JP2019086788A - Antistatic surface protective film - Google Patents

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Abstract

To provide an antistatic surface protective film which is less in contamination to an adherend and has excellent peeling antistatic performance without time degradation.SOLUTION: In an antistatic surface protective film, on one surface of a base material film 1, an adhesive layer 2 is formed which is formed of an acrylic polymer of a copolymer copolymerized with 1-30 pts.wt. of (a1) a (meth)acrylate monomer having 1 to 4 carbon atoms in an alkyl group, 70-99 pts.wt. of (a2) a (meth)acrylate monomer having 5 to 18 carbon atoms in an alkyl group and 0.1-12 pts.wt. of (B) a monomer that contains a hydroxyl group and is copolymerizable, further contains (C) a bifunctional or higher isocyanate compound, (D) a crosslinking accelerator and (E) a ketoenol tautomer, and is formed of an adhesive composition containing no antistatic agent, and a peeling film 5 in which a peeling agent layer 4 containing an antistatic agent is laminated on one surface of a resin film is stuck to the surface of the adhesive layer.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、帯電防止表面保護フィルムに関する。さらに詳細には、帯電防止性能を備えた帯電防止表面保護フィルムの製造方法、及び帯電防止表面保護フィルムに関し、被着体に対する汚染が少なく、且つ、経時劣化しないで優れた剥離帯電防止性能を有する帯電防止表面保護フィルムの製造方法、及び帯電防止表面保護フィルムを提供するものである。   The present invention relates to an antistatic surface protection film. More specifically, with regard to a method for producing an antistatic surface protective film having an antistatic performance, and an antistatic surface protective film, it has less contamination to an adherend and has excellent peeling antistatic performance without deterioration with time. Abstract: A method for producing an antistatic surface protective film, and an antistatic surface protective film.

偏光板、位相差板、ディスプレイ用のレンズフィルム、反射防止フィルム、ハードコートフィルム、タッチパネル用透明導電性フィルム等の光学用フィルム、及びそれを用いたディスプレイなどの光学製品を製造、搬送する際には、該光学用フィルムの表面に表面保護フィルムを貼合して、後工程における表面の汚れや傷付きを防止することがなされている。製品である光学用フィルムの外観検査は、表面保護フィルムを剥がして、再び、貼合する手間を省いて作業効率を高めるため、表面保護フィルムを光学用フィルムに貼合したまま行うこともある。
従来から、基材フィルムの片面に、粘着剤層を設けた表面保護フィルムが、光学製品の製造工程において、傷や汚れの付着を防止するために、一般的に使用されている。表面保護フィルムは、微粘着力の粘着剤層を介して光学用フィルムに貼合される。粘着剤層を微粘着力とするのは、使用済みの表面保護フィルムを光学用フィルムの表面から剥離して取り除くときに、容易に剥離でき、且つ、粘着剤が、被着体である製品の光学用フィルムに付着して残留しないようにする(いわゆる、糊残りの発生を防ぐ)ためである。
Optical films such as polarizing plates, retardation plates, lens films for displays, antireflection films, hard coat films, transparent conductive films for touch panels, and optical products such as displays using the films The surface protective film is bonded to the surface of the optical film to prevent the surface from being soiled or damaged in a later step. The appearance inspection of an optical film which is a product may be performed with the surface protective film adhered to the optical film in order to peel off the surface protective film and to save labor for bonding again to enhance work efficiency.
Heretofore, a surface protective film provided with an adhesive layer on one side of a substrate film is generally used in order to prevent adhesion of scratches and dirt in the manufacturing process of an optical product. The surface protective film is bonded to the optical film through the pressure-sensitive adhesive layer with a slight adhesion. The pressure-sensitive adhesive layer has a slight adhesion because it can be easily peeled off when the used surface protective film is peeled off from the surface of the optical film, and the adhesive is an adherend. The purpose is to prevent the film from adhering and remaining on the optical film (so-called generation of adhesive residue).

近年、液晶ディスプレイパネルの生産工程において、光学用フィルムの上に貼合された表面保護フィルムを、剥離して取り除くときに発生する剥離帯電圧により、液晶ディスプレイパネルの表示画面を制御するための、ドライバーIC等の回路部品が破壊される現象や、液晶分子の配向が損傷する現象が、発生件数は少ないながらも起きている。
また、液晶ディスプレイパネルの消費電力を低減させるため、液晶材料の駆動電圧が低くなってきており、これに伴って、ドライバーICの破壊電圧も低くなっている。最近では、剥離帯電圧を+0.7kV〜−0.7kVの範囲内にすることが求められてきている。
このため、表面保護フィルムを、被着体である光学用フィルムから剥離する時に、剥離帯電圧が高いことによる不具合を防止するため、剥離帯電圧を低く抑えるための帯電防止剤を含む粘着剤層を用いた表面保護フィルムが、提案されている。
In recent years, in the production process of liquid crystal display panels, for controlling the display screen of a liquid crystal display panel by a peeling charge voltage generated when the surface protection film bonded on the optical film is peeled and removed. The phenomenon that circuit components such as driver ICs are destroyed and the phenomenon that the alignment of liquid crystal molecules is damaged are occurring although the number of occurrence is small.
Further, in order to reduce the power consumption of the liquid crystal display panel, the driving voltage of the liquid crystal material is becoming lower, and accordingly, the breakdown voltage of the driver IC is also becoming lower. In recent years, it has been required to set the peeling voltage within the range of +0.7 kV to -0.7 kV.
For this reason, when peeling a surface protection film from the film for optics which is a to-be-adhered body, in order to prevent the problem by the peeling charge voltage being high, the adhesive layer containing the antistatic agent for restraining a peeling charge voltage low A surface protection film using a has been proposed.

例えば、特許文献1には、アルキルトリメチルアンモニウム塩、水酸基含有アクリル系ポリマー、ポリイソシアネートからなる粘着剤を用いた、表面保護フィルムが開示されている。
また、特許文献2には、イオン性液体と酸価が1.0以下のアクリルポリマーからなる粘着剤組成物、及びそれを用いた粘着シート類が開示されている。
また、特許文献3には、アクリルポリマー、ポリエーテルポリオール化合物、アニオン吸着性化合物により処理したアルカリ金属塩からなる粘着組成物、及びそれを用いた表面保護フィルムが開示されている。
また、特許文献4には、イオン性液体、アルカリ金属塩、ガラス転移温度0℃以下のポリマーからなる粘着剤組成物、及びそれを用いた表面保護フィルムが開示されている。
また、特許文献5,6には、表面保護フィルムの粘着剤層の中に、ポリエーテル変性シリコーンを混合することが示されている。
For example, Patent Document 1 discloses a surface protection film using an adhesive comprising an alkyltrimethyl ammonium salt, a hydroxyl group-containing acrylic polymer, and a polyisocyanate.
Patent Document 2 discloses a pressure-sensitive adhesive composition comprising an ionic liquid and an acrylic polymer having an acid value of 1.0 or less, and a pressure-sensitive adhesive sheet using the same.
Further, Patent Document 3 discloses a pressure-sensitive adhesive composition comprising an acrylic polymer, a polyether polyol compound, an alkali metal salt treated with an anion adsorbing compound, and a surface protection film using the same.
Further, Patent Document 4 discloses a pressure-sensitive adhesive composition comprising an ionic liquid, an alkali metal salt, a polymer having a glass transition temperature of 0 ° C. or less, and a surface protection film using the same.
Patent Documents 5 and 6 show that polyether modified silicone is mixed in the adhesive layer of the surface protective film.

特開2005−131957号公報JP 2005-131957 A 特開2005−330464号公報JP 2005-330464 A 特開2005−314476号公報JP 2005-314476 A 特開2006−152235号公報Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-152235 特開2009−275128号公報JP, 2009-275128, A 特許第4537450号公報Patent No. 4537450 gazette

上記の特許文献1〜4では、粘着剤層の内部に帯電防止剤が添加されているが、粘着剤層の厚みが厚くなる程、また、経過時間が経つにつれて、表面保護フィルムの貼合された被着体に対して、粘着剤層から被着体へ移行する帯電防止剤の量が多くなる。また、LR(Low Reflective)偏光板やAG(Anti Glare)−LR偏光板などの光学用フィルムでは、光学用フィルムの表面が、シリコーン化合物やフッ素化合物などで防汚染処理されているため、このような光学用フィルムに使用する表面保護フィルムを、被着体である光学用フィルムから剥離する時の剥離帯電圧が高くなる。   In the above-mentioned Patent Documents 1 to 4, the antistatic agent is added to the inside of the pressure-sensitive adhesive layer, but as the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer becomes thicker and as the elapsed time passes, the surface protective film is bonded With respect to the adherend, the amount of the antistatic agent transferred from the pressure-sensitive adhesive layer to the adherend is increased. Further, in the case of an optical film such as an LR (Low Reflective) polarizing plate or an AG (Anti Glare) -LR polarizing plate, the surface of the optical film is subjected to an antifouling treatment with a silicone compound or a fluorine compound. When the surface protective film used for the optical film is peeled from the optical film as the adherend, the peeling voltage is high.

また、特許文献5,6に記載の、粘着剤層の中にポリエーテル変性シリコーンを混合した場合には、表面保護フィルムの粘着力を微調整することが難しい。また、粘着剤層内に、ポリエーテル変性シリコーンを混ぜているため、粘着剤組成物を基材フィルムの上に塗工・乾燥する条件が変化すると、表面保護フィルムの形成された粘着剤層の表面の特性が、微妙に変化する。さらに、光学用フィルムの表面を保護するという観点から、粘着剤層の厚さを極端に薄くすることができない。そのため、粘着剤層の厚みに応じて、粘着剤層内に混ぜるポリエーテル変性シリコーンの添加量を増やす必要があり、結果的に、被着体表面を汚染し易くなり、経時での粘着力や被着体に対する汚染性が変化する。   Moreover, when the polyether modified silicone is mixed in the adhesive layer of patent document 5, 6, it is difficult to finely adjust the adhesive force of a surface protection film. Moreover, since the polyether modified silicone is mixed in the pressure-sensitive adhesive layer, when the conditions for applying and drying the pressure-sensitive adhesive composition on the base film change, the pressure-sensitive adhesive layer on which the surface protective film was formed The characteristics of the surface change slightly. Furthermore, from the viewpoint of protecting the surface of the optical film, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer can not be made extremely thin. Therefore, according to the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer, it is necessary to increase the addition amount of the polyether modified silicone mixed in the pressure-sensitive adhesive layer, and as a result, the adherend surface is easily contaminated, and the adhesive strength over time Contamination of the adherend changes.

近年、3Dディスプレイ(立体視ディスプレイ)の普及に伴い、偏光板等の光学用フィルムの表面にFPR(Film Patterned Retarder)フィルムを貼合したものがある。偏光板等の光学用フィルムの表面に貼合されていた表面保護フィルムを剥がした後に、FPRフィルムが貼合される。しかし、偏光板等の光学用フィルムの表面が、表面保護フィルムに使用している粘着剤や帯電防止剤で汚染されていると、FPRフィルムが接着し難いという問題がある。このため、当該用途に用いる表面保護フィルムには、被着体に対する汚染の少ないものが求められている。   In recent years, with the spread of 3D displays (stereoscopic displays), there is one in which an FPR (Film Patterned Retarder) film is bonded to the surface of an optical film such as a polarizing plate. After peeling off the surface protection film bonded to the surface of the optical film such as a polarizing plate, the FPR film is bonded. However, if the surface of the optical film such as a polarizing plate is contaminated with the pressure-sensitive adhesive or antistatic agent used for the surface protective film, there is a problem that the FPR film is difficult to adhere. For this reason, the surface protection film used for the said application is required for the thing with little contamination with respect to a to-be-adhered body.

一方、いくつかの液晶パネルメーカーにおいては、表面保護フィルムの被着体に対する汚染性の評価方法として、偏光板等の光学用フィルムに貼合されている表面保護フィルムを一度剥がし、気泡を混入させた状態で再貼合したものを所定条件で加熱処理し、その後、表面保護フィルムを剥がして被着体の表面を観察する方法が採用されている。このような評価方法では、被着体の表面汚染が微量であっても、気泡を混入させた部分と、表面保護フィルムの粘着剤が接していた部分とで、被着体の表面汚染の差があると、気泡の跡(気泡ジミと言うこともある)として残る。そのため、被着体の表面に対する汚染性の評価方法としては、非常に厳しい評価方法となる。近年、こうした厳しい評価方法による判定の結果でも、被着体の表面に対する汚染性に問題がない表面保護フィルムが求められている。しかし従来から提案されている、帯電防止剤を含有する粘着剤層を用いた表面保護フィルムでは、当該課題を解決するのが難しい状況にあった。   On the other hand, in some liquid crystal panel manufacturers, the surface protective film bonded to an optical film such as a polarizing plate is peeled off once and mixed with air bubbles as a method for evaluating the contamination of the surface protective film to the adherend. The method of heat-processing what was re-bonded in a fixed state on predetermined conditions, and peeling off a surface protection film after that and observing the surface of a to-be-adhered body is employ | adopted. In such an evaluation method, even if the surface contamination of the adherend is very small, the difference in the surface contamination of the adherend between the portion mixed with air bubbles and the portion in contact with the adhesive of the surface protective film. Will remain as air bubble marks (sometimes called air bubbles). Therefore, it becomes a very severe evaluation method as an evaluation method of the contamination nature to the surface of a to-be-adhered body. In recent years, there has been a demand for a surface protection film having no problem in the contamination of the surface of an adherend even as a result of determination by such a severe evaluation method. However, in the surface protection film using the pressure-sensitive adhesive layer containing an antistatic agent, which has been conventionally proposed, it has been difficult to solve the problem.

このため、光学用フィルムに使用する表面保護フィルムであって、被着体に対する汚染が非常に少なく、かつ、被着体に対する汚染性が経時変化しないものが必要とされている。さらに、被着体から剥離する時の剥離帯電圧を、低く抑えた表面保護フィルムが求められている。   For this reason, there is a need for a surface protection film for use in an optical film, which has very little contamination to the adherend and does not change with time the contamination of the adherend. Furthermore, there is a demand for a surface protection film in which the peeling charging voltage when peeling from an adherend is suppressed low.

本発明者らは、この課題を解決することについて、鋭意、検討を行なった。
被着体に対する汚染が少なく、且つ、帯電防止性能の経時変化も少なくするためには、被着体を汚染している原因と推測される帯電防止剤の添加量を減量させる必要がある。しかし、帯電防止剤の添加量を減量させた場合には、表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、剥離帯電圧が高くなってしまう。本発明者らは、帯電防止剤の添加量の絶対量を増加させないで、表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、剥離帯電圧を低く抑える方法について検討した。その結果、粘着剤組成物の中に、帯電防止剤を添加し混ぜて粘着剤層を形成するのではなく、粘着剤組成物を塗工・乾燥させて粘着剤層を積層した後に、粘着剤層の表面に、適量の帯電防止剤の成分を付与することにより、表面保護フィルムを、被着体である光学用フィルムから剥離する時の、剥離帯電圧を低く抑えられることを見出し、本発明を完成した。
The present inventors diligently studied to solve this problem.
In order to reduce the contamination on the adherend and to reduce the time-dependent change of the antistatic performance, it is necessary to reduce the addition amount of the antistatic agent presumed to be the cause of the contamination of the adherend. However, when the amount of addition of the antistatic agent is decreased, the peeling charging voltage is increased when the surface protective film is peeled from the adherend. The inventors of the present invention examined a method for suppressing the peeling voltage drop when peeling the surface protection film from the adherend without increasing the absolute amount of the addition amount of the antistatic agent. As a result, the antistatic agent is not added and mixed in the pressure-sensitive adhesive composition to form the pressure-sensitive adhesive layer, but after the pressure-sensitive adhesive composition is applied and dried to laminate the pressure-sensitive adhesive layer, the pressure-sensitive adhesive The present invention has been found that, by applying an appropriate amount of an antistatic agent component to the surface of a layer, it is possible to suppress the peeling charge voltage low when peeling a surface protection film from an optical film as an adherend. Completed.

本発明は、上記事情に鑑みて成されたものであって、被着体に対する汚染が少なく、且つ、経時劣化しないで優れた剥離帯電防止性能を有する帯電防止表面保護フィルムの製造方法、及び帯電防止表面保護フィルムを提供することを課題とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and is a method of producing an antistatic surface protective film having little peeling contamination to an adherend and having excellent peeling antistatic performance without deterioration with time, and charging. It is an object of the present invention to provide a protective surface protection film.

上記の課題を解決するため、本発明の帯電防止表面保護フィルムは、粘着剤組成物を塗工・乾燥して粘着剤層を積層した後に、その粘着剤層の表面に適量の帯電防止剤を付与することにより、被着体に対する汚染性を低く抑えた上、被着体である光学用フィルムから剥離する時の剥離帯電圧を低く抑えることを技術思想としている。   In order to solve the above problems, the antistatic surface protective film of the present invention is applied and dried on a pressure-sensitive adhesive composition to laminate a pressure-sensitive adhesive layer, and then an appropriate amount of an antistatic agent is applied to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. The technical idea is to suppress the contamination of the adherend to a low level, and to suppress the peel voltage when peeling from the optical film as the adherend.

