。 For example, when the intermediate layer is formed by coating, the dry coating thickness of the intermediate layer is preferably 10 to 500 nm, more preferably 20 to 200 nm, and still more preferably 20 to 100 nm. When the coating thickness is 10 nm to 500 nm, the release performance, which is the original purpose of the release layer, is stable, and the function to be imparted by the intermediate layer, that is, improved adhesion between the support substrate and the release layer, oligomer block property In addition, it is preferable because an excellent antistatic property and solvent resistance can be obtained.
［中間層用塗料組成物］
中間層用塗料組成物は、支持基材上に塗布、乾燥することで中間層の主たる構成成分をポリオルガノシロキサンにすることができれば特に限定されないが、中間層用塗料組成物は、ポリオルガノシロキサンの前駆体として、（メタ）アクリロキシアルコキシシラン、エポキシアルコキシアルコキシシラン、ビニルアルコキシシラン、フェニルアルコキシシラン、アミノアルコキシシランを含み、支持基材上に塗布、乾燥することで、その加水分解縮合体を形成できる組成物であることが好ましい。
[Coating composition for intermediate layer]
The coating composition for the intermediate layer is not particularly limited as long as the main component of the intermediate layer can be made into a polyorganosiloxane by coating and drying on the support substrate, but the coating composition for the intermediate layer is made of a polyorganosiloxane. As a precursor of (meth) acryloxyalkoxysilane, epoxyalkoxyalkoxysilane, vinylalkoxysilane, phenylalkoxysilane, aminoalkoxysilane, and coating and drying on a supporting substrate, the hydrolysis condensate is obtained. A composition that can be formed is preferred.
ポリオルガノシロキサン前駆体の具体例は、ビニルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−（３、４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、５−ヘキセニルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジイソプロペノキシシラン、２−（３、４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルジメトキシシランなどがある。 Specific examples of the polyorganosiloxane precursor include vinyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane. , Γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, 5-hexenyltrimethoxysilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiisopropenoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyldimethyl Kishishiran, and the like.
また、中間層用塗料組成物は、中間層がポリアルキレンオキサイドセグメントを含有することができれば、中間層用塗料組成物は特に限定されないが、ポリアルキレンオキサイドセグメントの前駆体としてポリオルガノシロキサンの前駆体と反応可能な反応性部位を有する前駆体を含むことが好ましく、アルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレートや、アルキレンオキサイド変性アルコキシシロキサン、アルキレンオキサイド変性エポキシであることが好ましい。 The intermediate layer coating composition is not particularly limited as long as the intermediate layer can contain a polyalkylene oxide segment, but the polyalkylene oxide segment precursor is a polyorganosiloxane precursor. It is preferable to include a precursor having a reactive site capable of reacting with an alkylene oxide-modified (meth) acrylate, an alkylene oxide-modified alkoxysiloxane, or an alkylene oxide-modified epoxy.
具体的なポリアルキレンオキサイドセグメントの前駆体の例としては、ポリエチレングリコールモノアクリレート、ポリプロピレングリコールモノアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート（ポリエチレグリコール単位の重合度は４〜１４の範囲が好ましい）、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリテトラメチレングリコールジアクリレート、ポリ（エチレングリコール−テトラメチレングリコール）ジアクリレート、ポリ（プロピレングリコール−テトラメチレングリコール）ジアクリレート、ポリプロピレングリコール−ポリブチレングリコールモノメタクリレート、メトキシポリエチレングリコールモノメタクリレート、メトキシポリエチレングリコールモノアクリレート、オクトキシポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコールモノメタクリレート、オクトキシポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコールモノアクリレート、ラウロキシポリエチレングリコールモノメタクリレート、ラウロキシポリエチレングリコールモノアクリレート、ステアロキシポリエチレングリコールモノメタクリレート、ステアロキシポリエチレングリコールモノアクリレート、アリロキシポリエチレングリコールモノメタクリレート、アリロキシポリエチレングリコールモノアクリレートが挙げられる。 Examples of specific precursors of polyalkylene oxide segments include polyethylene glycol monoacrylate, polypropylene glycol monoacrylate, polyethylene glycol diacrylate (the degree of polymerization of polyethylene glycol units is preferably in the range of 4 to 14), polypropylene glycol diacrylate , Polytetramethylene glycol diacrylate, poly (ethylene glycol-tetramethylene glycol) diacrylate, poly (propylene glycol-tetramethylene glycol) diacrylate, polypropylene glycol-polybutylene glycol monomethacrylate, methoxypolyethylene glycol monomethacrylate, methoxypolyethylene glycol Monoacrylate, octoxypolyethylene glycol Polypropylene glycol monomethacrylate, octoxy polyethylene glycol-polypropylene glycol monoacrylate, lauroxy polyethylene glycol monomethacrylate, lauroxy polyethylene glycol monoacrylate, stearoxy polyethylene glycol monomethacrylate, stearoxy polyethylene glycol monoacrylate, allyloxy polyethylene glycol monomethacrylate, Examples include allyloxy polyethylene glycol monoacrylate.
中間層用塗料組成物に含まれるポリアルキレンオキサイドセグメントの前駆体の量は好ましくは１〜４０質量％、より好ましくは３〜３０質量％であり、さらに好ましくは５〜２５質量％の範囲である。化合物群２の量が１質量％未満であると、帯電防止性が不十分になる場合がある。４０質量％を超えると、基材と離型層の密着性が低下する場合がある。 The amount of the polyalkylene oxide segment precursor contained in the coating composition for the intermediate layer is preferably 1 to 40% by mass, more preferably 3 to 30% by mass, and further preferably 5 to 25% by mass. . When the amount of the compound group 2 is less than 1% by mass, the antistatic property may be insufficient. When it exceeds 40 mass%, the adhesiveness of a base material and a release layer may fall.
また中間層用塗料組成物は、中間層が前述の化合物群２に由来する金属元素を有する化合物を含むことができれば、特に限定されないが、中間層用塗料組成物中にアルミニウム、チタン、ジルコニウム、亜鉛および鉄からなる群より選ばれる少なくとも１種の金属元素のキレート、またはアルコレートを含有することが好ましく、アルミニウム、チタン、ジルコニウムのキレート、またはアルコレートがより好ましい。 The intermediate layer coating composition is not particularly limited as long as the intermediate layer can contain a compound having a metal element derived from the above-mentioned compound group 2, but the intermediate layer coating composition contains aluminum, titanium, zirconium, It is preferable to contain a chelate or alcoholate of at least one metal element selected from the group consisting of zinc and iron, and more preferably an aluminum, titanium, zirconium chelate or alcoholate.
