JP6127119B2 - Release film for antistatic surface protective film, and antistatic surface protective film - Google Patents

Release film for antistatic surface protective film, and antistatic surface protective film Download PDF

Info

Publication number
JP6127119B2
JP6127119B2 JP2015237685A JP2015237685A JP6127119B2 JP 6127119 B2 JP6127119 B2 JP 6127119B2 JP 2015237685 A JP2015237685 A JP 2015237685A JP 2015237685 A JP2015237685 A JP 2015237685A JP 6127119 B2 JP6127119 B2 JP 6127119B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
protective film
surface protective
antistatic
release
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2015237685A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2016083941A (en
Inventor
小林 弘幸
弘幸 小林
充 春日
充 春日
佳子 遠藤
佳子 遠藤
林 益史
益史 林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujimori Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Fujimori Kogyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujimori Kogyo Co Ltd filed Critical Fujimori Kogyo Co Ltd
Priority to JP2015237685A priority Critical patent/JP6127119B2/en
Publication of JP2016083941A publication Critical patent/JP2016083941A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6127119B2 publication Critical patent/JP6127119B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、偏光板、位相差板、ディスプレイ用のレンズフィルムなどの光学部品(以下、光学用フィルムと称する場合もある。)の表面に貼合される、表面保護フィルムに関する。さらに詳細には、被着体に対する汚染が少ない表面保護フィルム、さらには、経時劣化しないで優れた剥離帯電防止性能を有する表面保護フィルム、及びそれが貼合された光学部品を提供するものである。   The present invention relates to a surface protective film that is bonded to the surface of an optical component (hereinafter also referred to as an optical film) such as a polarizing plate, a retardation plate, and a lens film for display. More specifically, the present invention provides a surface protective film with little contamination to an adherend, a surface protective film having excellent peeling antistatic performance without deterioration over time, and an optical component on which the surface protective film is bonded. .

偏光板、位相差板、ディスプレイ用のレンズフィルム、反射防止フィルム、ハードコートフィルム、タッチパネル用透明導電性フィルム、等の光学用フィルム、及びそれを用いたディスプレイなどの光学製品を、製造、搬送する際には、該光学用フィルムの表面に表面保護フィルムを貼合して、後工程における表面の汚れや傷付きを防止することがなされている。製品である光学用フィルムの外観検査は、表面保護フィルムを剥がして、再び、貼合する手間を省いて作業効率を高めるため、表面保護フィルムを光学用フィルムに貼合したまま行うこともある。   Manufacture and transport optical films such as polarizing plates, retardation plates, lens films for displays, antireflection films, hard coat films, transparent conductive films for touch panels, and optical products such as displays using the same. In some cases, a surface protective film is bonded to the surface of the optical film to prevent the surface from being soiled or scratched in the subsequent step. The appearance inspection of the optical film, which is a product, may be performed while the surface protective film is bonded to the optical film in order to remove the trouble of bonding the surface protective film and increase the work efficiency again.

従来から、基材フィルムの片面に、粘着剤層を設けた表面保護フィルムが、光学製品の製造工程において、傷や汚れの付着を防止するために、一般的に使用されている。表面保護フィルムは、微粘着力の粘着剤層を介して光学用フィルムに貼合される。粘着剤層を微粘着力とするのは、使用済みの表面保護フィルムを光学用フィルムの表面から剥離して取り除くときに、容易に剥離でき、且つ、粘着剤が、被着体である製品の光学用フィルムに付着して残留しないようにする(いわゆる、糊残りの発生を防ぐ)ためである。   Conventionally, a surface protective film provided with a pressure-sensitive adhesive layer on one surface of a base film is generally used in order to prevent adhesion of scratches and dirt in the manufacturing process of optical products. The surface protective film is bonded to the optical film via a pressure-sensitive adhesive layer. The adhesive layer has a slight adhesive force because it can be easily removed when the used surface protection film is removed from the surface of the optical film and the adhesive is an adherend. This is to prevent the adhesive film from adhering and remaining on the optical film (preventing the occurrence of so-called adhesive residue).