上記の課題を解決するため、本発明は、帯電防止表面保護フィルムの製造方法であって、次の工程(1)〜(3)、工程(1):アクリル系ポリマーを含有する粘着剤組成物であって、前記アクリル系ポリマーが、(A)アルキル基の炭素数がC1〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの合計100重量部に対して、(a1)アルキル基の炭素数がC1〜C4の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの少なくとも1種を1〜30重量部と、(a2)アルキル基の炭素数がC5〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの少なくとも1種を70〜99重量部と、共重合可能なモノマー群として、(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーの少なくとも1種を0.1〜12重量部と、を共重合させた共重合体のアクリル系ポリマーからなり、前記アクリル系ポリマーは、カルボキシル基を含有する共重合可能なモノマー、及び水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマーを含まず、前記粘着剤組成物が、さらに、(C)2官能以上のイソシアネート化合物と、(D)架橋促進剤と、(E)ケトエノール互変異性体化合物と、を含有する粘着剤組成物を作製する工程と、工程(2):透明性を有する樹脂からなる基材フィルムの片面に、前記粘着剤組成物を架橋させた粘着剤層を形成する工程と、工程(3):前記粘着剤層の表面に、樹脂フィルムの片面に帯電防止剤を含有する剥離剤層が積層された剥離フィルムを、前記剥離剤層を介して貼り合わせ、前記剥離剤層の前記帯電防止剤が、前記粘着剤層の表面に転写される工程と、を工程(1)〜(3)の順に経て作製され、前記剥離剤層が、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、帯電防止剤とを含む樹脂組成物により形成されてなり、前記粘着剤層を、低反射表面処理が施された偏光板に貼合した後に、剥離した時の剥離帯電圧が±0.6kV以下であり、前記粘着剤層を、前記低反射表面処理が施された偏光板に貼合した後、剥離した時の汚染性が良好なことを特徴とする帯電防止表面保護フィルムの製造方法を提供する。   In order to solve said subject, this invention is a manufacturing method of antistatic surface protection film, Comprising: Next step (1)-(3), process (1): Pressure-sensitive adhesive composition containing acrylic polymer The carbon number of the (a1) alkyl group is C1 to the total of 100 parts by weight of the (A) alkyl group, wherein the carbon number of the (A) alkyl group is C1 to C18. 1 to 30 parts by weight of at least one C4 (meth) acrylic acid ester monomer, and 70 to 99% by weight (a2) at least one C5 to C18 (meth) acrylic acid ester monomer having an alkyl group of C5 to C18 Acrylic polymer of a copolymer obtained by copolymerizing 1 part and at least one kind of a copolymerizable monomer containing (B) a hydroxyl group as a copolymerizable monomer group with 0.1 to 12 parts by weight The acrylic polymer does not contain a carboxyl group-containing copolymerizable monomer and a hydroxyl group-free nitrogen-containing vinyl monomer, and the pressure-sensitive adhesive composition further has (C) a bifunctional or higher functional group. A step of producing a pressure-sensitive adhesive composition containing an isocyanate compound, (D) a crosslinking accelerator, and (E) ketoenol tautomer compound, and a step (2): a substrate comprising a resin having transparency A step of forming a pressure-sensitive adhesive layer obtained by crosslinking the pressure-sensitive adhesive composition on one side of a film, and a step (3): a release agent layer containing an antistatic agent on one side of a resin film on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. Bonding the peelable film laminated with each other via the release agent layer, and transferring the antistatic agent of the release agent layer to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, the steps (1) to (3) In the order of) The release agent layer is formed of a resin composition containing a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component and an antistatic agent, and the pressure-sensitive adhesive layer is subjected to a low reflection surface treatment. After pasting to a polarizing plate, the peeling charge voltage at peeling is ± 0.6 kV or less, and the pressure-sensitive adhesive layer is stuck to a polarizing plate subjected to the low reflection surface treatment, and then peeled. The present invention provides a method for producing an antistatic surface protection film, which is characterized in that the stain resistance of the film is good.

また、前記粘着剤組成物に、(F)ポリアルキレングリコール鎖を構成するアルキレンオキサイドの平均繰り返し数が3〜14であり、モノマー中のジエステル分が0.2%以下であるポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーを含むことが好ましい。   In the pressure-sensitive adhesive composition, a polyalkylene glycol mono (C) in which the average repeating number of the alkylene oxide constituting the (F) polyalkylene glycol chain is 3 to 14 and the diester content in the monomer is 0.2% or less It is preferred to contain a meta) acrylic ester monomer.

また、前記剥離剤層中の帯電防止剤が、アルカリ金属塩であることが好ましい。   The antistatic agent in the release agent layer is preferably an alkali metal salt.

また、上記の課題を解決するため、本発明は、透明性を有する樹脂からなる基材フィルムの片面に、アクリル系ポリマーを含有する粘着剤組成物を架橋させた粘着剤層が形成されてなる帯電防止表面保護フィルムであって、前記アクリル系ポリマーが、(A)アルキル基の炭素数がC1〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの合計100重量部に対して、(a1)アルキル基の炭素数がC1〜C4の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの少なくとも1種を1〜30重量部と、(a2)アルキル基の炭素数がC5〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの少なくとも1種を70〜99重量部と、共重合可能なモノマー群として、(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーの少なくとも1種を0.1〜12重量部と、を共重合させた共重合体のアクリル系ポリマーからなり、前記アクリル系ポリマーは、カルボキシル基を含有する共重合可能なモノマー、及び水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマーを含まず、前記粘着剤組成物が、さらに、(C)2官能以上のイソシアネート化合物と、(D)架橋促進剤と、(E)ケトエノール互変異性体化合物と、を含有してなり、前記粘着剤層の表面に、樹脂フィルムの片面に帯電防止剤を含有する剥離剤層が積層された剥離フィルムが、前記剥離剤層を介して貼り合わせてなり、前記剥離剤層の前記帯電防止剤が、前記粘着剤層の表面に転写されてなり、前記剥離剤層が、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、20℃において液体のシリコーン系化合物と、帯電防止剤とを含む樹脂組成物により形成されてなり、前記粘着剤層を、低反射表面処理が施された偏光板に貼合した後、剥離した時の汚染性が良好なことを特徴とする帯電防止表面保護フィルムを提供する。   Moreover, in order to solve said subject, the adhesive layer which bridge | crosslinked the adhesive composition containing an acryl-type polymer is formed in the single side | surface of the base film which consists of resin which has transparency in this invention. It is an antistatic surface protection film, Comprising: The carbon number of the (A) alkyl group is a (A1) alkyl group with respect to a total of 100 weight part of (meth) acrylic acid ester monomers whose carbon number of the (A) alkyl group is C1-C18. 1 to 30 parts by weight of at least one kind of (meth) acrylic acid ester monomer having a carbon number of C1 to C4, and (a2) at least one kind of (meth) acrylic acid ester monomer having a carbon number of C5 to C18 of an alkyl group 70 to 99 parts by weight, and, as a group of copolymerizable monomers, (B) 0.1 to 12 parts by weight of at least one copolymerizable monomer containing a hydroxyl group The pressure-sensitive adhesive composition comprises an acrylic polymer of a polymerized copolymer, and the acrylic polymer does not contain a carboxyl group-containing copolymerizable monomer and a hydroxyl group-free nitrogen-containing vinyl monomer. Furthermore, it contains (C) a bifunctional or higher functional isocyanate compound, (D) a crosslinking accelerator, and (E) ketoenol tautomer compound, and the surface of the pressure-sensitive adhesive layer is a single side of a resin film. A release film in which a release agent layer containing an antistatic agent is laminated is laminated through the release agent layer, and the antistatic agent of the release agent layer is transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. And the release agent layer is formed of a resin composition containing a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, a silicone compound which is liquid at 20.degree. C., and an antistatic agent. Is made by, the pressure-sensitive adhesive layer, after pasting the polarizing plate low reflection surface-treated, to provide an antistatic surface protecting film in which contamination of when peeling, wherein the good.

また、前記粘着剤組成物に、さらに、(A)アルキル基の炭素数がC1〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの合計100重量部に対して、(F)ポリアルキレングリコール鎖を構成するアルキレンオキサイドの平均繰り返し数が3〜14であり、モノマー中のジエステル分が0.2%以下であるポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーを0〜50重量部(但し、含有しない場合もある)含むことが好ましい。   In the pressure-sensitive adhesive composition, furthermore, (F) a polyalkylene glycol chain is configured with respect to a total of 100 parts by weight of a (meth) acrylic acid ester monomer having a C1 to C18 alkyl group (C). 0 to 50 parts by weight of polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer having an average repeating number of alkylene oxide of 3 to 14 and a diester content in the monomer of 0.2% or less Preferably).

また、前記(D)架橋促進剤が、アルミニウムキレート化合物、チタンキレート化合物、鉄キレート化合物からなる群の中から選択された少なくとも1種以上であり、前記アクリル系ポリマー100重量部に対して0.001〜0.5重量部であり、前記(E)ケトエノール互変異性体化合物を0.1〜300重量部を含有してなり、(E)/(D)の重量部比率が70〜1000であることが好ましい。   In addition, the (D) crosslinking accelerator is at least one selected from the group consisting of an aluminum chelate compound, a titanium chelate compound, and an iron chelate compound, and 0. 2 or less per 100 parts by weight of the acrylic polymer. It is 0.001 to 0.5 parts by weight, containing 0.1 to 300 parts by weight of the (E) keto-enol tautomer compound, and the ratio by weight of (E) / (D) is 70 to 1000. Is preferred.

また、前記(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーが、8−ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート、6−ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、N−ヒドロキシ(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミドからなる化合物群の中から選択された、少なくとも1種以上であり、前記アクリル系ポリマー100重量部に対して0.1〜10重量部であることが好ましい。   Further, the copolymerizable monomer containing a hydroxyl group (B) is 8-hydroxyoctyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate A) at least one selected from a group of compounds consisting of acrylate, N-hydroxy (meth) acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, N-hydroxyethyl (meth) acrylamide, and said acrylic polymer The amount is preferably 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight.

また、前記(C)2官能以上のイソシアネート化合物として、2官能イソシアネート化合物としては、非環式脂肪族イソシアネート化合物で、ジイソシアネート化合物とジオール化合物とを反応させて生成された化合物であり、ジイソシアネート化合物としては、脂肪族ジイソシアネートであり、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネートからなる化合物群の中から選択された1種と、ジオール化合物としては、2−メチル−1,3−プロパンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール、2−メチル−2−プロピル−1,3−プロパンジオール、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオールモノヒドロキシピバレート、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールからなる化合物群の中から選択された1種からなり、3官能イソシアネート化合物としては、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、イソホロンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のアダクト体、イソホロンジイソシアネート化合物のアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のビュレット体、イソホロンジイソシアネート化合物のビュレット体、トリレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、キシリレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、水添キシリレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、トリレンジイソシアネート化合物のアダクト体、キシリレンジイソシアネート化合物のアダクト体、水添キシリレンジイソシアネート化合物のアダクト体、からなり、前記アクリル系ポリマー100重量部に対して0.1〜10重量部であることが好ましい。   In addition, as the (C) bifunctional or higher isocyanate compound, the bifunctional isocyanate compound is a compound produced by reacting a diisocyanate compound and a diol compound with a non-cyclic aliphatic isocyanate compound, and as a diisocyanate compound Is an aliphatic diisocyanate, which is a compound selected from the group consisting of tetramethylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate and 2-methyl- as a diol compound 1,3-propanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propane And one selected from a group of compounds consisting of 3-methyl-1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol monohydroxypivalate, polyethylene glycol and polypropylene glycol, As a trifunctional isocyanate compound, isocyanurate of hexamethylene diisocyanate, isocyanurate of isophorone diisocyanate, adduct of hexamethylene diisocyanate, adduct of isophorone diisocyanate, adduct of hexamethylene diisocyanate, biuret of hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate Burette, isocyanurate of tolylene diisocyanate compound, isocyanurate of xylylene diisocyanate compound, hydrogenated An isocyanurate of a silylene diisocyanate compound, an adduct of a tolylene diisocyanate compound, an adduct of a xylylene diisocyanate compound, an adduct of a hydrogenated xylylene diisocyanate compound, and 0.1 parts by weight based on 100 parts by weight of the acrylic polymer It is preferably 10 parts by weight.

また、前記粘着剤組成物に、HLB値が7〜15である(H)ポリエーテル変性シロキサン化合物を、前記アクリル系ポリマー100重量部に対して1.0重量部以下(0重量部の場合を除く)、含むことが好ましい。   In the pressure-sensitive adhesive composition, a (H) polyether-modified siloxane compound having an HLB value of 7 to 15 is used in an amount of 1.0 part by weight or less (0 parts by weight) based on 100 parts by weight of the acrylic polymer. It is preferable to include.

また、前記剥離剤層中のシリコーン系化合物が、ポリエーテル変性シリコーンであることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the silicone type compound in the said release agent layer is polyether modified silicone.

また、前記剥離剤層中の帯電防止剤が、アルカリ金属塩であることが好ましい。   The antistatic agent in the release agent layer is preferably an alkali metal salt.

また、前記剥離剤層中の帯電防止剤がLi塩であり、LiTFSI、LiFSI、LiTFからなる化合物群の中から選択された少なくとも1種以上であることが好ましい。   The antistatic agent in the release agent layer is preferably a Li salt, and is preferably at least one selected from the group consisting of LiTFSI, LiFSI, and LiTF.

また、本発明は、上記の帯電防止表面保護フィルムが貼り合わされてなる光学用フィルムを提供する。   The present invention also provides an optical film formed by laminating the above-described antistatic surface protective film.

また、本発明は、上記の帯電防止表面保護フィルムが貼り合わされてなる光学部品を提供する。   The present invention also provides an optical component formed by laminating the above-described antistatic surface protective film.

本発明の帯電防止表面保護フィルムは、被着体に対する汚染が少なく、被着体に対する低汚染性が経時変化しない。また、本発明によれば、LR偏光板やAG−LR偏光板などの、被着体の表面が、シリコーン化合物やフッ素化合物などで防汚染処理してある光学用フィルムであっても、帯電防止表面保護フィルムを、被着体から剥離する時に発生する剥離帯電圧を低く抑えることができ、経時劣化しないで優れた剥離帯電防止性能を有する帯電防止表面保護フィルムを提供できる。
本発明の帯電防止表面保護フィルムによれば、光学用フィルムの表面を確実に保護することができることから、生産性の向上と歩留まりの向上を図ることができる。
The antistatic surface protective film of the present invention causes little contamination to the adherend, and the low contamination to the adherend does not change with time. Further, according to the present invention, even when the surface of an adherend such as an LR polarizing plate or an AG-LR polarizing plate is an anti-pollution film treated with a silicone compound or a fluorine compound, etc. It is possible to suppress the peeling charging voltage generated when peeling the surface protective film from the adherend to a low level, and to provide an antistatic surface protective film having excellent peeling antistatic performance without deterioration with time.
According to the antistatic surface protective film of the present invention, since the surface of the optical film can be protected with certainty, productivity and yield can be improved.

本発明の帯電防止表面保護フィルムの、概念を示した断面図である。It is sectional drawing which showed the concept of the antistatic surface protective film of this invention. 本発明の帯電防止表面保護フィルムから、剥離フィルムを剥がした状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which peeled off the peeling film from the antistatic surface protective film of this invention. 本発明の光学部品の、実施例の1つを示した断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of one of the embodiments of the optical component of the present invention.

以下、実施の形態に基づいて、本発明を詳しく説明する。
図1は、本発明の帯電防止表面保護フィルムの、概念を示した断面図である。この帯電防止表面保護フィルム10は、透明な基材フィルム1の片面の表面に、粘着剤層2が形成されている。この粘着剤層2の表面には、樹脂フィルム3の表面に剥離剤層4が形成された剥離フィルム5が、貼合されている。
Hereinafter, the present invention will be described in detail based on the embodiments.
FIG. 1 is a cross-sectional view showing the concept of the antistatic surface protective film of the present invention. In the antistatic surface protective film 10, an adhesive layer 2 is formed on the surface of one side of a transparent base film 1. The release film 5 in which the release agent layer 4 is formed on the surface of the resin film 3 is bonded to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2.