具体的なアルミニウム元素を含むキレート、またはアルコレートの例としては、アルミニウムトリス（アセチルアセトネ−ト）、アルミニウムモノアセチルアセトネートビス（エチルアセトアセテート）、アルミニウム−ジ−ｎ−ブトキシド−モノエチルアセトアセテート、アルミニウム−ジ−イソ−プロポキシド−モノメチルアセトアセテート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が例示される。 Examples of chelates or alcoholates containing specific aluminum elements include aluminum tris (acetylacetonate), aluminum monoacetylacetonate bis (ethylacetoacetate), aluminum-di-n-butoxide-monoethylacetate Examples include acetate, aluminum di-iso-propoxide monomethyl acetoacetate, aluminum tris (ethyl acetoacetate), and the like.
具体的なチタン元素を含むキレート、またはアルコレートの例としては、テトラノルマルブチルチタネート、テトライソプロピルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、テトラメチルチタネート等のチタンオルソエステル類；チタンアセチルアセトナート、チタンテトラアセチルアセトナート、ポリチタンアセチルアセトナート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテート、チタントリエタノールアミネート、チタンエチルアセトアセテート等のチタンキレート類等が例示される。 Specific examples of chelates or alcoholates containing titanium element include titanium orthoesters such as tetranormal butyl titanate, tetraisopropyl titanate, butyl titanate dimer, tetra (2-ethylhexyl) titanate, tetramethyl titanate; titanium acetyl Examples thereof include titanium chelates such as acetonate, titanium tetraacetylacetonate, polytitanium acetylacetonate, titanium octylene glycolate, titanium lactate, titanium triethanolamate, and titanium ethylacetoacetate.
具体的な元素を含むキレート、またはアルコレートの例としては、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムノルマルプロピレート、ジルコニウムノルマルブチレート、ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムモノアセチルアセトナート、ジルコニウムビスアセチルアセトナート等が例示される。 Examples of chelates or alcoholates containing specific elements include zirconium acetate, zirconium normal propyrate, zirconium normal butyrate, zirconium tetraacetylacetonate, zirconium monoacetylacetonate, zirconium bisacetylacetonate and the like. The
中間層用塗料組成物に含まれる化合物群２に由来する金属元素を有する化合物の量は０．１〜３０質量％、好ましくは１〜２０質量％であり、さらに好ましくは３〜１０質量％の範囲である。化合物群２の量が０．１質量％未満であると、塗布層の硬化反応が迅速に進まず、塗布層の上に離型層を形成した後の離型面の塗膜密着性が低下する場合がある。３０質量％を超えると、塗料組成物の経時安定性の低下、塗膜品位の低下が発生する場合がある。 The amount of the compound having a metal element derived from the compound group 2 contained in the intermediate layer coating composition is 0.1 to 30% by mass, preferably 1 to 20% by mass, more preferably 3 to 10% by mass. It is a range. When the amount of the compound group 2 is less than 0.1% by mass, the curing reaction of the coating layer does not proceed rapidly, and the coating film adhesion on the release surface after forming the release layer on the coating layer decreases. There is a case. If it exceeds 30% by mass, the coating composition may deteriorate in stability over time and in coating quality.
また中間層用塗料組成物は、中間層が前述の化合物群３に由来する金属元素を有する化合物を含むことができれば、特に限定されないが、中間層用塗料組成物中に過塩素酸アルカリ金属塩、パーフルオロスルホン酸アルカリ金属塩、ビス（パーフルオロスルホン酸イミド）アルカリ金属塩を含有することが好ましい。 The intermediate layer coating composition is not particularly limited as long as the intermediate layer can contain a compound having a metal element derived from the above-mentioned compound group 3, but the alkali metal perchlorate in the intermediate layer coating composition. It is preferable that perfluorosulfonic acid alkali metal salt and bis (perfluorosulfonic acid imide) alkali metal salt are contained.
過塩素酸アルカリ金属塩、パーフルオロスルホン酸アルカリ金属塩、ビス（パーフルオロスルホン酸イミド）アルカリ金属塩の具体例としては、三菱マテリアル電子化成（株）のＥＦ−１２、ＥＦ−１３、ＥＦ−１５（以上トリフルオロメタンスルホン酸塩）、ＥＦ−２２、ＥＦ−２３、ＥＦ−２５（以上ペンタフルオロエタンスルホン酸塩）、ＥＦ−３２、ＥＦ−３３、ＥＦ−３５（以上ヘキサフルオロプロパンスルホン酸塩）、ＫＦＢＳ、ＥＦ−４３、ＬＦＢＳ（以上ノナンフルオロブタンスルホン酸塩）、ＥＦ−Ｎ１１２、ＥＦ−Ｎ１１３、ＥＦ−Ｎ１１５（以上ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド）、ＥＦ−Ｎ１４２、ＥＦ−Ｎ１４３、ＥＦ−Ｎ１４５（以上（トリフルオロメタンスルホニル−ノニルフルオロブタンスルホニル）イミド）、ＥＦ−Ｎ４４２、ＥＦ−Ｎ４４３、ＥＦ−Ｎ４４５（以上、ビスノニルフルオロブタンスルホニルイミド）、が挙げられる。 Specific examples of alkali metal perchlorate, alkali metal perfluorosulfonic acid, and alkali metal bis (perfluorosulfonic acid imide) include EF-12, EF-13, and EF- from Mitsubishi Materials Electronics Chemical Co., Ltd. 15 (above trifluoromethanesulfonate), EF-22, EF-23, EF-25 (above pentafluoroethanesulfonate), EF-32, EF-33, EF-35 (above hexafluoropropanesulfonate) ), KFBS, EF-43, LFBS (more nonanefluorobutanesulfonate), EF-N112, EF-N113, EF-N115 (more bis (trifluoromethanesulfonyl) imide), EF-N142, EF-N143, EF -N145 (above (trifluoromethanesulfonyl-nonylfluorobutanesulfur ) Imide), EF-N442, EF-N443, EF-N445 (above, bis-nonyl perfluorobutane sulfonyl imide), and the like.
中間層用塗料組成物に含まれる化合物群３の量は好ましくは０．１〜３０質量％、より好ましくは１〜２０質量％であり、さらに好ましくは５〜１５質量％の範囲である。化合物群２の量が０．１質量％未満であると、帯電防止性が不十分になる場合がある。３０質量％を超えると、離型層まで溶出し、剥離力が上昇する場合がある。 The amount of the compound group 3 contained in the coating composition for intermediate layer is preferably 0.1 to 30% by mass, more preferably 1 to 20% by mass, and further preferably 5 to 15% by mass. When the amount of the compound group 2 is less than 0.1% by mass, the antistatic property may be insufficient. When it exceeds 30 mass%, it may elute to a mold release layer and a peeling force may rise.