近年、液晶ディスプレイパネルの生産工程において、光学用フィルムの上に貼合された表面保護フィルムを、剥離して取り除くときに発生する剥離帯電圧により、液晶ディスプレイの表示画面を制御するための、ドライバーIC等の回路部品が破壊される現象や、液晶分子の配向が損傷する現象が、発生件数は少ないながらも起きている。
また、液晶ディスプレイパネルの消費電力を低減させるため、液晶材料の駆動電圧が低くなってきており、これに伴って、ドライバーICの破壊電圧も低くなっている。最近では、剥離帯電圧を+0.7kV〜−0.7kVの範囲内にすることが求められてきている。
In recent years, in a liquid crystal display panel production process, a driver for controlling the display screen of a liquid crystal display by means of a stripping voltage generated when the surface protective film bonded on the optical film is peeled off and removed. A phenomenon in which circuit components such as an IC are destroyed and a phenomenon in which the alignment of liquid crystal molecules is damaged occur although the number of occurrences is small.
In addition, in order to reduce the power consumption of the liquid crystal display panel, the driving voltage of the liquid crystal material has been lowered, and along with this, the breakdown voltage of the driver IC has also been lowered. Recently, it has been required to set the peeling band voltage within the range of +0.7 kV to -0.7 kV.

また、近年、3Dディスプレイ(立体視ディスプレイ)の普及に伴い、偏光板等の光学用フィルムの表面に、FPR(Film Patterned Retarder)フィルムを貼合したものがある。偏光板等の光学用フィルムの表面に貼合されていた表面保護フィルムを剥がした後に、FPRフィルムが貼合される。しかし、偏光板等の光学用フィルムの表面が、表面保護フィルムに使用している粘着剤や帯電防止剤で汚染されていると、FPRフィルムが接着し難いという問題がある。このため、当該用途に用いる表面保護フィルムには、被着体に対する汚染の少ないものが求められている。   In recent years, with the widespread use of 3D displays (stereoscopic displays), there are films in which an FPR (Film Patterned Retarder) film is bonded to the surface of an optical film such as a polarizing plate. After peeling off the surface protective film bonded to the surface of the optical film such as a polarizing plate, the FPR film is bonded. However, if the surface of an optical film such as a polarizing plate is contaminated with the pressure-sensitive adhesive or antistatic agent used in the surface protective film, there is a problem that the FPR film is difficult to adhere. For this reason, the surface protection film used for the said use is a thing with little contamination with respect to a to-be-adhered body.

一方、いくつかの液晶パネルメーカーにおいては、表面保護フィルムの被着体に対する汚染性の評価方法として、偏光板等の光学用フィルムに貼合されている表面保護フィルムを一度剥がし、気泡を混入させた状態で再貼合したものを所定条件で加熱処理し、その後、表面保護フィルムを剥がして被着体の表面を観察する方法が採用されている。このような評価方法では、被着体の表面汚染が微量であっても、気泡を混入させた部分と、表面保護フィルムの粘着剤が接していた部分とで、被着体の表面汚染の差があると、気泡の跡(気泡ジミと言うこともある)として残る。そのため、被着体の表面に対する汚染性の評価方法としては、非常に厳しい評価方法となる。近年、こうした厳しい評価方法による判定の結果でも、被着体の表面に対する汚染性に問題がない表面保護フィルムが求められている。   On the other hand, in some liquid crystal panel manufacturers, as a method for evaluating the contamination of the adherend of the surface protective film, the surface protective film bonded to the optical film such as a polarizing plate is peeled off once and air bubbles are mixed in. In this state, a method is employed in which the re-bonded material is heat-treated under predetermined conditions, and then the surface protective film is peeled off to observe the surface of the adherend. In such an evaluation method, even if the surface contamination of the adherend is very small, the difference in surface contamination of the adherend between the portion where the bubbles are mixed and the portion where the adhesive of the surface protection film is in contact If there is, it remains as a trace of bubbles (sometimes called bubble bubbles). Therefore, it is a very strict evaluation method as a method for evaluating the contamination on the surface of the adherend. In recent years, there has been a demand for a surface protective film that does not have a problem of contamination on the surface of an adherend even as a result of such a strict evaluation method.