本発明に係わる帯電防止表面保護フィルム10に使用される基材フィルム1としては、透明性及び可撓性を有する樹脂からなる基材フィルムが用いられる。これにより、帯電防止表面保護フィルムを、被着体である光学部品に貼合した状態で、光学部品の外観検査を行うことができる。基材フィルム1として用いる透明性を有する樹脂からなるフィルムは、好適には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステルフィルムが用いられる。ポリエステルフィルムのほか、必要な強度を有し、かつ光学適性を有するものであれば、他の樹脂からなるフィルムも使用可能である。基材フィルム1は、無延伸フィルムであっても、一軸または二軸延伸されたフィルムであってもよい。また、延伸フィルムの延伸倍率や、延伸フィルムの結晶化に伴い形成される軸方向の配向角度を、特定の値に制御してもよい。
本発明に係わる帯電防止表面保護フィルム10に使用される基材フィルム1の厚みは、特に限定はないが、例えば、12〜100μm程度の厚みが好ましく、20〜50μm程度の厚みであれば取り扱い易く、より好ましい。
また、必要に応じて、基材フィルム1の粘着剤層2が形成された面の反対側の面に、表面の汚れを防止する防汚層、帯電防止層、傷つき防止のハードコート層などを設けることができる。また、基材フィルム1の表面に、コロナ放電による表面改質、アンカーコート剤の塗付などの易接着処理を施してもよい。
As the base film 1 used for the antistatic surface protection film 10 according to the present invention, a base film made of a resin having transparency and flexibility is used. Thereby, the appearance inspection of an optical component can be performed in the state which bonded the antistatic surface protection film to the optical component which is a to-be-adhered body. The film made of a resin having transparency used as the base film 1 is preferably a polyester film of polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene isophthalate, polybutylene terephthalate or the like. Besides polyester films, films made of other resins may be used as long as they have the required strength and optical suitability. The base film 1 may be a non-oriented film or a uniaxially or biaxially stretched film. In addition, the stretching ratio of the stretched film or the orientation angle in the axial direction formed along with the crystallization of the stretched film may be controlled to a specific value.
The thickness of the base film 1 used for the antistatic surface protective film 10 according to the present invention is not particularly limited, but for example, a thickness of about 12 to 100 μm is preferable, and a thickness of about 20 to 50 μm is easy to handle , More preferred.
In addition, on the surface of the base film 1 opposite to the surface on which the pressure-sensitive adhesive layer 2 is formed, an antifouling layer for preventing surface contamination, an antistatic layer, a scratch-resistant hard coat layer, etc. may be used. It can be provided. In addition, the surface of the base film 1 may be subjected to easy adhesion treatment such as surface modification by corona discharge and application of an anchor coating agent.

また、本発明に係わる帯電防止表面保護フィルム10に使用される粘着剤層2は、被着体の表面に接着し、用済み後に簡単に剥がせ、かつ、被着体を汚染しにくい粘着剤であれば特に限定されるものではないが、光学用フィルムに貼合後の耐久性などを考慮すると、アクリル系ポリマーを含有する粘着剤組成物を架橋させてなるアクリル系粘着剤を用いるのが一般的である。   In addition, the pressure-sensitive adhesive layer 2 used in the antistatic surface protective film 10 according to the present invention adheres to the surface of the adherend, can be easily peeled off after use, and does not easily contaminate the adherend. The adhesive is not particularly limited as long as it is, but considering the durability after bonding to an optical film, it is possible to use an acrylic adhesive formed by crosslinking a pressure-sensitive adhesive composition containing an acrylic polymer. It is common.

特に、アクリル系ポリマーが、(A)アルキル基の炭素数がC1〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーとして、(a1)アルキル基の炭素数がC1〜C4の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの少なくとも1種と、(a2)アルキル基の炭素数がC5〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの少なくとも1種と、共重合可能なモノマー群として、(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーの少なくとも1種と、を共重合させた共重合体のアクリル系ポリマーからなる粘着剤層が好ましい。
前記共重合可能なモノマー群として、さらに、(F)ポリアルキレングリコール鎖を構成するアルキレンオキサイドの平均繰り返し数が3〜14であり、モノマー中のジエステル分が0.2%以下であるポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーを含むことができる。
アクリル系ポリマーは、カルボキシル基を含有する共重合可能なモノマー、及び水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマーを含まないことが好ましい。
さらに、前記アクリル系ポリマーに加えて、(C)2官能以上のイソシアネート化合物と、(D)架橋促進剤と、(E)ケトエノール互変異性体化合物と、を含有する粘着剤組成物からなる粘着剤層が好ましい。
In particular, the acrylic polymer is a (meth) acrylic acid ester monomer in which the carbon number of the (A) alkyl group is C1 to C18, and the carbon number of the (a1) alkyl group is a (meth) acrylic acid ester monomer of the C1 to C4 A copolymerizable copolymer containing (B) a hydroxyl group as a copolymerizable monomer group and at least one type and at least one type of a (meth) acrylic acid ester monomer having at least one carbon number of C5 to C18 as the (a2) alkyl group A pressure-sensitive adhesive layer comprising an acrylic polymer of a copolymer obtained by copolymerizing at least one monomer is preferable.
Furthermore, as the above-mentioned copolymerizable monomer group, a polyalkylene glycol having an average repeating number of alkylene oxide constituting (F) polyalkylene glycol chain of 3 to 14 and a diester content in the monomer of 0.2% or less Mono (meth) acrylic acid ester monomers can be included.
It is preferable that the acrylic polymer does not contain a carboxyl group-containing copolymerizable monomer and a hydroxyl group-free nitrogen-containing vinyl monomer.
Furthermore, an adhesion comprising an adhesive composition comprising (C) a bifunctional or higher functional isocyanate compound, (D) a crosslinking accelerator, and (E) a ketoenol tautomeric compound in addition to the acrylic polymer. Agent layer is preferred.

(A)アルキル基の炭素数がC1〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーのうち、(a1)アルキル基の炭素数がC1〜C4の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの少なくとも1種としては、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレートが挙げられる。
また、(a2)アルキル基の炭素数がC5〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、テトラデシル(メタ)アクリレート、ペンタデシル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート、ヘプタデシル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート、ミリスチル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、イソセチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、などが挙げられる。
(A)アルキル基の炭素数がC1〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの合計100重量部に対して、(a1)アルキル基の炭素数がC1〜C4の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの少なくとも1種を1〜30重量部と、(a2)アルキル基の炭素数がC5〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの少なくとも1種を70〜99重量部と、の割合で含有していることが好ましく、前記(a1)の少なくとも1種を5〜25重量部と、前記(a2)の少なくとも1種を75〜95重量部と、の割合で含有していることがより好ましく、前記(a1)の少なくとも1種を8〜22重量部と、前記(a2)の少なくとも1種を78〜92重量部と、の割合で含有していることが特に好ましい。
Among the (meth) acrylic acid ester monomers having a C1 to C18 carbon number of the (A) alkyl group, as at least one (meth) acrylic acid ester monomer having a C1 to C4 carbon number of the (a1) alkyl group, Examples include butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate and isopropyl (meth) acrylate.
As the (meth) acrylic acid ester monomer having a C5 to C18 carbon number of (a2) alkyl group, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (Meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, tridecyl (Meth) acrylate, tetradecyl (meth) acrylate, pentadecyl (meth) acrylate, hexadecyl (meth) acrylate, heptadecyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate , Myristyl (meth) acrylate, isomyristyl (meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate, isocetyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate, and the like.
The carbon number of the (A) alkyl group is a total of 100 parts by weight of the (meth) acrylic acid ester monomer of C1 to C18, the carbon number of the (a1) alkyl group is the (meth) acrylic acid ester monomer of C1 to C4 Containing 1 to 30 parts by weight of at least one, and 70 to 99 parts by weight of at least one (meth) acrylic acid ester monomer having (C2 to C18) alkyl group (C2) It is preferable to contain 5 to 25 parts by weight of at least one of (a1) and 75 to 95 parts by weight of at least one of (a2), and It is particularly preferable to contain 8 to 22 parts by weight of at least one of a1) and 78 to 92 parts by weight of at least one of the above (a2).

(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーとしては、8−ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート、6−ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類や、N−ヒドロキシ(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド等の水酸基含有(メタ)アクリルアミド類などが挙げられる。
8−ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート、6−ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、N−ヒドロキシ(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミドからなる化合物群の中から選択された、少なくとも1種以上であることが好ましい。これらの(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーは、後述する(F)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーとは異なり、ポリアルキレングリコール鎖を有しない。
(A)アルキル基の炭素数がC1〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの合計100重量部に対して、(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーの少なくとも1種を0.1〜12重量部の割合で共重合させることが好ましく、0.1〜9.5重量部であることがより好ましく、0.3〜8重量部であることが特に好ましい。
また、前記アクリル系ポリマーの合計を100重量部とする時、前記(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーを0.1〜10重量部の割合で含有していることが好ましく、0.1〜8.5重量部であることがより好ましく、0.3〜7.5重量部であることが特に好ましい。
(B) As a copolymerizable monomer containing a hydroxyl group, 8-hydroxyoctyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate And hydroxy-containing (meth) acrylamides such as N-hydroxy (meth) acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, N-hydroxyethyl (meth) acrylamide and the like.
8-hydroxyoctyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, N-hydroxy (meth) acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) It is preferable that it is at least 1 sort (s) or more selected from the compound group which consists of acrylamide and N- hydroxyethyl (meth) acrylamide. These (B) hydroxyl group-containing copolymerizable monomers do not have a polyalkylene glycol chain, unlike (F) polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomers described later.
(A) At least one kind of copolymerizable monomer containing a hydroxyl group (B) with respect to a total of 100 parts by weight of a (meth) acrylic acid ester monomer having a carbon number of C1 to C18 is 0.1 to 0.1 It is preferable to copolymerize in the ratio of 12 parts by weight, more preferably 0.1 to 9.5 parts by weight, and particularly preferably 0.3 to 8 parts by weight.
Further, when the total amount of the acrylic polymer is 100 parts by weight, it is preferable that the copolymerizable monomer containing a hydroxyl group (B) is contained in a ratio of 0.1 to 10 parts by weight, and 0. The amount is more preferably 1 to 8.5 parts by weight, and particularly preferably 0.3 to 7.5 parts by weight.

(C)2官能以上のイソシアネート化合物としては、1分子中に少なくとも2個以上のイソシアネート(NCO)基を有するポリイソシアネート化合物から選択される、少なくとも1種または2種以上であればよい。ポリイソシアネート化合物には、脂肪族系イソシアネート、芳香族系イソシアネート、非環式系イソシアネート、脂環式系イソシアネートなどの分類があるが、いずれでもよい。ポリイソシアネート化合物の具体例としては、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート(TMDI)等の脂肪族系イソシアネート化合物や、ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、キシリレンジイソシアネート(XDI)、水添キシリレンジイソシアネート(H6XDI)、ジメチルジフェニレンジイソシアネート(TOID)、トリレンジイソシアネート(TDI)等の芳香族系イソシアネート化合物が挙げられる。
3官能以上のイソシアネート化合物としては、2官能イソシアネート化合物(1分子中に2個のNCO基を有する化合物)のビュレット変性体やイソシアヌレート変性体、トリメチロールプロパン(TMP)やグリセリン等の3価以上のポリオール(1分子中に少なくとも3個以上のOH基を有する化合物)とのアダクト体(ポリオール変性体)などが挙げられる。
(C)2官能以上のイソシアネート化合物として、(C−1)3官能イソシアネート化合物のみ、または(C−2)2官能イソシアネート化合物のみを用いることも可能である。また、(C−1)3官能イソシアネート化合物と、(C−2)2官能イソシアネート化合物を併用することも可能である。
(C) The bifunctional or higher functional isocyanate compound may be at least one or more selected from polyisocyanate compounds having at least two or more isocyanate (NCO) groups in one molecule. The polyisocyanate compounds may be classified into aliphatic isocyanates, aromatic isocyanates, acyclic isocyanates, alicyclic isocyanates and the like, but any of them may be used. Specific examples of the polyisocyanate compound include aliphatic isocyanate compounds such as hexamethylene diisocyanate (HDI), isophorone diisocyanate (IPDI), trimethylhexamethylene diisocyanate (TMDI), diphenylmethane diisocyanate (MDI), xylylene diisocyanate (XDI) And aromatic isocyanate compounds such as hydrogenated xylylene diisocyanate (H6XDI), dimethyldiphenylene diisocyanate (TOID) and tolylene diisocyanate (TDI).
The trifunctional or higher isocyanate compound is a biuret-modified or isocyanurate-modified product of a bifunctional isocyanate compound (a compound having two NCO groups in one molecule), and a trivalent or higher such as trimethylolpropane (TMP) or glycerin. And adducts thereof (polyol-modified products) with the above-mentioned polyols (compounds having at least 3 or more OH groups in one molecule).
As the (C) bifunctional or higher functional isocyanate compound, it is also possible to use only the (C-1) trifunctional isocyanate compound or only the (C-2) bifunctional isocyanate compound. Moreover, it is also possible to use together the (C-1) trifunctional isocyanate compound and the (C-2) bifunctional isocyanate compound.

さらに、本発明に用いる(C−1)3官能イソシアネート化合物としては、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、イソホロンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のアダクト体、イソホロンジイソシアネート化合物のアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のビュレット体、イソホロンジイソシアネート化合物のビュレット体からなる、(C−1−1)第1の脂肪族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも1種以上と、トリレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、キシリレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、水添キシリレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、トリレンジイソシアネート化合物のアダクト体、キシリレンジイソシアネート化合物のアダクト体、水添キシリレンジイソシアネート化合物のアダクト体からなる、(C−1−2)第2の芳香族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも1種以上とを含むことが好ましい。(C−1−1)第1の脂肪族系のイソシアネート化合物群と、(C−1−2)第2の芳香族系のイソシアネート化合物群とを、併用することが好ましい。本発明では、(C−1)3官能イソシアネート化合物として、(C−1−1)第1の脂肪族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも1種以上と、(C−1−2)第2の芳香族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも1種以上とを、併用することにより、低速剥離領域および高速剥離領域の粘着力のバランスをさらに改善することができる。   Furthermore, as the (C-1) trifunctional isocyanate compound used in the present invention, isocyanurate of hexamethylene diisocyanate compound, isocyanurate of isophorone diisocyanate compound, adduct of hexamethylene diisocyanate compound, adduct of isophorone diisocyanate compound, (C-1-1) At least one or more selected from the group of aliphatic isocyanate compounds of the first group consisting of a biuret of hexamethylene diisocyanate compound and a biuret of isophorone diisocyanate compound, and tolylene diisocyanate Isocyanurate of compound, isocyanurate of xylylene diisocyanate compound, isocyanurate of hydrogenated xylylene diisocyanate compound, tolylene diisocyanate (C-1-2) A second aromatic isocyanate compound group comprising an adduct of a compound, an adduct of a xylylene diisocyanate compound, and an adduct of a hydrogenated xylylene diisocyanate compound; It is preferable to include at least one or more. It is preferable to use the (C-1-1) first aliphatic isocyanate compound group in combination with the (C-1-2) second aromatic isocyanate compound group. In the present invention, as the (C-1) trifunctional isocyanate compound, at least one or more selected from the group of (C-1-1) first aliphatic isocyanate compounds; 2) By combining at least one or more selected from the second aromatic isocyanate compounds, it is possible to further improve the balance of adhesion of the low-speed peeling area and the high-speed peeling area .

また、(C−1)3官能イソシアネート化合物は、前記(C−1−1)第1の脂肪族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも1種以上と、前記(C−1−2)第2の芳香族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも1種以上とを含み、前記アクリル系ポリマー100重量部に対して、合計して0.5〜5.0重量部含まれることが好ましい。また、(C−1−1)第1の脂肪族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも1種以上と、(C−1−2)第2の芳香族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも1種以上との混合比率は、(C−1−1):(C−1−2)が重量比で10%:90%〜90%:10%の範囲内であることが好ましい。   In addition, the (C-1) trifunctional isocyanate compound is selected from at least one or more selected from the above (C-1-1) first aliphatic isocyanate compound group, and the above (C-1) 2) containing at least one or more selected from the second aromatic isocyanate compounds, and in total 0.5 to 5.0 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the acrylic polymer Preferably, it is included. In addition, at least one selected from (C-1-1) first aliphatic isocyanate compounds, and (C-1-2) second aromatic isocyanate compounds selected from the group consisting of (C-1-1) :( C-1-2) in the range of 10%: 90% to 90%: 10% by weight ratio selected from Is preferred.

さらに、本発明に用いる(C−2)2官能イソシアネート化合物としては、非環式脂肪族イソシアネート化合物で、ジイソシアネート化合物とジオール化合物とを反応させて生成された化合物であることが好ましい。
例えば、一般式「O=C=N−X−N=C=O」(ただし、Xは2価基)でジイソシアネート化合物を、一般式「HO−Y−OH」(ただし、Yは2価基)でジオール化合物を表すとき、ジイソシアネート化合物とジオール化合物とを反応させて生成された化合物としては、例えば、次の一般式Zで表される化合物が挙げられる。
Furthermore, as the (C-2) bifunctional isocyanate compound used in the present invention, a non-cyclic aliphatic isocyanate compound is preferably a compound produced by reacting a diisocyanate compound and a diol compound.
For example, a diisocyanate compound having the general formula "O = CCN-X-N = C = O" (where X is a divalent group), and a general formula "HO-Y-OH" (where Y is a divalent group) As a compound produced | generated by making a diisocyanate compound and a diol compound react when it represents a diol compound, the compound represented by the following general formula Z is mentioned, for example.

〔一般式Z〕
O=C=N−X−(NH−CO−O−Y−O−CO−NH−X)−N=C=O
[General formula Z]
O = C = N-X- (NH-CO-O-Y-O-CO-NH-X) n- N = C = O

ここで、nは0以上の整数である。nが0の場合、一般式Zは、「O=C=N−X−N=C=O」を表す。2官能非環式脂肪族イソシアネート化合物として、一般式Zにおいてnが0の化合物(ジオール化合物に対して未反応のジイソシアネート化合物)を含んでもよいが、nが1以上の整数である化合物を必須成分として含むことが好ましい。2官能非環式脂肪族イソシアネート化合物は、一般式Zにおけるnが異なる、複数の化合物からなる混合物であってもよい。   Here, n is an integer of 0 or more. When n is 0, the general formula Z represents "O = C = N-X-N = C = O". Although a bifunctional acyclic aliphatic isocyanate compound may contain a compound of general formula Z where n is 0 (diisocyanate compound unreacted with respect to the diol compound), a compound in which n is an integer of 1 or more is an essential component. Is preferably contained. The difunctional acyclic aliphatic isocyanate compound may be a mixture of a plurality of compounds in which n in the general formula Z is different.