また本発明における中間層用塗料組成物はイオン液体を含むことが好ましい。イオン液体の構造は基本的に、カチオンとアニオンが対になった塩を形成しており、カチオンがイミダゾリウム系、ピリジニウム系、脂肪族系、ホスホネート系、ヨウ素系などの分類がある。またアニオンとしては、硫酸エステル、ホウ酸エステル、燐酸エステル、スルホン酸、ハロゲン、などがあり、その組み合わせにより得られる。 Moreover, it is preferable that the coating composition for intermediate | middle layers in this invention contains an ionic liquid. The structure of the ionic liquid basically forms a salt in which a cation and an anion are paired, and the cation has a classification such as imidazolium, pyridinium, aliphatic, phosphonate, and iodine. Examples of anions include sulfuric acid ester, boric acid ester, phosphoric acid ester, sulfonic acid, halogen, and the like, which can be obtained by a combination thereof.
具体的なイオン液体の例としては、日本乳化剤（株）のＡＳ１００、ＡＳ３００、ＡＳ４００、広栄化学（株）のＩＬ−Ｐシリーズ、ＩＬ−Ａシリーズ、ＩＬ−Ｃシリーズ、ＩＬ−ＩＭシリーズ、ＩＬ−ＡＰシリーズ、などが挙げられる。 Specific examples of the ionic liquid include AS100, AS300, AS400 of Nippon Emulsifier Co., Ltd., IL-P series, IL-A series, IL-C series, IL-IM series, IL-IM series of Guangei Chemical Co., Ltd. AP series etc. are mentioned.
さらに、より好ましい反応性部位を有するイオン液体の例としては日本乳化剤（株）ＪＩ６２Ｊ０１、ＪＩ６２Ｇ０１、広栄化学（株）のＩＬ−ＭＡシリーズ、ＩＬ−Ｓシリーズなどが挙げられる。 Furthermore, examples of ionic liquids having more preferable reactive sites include Japan Emulsifier Co., Ltd. JI62J01, JI62G01, Guangei Chemical Co., Ltd. IL-MA series, IL-S series, and the like.
中間層用塗料組成物に含まれるイオン液体の量は好ましくは０．１〜３０質量％、より好ましくは５〜２０質量％であり、さらに好ましくは７〜１５質量％の範囲である。化合物群２の量が０．１質量％未満であると、帯電防止性が不十分になる場合がある。３０質量％を超えると、離型層まで溶出し、剥離力が上昇する場合がある。 The amount of the ionic liquid contained in the intermediate layer coating composition is preferably 0.1 to 30% by mass, more preferably 5 to 20% by mass, and further preferably 7 to 15% by mass. When the amount of the compound group 2 is less than 0.1% by mass, the antistatic property may be insufficient. When it exceeds 30 mass%, it may elute to a mold release layer and a peeling force may rise.
本発明における中間層用塗料組成物の固形分濃度は、特にこれに限定されるものではないが、中間層用塗料組成物が溶媒を含む場合には、通常２０質量％以下であり、更には０．５〜１０質量％であることが好ましい。０．５質量％未満であると、基材フィルム上でハジキが発生しやすくなる場合があり、他方２０質量％を超えると、剥離力が著しく上昇する場合がある。 The solid content concentration of the intermediate layer coating composition in the present invention is not particularly limited to this, but when the intermediate layer coating composition contains a solvent, it is usually 20% by mass or less, It is preferable that it is 0.5-10 mass%. If it is less than 0.5% by mass, repellency may easily occur on the base film, while if it exceeds 20% by mass, the peeling force may be remarkably increased.
［その他の塗料組成物添加剤］
前述の離型層用塗料組成物と中間層用塗料組成物は溶媒を含んでもよく製造適性の面から溶媒を含むことが好ましい。ここで溶媒とは塗布後の乾燥工程にてほぼ全量を蒸発させることが可能な、常温、常圧で液体である物質を指す。本発明の離型フィルムに適した塗料組成物は、溶媒を含んでもよい。溶媒の種類数としては１種類以上２０種類以下が好ましく、より好ましくは１種類以上１０種類以下、さらに好ましくは１種類以上６種類以下である。
[Other paint composition additives]
The aforementioned release layer coating composition and intermediate layer coating composition may contain a solvent, and preferably contain a solvent from the viewpoint of production suitability. Here, the solvent refers to a substance that is liquid at room temperature and normal pressure, which can be evaporated almost in the entire drying step after coating. The coating composition suitable for the release film of the present invention may contain a solvent. The number of solvent types is preferably 1 or more and 20 or less, more preferably 1 or more and 10 or less, and still more preferably 1 or more and 6 or less.
溶媒の種類とは溶媒を構成する分子構造によって決まる。すなわち、同一の元素組成で、かつ官能基の種類と数が同一であっても結合関係が異なるもの（構造異性体）、前記構造異性体ではないが、３次元空間内ではどのような配座をとらせてもぴったりとは重ならないもの（立体異性体）は、種類の異なる溶媒として取り扱う。例えば、２−プロパノールと、ｎ−プロパノールは異なる溶媒として取り扱う。 The type of solvent is determined by the molecular structure constituting the solvent. That is, the same elemental composition and the same type and number of functional groups have different bond relationships (structural isomers), which are not structural isomers, but what conformations are in three-dimensional space Those that do not overlap exactly even if they are removed (stereoisomers) are treated as different types of solvents. For example, 2-propanol and n-propanol are handled as different solvents.
［支持基材］
本発明における支持基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ポリアミドフィルム、アクリル樹脂フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、シクロオレフィン樹脂フィルム等が挙げられるが、特に離型フィルムに使用される支持基材としては、機械的強度、耐熱性、熱寸法安定性および耐薬品性に優れ、且つ経済的である２軸延伸ポリエステルフィルムが好ましい
支持基材の表面には、前記中間層を形成する前に各種の表面処理を施すことも可能である。表面処理の例としては、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理およびオゾン酸化処理が挙げられる。これらの中でもグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理および火焔処理が好ましく、グロー放電処理と紫外線処理がさらに好ましい。
[Supporting substrate]
Examples of the support substrate in the present invention include polyester films such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, polyethylene films, polypropylene films, polyvinyl chloride films, polyvinylidene chloride films, polyvinyl alcohol films, and ethylene-vinyl acetate. Copolymer film, polystyrene film, polycarbonate film, polymethylpentene film, polysulfone film, polyetheretherketone film, polyethersulfone film, polyphenylene sulfide film, polyetherimide film, polyimide film, fluororesin film, polyamide film, acrylic Resin film, norbornene resin film, cycloolefin A biaxially stretched polyester film that is excellent in mechanical strength, heat resistance, thermal dimensional stability, chemical resistance, and economical as a supporting substrate used for a release film, in particular. It is also possible to subject the surface of the support substrate to various surface treatments before forming the intermediate layer. Examples of the surface treatment include chemical treatment, mechanical treatment, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, laser treatment, mixed acid treatment and ozone oxidation treatment. Among these, glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona discharge treatment and flame treatment are preferred, and glow discharge treatment and ultraviolet treatment are more preferred.
［離型フィルムの製造方法］
本発明における離型層は、離型層用塗料組成物を、中間層を設けた支持基材上に塗布することにより形成する方法が好ましい。また、中間層を設ける場合も同様に、支持基材上に中間層用塗料組成物を塗布することにより形成する方法が好ましい。
[Method for producing release film]
The release layer in the present invention is preferably formed by applying the release layer coating composition on a support substrate provided with an intermediate layer. Similarly, in the case of providing an intermediate layer, a method of forming the intermediate layer by applying an intermediate layer coating composition on a supporting substrate is also preferable.
支持基材上への塗料組成物の塗布方法は特に限定されないが、塗料組成物をディップコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やダイコート法（米国特許第２６８１２９４号明細書）などにより支持基材等に塗布することにより層を形成することが好ましい。さらに、これらの塗布方式のうち、グラビアコート法またはダイコート法が塗布方法としてより好ましい。次いで、支持基材等の上に塗布された液膜を乾燥する。得られる離型フィルム中から完全に溶媒を除去することに加え、塗膜の硬化を促進する観点からも、乾燥工程では液膜の加熱を伴うことが好ましい。 Although the coating method of the coating composition on the supporting substrate is not particularly limited, the coating composition is formed by dip coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating, or die coating (US Pat. No. 2,681,294). It is preferable to form a layer by applying to a supporting substrate or the like. Further, among these coating methods, the gravure coating method or the die coating method is more preferable as the coating method. Next, the liquid film applied on the support substrate or the like is dried. In addition to completely removing the solvent from the obtained release film, it is preferable to involve heating of the liquid film in the drying step from the viewpoint of accelerating the curing of the coating film.
乾燥方法については、伝熱乾燥（高熱物体への密着）、対流伝熱（熱風）、輻射伝熱（赤外線）、その他（マイクロ波、誘導加熱）などが挙げられる。この中でも、本発明の製造方法では、精密に幅方向でも乾燥速度を均一にする必要から、対流伝熱または輻射伝熱を使用した方式が好ましい。 Examples of the drying method include heat transfer drying (adherence to a high-temperature object), convection heat transfer (hot air), radiant heat transfer (infrared ray), and others (microwave, induction heating). Among these, in the production method of the present invention, a method using convective heat transfer or radiant heat transfer is preferable because it is necessary to make the drying speed uniform even in the width direction.
さらに、熱またはエネルギー線を照射することによるさらなる硬化操作（硬化工程）を行ってもよい。硬化工程において、熱で硬化する場合には、室温から２００℃以下であることが好ましく、硬化反応の活性化エネルギーの観点から、より好ましくは１００℃以上２００℃以下、さらに好ましくは１３０℃以上２００℃以下である。 Furthermore, you may perform the further hardening operation (hardening process) by irradiating a heat | fever or an energy ray. When curing with heat in the curing step, the temperature is preferably from room temperature to 200 ° C., more preferably from 100 ° C. to 200 ° C., and even more preferably from 130 ° C. to 200 ° C., from the viewpoint of the activation energy of the curing reaction. It is below ℃.
また、エネルギー線により硬化する場合には汎用性の点から電子線（ＥＢ線）および／または紫外線（ＵＶ線）であることが好ましい。また、紫外線を照射する際に用いる紫外線ランプの種類としては、例えば、放電ランプ方式、フラッシュ方式、レーザー方式、無電極ランプ方式等が挙げられる。放電ランプ方式である高圧水銀灯を用いて紫外線硬化させる場合、紫外線の照度が１００〜３，０００ｍＷ／ｃｍ２、好ましくは２００〜２，０００ｍＷ／ｃｍ２、さらに好ましくは３００〜１，００ｍＷ／ｃｍ２となる条件で紫外線照射を行うことが好ましく、紫外線の積算光量が１００〜３，０００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは２００〜２，０００ｍＪ／ｃｍ２、さらに好ましくは３００〜１，５００ｍＪ／ｃｍ２となる条件で紫外線照射を行うことがより好ましい。ここで、紫外線照度とは、単位面積当たりに受ける照射強度で、ランプ出力、発光スペクトル効率、発光バルブの直径、反射鏡の設計および被照射物との光源距離によって変化する。しかし、搬送スピードによって照度は変化しない。また、紫外線積算光量とは単位面積当たりに受ける照射エネルギーで、その表面に到達するフォトンの総量である。積算光量は、光源下を通過する照射速度に反比例し、照射回数とランプ灯数に比例する。 Moreover, when hardening with an energy ray, it is preferable that it is an electron beam (EB ray) and / or an ultraviolet-ray (UV ray) from a versatility point. Examples of the ultraviolet lamp used when irradiating ultraviolet rays include a discharge lamp method, a flash method, a laser method, and an electrodeless lamp method. When UV curing is performed using a high-pressure mercury lamp that is a discharge lamp method, the illuminance of UV is 100 to 3,000 mW / cm 2 , preferably 200 to 2,000 mW / cm 2 , and more preferably 300 to 1,000 mW / cm 2. performing the ultraviolet irradiation is preferred, the accumulated light quantity of ultraviolet 100~3,000mJ / cm 2, preferably 200~2,000mJ / cm 2, more preferably a 300~1,500mJ / cm 2 under the condition that the It is more preferable to perform ultraviolet irradiation under conditions. Here, the ultraviolet illuminance is the irradiation intensity received per unit area, and varies depending on the lamp output, the emission spectrum efficiency, the diameter of the light emitting bulb, the design of the reflecting mirror, and the light source distance to the irradiated object. However, the illuminance does not change depending on the conveyance speed. Further, the UV integrated light amount is irradiation energy received per unit area, and is the total amount of photons reaching the surface. The integrated light quantity is inversely proportional to the irradiation speed passing under the light source, and is proportional to the number of irradiations and the number of lamps.
また、本発明の離型フィルムは、例えば偏光板、位相差フィルムの粘着層の保護用途に好適に利用することができる。 Moreover, the release film of this invention can be utilized suitably for the protection use of the adhesion layer of a polarizing plate and retardation film, for example.