一般式「O=C=N−X−N=C=O」で表されるジイソシアネート化合物は、脂肪族ジイソシアネートである。Xは、非環式で脂肪族の2価基であることが好ましい。前記脂肪族ジイソシアネートとしては、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネートからなる化合物群の中から選択された1種又は2種以上からなることが好ましい。   The diisocyanate compound represented by the general formula "O = C = N-X-N = C = O" is an aliphatic diisocyanate. It is preferable that X is acyclic and aliphatic divalent group. The aliphatic diisocyanate preferably comprises one or more selected from the group consisting of tetramethylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, and lysine diisocyanate.

一般式「HO−Y−OH」で表されるジオール化合物は、脂肪族ジオールである。Yは、非環式で脂肪族の2価基であることが好ましい。前記ジオール化合物としては、2−メチル−1,3−プロパンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール、2−メチル−2−プロピル−1,3−プロパンジオール、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオールモノヒドロキシピバレート、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールからなる化合物群の中から選択された1種又は2種以上からなることが好ましい。   The diol compound represented by the general formula "HO-Y-OH" is an aliphatic diol. Y is preferably an acyclic and aliphatic divalent group. Examples of the diol compound include 2-methyl-1,3-propanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, and 2-ethyl-2 -Compounds selected from the group consisting of -butyl-1,3-propanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol monohydroxypivalate, polyethylene glycol and polypropylene glycol It is preferable to consist of one or two or more selected.

前記(C−1)3官能イソシアネート化合物と、(C−2)2官能イソシアネート化合物との重量比(C−1/C−2)が、1〜90であることが好ましい。前記アクリル系ポリマー100重量部に対して、前記(C)2官能以上のイソシアネート化合物が、0.1〜10重量部であることが好ましい。   The weight ratio (C-1 / C-2) of the (C-1) trifunctional isocyanate compound to the (C-2) bifunctional isocyanate compound is preferably 1 to 90. It is preferable that the said (C) bifunctional or more than trifunctional isocyanate compound is 0.1-10 weight part with respect to 100 weight part of said acryl-type polymers.

(D)架橋促進剤は、ポリイソシアネート化合物を架橋剤とする場合に、前記アクリル系ポリマーと架橋剤との反応(架橋反応)に対して触媒として機能する物質であればよく、第三級アミン等のアミン系化合物、金属キレート化合物、有機錫化合物、有機鉛化合物、有機亜鉛化合物等の有機金属化合物等が挙げられる。本発明では、架橋促進剤として、金属キレート化合物や有機錫化合物が好ましい。   (D) The crosslinking accelerator may be a substance that functions as a catalyst for the reaction (crosslinking reaction) between the acrylic polymer and the crosslinking agent when using a polyisocyanate compound as the crosslinking agent, and a tertiary amine And organic metal compounds such as metal chelate compounds, organic tin compounds, organic lead compounds, organic zinc compounds and the like. In the present invention, metal chelate compounds and organic tin compounds are preferable as the crosslinking accelerator.

金属キレート化合物としては、中心金属原子Mに、1以上の多座配位子Lが結合した化合物である。金属キレート化合物は、金属原子Mに結合する1以上の単座配位子Xを有してもよく、有しなくてもよい。例えば、金属原子Mが1つである金属キレート化合物の一般式を、M(L)(X)で表すとき、m≧1、n≧0である。mが2以上の場合、m個のLは同一の配位子でもよく、異なる配位子でもよい。nが2以上の場合、n個のXは同一の配位子でもよく、異なる配位子でもよい。 The metal chelate compound is a compound in which one or more polydentate ligands L are bonded to a central metal atom M. The metal chelate compound may or may not have one or more monodentate ligands X bonded to the metal atom M. For example, when a metal chelate compound having one metal atom M is represented by M (L) m (X) n , m ≧ 1 and n ≧ 0. When m is 2 or more, m L may be the same ligand or different ligands. When n is 2 or more, n X may be the same ligand or different ligands.

金属原子Mとしては、Fe,Ni,Mn,Cr,V,Ti,Ru,Zn,Al,Zr,Sn等が挙げられる。
多座配位子Lとしては、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸オクチル、アセト酢酸オレイル、アセト酢酸ラウリル、アセト酢酸ステアリル等のβ−ケトエステルや、アセチルアセトン(別名2,4−ペンタンジオン)、2,4−ヘキサンジオン、ベンゾイルアセトン等のβ−ジケトンが挙げられる。これらは、ケトエノール互変異性体化合物であり、多座配位子Lにおいてはエノールが脱プロトンしたエノラート(例えばアセチルアセトネート)であってもよい。
単座配位子Xとしては、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、2−エチルヘキサノイル基、オクタノイル基、ノナノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基等のアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基などが挙げられる。
Examples of the metal atom M include Fe, Ni, Mn, Cr, V, Ti, Ru, Zn, Al, Zr, Sn and the like.
As polydentate ligand L, β-keto esters such as methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, octyl acetoacetate, oleyl acetoacetate, lauryl acetoacetate, stearyl acetoacetate, and acetylacetone (also known as 2,4-pentanedione), Examples include β-diketones such as 2,4-hexanedione and benzoylacetone. These are keto-enol tautomeric compounds and in the case of polydentate ligands L may be enolates (eg acetylacetonate) in which the enol is deprotonated.
Examples of the monodentate ligand X include halogen atoms such as chlorine atom and bromine atom, pentanoyl group, hexanoyl group, 2-ethylhexanoyl group, octanoyl group, nonanoyl group, decanoyl group, dodecanoyl group, octadecanoyl group, etc. And alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group and butoxy group.

金属キレート化合物の具体例としては、トリス(2,4−ペンタンジオナト)鉄(III)、鉄トリスアセチルアセトネート、チタニウムトリスアセチルアセトネート、ルテニウムトリスアセチルアセトネート、亜鉛ビスアセチルアセトネート、アルミニウムトリスアセチルアセトネート、ジルコニウムテトラキスアセチルアセトネート、トリス(2,4−ヘキサンジオナト)鉄(III)、ビス(2,4−ヘキサンジオナト)亜鉛、トリス(2,4−ヘキサンジオナト)チタン、トリス(2,4−ヘキサンジオナト)アルミニウム、テトラキス(2,4−ヘキサンジオナト)ジルコニウム等が挙げられる。   Specific examples of metal chelate compounds include tris (2,4-pentanedionato) iron (III), iron trisacetylacetonate, titanium trisacetylacetonate, ruthenium trisacetylacetonate, zinc bis acetylacetonate, aluminum tris Acetylacetonate, zirconium tetrakis acetylacetonate, tris (2,4-hexanedionato) iron (III), bis (2,4-hexanedionato) zinc, tris (2,4-hexanedionato) titanium, tris Examples include (2,4-hexanedionato) aluminum, tetrakis (2,4-hexanedionato) zirconium and the like.

有機錫化合物としては、ジアルキル錫オキシドや、ジアルキル錫の脂肪酸塩、第1錫の脂肪酸塩等が挙げられる。従来、ジブチル錫化合物が多く使用されてきたが、近年、有機錫化合物の毒性の問題が指摘され、特にジブチル錫化合物に含まれるトリブチル錫(TBT)は、内分泌攪乱物質としても懸念されている。安全性の観点から、ジオクチル錫化合物等の長鎖アルキル錫化合物が好ましい。具体的な有機錫化合物としては、ジオクチル錫オキシド、ジオクチル錫ジラウレート等が挙げられる。暫定的にはSn化合物も使用可能であるが、将来的には、より安全性の高い物質の使用が要求される趨勢に鑑み、Snに比べて安全性の高い、Al,Ti,Fe等の金属キレート化合物を用いることが好ましい。
本発明に係わる粘着剤組成物における(D)架橋促進剤としては、アルミニウムキレート化合物、チタンキレート化合物、鉄キレート化合物からなる群の中から選択された少なくとも1種以上であることが好ましい。
(D)架橋促進剤は、前記アクリル系ポリマー100重量部に対して、0.001〜0.5重量部含まれることが好ましい。
Examples of the organic tin compound include dialkyl tin oxide, fatty acid salts of dialkyl tin, and fatty acid salts of stannous tin. Conventionally, dibutyltin compounds have been widely used, but in recent years, the problem of toxicity of organotin compounds has been pointed out, and in particular, tributyltin (TBT) contained in dibutyltin compounds is also concerned as an endocrine disrupting substance. From the viewpoint of safety, long-chain alkyl tin compounds such as dioctyl tin compounds are preferred. Specific examples of organotin compounds include dioctyltin oxide and dioctyltin dilaurate. Although Sn compounds can also be used tentatively, in view of the trend where the use of more safe substances is required in the future, Al, Ti, Fe, etc. are safer than Sn. It is preferred to use metal chelate compounds.
The (D) crosslinking accelerator in the pressure-sensitive adhesive composition according to the present invention is preferably at least one selected from the group consisting of an aluminum chelate compound, a titanium chelate compound, and an iron chelate compound.
The crosslinking accelerator (D) is preferably contained in an amount of 0.001 to 0.5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the acrylic polymer.

(E)ケトエノール互変異性体化合物としては、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸オクチル、アセト酢酸オレイル、アセト酢酸ラウリル、アセト酢酸ステアリル等のβ−ケトエステルや、アセチルアセトン、2,4−ヘキサンジオン、ベンゾイルアセトン等のβ−ジケトンが挙げられる。これらは、ポリイソシアネート化合物を架橋剤とする粘着剤組成物において、架橋剤の有するイソシアネート基をブロックすることにより、架橋剤の配合後における粘着剤組成物の過剰な粘度上昇やゲル化を抑制し、粘着剤組成物のポットライフを延長することができる。
(E)ケトエノール互変異性体化合物は、前記アクリル系ポリマー100重量部に対して、0.1〜300重量部含まれることが好ましい。
(E) Keto-enol tautomer compounds include β-keto esters such as methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, octyl acetoacetate, oleyl acetoacetate, lauryl acetoacetate, stearyl acetoacetate, acetylacetone, 2,4-hexanedione And β-diketones such as benzoylacetone. In the pressure-sensitive adhesive composition having a polyisocyanate compound as a crosslinking agent, these block the isocyanate group possessed by the crosslinking agent to suppress an excessive increase in viscosity and gelation of the pressure-sensitive adhesive composition after blending of the crosslinking agent. The pot life of the pressure-sensitive adhesive composition can be extended.
The keto-enol tautomer compound (E) is preferably contained in an amount of 0.1 to 300 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the acrylic polymer.

(E)ケトエノール互変異性体化合物は、(D)架橋促進剤とは反対に、架橋を抑制する効果を有することから、(D)架橋促進剤に対する(E)ケトエノール互変異性体化合物の割合を適切に設定することが好ましい。粘着剤組成物のポットライフを長くし、貯蔵安定性を向上させるには、(E)/(D)の重量部比率が70〜1000であることが好ましく、70〜700であることがより好ましく、80〜600であることが特に好ましい。   (E) The ratio of (E) keto enol tautomer compound to (D) crosslinking accelerator because (E) the keto enol tautomer compound has the effect of suppressing the crosslinking as opposed to (D) the crosslinking accelerator. Is preferably set appropriately. In order to prolong the pot life of the pressure-sensitive adhesive composition and improve the storage stability, the weight ratio of (E) / (D) is preferably 70 to 1000, and more preferably 70 to 700. And 80 to 600 are particularly preferred.

前記アクリル系ポリマーは、前記共重合可能なモノマー群として、さらに、(F)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーを任意に含有することができる。(F)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、ポリアルキレングリコールの有する複数の水酸基のうち、一つの水酸基が(メタ)アクリル酸エステルとしてエステル化された化合物であればよい。(メタ)アクリル酸エステル基が重合性基となるので、前記アクリル系ポリマーに共重合することができる。他の水酸基は、OHのままでもよく、メチルエーテルやエチルエーテル等のアルキルエーテルや、酢酸エステル等の飽和カルボン酸エステル等となっていてもよい。
ポリアルキレングリコールの有するアルキレン基としては、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基などが挙げられるが、これらに限定されない。ポリアルキレングリコールが、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコール等の2種以上のポリアルキレングリコールの共重合体であってもよい。ポリアルキレングリコールの共重合体としては、ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール−ポリブチレングリコール、ポリプロピレングリコール−ポリブチレングリコール、ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−ポリブチレングリコール等が挙げられ、該共重合体は、ブロック共重合体、ランダム共重合体であってもよい。
(F)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーが、ポリアルキレングリコール鎖を構成するアルキレンオキサイドの平均繰り返し数が3〜14であることが好ましい。「アルキレンオキサイドの平均繰り返し数」とは、(F)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーの分子構造に含まれる「ポリアルキレングリコール鎖」の部分において、アルキレンオキサイド単位が繰り返す平均の数である。
(F)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーにおいて、モノマー中のジエステル分が0.2%以下であることが好ましい。「モノマー中のジエステル分」とは、(F)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマー中に含まれるポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリル酸エステルの含有率(重量%)である。
The acrylic polymer can optionally further contain (F) a polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer as the copolymerizable monomer group. (F) The polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer may be a compound in which one of the plural hydroxyl groups possessed by the polyalkylene glycol is esterified as a (meth) acrylic acid ester. Since the (meth) acrylic acid ester group becomes a polymerizable group, it can be copolymerized with the acrylic polymer. The other hydroxyl group may be OH as it is, and may be an alkyl ether such as methyl ether or ethyl ether, or a saturated carboxylic acid ester such as acetic acid ester.
As an alkylene group which polyalkylene glycol has, although an ethylene group, a propylene group, a butylene group etc. are mentioned, it is not limited to these. The polyalkylene glycol may be a copolymer of two or more polyalkylene glycols such as polyethylene glycol, polypropylene glycol and polybutylene glycol. Examples of the polyalkylene glycol copolymer include polyethylene glycol-polypropylene glycol, polyethylene glycol-polybutylene glycol, polypropylene glycol-polybutylene glycol, polyethylene glycol-polypropylene glycol-polybutylene glycol and the like, and the copolymer is It may be a block copolymer or a random copolymer.
(F) The polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer preferably has an average repeating number of 3 to 14 of alkylene oxide constituting the polyalkylene glycol chain. The “average number of repetitions of alkylene oxide” is the average number of repeating alkylene oxide units in the “polyalkylene glycol chain” portion included in the molecular structure of (F) polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer is there.
In the (F) polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer, the diester content in the monomer is preferably 0.2% or less. The "diester component in the monomer" is the content (% by weight) of the polyalkylene glycol di (meth) acrylate contained in the (F) polyalkylene glycol mono (meth) acrylate monomer.

(F)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシポリアルキレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシポリアルキレングリコール(メタ)アクリレートの中から選択された、少なくとも1種以上であることが好ましい。
より具体的には、ポリエチレングリコール−モノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール−モノ(メタ)アクリレート、ポリブチレングリコール−モノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−モノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール−ポリブチレングリコール−モノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール−ポリブチレングリコール−モノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−ポリブチレングリコール−モノ(メタ)アクリレート;メトキシポリエチレングリコール−(メタ)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール−(メタ)アクリレート、メトキシポリブチレングリコール−(メタ)アクリレート、メトキシ−ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−(メタ)アクリレート、メトキシ−ポリエチレングリコール−ポリブチレングリコール−(メタ)アクリレート、メトキシ−ポリプロピレングリコール−ポリブチレングリコール−(メタ)アクリレート、メトキシ−ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−ポリブチレングリコール−(メタ)アクリレート;エトキシポリエチレングリコール−(メタ)アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール−(メタ)アクリレート、エトキシポリブチレングリコール−(メタ)アクリレート、エトキシ−ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−(メタ)アクリレート、エトキシ−ポリエチレングリコール−ポリブチレングリコール−(メタ)アクリレート、エトキシ−ポリプロピレングリコール−ポリブチレングリコール−(メタ)アクリレート、エトキシ−ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−ポリブチレングリコール−(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
(A)アルキル基の炭素数がC1〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの合計を100重量部とする時、前記(F)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーを0〜50重量部の割合で含有していることが好ましい。本発明に係わる粘着剤層において、粘着剤組成物に(F)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーを含有させなくてもよい。
(F) The polyalkylene glycol mono (meth) acrylate monomer is selected from polyalkylene glycol mono (meth) acrylates, methoxypolyalkylene glycol (meth) acrylates, and ethoxy polyalkylene glycol (meth) acrylates. It is preferable that it is at least one or more.
More specifically, polyethylene glycol-mono (meth) acrylate, polypropylene glycol-mono (meth) acrylate, polybutylene glycol-mono (meth) acrylate, polyethylene glycol-polypropylene glycol-mono (meth) acrylate, polyethylene glycol-poly Butylene glycol-mono (meth) acrylate, polypropylene glycol-polybutylene glycol-mono (meth) acrylate, polyethylene glycol-polypropylene glycol-polybutylene glycol-mono (meth) acrylate; methoxypolyethylene glycol- (meth) acrylate, methoxypolypropylene glycol -(Meth) acrylate, methoxy polybutylene glycol-(meth) acrylate, methoxy Polyethylene glycol-polypropylene glycol- (meth) acrylate, methoxy-polyethylene glycol-polybutylene glycol- (meth) acrylate, methoxy-polypropylene glycol-polybutylene glycol- (meth) acrylate, methoxy-polyethylene glycol-polypropylene glycol-polybutylene glycol -(Meth) acrylate; ethoxy polyethylene glycol-(meth) acrylate, ethoxy polypropylene glycol (meth) acrylate, ethoxy polybutylene glycol (meth) acrylate, ethoxy-polyethylene glycol-polypropylene glycol-(meth) acrylate, ethoxy-polyethylene Glycol-polybutylene glycol- (meth) acrylate Ethoxy - polypropylene glycol - polybutylene glycol - (meth) acrylate, ethoxy - polyethylene glycol - polypropylene glycol - polybutylene glycol - such as (meth) acrylate.
(A) 0 to 50 weight of said (F) polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer when the carbon number of the alkyl group makes the total of (meth) acrylic acid ester monomer of C1-C18 100 weight parts It is preferable to contain in the ratio of part. In the pressure-sensitive adhesive layer according to the present invention, the pressure-sensitive adhesive composition may not contain the (F) polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer.