次に、実施例に基づいて本発明を説明するが、本発明は必ずしもこれらに限定されるものではない。なお、同一の化合物については特記しない限り同一の製品を用いた。 Next, although this invention is demonstrated based on an Example, this invention is not necessarily limited to these. The same product was used for the same compound unless otherwise specified.
［塗料組成物の作成］
［中間層用塗料組成物a１〜a３３の作成］
中間層用塗料組成物a１〜a３３は、表１に示す材料と比率で混合することにより得た。なお表１中の各原材料の詳細は下記の通りである。
[Preparation of paint composition]
[Creation of intermediate layer coating compositions a1 to a33]
The intermediate layer coating compositions a1 to a33 were obtained by mixing the materials shown in Table 1 in proportions. The details of each raw material in Table 1 are as follows.
［ポリオルガノシロキサン前駆体：化合物群１］
Ａ１：３メタクリロキシプロピルトリメトキシシシラン（ＫＢＭ−５０３ 信越化学工業（株））
Ａ２：３グリシドプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−４０３ 信越化学工業（株））
Ａ３：ビニルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−１００３ 信越化学工業（株））
Ａ４：フェニルトリエトキシシラン（ＫＢＥ−１０３ 信越化学工業（株））
Ａ５：３アミノプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−９０３ 信越化学工業（株））。
[Polyorganosiloxane precursor: Compound group 1]
A1: 3 methacryloxypropyltrimethoxysilane (KBM-503 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
A2: 3 Glycidpropyltrimethoxysilane (KBM-403 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
A3: Vinyltrimethoxysilane (KBM-1003 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
A4: Phenyltriethoxysilane (KBE-103 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
A5: 3 aminopropyltrimethoxysilane (KBM-903 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).
［ポリアルキレンオキサイドセグメント前駆体］
Ｂ１：ポリエチレングリコールジアクリレート（ＮＫエステルＡ−６００ 新中村化学工業（株））
Ｂ２：ポリエチレングリコールポリグリシジルエーテル（ＳＲ−４ＧＬ 阪本薬品工業（株））
Ｂ３：ポリエーテル変性トリメトキシシラン（ＤｙｎａｓｙｌａｎＲ４１４４ エボニック・デグサ・ジャパン株式会社）
Ｂ４：トリメチロールプロパントリポリオキシエチレンエーテル（ＴＭＰ−６０日本乳化剤（株））。
[Polyalkylene oxide segment precursor]
B1: Polyethylene glycol diacrylate (NK ester A-600 Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
B2: Polyethylene glycol polyglycidyl ether (SR-4GL Sakamoto Pharmaceutical Co., Ltd.)
B3: Polyether-modified trimethoxysilane (Dynasylan R 4144 Evonik Degussa Japan Co., Ltd.)
B4: Trimethylolpropane tripolyoxyethylene ether (TMP-60 Nippon Emulsifier Co., Ltd.).
［アルコキシシランの加水分解縮合反応触媒、架橋剤：化合物群２］
Ｃ１：アルミニウムトリスアセチルアセトネート（Ａ−１０１３Ｒ マツモトファインケミカル（株））
Ｃ２：アルミニウムイソプロポキシド（Ａ−１０１０ マツモトファインケミカル（株））
Ｃ３：チタンアセチルアセトネート（ＴＣ−１００ マツモトファインケミカル（株））
Ｃ４：ジルコニウムテトラアセチルアセトネート（ＺＣ−１５０マツモトファインケミカル（株））
Ｃ５：鉄アセチルアセトネート（アセトープＦｅ ホープ製薬（株）。
[Alkoxysilane Hydrolysis Condensation Reaction Catalyst, Crosslinking Agent: Compound Group 2]
C1: Aluminum trisacetylacetonate (A-1013R Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd.)
C2: Aluminum isopropoxide (A-1010 Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd.)
C3: Titanium acetylacetonate (TC-100 Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd.)
C4: Zirconium tetraacetylacetonate (ZC-150 Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd.)
C5: Iron acetylacetonate (Acetope Fe Hope Pharmaceutical Co., Ltd.)
［アルカリ金属元素の有機強酸塩、誘導体：化合物群３］
Ｄ１：メタンスルホン酸イミドリチウム（ＥＦ−１５ 三菱マテリアル電子化成（株））
Ｄ２：ブタンスルホン酸イミドリチウム（ＥＦ−Ｎ４４５ 三菱マテリアル電子化成（株））
Ｄ３：ブタンスルホン酸イミドカリ（ＥＦ−Ｎ４４２ 三菱マテリアル電子化成（株））。
[Organic strong acid salts and derivatives of alkali metal elements: Compound group 3]
D1: Lithium imide methanesulfonate (EF-15 Mitsubishi Materials Electronics Chemical Co., Ltd.)
D2: Lithium butanesulfonic acid imidolithium (EF-N445 Mitsubishi Materials Electronics Chemical Co., Ltd.)
D3: Butanesulfonic acid imidokari (EF-N442 Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Corporation).
［イオン液体］
Ｅ１：アクリル基を有するイオン液体（アミノイオンＲＡＳシリーズＪＩ６２Ｊ０１ 日本乳化剤（株））
Ｅ２：アルコキシシリル基を有するイオン液体（アミノイオンＲＡＳシリースＪＩ６２Ｇ０２ 日本乳化剤（株））
Ｅ３：反応性部位を有さないイオン液体（アミノイオンＲＡＳ１００ 日本乳化剤（株）。
[Ionic liquid]
E1: An ionic liquid having an acrylic group (amino ion R AS series JI62J01 Nippon Emulsifier Co., Ltd.)
E2: an ionic liquid having an alkoxysilyl group (amino ion R AS series JI62G02 Nippon Emulsifier Co., Ltd.)
E3: an ionic liquid having no reactive site (amino ion R AS100 Nippon Emulsifier Co., Ltd.)
［他添加剤］
Ｆ１：光重合開始剤（イルガキュア１８４ ＢＡＳＦジャパン（株）。
[Other additives]
F1: Photopolymerization initiator (Irgacure 184 BASF Japan Ltd.).
［溶媒］
Ｇ１：イソプロピルアルコール
Ｇ２：トルエン。
[solvent]
G1: Isopropyl alcohol G2: Toluene.
［離型層用塗料組成物b１、b２の作成］
［離型層用塗料組成物b１］ 下記材料を混合し離型層用塗料組成物b１を得た。
[Preparation of release layer coating compositions b1 and b2]
[Release Layer Coating Composition b1] The following materials were mixed to obtain a release layer coating composition b1.
・メチルビニルポリシロキサンおよびメチル水素化ポリシロキサンのトルエン溶液：１０質量部 （ＫＳ８４７Ｈ 信越化学工業（株）製 固形分濃度 ３０質量％）
・メチルビニルポリシロキサンと白金の錯体溶液：０．１質量部（ＰＬ−５０Ｔ 信越化学工業（株）製）
・トルエン：１０質量部
・ヘプタン：１０質量部。
-Toluene solution of methylvinylpolysiloxane and methylhydrogenated polysiloxane: 10 parts by mass (KS847H manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., solid content concentration: 30% by mass)
・ Methyl vinyl polysiloxane and platinum complex solution: 0.1 parts by mass (PL-50T manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
-Toluene: 10 mass parts-Heptane: 10 mass parts.
［離型層用塗料組成物b２］ 下記材料を混合し離型層用塗料組成物b２を得た。 [Release Layer Coating Composition b2] The following materials were mixed to obtain a release layer coating composition b2.
・メチルヘキシレンポリシロキサンおよびメチル水素化ポリシロキサンのトルエン溶液：１０質量部（ＬＴＣ７５０Ａ 東レダウコーニング（株）製 固形分濃度 ３０質量％）
・メチルビニルポリシロキサンと白金の錯体溶液：０．１質量部（ＳＲＸ２１２ 東レダウコーニング（株）製）
・トルエン：１０質量部
・ヘプタン：１０質量部。
-Toluene solution of methylhexylene polysiloxane and methylhydrogenated polysiloxane: 10 parts by mass (LTC750A, manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., solid content concentration of 30% by mass)
・ Methylvinylpolysiloxane and platinum complex solution: 0.1 part by mass (SRX212, manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.)
-Toluene: 10 mass parts-Heptane: 10 mass parts.
［離型フィルムの作成］
以下の離型フィルムの作成−c１〜c８にしたがって離型フィルムを得た。
[Create release film]
Preparation of release film below-release films were obtained according to c1 to c8.
［離型フィルムの作成−c１］
厚み３８μｍのポリエステルフィルム（東レ（株）製商品名“ルミラー”（登録商標）Ｒ６０）に、中間層用塗料組成物を、乾燥・硬化後の塗布厚みが４０ｎｍとなるようにグラビアコーターで塗布し、１００℃で３秒乾燥硬化した。
[Creation of release film-c1]
An intermediate layer coating composition was applied to a 38 μm thick polyester film (trade name “Lumirror” (registered trademark) R60) manufactured by Toray Industries, Inc.) with a gravure coater so that the coating thickness after drying and curing was 40 nm. And cured at 100 ° C. for 3 seconds.
次いで、５分以内に離型層用塗料組成物を、乾燥後の塗布厚みが８０ｎｍとなるようにグラビアコートで塗布し、１２０℃で３０秒乾燥硬化し、次いで高圧水銀灯にて、１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して離型フィルムを得た。 Next, within 5 minutes, the release layer coating composition was applied by gravure coating so that the coating thickness after drying was 80 nm, dried and cured at 120 ° C. for 30 seconds, and then 100 mJ / cm with a high-pressure mercury lamp. A release film was obtained by irradiating 2 ultraviolet rays.
［離型フィルムの作成−c２］
前記離型フィルムの作成−c１に対し、中間層用塗料組成物の乾燥・硬化後の塗布厚みを２０ｎｍとなるようにグラビアコーターで塗布した以外は同様にして、離型フィルムを得た。
[Creation of release film-c2]
For the release film-c1, a release film was obtained in the same manner except that the intermediate layer coating composition was coated with a gravure coater so that the coating thickness after drying and curing was 20 nm.
［離型フィルムの作成−c３］
前記離型フィルムの作成−c１に対し、中間層用塗料組成物の乾燥・硬化後の塗布厚みを６０ｎｍとなるようにグラビアコーターで塗布した以外は同様にして、離型フィルムを得た。
[Creation of release film-c3]
For the release film-c1, a release film was obtained in the same manner except that the intermediate layer coating composition was applied with a gravure coater so that the coating thickness after drying and curing was 60 nm.
［離型フィルムの作成−c４］
前記離型フィルムの作成−c１に対し、中間層用塗料組成物の乾燥・硬化後の塗布厚みを１５ｎｍとなるようにグラビアコーターで塗布した以外は同様にして、離型フィルムを得た。
[Creation of release film-c4]
For the release film-c1, a release film was obtained in the same manner except that the intermediate layer coating composition was coated with a gravure coater so that the coating thickness after drying and curing was 15 nm.
［離型フィルムの作成−c５］
前記離型フィルムの作成−c１に対し、離型層用塗料組成物の乾燥・硬化後の塗布厚みを５０ｎｍとなるようにグラビアコーターで塗布した以外は同様にして、離型フィルムを得た。
[Creation of release film-c5]
For the release film-c1, a release film was obtained in the same manner except that the release layer coating composition was applied with a gravure coater so that the coating thickness after drying and curing was 50 nm.
［離型フィルムの作成−c６］
前記離型フィルムの作成−c１に対し、離型層用塗料組成物の乾燥・硬化後の塗布厚みを１５０ｎｍとなるようにグラビアコーターで塗布した以外は同様にして、離型フィルムを得た。
[Creation of release film-c6]
For the release film-c1, a release film was obtained in the same manner except that the release layer coating composition was coated with a gravure coater so that the coating thickness after drying and curing was 150 nm.
［離型フィルムの作成−c７］
前記離型フィルムの作成−c１に対し、離型層用塗料組成物の乾燥・硬化後の塗布厚みを３０ｎｍとなるようにグラビアコーターで塗布した以外は同様にして、離型フィルムを得た。
[Creation of release film-c7]
For the release film-c1, a release film was obtained in the same manner except that the release layer coating composition was applied with a gravure coater so that the coating thickness after drying and curing was 30 nm.
［離型フィルムの作成−c８］
前記離型フィルムの作成−c１に対し、中間層用塗料組成物を塗布せず、離型層用塗料組成物のみを乾燥後の塗布厚みが８０ｎｍとなるようにグラビアコートで塗布し、１２０℃で３０秒乾燥硬化して離型フィルムを得た。
[Creation of release film-c8]
Preparation of release film-c1 The intermediate layer coating composition was not applied, but only the release layer coating composition was applied by gravure coating so that the coating thickness after drying was 80 nm. And dried and cured for 30 seconds to obtain a release film.