粘着剤組成物は、HLB値が7〜15である(H)ポリエーテル変性シロキサン化合物を任意に含有することができる。ポリエーテル変性シロキサン化合物は、ポリエーテル基を有するシロキサン化合物であり、通常のシロキサン単位〔−SiR −O−〕の他に、ポリエーテル基を有するシロキサン単位〔−SiR(RO(RO))−O−〕を有する。ここで、Rは1種又は2種以上のアルキル基又はアリール基、R及びRは1種又は2種以上のアルキレン基、Rは1種又は2種以上のアルキル基やアシル基等(末端基)を示す。ポリエーテル基としては、ポリオキシエチレン基〔(CO)〕やポリオキシプロピレン基〔(CO)〕等のポリオキシアルキレン基が挙げられる。 The pressure-sensitive adhesive composition can optionally contain a (H) polyether modified siloxane compound having an HLB value of 7 to 15. Polyether-modified siloxane compound is a siloxane compound having a polyether group, in addition to the normal siloxane units [-SiR 1 2 -O-], siloxane units having polyether groups [-SiR 1 (R 2 O ( R 3 O) n R 4 ) -O-]. Here, R 1 represents one or more alkyl groups or aryl groups, R 2 and R 3 represent one or more alkylene groups, R 4 represents one or more alkyl groups or an acyl group Etc. (terminal group). Polyether group includes polyoxyalkylene groups such as polyoxyethylene group [(C 2 H 4 O) n ] and polyoxypropylene group [(C 3 H 6 O) n ].

ポリエーテル変性シロキサン化合物は、HLB値が7〜15であるポリエーテル変性シロキサン化合物であることが好ましい。また、前記アクリル系ポリマー100重量部に対して、HLB値が7〜15であるポリエーテル変性シロキサン化合物が1.0重量部以下(0重量部の場合を除く)、0.01〜1.0重量部含まれることが好ましい。より好ましくは、0.1〜0.5重量部である。
HLBとは、例えばJIS K3211(界面活性剤用語)等に規定する親水親油バランス(親水性親油性比)である。
The polyether-modified siloxane compound is preferably a polyether-modified siloxane compound having an HLB value of 7 to 15. In addition, the polyether modified siloxane compound having an HLB value of 7 to 15 is 1.0 part by weight or less (except in the case of 0 part by weight), 0.01 to 1.0, with respect to 100 parts by weight of the acrylic polymer. Preferably, it is included by weight. More preferably, it is 0.1 to 0.5 parts by weight.
HLB is, for example, a hydrophilic / lipophilic balance (hydrophilic / lipophilic ratio) defined in JIS K 3211 (term of surfactant) or the like.

ポリエーテル変性シロキサン化合物は、例えば、水素化ケイ素基を有するポリオルガノシロキサン主鎖に対し、不飽和結合及びポリオキシアルキレン基を有する有機化合物をヒドロシリル化反応によりグラフトさせることによって得ることができる。具体的には、ジメチルシロキサン・メチル(ポリオキシエチレン)シロキサン共重合体、ジメチルシロキサン・メチル(ポリオキシエチレン)シロキサン・メチル(ポリオキシプロピレン)シロキサン共重合体、ジメチルシロキサン・メチル(ポリオキシプロピレン)シロキサン重合体等が挙げられる。ポリエーテル変性シロキサン化合物のHLB値は、ポリエーテル基とシロキサン基との比率を選択することにより、調整することができる。
HLB値が7〜15である(H)ポリエーテル変性シロキサン化合物を粘着剤組成物に配合することにより、粘着剤の粘着力及び汚染性を改善することができる。粘着剤組成物がポリエーテル変性シロキサン化合物を含有しない場合、より低コストとなる。
The polyether-modified siloxane compound can be obtained, for example, by grafting an organic compound having an unsaturated bond and a polyoxyalkylene group to a polyorganosiloxane main chain having a silicon hydride group by a hydrosilylation reaction. Specifically, dimethylsiloxane methyl (polyoxyethylene) siloxane copolymer, dimethylsiloxane methyl (polyoxyethylene) siloxane methyl (polyoxypropylene) siloxane copolymer, dimethylsiloxane methyl (polyoxypropylene) A siloxane polymer etc. are mentioned. The HLB value of the polyether-modified siloxane compound can be adjusted by selecting the ratio of the polyether group to the siloxane group.
By blending the (H) polyether-modified siloxane compound having an HLB value of 7 to 15 into the pressure-sensitive adhesive composition, it is possible to improve the adhesive strength and the stain resistance of the pressure-sensitive adhesive. If the pressure-sensitive adhesive composition does not contain a polyether-modified siloxane compound, the cost is lower.

さらに、その他成分として、本発明に係わる粘着剤組成物には、界面活性剤、硬化促進剤、可塑剤、充填剤、硬化遅延剤、加工助剤、老化防止剤、酸化防止剤などの公知の添加剤を適宜に配合することが出来る。これらは、単独でもしくは2種以上併せて用いられる。   Furthermore, as the other components, the pressure-sensitive adhesive composition according to the present invention includes, as other components, known surfactants, curing accelerators, plasticizers, fillers, curing retarders, processing aids, anti-aging agents, antioxidants, etc. Additives can be appropriately blended. These may be used alone or in combination of two or more.

本発明の粘着剤組成物に用いられるアクリル系ポリマーは、(A)アルキル基の炭素数がC1〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの合計100重量部に対して、(a1)アルキル基の炭素数がC1〜C4の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの少なくとも1種を1〜30重量部と、(a2)アルキル基の炭素数がC5〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの少なくとも1種を70〜99重量部と、共重合可能なモノマー群として、(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーの少なくとも1種を0.1〜12重量部と、を共重合させることで合成することができる。前記共重合可能なモノマー群として、さらに、(F)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーを含んでもよい。アクリル系ポリマーの重合方法は特に限定されるものではなく、溶液重合、乳化重合等、適宜の重合方法が使用可能である。
本発明の粘着剤組成物は、アクリル系ポリマーに、(C)2官能以上のイソシアネート化合物、(D)架橋促進剤と、(E)ケトエノール互変異性体化合物、さらに適宜任意の添加剤を配合することで調製することができる。
The acrylic polymer used in the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention is composed of (a1) alkyl group with respect to a total of 100 parts by weight of (meth) acrylic acid ester monomer having (C) alkyl group of C1 to C18. 1 to 30 parts by weight of at least one kind of (meth) acrylic acid ester monomer having a carbon number of C1 to C4, and (a2) at least one kind of (meth) acrylic acid ester monomer having a carbon number of C5 to C18 of an alkyl group Of 70 to 99 parts by weight and, as a group of copolymerizable monomers, (B) 0.1 to 12 parts by weight of at least one copolymerizable monomer having a hydroxyl group are synthesized. be able to. The copolymerizable monomer group may further include (F) a polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer. The polymerization method of the acrylic polymer is not particularly limited, and appropriate polymerization methods such as solution polymerization and emulsion polymerization can be used.
The pressure-sensitive adhesive composition of the present invention contains an acrylic polymer, (C) a bifunctional or higher functional isocyanate compound, (D) a crosslinking accelerator, and (E) ketoenol tautomer compound, and further, optionally, any additive. It can be prepared by

前記アクリル系ポリマーが、共重合可能なモノマー群として、カルボキシル基を含有する共重合可能なモノマー、及び水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマーを含まないことにより、架橋速度の向上および粘着力の安定化に効果がある。架橋剤として使用される(C)2官能以上のイソシアネート化合物と反応するモノマーとして、(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーを用いることが好ましい。前記アクリル系ポリマーの好ましいモノマー組成としては、前記(A)と前記(B)とからそれぞれ1種以上、前記(A)と前記(B)と前記(F)とからそれぞれ1種以上、などが挙げられる。   The cross-linking speed is improved and the adhesion is stabilized because the acrylic polymer does not contain a carboxyl group-containing copolymerizable monomer and a hydroxyl group-free nitrogen-containing vinyl monomer as a copolymerizable monomer group. Is effective. It is preferable to use a copolymerizable monomer containing a hydroxyl group (B) as a monomer that reacts with the (C) bifunctional or higher isocyanate compound used as a crosslinking agent. As a preferable monomer composition of the said acryl-type polymer, 1 type or more each from said (A) and said (B), 1 type or more each from said (A), said (B), and said (F), etc. It can be mentioned.

前記粘着剤組成物を架橋させてなる粘着剤層の、低速の剥離速度0.3m/minでの粘着力が0.05〜0.1N/25mmであり、高速の剥離速度30m/minでの粘着力が1.0N/25mm以下であることが好ましい。これにより、粘着力が剥離速度によっても変化が少ない性能が得られ、高速剥離によっても、速やかに剥離することが可能になる。また、貼り直しのため、一旦、帯電防止表面保護フィルムを剥がすときにも、過大な力を必要とせず、被着体から剥がし易い。   The pressure-sensitive adhesive layer formed by crosslinking the pressure-sensitive adhesive composition has a tackiness of 0.05 to 0.1 N / 25 mm at a low peeling rate of 0.3 m / min and a high peeling rate of 30 m / min. The adhesive strength is preferably 1.0 N / 25 mm or less. This makes it possible to obtain a performance in which the adhesive strength is less changed even by the peeling speed, and it is possible to peel rapidly even by high-speed peeling. In addition, even when the antistatic surface protective film is once peeled off for re-sticking, it does not require an excessive force and is easily peeled off from the adherend.

前記粘着剤組成物を架橋させてなる粘着剤層の、表面抵抗率が5.0×10+12Ω/□以下であり、剥離帯電圧が「±0.6kV以下」であることが好ましい。なお、本発明において、「±0.6kV以下」とは、0〜−0.6kV及び0〜+0.6kV、すなわち、−0.6〜+0.6kVを意味する。表面抵抗率が大きいと、帯電防止表面保護フィルムを被着体から剥離する時に、帯電で発生した静電気を逃がす性能に劣る。このため、表面抵抗率を十分に小さくすることにより、粘着剤層を被着体が剥がす時に発生する静電気に伴って生じる剥離帯電圧が低減され、被着体の電気制御回路等に影響することを抑制することができる。 The surface resistivity of the pressure-sensitive adhesive layer formed by crosslinking the pressure-sensitive adhesive composition is preferably 5.0 × 10 +12 Ω / □ or less, and the peeling voltage is preferably “± 0.6 kV or less”. In the present invention, “± 0.6 kV or less” means 0 to −0.6 kV and 0 to +0.6 kV, that is, −0.6 to +0.6 kV. When the surface resistivity is large, when the antistatic surface protective film is peeled from the adherend, the performance to release static electricity generated by charging is inferior. For this reason, by making the surface resistivity sufficiently low, the peeling-off voltage generated with the static electricity generated when the adherend peels off the pressure-sensitive adhesive layer is reduced, which affects the electric control circuit of the adherend, etc. Can be suppressed.

本発明の粘着剤組成物を架橋してなる粘着剤層(架橋後の粘着剤)のゲル分率は、95〜100%であることが好ましい。このようにゲル分率が高いことにより、低速の剥離速度において、粘着力が過大にならず、前記アクリル系ポリマーからの未重合モノマーあるいはオリゴマーの溶出が低減して、汚染性や高温・高湿度における耐久性が改善され、被着体の汚染を抑制することができる。   The gel fraction of the pressure-sensitive adhesive layer (pressure-sensitive adhesive after crosslinking) formed by crosslinking the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention is preferably 95 to 100%. Thus, by virtue of the high gel fraction, the adhesion does not become excessive at a low peeling rate, and the elution of unpolymerized monomers or oligomers from the acrylic polymer is reduced, resulting in contamination and high temperature / high humidity. The durability of the present invention can be improved, and the contamination of the adherend can be suppressed.

本発明の帯電防止表面保護フィルムは、粘着剤組成物を架橋してなる粘着剤層を、樹脂フィルムの片面または両面に形成してなる。本発明の帯電防止表面保護フィルムは、上記の(A)〜(E)の各成分がバランスよく配合された粘着剤組成物を架橋させた粘着剤層が形成されてなるため、優れた帯電防止性能を備え、低速の剥離速度、及び高速の剥離速度において、粘着力のバランスが優れ、さらに、耐久性能、及び汚染性にも優れたものとなる。このため、偏光板の表面保護フィルムの用途として好適に使用することができる。   The antistatic surface protective film of the present invention is obtained by forming a pressure-sensitive adhesive layer formed by crosslinking a pressure-sensitive adhesive composition on one side or both sides of a resin film. The antistatic surface protective film of the present invention is excellent in antistatic property because the pressure-sensitive adhesive layer is formed by crosslinking the pressure-sensitive adhesive composition in which the components (A) to (E) described above are blended in a well-balanced manner. It has good performance, good balance of adhesion at low peeling speed and high peeling speed, and excellent durability and contamination. For this reason, it can be conveniently used as a use of the surface protection film of a polarizing plate.

本発明に係わる帯電防止表面保護フィルム10に使用される粘着剤層2の厚みは、特に限定はないものの、例えば、5〜40μm程度の厚みが好ましく、10〜30μm程度の厚みがより好ましい。帯電防止表面保護フィルムの被着体の表面に対する剥離強度(粘着力)が、0.03〜0.3N/25mm程度の、微粘着力を有する粘着剤層2であることが、被着体から帯電防止表面保護フィルムを剥がす時の操作性に優れることから好ましい。また、帯電防止表面保護フィルム10から剥離フィルム5を剥がす時の操作性に優れることから、剥離フィルム5の粘着剤層2からの剥離力が、0.2N/50mm以下であることが好ましい。   The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 2 used in the antistatic surface protective film 10 according to the present invention is not particularly limited, but preferably about 5 to 40 μm, more preferably about 10 to 30 μm. From the adherend, it is the pressure-sensitive adhesive layer 2 having a slight adhesive strength, in which the peel strength (adhesive force) of the antistatic surface protective film to the surface of the adherend is about 0.03 to 0.3 N / 25 mm. It is preferable from the thing which is excellent in the operativity at the time of peeling off antistatic surface protection film. Moreover, since it is excellent in the operativity at the time of peeling off the peeling film 5 from the antistatic surface protective film 10, it is preferable that the peeling force from the adhesive layer 2 of the peeling film 5 is 0.2 N / 50 mm or less.

また、本発明に係わる帯電防止表面保護フィルム10に使用される剥離フィルム5は、樹脂フィルム3の片面に、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、帯電防止剤とを含む樹脂組成物を用いた剥離剤層4が形成されている。剥離剤層4は、さらに、20℃において液体のシリコーン系化合物を含むことが好ましい。剥離剤層4中のシリコーン系化合物が、ポリエーテル変性シリコーンであることが好ましい。   In addition, the release film 5 used for the antistatic surface protective film 10 according to the present invention has a resin composition containing a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component and an antistatic agent on one side of the resin film 3. The release agent layer 4 used is formed. The release agent layer 4 preferably further contains a silicone compound which is liquid at 20 ° C. The silicone-based compound in the release agent layer 4 is preferably a polyether-modified silicone.

樹脂フィルム3としては、ポリエステルフィルム、ポリアミドフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリイミドフィルムなどが挙げられるが、透明性に優れていることや価格が比較的に安価であることから、ポリエステルフィルムが特に好ましい。樹脂フィルムは、無延伸フィルムであっても、一軸または二軸延伸されたフィルムであってもよい。また、延伸フィルムの延伸倍率や、延伸フィルムの結晶化に伴い形成される軸方向の配向角度を、特定の値に制御してもよい。
樹脂フィルム3の厚みは、特に限定はないが、例えば、12〜100μm程度の厚みが好ましく、20〜50μm程度の厚みであれば取り扱い易く、より好ましい。
また、必要に応じて、樹脂フィルム3の表面に、コロナ放電による表面改質、アンカーコート剤の塗付などの易接着処理を施してもよい。
The resin film 3 may, for example, be a polyester film, a polyamide film, a polyethylene film, a polypropylene film or a polyimide film, but a polyester film is particularly preferable because of its excellent transparency and relatively low price. . The resin film may be a non-oriented film or a uniaxially or biaxially oriented film. In addition, the stretching ratio of the stretched film or the orientation angle in the axial direction formed along with the crystallization of the stretched film may be controlled to a specific value.
Although the thickness of the resin film 3 is not particularly limited, for example, a thickness of about 12 to 100 μm is preferable, and a thickness of about 20 to 50 μm is easy to handle and more preferable.
In addition, if necessary, the surface of the resin film 3 may be subjected to an easy adhesion treatment such as surface modification by corona discharge or application of an anchor coating agent.