以上の方法により実施例１〜３８、比較例１〜５の離型フィルムを作成した。各実施例・比較例に対応する表２に各実施例と比較例の中間層、離型層の塗料組成物、中間層、離型層の厚み、製造方法を表２に記載した。 The release film of Examples 1-38 and Comparative Examples 1-5 was created with the above method. Table 2 corresponding to each example / comparative example shows the intermediate layer, release layer coating composition, intermediate layer, release layer thickness, and production method of each example and comparative example.
［離型フィルムの評価］
作成した離型フィルムについて、次に示す性能評価を実施し、得られた結果を表１に示す。特に断らない場合を除き、測定は各実施例・比較例において、１つのサンプルにつき場所を変えて３回測定を行い、その平均値を用いた。
[Evaluation of release film]
About the created release film, the following performance evaluation was implemented and the obtained result is shown in Table 1. Unless otherwise specified, in each of the examples and comparative examples, the measurement was performed three times at different locations for each sample, and the average value was used.
［剥離力（常温）］
離型フィルムの離型層形成面に粘着テープ（日東電工（株）製、ポリエステルテープ商品名３１Ｂ：以下３１Ｂテープ）を、５ｋｇｆのゴムローラーを１往復させて圧着し、２０℃６５％ＲＨ２４時間放置後、引張り試験機を用いて３００ｍｍ／分の速度で１８０°剥離した時の応力を測定した。剥離力は０．１３ｍＮ以下を合格とした。
[Peeling power (room temperature)]
An adhesive tape (manufactured by Nitto Denko Corporation, polyester tape product name 31B: hereinafter referred to as 31B tape) is pressure-bonded by reciprocating a 5 kgf rubber roller once to the release layer forming surface of the release film, and 20 ° C. and 65% RH for 24 hours. After being left, the stress when peeled 180 ° at a speed of 300 mm / min was measured using a tensile tester. The peeling force was determined to be 0.13 mN or less.
［耐溶剤離型性保持率］
テスター産業社製、学振型摩擦試験機ＩＩ型を用いて、離型フィルムの離型層表面に対し、トルエン約１ｍｌを染み込ませた綿布（金巾３号）で荷重２００ｇｆ×３０往復擦過し、フィルム面についた溶剤を乾燥させた後、ポリエステル粘着テープ（日東電工（株）社製Ｎｏ．３１Ｂテープ、１８ｍｍ幅）を、５ｋｇｆローラーで圧着させながら貼り合わせ、１時間放置し、引張り試験機で剥離速度３００ｍｍ／分、剥離角度１８０°でテープを剥離した時の荷重を測定した。この剥離力をトルエン含浸綿布で擦過した後の離型層形成面の剥離力とした。
[Solvent releasability retention ratio]
Using Tester Sangyo Co., Ltd., Gakushin Friction Tester Type II, the surface of the release layer of the release film was rubbed back and forth with a cotton cloth (gold width 3) soaked with about 1 ml of toluene, After drying the solvent on the film surface, a polyester adhesive tape (Nitto Denko Co., Ltd. No. 31B tape, 18 mm width) was bonded while being pressed with a 5 kgf roller and left for 1 hour, with a tensile tester. The load when the tape was peeled at a peeling speed of 300 mm / min and a peeling angle of 180 ° was measured. This peeling force was defined as the peeling force of the release layer forming surface after rubbing with a toluene-impregnated cotton cloth.
上記測定に用いたサンプルとは別の離型フィルムの離型層形成面に、ポリエステル粘着テープ（日東電工（株）社製Ｎｏ．３１Ｂテープ、１８ｍｍ幅）を、５ｋｇｆローラーで圧着させながら貼り合わせ、１時間放置し、引張り試験機で剥離速度３００ｍｍ／分、剥離角度１８０°でテープを剥離した時の荷重を測定し、この剥離力を初期の離型層形成面の剥離力とした。 A polyester adhesive tape (Nitto Denko Co., Ltd. No. 31B tape, 18 mm width) is bonded to a release layer forming surface of a release film different from the sample used for the above measurement while being pressed with a 5 kgf roller. The load when the tape was peeled off at a peeling speed of 300 mm / min and a peeling angle of 180 ° was measured with a tensile tester for 1 hour, and this peeling force was defined as the initial peeling force of the release layer forming surface.
この結果を以下の数式に当てはめて、耐溶剤離型性保持率を計算した。耐溶剤離型性保持率が８５％以上を合格とした。
耐溶剤離型性保持率＝Ａ／Ｂ×１００
Ａ：初期の離型層形成面の剥離力
Ｂ：トルエン含浸綿布で擦過した後の離型層形成面の剥離力。
This result was applied to the following formula to calculate the solvent release resistance retention. A solvent releasability retention rate of 85% or more was considered acceptable.
Solvent releasability retention ratio = A / B × 100
A: Peeling force on the initial release layer forming surface B: Peeling force on the release layer forming surface after rubbing with a toluene-impregnated cotton cloth.
［帯電防止性・・・初期の表面抵抗値］
２３℃×６５％ＲＨ環境下にて、表面抵抗測定機（三菱化学（株）製 ハイレスターＵＸ 検出上限値 ９×１０１４Ω／□）を用い、離型フィルムの離型層形成面側の任意の３点を測定した。その平均値を初期の表面抵抗値とし、９×１０１２Ω／□以下を合格とした。
[Antistatic property: Initial surface resistance]
In a 23 ° C. x 65% RH environment, using a surface resistance measuring machine (High Lester UX detection upper limit 9 × 10 14 Ω / □, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) Three arbitrary points were measured. The average value was defined as the initial surface resistance value, and 9 × 10 12 Ω / □ or less was accepted.
［オリゴマーブロック性・・・ヘイズ上昇値］
離型フィルムを１６０℃、１０分間熱処理を行い、離型層と反対面の析出物をエタノールで拭き取って照射面だけのオリゴマーによるヘイズを測定した。日本電色工業（株）製ヘイズメーターＮＤＨ２０００（ＪＩＳ Ｋ７１３６（２０００年版））により、ヘイズを測定した。
また、熱処理を行ってない離型フィルムも同様にヘイズを測定し、熱処理した該フィルムのヘイズの値から差し引いて、熱処理で発生したオリゴマーによるヘイズの上昇値として評価した。ヘイズの上昇値として０．５％以下を合格とした。
[Oligomer block property: Increase in haze]
The release film was heat-treated at 160 ° C. for 10 minutes, the precipitate on the surface opposite to the release layer was wiped off with ethanol, and the haze due to the oligomer only on the irradiated surface was measured. Haze was measured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. haze meter NDH2000 (JIS K7136 (2000 version)).
Moreover, the release film which was not heat-processed similarly measured haze, and it subtracted from the haze value of this heat-processed film, and evaluated it as the raise value of the haze by the oligomer which generate | occur | produced by heat processing. An increase in haze of 0.5% or less was accepted.