剥離剤層4を構成するジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤には、付加反応型、縮合反応型、カチオン重合型、ラジカル重合型などの、公知のシリコーン系剥離剤が挙げられる。付加反応型シリコーン系剥離剤として市販されている製品には、例えば、KS−776A、KS−847T、KS−779H、KS−837、KS−778、KS−830(信越化学工業(株)製)、SRX−211、SRX−345、SRX−357、SD7333、SD7220、SD7223、LTC−300B、LTC−350G、LTC−310(東レダウコーニング(株)製)などが挙げられる。縮合反応型として市販されている製品には、例えば、SRX−290、SYLOFF−23(東レダウコーニング(株)製)などが挙げられる。カチオン重合型として市販されている製品には、例えば、TPR−6501、TPR−6500、UV9300、VU9315、UV9430(モメンティブ・パーフォーマンス・マテリアルズ社製)、X62−7622(信越化学工業(株)製)などが挙げられる。ラジカル重合型として市販されている製品には、例えば、X62−7205(信越化学工業(株)製)などが挙げられる。   Examples of the release agent containing dimethylpolysiloxane as the main component of the release agent layer 4 include known silicone-based release agents such as addition reaction type, condensation reaction type, cationic polymerization type, and radical polymerization type. Products commercially available as addition reaction type silicone release agents include, for example, KS-776A, KS-847T, KS-779H, KS-837, KS-778, KS-830 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) SRX-211, SRX-345, SRX-357, SD7333, SD7220, SD7223, LTC-300B, LTC-350G, LTC-310 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), and the like. As a product marketed as a condensation reaction type, SRX-290, SYLOFF-23 (Toray Dow Corning Co., Ltd. product) etc. are mentioned, for example. Products commercially available as cationic polymerization types include, for example, TPR-6501, TPR-6500, UV9300, VU9315, UV9430 (manufactured by Momentive Performance Materials), X62-7622 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) And the like. As a product marketed as a radical polymerization type, X62-7205 (made by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) etc. are mentioned, for example.

剥離剤層4を構成する20℃において液体のシリコーン系化合物としては、ポリエーテル変性シリコーン、アルキル変性シリコーン、カルビノール高級脂肪酸エステル変性シリコーンなどが挙げられる。本発明では、粘着剤層の表面の帯電防止性を向上するために、ジメチルポリシロキサンを主成分とした剥離剤層の中に相溶している状態の20℃において液体のシリコーン系化合物が用いられる。本発明の用途には、変性シリコーン化合物の中でも、ポリエーテル変性シリコーンが好ましい。ポリエーテル変性シリコーンにおけるポリエーテル鎖は、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイドなどで構成され、例えば、側鎖に用いるポリエチレンオキサイドの分子量を選択することにより、シリコーン剥離剤との相溶性や帯電防止効果などの物性が調整される。
また、ポリエーテル変性シリコーンとして市販されている製品には、例えば、KF−351A、KF−352A、KF−353、KF−354L、KF−355A、KF−642(信越化学工業(株)製)、SH8400、SH8700、SF8410(東レダウコーニング(株)製)、TSF−4440、TSF−4441、TSF−4445、TSF−4446、TSF−4450(モメンティブパーフォーマンス・マテリアルズ社製)、BYK−300、BYK−306、BYK−307、BYK−320、BYK−325、BYK−330(ビックケミー社製)などが挙げられる。
ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤に対する20℃において液体のシリコーン系化合物の添加量は、シリコーン系化合物の種類や剥離剤との相溶性の度合いにより異なるが、帯電防止表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、望まれる剥離帯電圧、被着体に対する汚染性、粘着特性などを考慮して設定すればよい。
Examples of silicone-based compounds that are liquid at 20 ° C. that constitute the release agent layer 4 include polyether-modified silicones, alkyl-modified silicones and carbinol higher fatty acid ester-modified silicones. In the present invention, in order to improve the antistatic property of the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, a silicone compound which is liquid at 20 ° C. in a compatible state is used in the release agent layer containing dimethylpolysiloxane as a main component. Be Among the modified silicone compounds, polyether modified silicones are preferred for use in the present invention. The polyether chain in the polyether modified silicone is composed of ethylene oxide, propylene oxide, etc. For example, by selecting the molecular weight of polyethylene oxide used for the side chain, physical properties such as compatibility with a silicone release agent, antistatic effect, etc. Is adjusted.
Further, products commercially available as polyether modified silicone include, for example, KF-351A, KF-352A, KF-353, KF-354L, KF-355A, KF-642 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), SH8400, SH8700, SF8410 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), TSF-4440, TSF-4441, TSF-4445, TSF-4446, TSF-4450 (manufactured by Momentive Performance Materials), BYK-300, BYK -306, BYK-307, BYK-320, BYK-325, BYK-330 (manufactured by Bick Chemie), and the like.
The addition amount of the silicone compound liquid at 20 ° C. with respect to the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component varies depending on the type of silicone compound and the degree of compatibility with the release agent, but the antistatic surface protection film is adhered It may be set in consideration of the desired peeling charge voltage, the contamination property to the adherend, the adhesive property and the like when peeling from the body.

剥離剤層4を構成する帯電防止剤としては、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤溶液に対して分散性の良いもので、かつ、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の硬化を阻害しないものが好ましい。こうした帯電防止剤としてはアルカリ金属塩が好適である。   The antistatic agent constituting the releasing agent layer 4 has good dispersibility in a releasing agent solution containing dimethylpolysiloxane as a main component, and inhibits the curing of the releasing agent containing dimethylpolysiloxane as a main component It is preferable not to An alkali metal salt is suitable as such an antistatic agent.

アルカリ金属塩としては、リチウム、ナトリウム、カリウムからなる金属塩が挙げられる。具体的には、たとえば、Li、Na、Kよりなるカチオンと、Cl、Br、I、BF 、PF 、SCN、ClO 、CFSO 、(FSO、(CFSO、(CSO、(CFSOよりなるアニオンから構成される金属塩が好適に用いられる。なかでも特に、LiBr、LiI、LiBF、LiPF、LiSCN、LiClO、LiCFSO、Li(FSON、Li(CFSON、Li(CSON、Li(CFSOCなどのリチウム塩(Li塩)、とりわけ、Li(CFSON「略記号LiTFSI」、Li(FSON「略記号LiFSI」、LiCFSO「略記号LiTF又はLiTf」が好ましく用いられる。これらのアルカリ金属塩は単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよい。イオン性物質の安定化のため、ポリオキシアルキレン構造を含有する化合物を添加しても良い。
ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤に対する帯電防止剤の添加量は、帯電防止剤の種類や剥離剤との親和性の度合いにより異なるが、帯電防止表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、望まれる剥離帯電圧、被着体に対する汚染性、粘着特性などを考慮して設定すればよい。
Examples of the alkali metal salt include metal salts consisting of lithium, sodium and potassium. Specifically, for example, a cation consisting of Li + , Na + , K + , Cl , Br , I , BF 4 , PF 6 , SCN , ClO 4 , CF 3 SO 3 , A metal salt composed of an anion consisting of (FSO 2 ) 2 N , (CF 3 SO 2 ) 2 N , (C 2 F 5 SO 2 ) 2 N , (CF 3 SO 2 ) 3 C Used for Among them, LiBr, LiI, LiBF 4 , LiPF 6 , LiSCN, LiClO 4 , LiCF 3 SO 3 , Li (FSO 2 ) 2 N, Li (CF 3 SO 2 ) 2 N, Li (C 2 F 5 SO 2). ) Lithium salts (Li salts) such as 2 N, Li (CF 3 SO 2 ) 3 C, in particular, Li (CF 3 SO 2 ) 2 N "abbreviated LiTFSI", Li (FSO 2 ) 2 N "abbreviated LiFSI LiCF 3 SO 3 "abbreviated LiTF or LiTf" is preferably used. These alkali metal salts may be used alone or in combination of two or more. In order to stabilize the ionic substance, a compound containing a polyoxyalkylene structure may be added.
The amount of the antistatic agent added to the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component varies depending on the type of the antistatic agent and the degree of affinity with the release agent, but when the antistatic surface protective film is peeled from the adherend It may be set in consideration of the desired peeling charge voltage, the contamination property to the adherend, the adhesive property and the like.

ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、帯電防止剤との混合方法には、特に限定はない。ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤に、帯電防止剤を添加して、混合した後に剥離剤硬化用の触媒を添加・混合する方法、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤を、あらかじめ有機溶剤で希釈したのちに帯電防止剤と剥離剤硬化用の触媒を添加、混合する方法、シロキサンを主成分とする剥離剤をあらかじめ有機溶剤に希釈後、触媒を添加・混合し、その後帯電防止剤を添加、混合する方法など、いずれの方法でも良い。また、必要に応じて、シランカップリング剤などの密着向上剤やポリオキシアルキレン基を含有する化合物などの帯電防止効果を補助する材料、を添加しても良い。
剥離剤に対するポリエーテル変性シリコーンの混合方法は、帯電防止剤との混合方法と同様であり、特に限定はない。
There is no limitation in particular in the mixing method of the release agent which has dimethylpolysiloxane as a main component, and an antistatic agent. A method of adding an antistatic agent to a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, mixing and then adding and mixing a catalyst for curing the release agent, an organic release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component in advance A method of adding and mixing an antistatic agent and a catalyst for curing the release agent after dilution with a solvent, diluting the release agent containing a siloxane as a main component in an organic solvent in advance, adding and mixing the catalyst, and thereafter the antistatic agent Any method such as adding and mixing may be used. Moreover, you may add the material which assists the antistatic effect, such as a close_contact | adherence improvement agent, such as a silane coupling agent, and a compound containing a polyoxyalkylene group, as needed.
The mixing method of the polyether modified silicone with the release agent is the same as the mixing method with the antistatic agent, and is not particularly limited.

ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、帯電防止剤との混合比率は、特に限定はないが、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の固形分100に対して、帯電防止剤を固形分として5〜100程度の割合が好ましい。帯電防止剤の固形分換算の添加量が、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の固形分100に対して5の割合より少ないと、粘着剤層の表面への帯電防止剤の転写量も少なくなり、粘着剤に帯電防止の機能が発揮され難くなる。また、帯電防止剤の固形分換算の添加量が、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の固形分100に対して100の割合を越えると、帯電防止剤とともにジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤も、粘着剤層の表面に転写されてしまうため、粘着剤の粘着特性を低下させる可能性がある。
剥離剤に対するポリエーテル変性シリコーンの混合比率は、帯電防止剤の混合比率と同程度が好ましく、特に限定はない。
The mixing ratio of the release agent containing dimethylpolysiloxane as the main component to the antistatic agent is not particularly limited, but the solid content of the antistatic agent relative to 100 solids of the release agent containing dimethylpolysiloxane as the main component A ratio of about 5 to 100 is preferable as a minute. When the addition amount in terms of solid content of the antistatic agent is less than a ratio of 5 to the solid content 100 of the release agent containing dimethylpolysiloxane as the main component, the transfer amount of the antistatic agent onto the surface of the pressure sensitive adhesive layer is also As a result, the pressure-sensitive adhesive is less likely to exhibit the antistatic function. When the addition amount in terms of solid content of the antistatic agent exceeds a ratio of 100 to the solid content 100 of the release agent containing dimethylpolysiloxane as the main component, dimethylpolysiloxane as the main component together with the antistatic agent Since the release agent is also transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, the pressure-sensitive adhesive properties of the pressure-sensitive adhesive may be reduced.
The mixing ratio of the polyether-modified silicone to the release agent is preferably about the same as the mixing ratio of the antistatic agent, and is not particularly limited.

本発明に係わる帯電防止表面保護フィルム10の基材フィルム1に、粘着剤層2を形成する方法、及び剥離フィルム5を貼合する方法は、公知の方法で行えばよく、特に限定されない。具体的には、(1)基材フィルム1の片面に、粘着剤層2を形成するための粘着剤組成物を塗布、乾燥し粘着剤層を形成した後に、剥離フィルム5を貼合する方法、(2)剥離フィルム5の表面に、粘着剤層2を形成するための粘着剤組成物を塗布・乾燥し粘着剤層を形成した後に、基材フィルム1を貼合する方法などが挙げられるが、いずれの方法を用いても良い。   The method for forming the pressure-sensitive adhesive layer 2 and the method for bonding the release film 5 to the base film 1 of the antistatic surface protective film 10 according to the present invention may be performed by a known method, and is not particularly limited. Specifically, (1) a method of bonding the peeling film 5 after applying the pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 2 on one side of the base film 1 and drying to form the pressure-sensitive adhesive layer (2) The method of bonding the base film 1 etc. is mentioned, after applying and drying the adhesive composition for forming the adhesive layer 2 on the surface of the peeling film 5, and forming an adhesive layer. However, any method may be used.

また、基材フィルム1の表面に、粘着剤層2を形成するのは、公知の方法で行えばよい。具体的には、リバースコーティング、コンマコーティング、グラビアコーティング、スロットダイコーティング、メイヤーバーコーティング、エアーナイフコーティングなどの、公知の塗工方法を使用することができる。   The pressure-sensitive adhesive layer 2 may be formed on the surface of the base film 1 by a known method. Specifically, known coating methods such as reverse coating, comma coating, gravure coating, slot die coating, Mayer bar coating, air knife coating and the like can be used.

また、同様に、樹脂フィルム3に、剥離剤層4を形成するのは、公知の方法で行えばよい。具体的には、グラビアコーティング、メイヤーバーコーティング、エアーナイフコーティングなどの、公知の塗工方法を使用することができる。   Similarly, the release agent layer 4 may be formed on the resin film 3 by a known method. Specifically, known coating methods such as gravure coating, mayer bar coating, air knife coating and the like can be used.

図2は、本発明の帯電防止表面保護フィルムから、剥離フィルムを剥がした状態を示す断面図である。
図1に示した帯電防止表面保護フィルム10から、剥離フィルム5を剥がすことにより、剥離フィルム5の剥離剤層4に含まれる、帯電防止剤(符号7)の一部が、帯電防止表面保護フィルム10の粘着剤層2の表面に、転写される(付着する)。そのため、図2においては、帯電防止表面保護フィルムの粘着剤層2の表面に転写された、帯電防止剤を、符号7の斑点で模式的に示している。
本発明に係わる帯電防止表面保護フィルムでは、図2に示した剥離フィルムを剥がした状態の帯電防止表面保護フィルム11を、被着体に貼合するに当たり、この粘着剤層2の表面に転写された、帯電防止剤が、被着体の表面に接触する。そのことにより、再度、被着体から帯電防止表面保護フィルムを剥がす時の、剥離帯電圧を低く抑えることができる。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a state in which the release film is peeled off from the antistatic surface protective film of the present invention.
By peeling off the release film 5 from the antistatic surface protection film 10 shown in FIG. 1, part of the antistatic agent (symbol 7) contained in the release agent layer 4 of the release film 5 is the antistatic surface protection film The surface is transferred (adhered) to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2. Therefore, in FIG. 2, the antistatic agent transferred onto the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 of the antistatic surface protective film is schematically shown by spots of reference numeral 7.
In the antistatic surface protective film according to the present invention, the antistatic surface protective film 11 in a state in which the release film shown in FIG. 2 is peeled off is transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 when pasting the adherend. Also, the antistatic agent contacts the surface of the adherend. As a result, when the antistatic surface protective film is peeled again from the adherend, it is possible to suppress the peeling charging voltage low.

図3は、本発明の光学部品の実施例を示した断面図である。
本発明の帯電防止表面保護フィルム10から、剥離フィルム5が剥がされて、粘着剤層2が表出した状態で、その粘着剤層2を介して被着体である光学部品8に貼合される。
すなわち、図3には、本発明の帯電防止表面保護フィルム10が貼合された光学部品20を示している。光学部品としては、偏光板、位相差板、レンズフィルム、位相差板兼用の偏光板、レンズフィルム兼用の偏光板などの光学用フィルムが挙げられる。このような光学部品は、液晶表示パネル、有機EL表示パネルなどの各種表示装置、各種計器類の、光学系装置等の構成部材として使用される。また、光学部品としては、反射防止フィルム、ハードコートフィルム、タッチパネル用透明導電性フィルムなどの、光学用フィルムも挙げられる。特に、表面がシリコーン化合物やフッ素化合物などで防汚染処理してある、低反射処理偏光板(LR偏光板)やアンチグレア低反射処理偏光板(AG−LR偏光板)などの光学用フィルムの、防汚染処理した面に貼合される、帯電防止表面保護フィルムとして好適に使用することができる。
LR偏光板の低反射表面処理層としては、金属酸化物薄膜(SiO、TiO等の蒸着膜など)、フッ素樹脂等の反射防止膜が挙げられる。本発明の帯電防止表面保護フィルムは、これらの反射防止膜に帯電防止表面保護フィルムの粘着剤層が接触して貼合される場合でも、剥離帯電圧の低減と、被着体に対する低い汚染性とを両立することができる。
本発明の光学部品によれば、帯電防止表面保護フィルム10を、被着体である光学部品(光学用フィルム)から剥離除去するとき、剥離帯電圧を充分に低く抑制することができるので、ドライバーIC、TFT素子、ゲート線駆動回路などの回路部品を破壊する恐れがなく、液晶表示パネル、有機EL表示パネル等を製造する工程での生産効率を高め、生産工程の信頼性を保つことができる。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing an embodiment of the optical component of the present invention.
The release film 5 is peeled off from the antistatic surface protection film 10 of the present invention, and in a state where the pressure-sensitive adhesive layer 2 is exposed, it is bonded to the optical component 8 as an adherend via the pressure-sensitive adhesive layer 2 Ru.
That is, FIG. 3 shows an optical component 20 to which the antistatic surface protective film 10 of the present invention is bonded. Examples of optical components include optical films such as a polarizing plate, a retardation plate, a lens film, a polarizing plate also serving as a retardation plate, and a polarizing plate used as a lens film. Such optical components are used as components of various display devices such as liquid crystal display panels and organic EL display panels, and optical devices of various instruments. Moreover, as an optical component, films for optics, such as an antireflection film, a hard coat film, and a transparent conductive film for touch panels, are also mentioned. In particular, protection of optical films such as low reflection treated polarizing plates (LR polarizing plates) and antiglare low reflection treated polarizing plates (AG-LR polarizing plates) whose surfaces are treated with a silicone compound or fluorine compound to prevent contamination It can be suitably used as an antistatic surface protective film to be bonded to a surface that has been subjected to a stain treatment.
Examples of the low reflective surface treatment layer of the LR polarizing plate include metal oxide thin films (e.g. vapor deposited films such as SiO 2 and TiO 2 ), and antireflection films such as fluorine resin. Even when the pressure-sensitive adhesive layer of the antistatic surface protective film is stuck in contact with the above-described antireflective film, the antistatic surface protective film of the present invention has a reduced peeling voltage and low contamination to an adherend. And both.
According to the optical component of the present invention, when the antistatic surface protective film 10 is peeled and removed from the optical component (film for optics) which is an adherend, the peeling voltage can be suppressed sufficiently low. There is no risk of destroying circuit components such as IC, TFT elements, gate line drive circuits, etc., and the production efficiency can be enhanced in the process of manufacturing liquid crystal display panels, organic EL display panels, etc., and the reliability of production processes can be maintained. .

次に、実施例により、本発明をさらに説明する。   The invention will now be further described by way of examples.

<粘着剤組成物の製造>
[実施例1]
撹拌機、温度計、還流冷却器及び窒素導入管を備えた反応装置に、窒素ガスを導入して、反応装置内の空気を窒素ガスで置換した。その後、反応装置にメチルアクリレート10重量部、2−エチルヘキシルアクリレート90重量部、8−ヒドロキシオクチルアクリレート5.0重量部、ポリプロピレングリコールモノアクリレート(n=12)10重量部とともに溶剤(酢酸エチル)を60重量部加えた。その後、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル0.1重量部を2時間かけて滴下させ、65℃で6時間反応させ、重量平均分子量50万の、実施例1のアクリル系ポリマー溶液を得た。このアクリル系ポリマー溶液に対して、アセチルアセトン8.5重量部を加え撹拌したのち、コロネートHX(ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体)を2.0重量部、チタニウムトリスアセチルアセトネート0.1重量部を加えて撹拌混合して実施例1の粘着剤組成物を得た。
<Production of Pressure-Sensitive Adhesive Composition>
Example 1
Nitrogen gas was introduced into a reactor equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, and a nitrogen inlet tube to replace air in the reactor with nitrogen gas. Then, 60 parts of solvent (ethyl acetate) together with 10 parts by weight of methyl acrylate, 90 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate, 5.0 parts by weight of 8-hydroxyoctyl acrylate, and 10 parts by weight of polypropylene glycol monoacrylate (n = 12) in a reactor. Weight parts were added. Thereafter, 0.1 parts by weight of azobisisobutyronitrile as a polymerization initiator is dropped over 2 hours, and reacted at 65 ° C. for 6 hours to obtain an acrylic polymer solution of Example 1 having a weight average molecular weight of 500,000. The To this acrylic polymer solution, 8.5 parts by weight of acetylacetone is added and stirred, and then 2.0 parts by weight of Coronate HX (isocyanurate of hexamethylene diisocyanate compound) and 0.1 parts by weight of titanium trisacetylacetonate The mixture was stirred and mixed to obtain the pressure-sensitive adhesive composition of Example 1.

[実施例2〜6及び比較例1〜3]
実施例1の粘着剤組成物の組成を各々、表1及び表2の記載のようにした以外は、実施例1と同様にして、実施例2〜6及び比較例1〜3の粘着剤組成物を得た。表1及び表2中、アクリル系ポリマーに含まれる(共重合される)モノマーは、(A)、(B)、(F)、及び「カルボキシル基含有モノマー」である。
[Examples 2 to 6 and Comparative Examples 1 to 3]
Pressure-sensitive adhesive compositions of Examples 2 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 in the same manner as Example 1, except that the composition of the pressure-sensitive adhesive composition of Example 1 was changed as described in Table 1 and Table 2, respectively. I got a thing. In Tables 1 and 2, the monomers (copolymerized) contained in the acrylic polymer are (A), (B), (F), and a "carboxyl group-containing monomer".

Figure 2019086788
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Figure 2019086788
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表1及び表2は、各成分の配合比を示す一体の表を2つに分けたものであり、いずれも(A)群の合計を100重量部として求めた重量部の数値を括弧で囲んで示す。また、表1及び表2に用いた各成分の略記号の化合物名を、表3及び表4に示す。なお、コロネート(登録商標)HX、同HL及び同Lは東ソー株式会社の商品名であり、タケネート(登録商標)D−140N、D−127N、D−110Nは三井化学株式会社の商品名である。表2の「帯電防止剤」及び後述する表7において、LiTFSIはLi(CFSONを表し、LiFSIはLi(FSONを表し、LiTFはLiCFSOを表す。また、各実施例の(F)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーに用いた化合物では、モノマー中のジエステル分が0.2%以下である。 Table 1 and Table 2 divide the integral table which shows the compounding ratio of each component into two, and all enclose the numerical value of the weight part calculated | required as the sum total of (A) group as 100 weight part in a parenthesis Indicated. In addition, the compound names of the abbreviations of the respective components used in Tables 1 and 2 are shown in Tables 3 and 4. In addition, Coronate (registered trademark) HX, HL and L are trade names of Tosoh Corporation, and Takenate (registered trademark) D-140N, D-127N and D-110N are trade names of Mitsui Chemical Co., Ltd. . In “antistatic agent” in Table 2 and Table 7 described later, LiTFSI represents Li (CF 3 SO 2 ) 2 N, LiFSI represents Li (FSO 2 ) 2 N, and LiTF represents LiCF 3 SO 3 . Moreover, in the compound used for the (F) polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer of each Example, the diester content in a monomer is 0.2% or less.

Figure 2019086788
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Figure 2019086788
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<2官能イソシアネート化合物の合成>
合成例1,2の、2官能イソシアネート化合物は、下記の方法で合成した。表5及び表6に示すように、ジイソシアネートとジオール化合物を、モル比:NCO/OH=16の比率で混合し、120℃で3時間反応させ、その後、薄膜蒸発装置を使用して減圧下で未反応のジイソシアネートを除去し、目的の2官能イソシアネート化合物を得た。
<Synthesis of Bifunctional Isocyanate Compound>
The bifunctional isocyanate compound of Synthesis Examples 1 and 2 was synthesized by the following method. As shown in Tables 5 and 6, a diisocyanate and a diol compound are mixed in a molar ratio: NCO / OH = 16 ratio, reacted at 120 ° C. for 3 hours, and then under reduced pressure using a thin film evaporator. Unreacted diisocyanate was removed to obtain the desired bifunctional isocyanate compound.

Figure 2019086788
Figure 2019086788

Figure 2019086788
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<帯電防止表面保護フィルムの作製>
[実施例1]
付加反応型のシリコーン(東レダウコーニング(株)製、品名:SRX−345)5重量部、ポリエーテル変性シリコーン(東レダウコーニング(株)製、品名:SH8400、主成分:ジメチル,メチル(ポリエチレンオキサイド アセテート)シロキサン)0.15重量部、Li(CFSON 0.5重量部、トルエンと酢酸エチルの1:1の混合溶媒95重量部、及び白金触媒(東レダウコーニング(株)製、品名:SRX−212キャタリスト)0.05重量部を混ぜ合わせて撹拌・混合して、実施例1の剥離剤層を形成する塗料を調整した。厚みが38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、実施例1の剥離剤層を形成する塗料を、乾燥後の厚さが0.2μmになるようにメイヤバーにて塗布し、120℃の熱風循環式オーブンにて1分間乾燥し、実施例1の剥離フィルムを得た。
実施例1の粘着剤組成物を、厚みが38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、乾燥後の厚さが20μmとなるように、塗布した後、100℃の熱風循環式オーブンにて2分間乾燥させて粘着剤層を形成した。その後、この粘着剤層の表面に、上記にて作製した、実施例1の剥離フィルムの剥離剤層(シリコーン処理面)を貼合した。得られた粘着フィルムを40℃の環境下で5日間保温し、粘着剤を硬化させて、実施例1の帯電防止表面保護フィルムを得た。
<Preparation of antistatic surface protection film>
Example 1
Addition reaction type silicone (Toray Dow Corning, product name: SRX-345) 5 parts by weight, polyether-modified silicone (Toray Dow Corning product, product name: SH8400, main component: dimethyl, methyl (polyethylene oxide) Acetate) siloxane) 0.15 parts by weight, 0.5 parts by weight of Li (CF 3 SO 2 ) 2 N, 95 parts by weight of a 1: 1 mixed solvent of toluene and ethyl acetate, and platinum catalyst (Toray Dow Corning Co., Ltd.) Product name: SRX-212 catalyst) 0.05 parts by weight were mixed, stirred and mixed to prepare a paint for forming the release agent layer of Example 1. The paint for forming the release agent layer of Example 1 is coated on the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm with a Mayer to a dry thickness of 0.2 μm, and a hot air circulating oven at 120 ° C. The resultant was dried for 1 minute to obtain a release film of Example 1.
The pressure-sensitive adhesive composition of Example 1 is applied to the surface of a 38 μm thick polyethylene terephthalate film to a dry thickness of 20 μm, and then dried for 2 minutes in a hot air circulating oven at 100 ° C. The pressure-sensitive adhesive layer was formed. Then, the release agent layer (silicone-treated surface) of the release film of Example 1 produced above was bonded to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. The obtained pressure-sensitive adhesive film was kept at a temperature of 40 ° C. for 5 days to cure the pressure-sensitive adhesive, whereby an antistatic surface protective film of Example 1 was obtained.

[実施例2]
実施例1の粘着剤組成物を、実施例2の粘着剤組成物にし、剥離剤層に用いる帯電防止剤を、LiCFSOにした以外は、実施例1と同様にして、実施例2の帯電防止表面保護フィルムを得た。
Example 2
Example 2 in the same manner as Example 1, except that the pressure-sensitive adhesive composition of Example 1 was changed to the pressure-sensitive adhesive composition of Example 2, and the antistatic agent used for the release agent layer was changed to LiCF 3 SO 3. The antistatic surface protection film was obtained.

[実施例3〜6]
実施例1の粘着剤組成物を各々、実施例3〜6の粘着剤組成物にし、剥離剤層に用いる帯電防止剤を、Li(FSONにした以外は、実施例1と同様にして、実施例3〜6の帯電防止表面保護フィルムを得た。
[Examples 3 to 6]
The same as in Example 1 except that the pressure-sensitive adhesive composition of Example 1 was changed to the pressure-sensitive adhesive composition of Examples 3 to 6, and the antistatic agent used for the release agent layer was changed to Li (FSO 2 ) 2 N. To obtain the antistatic surface protective films of Examples 3 to 6.

[比較例1]
付加反応型のシリコーン(東レダウコーニング(株)製、品名:SRX−345)5重量部、トルエンと酢酸エチルの1:1の混合溶媒95重量部、及び白金触媒(東レダウコーニング(株)製、品名:SRX−212キャタリスト)0.05重量部を混ぜ合わせて撹拌・混合して、比較例1の剥離剤層を形成する塗料を調整した。厚みが38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、比較例1の剥離剤層を形成する塗料を、乾燥後の厚さが0.2μmになるようにメイヤバーにて塗布し、120℃の熱風循環式オーブンにて1分間乾燥し、比較例1の剥離フィルムを得た。
比較例1の粘着剤組成物を、厚みが38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、乾燥後の厚さが20μmとなるように、塗布した後、100℃の熱風循環式オーブンにて2分間乾燥させて粘着剤層を形成した。その後、この粘着剤層の表面に、上記にて作製した、比較例1の剥離フィルムの剥離剤層(シリコーン処理面)を貼合した。得られた粘着フィルムを40℃の環境下で5日間保温し、粘着剤を硬化させて、比較例1の帯電防止表面保護フィルムを得た。
Comparative Example 1
5 parts by weight of an addition reaction type silicone (made by Toray Dow Corning, product name: SRX-345), 95 parts by weight of a 1: 1 mixed solvent of toluene and ethyl acetate, and a platinum catalyst (made by Toray Dow Corning) Product name: SRX-212 catalyst) 0.05 parts by weight were mixed, stirred and mixed to prepare a paint for forming the release agent layer of Comparative Example 1. The paint for forming the release agent layer of Comparative Example 1 is coated on the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm with a Mayer to a dry thickness of 0.2 μm, and a hot air circulating oven at 120 ° C. The resultant was dried for 1 minute to obtain a release film of Comparative Example 1.
The pressure-sensitive adhesive composition of Comparative Example 1 is applied to the surface of a 38 μm thick polyethylene terephthalate film so that the thickness after drying is 20 μm, and then dried in a hot air circulating oven at 100 ° C. for 2 minutes. The pressure-sensitive adhesive layer was formed. Thereafter, the release agent layer (silicone-treated surface) of the release film of Comparative Example 1 prepared above was bonded to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. The obtained pressure-sensitive adhesive film was kept at 40 ° C. for 5 days to cure the pressure-sensitive adhesive, whereby an antistatic surface protective film of Comparative Example 1 was obtained.

[比較例2]
比較例1の粘着剤組成物を、比較例2の粘着剤組成物にした以外は、比較例1と同様にして、比較例2の帯電防止表面保護フィルムを得た。
Comparative Example 2
An antistatic surface protective film of Comparative Example 2 was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that the pressure-sensitive adhesive composition of Comparative Example 1 was changed to the pressure-sensitive adhesive composition of Comparative Example 2.

[比較例3]
実施例1の粘着剤組成物を、比較例3の粘着剤組成物にし、剥離剤層に用いる帯電防止剤を、Li(FSONにした以外は、実施例1と同様にして、比較例3の帯電防止表面保護フィルムを得た。
Comparative Example 3
The pressure-sensitive adhesive composition of Example 1 is changed to the pressure-sensitive adhesive composition of Comparative Example 3, and the antistatic agent used for the release agent layer is changed to Li (FSO 2 ) 2 N in the same manner as in Example 1. An antistatic surface protective film of Comparative Example 3 was obtained.

表7に、実施例1〜6及び比較例1〜3の帯電防止表面保護フィルムにおける、剥離剤層の組成を示す。   In Table 7, the composition of the release agent layer in the antistatic surface protective film of Examples 1-6 and Comparative Examples 1-3 is shown.

Figure 2019086788
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<試験方法及び評価>
実施例1〜6、及び比較例1〜3における帯電防止表面保護フィルムを、23℃、50%RHの雰囲気下で7日間エージングした後、剥離フィルム(シリコーン樹脂コートされたPETフィルム)を剥がして、粘着剤層を表出させたものを、表面抵抗率の測定試料とした。
さらに、この粘着剤層を表出させた帯電防止表面保護フィルムを、粘着剤層を介して液晶セルに貼られた偏光板の表面に貼り合わせ、1日放置した後、50℃、5気圧、20分間オートクレーブ処理し、室温でさらに12時間放置したものを、粘着力、剥離帯電圧、及び汚染性の測定試料とした。
<Test method and evaluation>
After aging the antistatic surface protective films in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 in an atmosphere of 23 ° C. and 50% RH for 7 days, the release film (PET film coated with silicone resin) is peeled off. The thing which made the pressure sensitive adhesive layer exposed was made into the measurement sample of surface resistivity.
Further, the antistatic surface protective film in which the pressure-sensitive adhesive layer is exposed is attached to the surface of the polarizing plate attached to the liquid crystal cell through the pressure-sensitive adhesive layer, and left for 1 day. The samples were autoclaved for 20 minutes and left to stand at room temperature for a further 12 hours, which were used as measurement samples of adhesion, peel voltage and contamination.

<粘着力>
上記で得られた測定試料(25mm幅の帯電防止表面保護フィルムを偏光板の表面に貼り合わせたもの)を、180°方向に引張試験機を用いて低速の剥離速度(0.3m/min)及び高速の剥離速度(30m/min)において剥がして、測定した剥離強度を粘着力とした。
<Adhesiveness>
Low-speed peeling speed (0.3 m / min) using a tensile tester in the direction of 180 ° with the measurement sample obtained above (the 25 mm wide antistatic surface protective film attached to the surface of the polarizing plate) And it peeled off in high-speed peeling speed (30 m / min), and made the measured peeling strength adhesive.