表３に評価結果をまとめた。評価結果において、１項目でも合格とならないものについて、課題未達成と判断した。表３に示すように本発明の実施例はいずれも合格しており、本発明が解決しようとしている課題を達成している。 Table 3 summarizes the evaluation results. In the evaluation result, even if one item did not pass, it was judged that the problem was not achieved. As shown in Table 3, all the examples of the present invention passed, and the problems to be solved by the present invention were achieved.
本発明の離型フィルムは、例えば偏光板、位相差フィルムの粘着層の保護用途に好適に利用することができる。 The release film of the present invention can be suitably used for, for example, protecting a polarizing plate and an adhesive layer of a retardation film.
Claims (4)
（化合物群１）（メタ）アクリロキシアルコキシシラン、エポキシアルコキシシラン、ビニルアルコキシシラン、フェニルアルコキシシランおよびアミノアルコキシシランからなる群より選ばれる少なくとも１種のアルコキシシラン 2. The release film according to claim 1, wherein the polyorganosiloxane is a hydrolyzate condensate of an alkoxysilane described in the following compound group 1.
(Compound Group 1) At least one alkoxysilane selected from the group consisting of (meth) acryloxyalkoxysilane, epoxyalkoxysilane, vinylalkoxysilane, phenylalkoxysilane and aminoalkoxysilane
（化合物群２） アルミニウム、チタン、ジルコニウム、亜鉛および鉄からなる群より選ばれる少なくとも１種の金属元素のキレートまたはアルコレート
（化合物群３） 過塩素酸アルカリ金属塩、パーフルオロスルホン酸アルカリ金属塩およびビス（パーフルオロスルホン酸イミド）アルカリ金属塩からなる群より選ばれる少なくともとも１種のアルカリ金属塩 3. The release film according to claim 1, wherein the intermediate layer contains a metal element derived from the following compound group 2 and a metal element derived from the compound group 3.
(Compound Group 2) Chelate or alcoholate of at least one metal element selected from the group consisting of aluminum, titanium, zirconium, zinc and iron (Compound Group 3) alkali metal perchlorate, alkali metal perfluorosulfonate And at least one alkali metal salt selected from the group consisting of bis (perfluorosulfonic acid imide) alkali metal salts
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021518862A (en) * | 2018-02-28 | 2021-08-05 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | Aqueous release coating composition |
Citations (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006110945A (en) * | 2004-10-18 | 2006-04-27 | Toray Advanced Film Co Ltd | Mold release film |
| JP2008279669A (en) * | 2007-05-11 | 2008-11-20 | Mitsubishi Plastics Ind Ltd | Mold release film |
| JP2011132309A (en) * | 2009-12-22 | 2011-07-07 | Matsumoto Fine Chemical Co Ltd | Antistatic release composition |
| JP2012157978A (en) * | 2011-01-28 | 2012-08-23 | Dow Corning Toray Co Ltd | Laminate and method of preventing or reducing electrification of the same |
| US20130115465A1 (en) * | 2010-07-02 | 2013-05-09 | Huhtamaki Films Germany Gmbh & Co. Kg | Release film with long-term antistatic effect |
| JP2013244667A (en) * | 2012-05-25 | 2013-12-09 | Fujimori Kogyo Co Ltd | Release film for adhesive film and adhesive film using the same |
| JP2014069361A (en) * | 2012-09-27 | 2014-04-21 | Dainippon Printing Co Ltd | Thermal transfer image-receiving sheet |
| JP2014113741A (en) * | 2012-12-10 | 2014-06-26 | Mitsubishi Plastics Inc | Release film |
| JP2014151572A (en) * | 2013-02-09 | 2014-08-25 | Mitsubishi Plastics Inc | Release film |
| JP2015024542A (en) * | 2013-07-25 | 2015-02-05 | 藤森工業株式会社 | Surface protective film and optical component with surface protective film affixed |
| US20150037536A1 (en) * | 2012-03-28 | 2015-02-05 | Lintec Corporation | Release film for ceramic green sheet production process |
| JP2015208946A (en) * | 2014-04-28 | 2015-11-24 | 三菱樹脂株式会社 | Release polyester film |
| JP2019052310A (en) * | 2018-11-01 | 2019-04-04 | 藤森工業株式会社 | Adhesive film and surface protective film |
-
2016
- 2016-03-29 JP JP2016065130A patent/JP6691703B2/en active Active
Patent Citations (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006110945A (en) * | 2004-10-18 | 2006-04-27 | Toray Advanced Film Co Ltd | Mold release film |
| JP2008279669A (en) * | 2007-05-11 | 2008-11-20 | Mitsubishi Plastics Ind Ltd | Mold release film |
| JP2011132309A (en) * | 2009-12-22 | 2011-07-07 | Matsumoto Fine Chemical Co Ltd | Antistatic release composition |
| US20130115465A1 (en) * | 2010-07-02 | 2013-05-09 | Huhtamaki Films Germany Gmbh & Co. Kg | Release film with long-term antistatic effect |
| JP2012157978A (en) * | 2011-01-28 | 2012-08-23 | Dow Corning Toray Co Ltd | Laminate and method of preventing or reducing electrification of the same |
| US20150037536A1 (en) * | 2012-03-28 | 2015-02-05 | Lintec Corporation | Release film for ceramic green sheet production process |
| JP2013244667A (en) * | 2012-05-25 | 2013-12-09 | Fujimori Kogyo Co Ltd | Release film for adhesive film and adhesive film using the same |
| JP2014069361A (en) * | 2012-09-27 | 2014-04-21 | Dainippon Printing Co Ltd | Thermal transfer image-receiving sheet |
| JP2014113741A (en) * | 2012-12-10 | 2014-06-26 | Mitsubishi Plastics Inc | Release film |
| JP2014151572A (en) * | 2013-02-09 | 2014-08-25 | Mitsubishi Plastics Inc | Release film |
| JP2015024542A (en) * | 2013-07-25 | 2015-02-05 | 藤森工業株式会社 | Surface protective film and optical component with surface protective film affixed |
| JP2015208946A (en) * | 2014-04-28 | 2015-11-24 | 三菱樹脂株式会社 | Release polyester film |
| JP2019052310A (en) * | 2018-11-01 | 2019-04-04 | 藤森工業株式会社 | Adhesive film and surface protective film |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021518862A (en) * | 2018-02-28 | 2021-08-05 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | Aqueous release coating composition |
| JP7149338B2 (en) | 2018-02-28 | 2022-10-06 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | Aqueous release coating composition |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
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