<表面抵抗率>
エージングした後、偏光板に貼り合わせる前に、剥離フィルム(シリコーン樹脂コートされたPETフィルム)を剥がして粘着剤層を表出し、抵抗率計ハイレスタUP−HT450(三菱化学アナリテック製)を用いて粘着剤層の表面抵抗率を測定した。
<Surface resistivity>
After aging, before bonding to a polarizing plate, the release film (PET film coated with silicone resin) is peeled off to expose an adhesive layer, and using a resistivity meter HIRESTA UP-HT450 (manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.) The surface resistivity of the pressure-sensitive adhesive layer was measured.

<剥離帯電圧>
上記で得られた測定試料を、30m/minの引張速度で180°剥離した際に偏光板が帯電して発生する電圧(帯電圧)を、高精度静電気センサSK−035、SK−200(株式会社キーエンス製)を用いて測定し、測定値の最大値を剥離帯電圧とした。
<Peeling voltage>
The voltage (charging voltage) generated when the polarizing plate is charged when the measurement sample obtained above is peeled at 180 ° at a tensile speed of 30 m / min is defined as the high accuracy electrostatic sensor SK-035, SK-200 (stock It measured using the company Keyence make, and made the maximum value of the measured value the peeling zone voltage.

<汚染性>
ガラス板の片面上に、低反射表面処理を施した偏光板を、貼合機を用いて、粘着剤層(例えば、帯電防止表面保護フィルムの粘着剤層とは異なる両面粘着テープ等)を介して貼合する。その後、偏光板の表面に帯電防止表面保護フィルムを、貼合機を用いて貼合する。23℃、50%RHの環境下で3日間および30日間の期間に渡って保管した後に、帯電防止表面保護フィルムを剥がし、偏光板の表面の汚染状態を目視にて観察する。
表面汚染性は、偏光板の表面に対して3日間保管および30日間保管のいずれにおいても汚染なしの場合を「○」、3日間保管および30日間保管のいずれかにおいて、わずかに汚染ありの場合を「△」、汚染ありの場合を「×」と評価した。
Contamination
Using a bonding machine, a polarizing plate which has been subjected to low reflection surface treatment on one side of a glass plate, using an adhesive layer (for example, a double-sided adhesive tape different from the adhesive layer of the antistatic surface protective film) Paste it. Then, an antistatic surface protection film is bonded on the surface of a polarizing plate using a bonding machine. After storage for 3 days and 30 days under an environment of 23 ° C. and 50% RH, the antistatic surface protective film is peeled off, and the contamination of the surface of the polarizing plate is visually observed.
The surface contamination property is the case where the surface of the polarizing plate is slightly contaminated in any of storage for 3 days and storage for 30 days without "○", storage for 3 days and storage for 30 days. Was evaluated as "Δ", and the case with contamination was evaluated as "X".

表8に、評価結果を示す。なお、表面抵抗率は、「m×10+n」を「mE+n」とする方式(ただし、mは任意の実数値、nは正の整数)により表記した。 Table 8 shows the evaluation results. The surface resistivity is represented by a method in which “m × 10 + n ” is “mE + n” (where, m is an arbitrary real number and n is a positive integer).

Figure 2019086788
Figure 2019086788

表8に示した測定結果から、以下のことが分かる。
本発明に係わる実施例1〜6の帯電防止表面保護フィルムは、適度な粘着力があり、被着体の表面に対する汚染がなく、かつ、帯電防止表面保護フィルムを被着体から剥離した時の剥離帯電圧が低い。
一方、帯電防止剤を粘着剤層に添加した比較例1の帯電防止表面保護フィルムは、粘着剤層の表面抵抗率は低く良好であるが、汚染性がやや劣るものであった。
また、比較例2の帯電防止表面保護フィルムは、帯電防止剤を粘着剤層に添加したことに加えて、(a1)アルキル基の炭素数がC1〜C4の(メタ)アクリル酸エステルモノマー、及び(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーの添加量が多いためか、粘着力が大きく、剥離帯電圧が高く、汚染性がやや劣っていた。
また、比較例3の帯電防止表面保護フィルムは、アクリル系ポリマーが、(a1)アルキル基の炭素数がC1〜C4の(メタ)アクリル酸エステルモノマーを含まず、カルボキシル基を含有するモノマーを含むことから、粘着力が大きく、汚染性が劣っていた。
すなわち、粘着剤層に、帯電防止剤を混合させた比較例1、2では、剥離帯電圧の低減と被着体に対する低い汚染性を両立することが難しい。他方、剥離剤層に、帯電防止剤を添加した後、粘着剤層の表面に、剥離剤層に含まれる帯電防止剤を転写させた実施例1〜6では、剥離剤層に少量の帯電防止剤を添加しても剥離帯電圧の低減効果があるため、被着体に対する汚染もなく、良好な帯電防止表面保護フィルムが得られた。
From the measurement results shown in Table 8, the following can be understood.
The antistatic surface protective films of Examples 1 to 6 according to the present invention have adequate adhesion, no contamination to the surface of the adherend, and when the antistatic surface protective film is peeled from the adherend Peeling voltage is low.
On the other hand, the antistatic surface protective film of Comparative Example 1 in which the antistatic agent was added to the pressure-sensitive adhesive layer was good in the surface resistivity of the pressure-sensitive adhesive layer but low in stainability.
In addition to the addition of the antistatic agent to the pressure-sensitive adhesive layer, the antistatic surface protective film of Comparative Example 2 includes (a1) (meth) acrylic acid ester monomer having an alkyl group having a carbon number of C1 to C4, and (B) The adhesive power is high, the peel voltage is high, and the contamination is slightly inferior, probably because the amount of the copolymerizable monomer containing a hydroxyl group is large.
In addition, in the antistatic surface protective film of Comparative Example 3, the acrylic polymer does not contain a (meth) acrylic acid ester monomer having a C1 to C4 carbon number of the (a1) alkyl group, and contains a monomer having a carboxyl group. Therefore, the adhesion was high and the contamination was inferior.
That is, in Comparative Examples 1 and 2 in which the antistatic agent is mixed in the pressure-sensitive adhesive layer, it is difficult to simultaneously achieve the reduction of the peeling charge voltage and the low staining property to the adherend. On the other hand, after adding the antistatic agent to the release agent layer, in Examples 1 to 6 in which the antistatic agent contained in the release agent layer is transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, a small amount of antistaticity is prevented on the release agent layer. Since the addition of the agent has the effect of reducing the peeling charge voltage, there is no contamination of the adherend, and a good antistatic surface protective film is obtained.

本発明の帯電防止表面保護フィルムは、例えば、偏光板、位相差板、ディスプレイ用のレンズフィルム、などの光学用フィルム、その他、各種の光学部品等の生産工程などにおいて、該光学部品等の表面を保護するために用いることができる。特に、表面がシリコーン化合物やフッ素化合物などで防汚染処理してある、LR偏光板やAG−LR偏光板などの光学用フィルムの帯電防止表面保護フィルムとして使用する場合には、被着体から剥離する時に、静電気の発生量を少なくすることができる。
本発明の帯電防止表面保護フィルムは、被着体に対する汚染が少なくさらには、経時劣化しないで優れた剥離帯電防止性能を有することから、光学用フィルム、光学部品等の生産工程の歩留まりを向上させることができ、産業上の利用価値が大である。
The antistatic surface protective film of the present invention is, for example, a surface of the optical component etc. in the production process of optical films such as a polarizing plate, a retardation plate, a lens film for display, etc., other various optical components etc. Can be used to protect In particular, when used as an antistatic surface protective film for an optical film such as an LR polarizing plate or an AG-LR polarizing plate, the surface of which has been treated to prevent contamination with a silicone compound or a fluorine compound, peeling from the adherend At the same time, the amount of static electricity generated can be reduced.
The antistatic surface protective film of the present invention has an excellent anti-peeling antistatic performance with little contamination to the adherend and further without deterioration with time, thereby improving the yield of production processes for optical films, optical parts, etc. Can be used, industrial value is great.

1…基材フィルム、2…粘着剤層、3…樹脂フィルム、4…剥離剤層、5…剥離フィルム、7…帯電防止剤、8…被着体(光学部品)、10…帯電防止表面保護フィルム、11…剥離フィルムを剥がした帯電防止表面保護フィルム、20…帯電防止表面保護フィルムを貼合した光学部品。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base film, 2 ... adhesive layer, 3 ... resin film, 4 ... release agent layer, 5 ... peeling film, 7 ... antistatic agent, 8 ... adherend (optical component), 10 ... antistatic surface protection Film, 11: antistatic surface protective film from which the peeling film is peeled, 20: optical component laminated with the antistatic surface protective film.

Claims (8)

透明性を有する樹脂からなる基材フィルムの片面に、アクリル系ポリマーを含有する粘着剤組成物を架橋させた粘着剤層が形成されてなる帯電防止表面保護フィルムであって、
前記アクリル系ポリマーが、
(A)アルキル基の炭素数がC1〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの少なくとも1種以上の合計100重量部と、
(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーの少なくとも1種以上の合計を0.1〜12重量部と、を共重合させた共重合体のアクリル系ポリマーからなり、
前記(A)アルキル基の炭素数がC1〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの少なくとも1種以上の合計100重量部のうち、
(a1)アルキル基の炭素数がC1〜C4の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの少なくとも1種の合計が1〜30重量部と、
(a2)アルキル基の炭素数がC5〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの少なくとも1種以上の合計が70〜99重量部との割合で含有してなり、
前記アクリル系ポリマーは、カルボキシル基を含有する共重合可能なモノマー、及び水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマーを含まず、
前記粘着剤組成物が、さらに、(C)2官能以上のイソシアネート化合物と、(D)架橋促進剤と、(E)ケトエノール互変異性体化合物と、を含有してなり、且つ、帯電防止剤を含有しておらず、
前記粘着剤層の表面に、樹脂フィルムの片面に帯電防止剤を含有する剥離剤層が積層された剥離フィルムが、前記剥離剤層を介して貼り合わせてなり、
前記剥離剤層が、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、20℃において液体のシリコーン系化合物であるポリエーテル変性シリコーンと、帯電防止剤とを含む樹脂組成物により形成されてなり、
前記帯電防止表面保護フィルムの前記粘着剤層の表面から、前記剥離フィルムを剥がした時に、前記剥離剤層の前記帯電防止剤が、前記粘着剤層の表面に転写され、
前記剥離フィルムを剥がした前記帯電防止表面保護フィルムを、前記粘着剤層を介して、低反射表面処理が施された偏光板に貼合した後、剥離した時の汚染性が良好なことを特徴とする帯電防止表面保護フィルム。
An antistatic surface protective film comprising a pressure-sensitive adhesive layer in which a pressure-sensitive adhesive composition containing an acrylic polymer is crosslinked is formed on one side of a substrate film made of a resin having transparency.
The acrylic polymer is
(A) 100 parts by weight in total of at least one or more of (meth) acrylic acid ester monomers having a C1 to C18 carbon number of the alkyl group,
(B) An acrylic polymer of a copolymer obtained by copolymerizing 0.1 to 12 parts by weight of a total of at least one or more kinds of copolymerizable monomers containing a hydroxyl group,
Of the total 100 parts by weight of at least one or more of (meth) acrylic acid ester monomers wherein the carbon number of the (A) alkyl group is C1 to C18,
(A1) 1 to 30 parts by weight in total of at least one kind of (meth) acrylic acid ester monomer having C1 to C4 carbon atoms in the alkyl group,
(A2) The total of at least one or more of (meth) acrylic acid ester monomers having a carbon number of C5 to C18 in the alkyl group is contained in a ratio of 70 to 99 parts by weight,
The acrylic polymer does not include a carboxyl group-containing copolymerizable monomer and a hydroxyl group-free nitrogen-containing vinyl monomer.
The pressure-sensitive adhesive composition further comprises (C) a bifunctional or higher isocyanate compound, (D) a crosslinking accelerator, and (E) a ketoenol tautomer compound, and an antistatic agent. Does not contain
A release film in which a release agent layer containing an antistatic agent is laminated on one surface of a resin film on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer is laminated via the release agent layer,
The release agent layer is formed of a resin composition containing a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, a polyether-modified silicone which is a silicone-based compound liquid at 20 ° C., and an antistatic agent,
When the release film is peeled from the surface of the pressure-sensitive adhesive layer of the antistatic surface protective film, the antistatic agent of the release agent layer is transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer;
The antistatic surface protection film from which the release film has been peeled off is bonded to a polarizing plate subjected to a low reflection surface treatment via the pressure-sensitive adhesive layer, and then the contamination property when peeled off is good. Antistatic surface protection film.
前記粘着剤組成物に、さらに、(A)アルキル基の炭素数がC1〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの合計100重量部に対して、(F)ポリアルキレングリコール鎖を構成するアルキレンオキサイドの平均繰り返し数が3〜14であり、モノマー中のジエステル分が0.2%以下であるポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーを0〜50重量部(0重量部の場合を除く)の割合で含んでなるか、又は、前記(F)を含有しておらず、
前記粘着剤組成物に、HLB値が7〜15である(H)ポリエーテル変性シロキサン化合物を、前記アクリル系ポリマー100重量部に対して1.0重量部以下(0重量部の場合を除く)の割合で含むことを特徴とする請求項1に記載の帯電防止表面保護フィルム。
In the pressure-sensitive adhesive composition, (F) an alkylene oxide constituting a polyalkylene glycol chain with respect to a total of 100 parts by weight of a (meth) acrylic acid ester monomer having a C1 to C18 alkyl group (C) 0 to 50 parts by weight (except in the case of 0 parts by weight) of polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer having an average repeating number of 3 to 14 and a diester content in the monomer of 0.2% or less (F) or does not contain the above (F),
In the pressure-sensitive adhesive composition, (H) polyether modified siloxane compound having an HLB value of 7 to 15 is 1.0 part by weight or less (except in the case of 0 part by weight) with respect to 100 parts by weight of the acrylic polymer The antistatic surface protective film according to claim 1, wherein the film comprises
前記(D)架橋促進剤が、アルミニウムキレート化合物、チタンキレート化合物、鉄キレート化合物からなる群の中から選択された少なくとも1種以上であり、前記アクリル系ポリマー100重量部に対して0.001〜0.5重量部であり、前記(E)ケトエノール互変異性体化合物を0.1〜300重量部を含有してなり、(E)/(D)の重量部比率が70〜1000であることを特徴とする請求項1又は2に記載の帯電防止表面保護フィルム。   The (D) crosslinking accelerator is at least one selected from the group consisting of an aluminum chelate compound, a titanium chelate compound, and an iron chelate compound, and 0.001 to 1 part per 100 parts by weight of the acrylic polymer. 0.5 parts by weight, containing 0.1 to 300 parts by weight of the (E) keto enol tautomer compound, and the ratio by weight of (E) / (D) is 70 to 1000 The antistatic surface protective film according to claim 1 or 2, characterized in that 前記(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーが、8−ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート、6−ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、N−ヒドロキシ(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミドからなる化合物群の中から選択された、少なくとも1種以上であり、前記アクリル系ポリマー100重量部に対して0.1〜10重量部であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の帯電防止表面保護フィルム。   The (B) hydroxyl group-containing copolymerizable monomer is 8-hydroxyoctyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate And at least one selected from a group of compounds consisting of N-hydroxy (meth) acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide and N-hydroxyethyl (meth) acrylamide, and 100 weight of said acrylic polymer The antistatic surface protective film according to any one of claims 1 to 3, wherein the amount is 0.1 to 10 parts by weight with respect to the part. 前記剥離剤層中の帯電防止剤が、アルカリ金属塩であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の帯電防止表面保護フィルム。   The antistatic surface protection film according to any one of claims 1 to 4, wherein the antistatic agent in the release agent layer is an alkali metal salt. 前記剥離剤層中の帯電防止剤が、Li塩であり、LiTFSI、LiFSI、LiTFからなる化合物群の中から選択された少なくとも1種以上であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の帯電防止表面保護フィルム。   The antistatic agent in the release agent layer is a Li salt, and is at least one selected from the group of compounds consisting of LiTFSI, LiFSI and LiTF. Antistatic surface protection film as described in. 請求項1〜6のいずれかに記載の帯電防止表面保護フィルムが貼り合わされてなる光学用フィルム。   The film for optics by which the antistatic surface protection film in any one of Claims 1-6 is bonded together. 請求項1〜6のいずれかに記載の帯電防止表面保護フィルムが貼り合わされてなる光学部品。   The optical component in which the antistatic surface protection film in any one of Claims 1-6 is bonded together.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015024542A (en) * 2013-07-25 2015-02-05 藤森工業株式会社 Surface protective film and optical component with surface protective film affixed
JP2015131414A (en) * 2014-01-10 2015-07-23 藤森工業株式会社 Antistatic surface protective film
JP2015217557A (en) * 2014-05-15 2015-12-07 藤森工業株式会社 Antistatic surface protective film

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015024542A (en) * 2013-07-25 2015-02-05 藤森工業株式会社 Surface protective film and optical component with surface protective film affixed
JP2015131414A (en) * 2014-01-10 2015-07-23 藤森工業株式会社 Antistatic surface protective film
JP2015217557A (en) * 2014-05-15 2015-12-07 藤森工業株式会社 Antistatic surface protective film

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021065075A1 (en) * 2019-09-30 2021-04-08 日東電工株式会社 Set of polarizing plates, and image display device including said set

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