表面保護フィルムを、被着体である光学用フィルムから剥離する時に、剥離帯電圧が高いことによる不具合を防止するため、剥離帯電圧を低く抑えるための、帯電防止剤を含む粘着剤層を用いた表面保護フィルムが、提案されている。   When peeling the surface protection film from the optical film that is the adherend, use an adhesive layer containing an antistatic agent to keep the stripping voltage low to prevent problems due to high stripping voltage. Surface protection films that have been proposed have been proposed.

例えば、特許文献1には、アルキルトリメチルアンモニウム塩、水酸基含有アクリル系ポリマー、ポリイソシアネートからなる粘着剤を用いた、表面保護フィルムが開示されている。
また、特許文献2には、イオン性液体と酸価が1.0以下のアクリルポリマーからなる粘着剤組成物、及びそれを用いた粘着シート類が開示されている。
また、特許文献3には、アクリルポリマー、ポリエーテルポリオール化合物、アニオン吸着性化合物により処理したアルカリ金属塩からなる粘着組成物、及びそれを用いた表面保護フィルムが開示されている。
また、特許文献4には、イオン性液体、アルカリ金属塩、ガラス転移温度0℃以下のポリマーからなる粘着剤組成物、及びそれを用いた表面保護フィルムが開示されている。
For example, Patent Document 1 discloses a surface protective film using an adhesive made of an alkyltrimethylammonium salt, a hydroxyl group-containing acrylic polymer, and a polyisocyanate.
Patent Document 2 discloses a pressure-sensitive adhesive composition comprising an ionic liquid and an acrylic polymer having an acid value of 1.0 or less, and a pressure-sensitive adhesive sheet using the same.
Patent Document 3 discloses an adhesive composition composed of an alkali metal salt treated with an acrylic polymer, a polyether polyol compound, an anion adsorbing compound, and a surface protective film using the same.
Patent Document 4 discloses an adhesive composition comprising an ionic liquid, an alkali metal salt, a polymer having a glass transition temperature of 0 ° C. or less, and a surface protective film using the same.

特開2005−131957号公報JP 2005-131957 A 特開2005−330464号公報Japanese Patent Laying-Open No. 2005-330464 特開2005−314476号公報JP 2005-314476 A 特開2006−152235号公報JP 2006-152235 A

上記の特許文献1〜4では、粘着剤層の内部に帯電防止剤が添加されている。しかし、粘着剤層の厚みが厚くなる程、また、被着体に貼り合せた後の経過時間が経つにつれて、表面保護フィルムの貼合された被着体に対して、粘着剤層から被着体へ移行する帯電防止剤の量が多くなる。被着体へ移行する帯電防止剤の量が多くなると、被着体である光学用フィルムの外観品位が低下したり、FPRフィルムを貼合する時に、FPRフィルムの接着性が低下する可能性がある。   In said patent documents 1-4, the antistatic agent is added inside the adhesive layer. However, as the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer increases, and as the elapsed time after bonding to the adherend passes, the adherend to which the surface protective film is bonded is attached from the pressure-sensitive adhesive layer. The amount of antistatic agent that migrates to the body increases. If the amount of the antistatic agent transferred to the adherend increases, the appearance quality of the optical film as the adherend may decrease, or the adhesiveness of the FPR film may decrease when the FPR film is bonded. is there.

こうした、粘着剤層から被着体へ移行する帯電防止剤の経時変化を少なくするために、粘着剤の厚さを薄くすると、別の問題が生じる。例えば、ギラツキ防止のためアンチグレア処理した偏光板など、表面に凹凸のある光学用フィルムに使用した場合に、光学用フィルム表面の凹凸に粘着剤が追従できずに気泡が混入したり、光学用フィルムと粘着剤の接着面積が減ることにより粘着力が低下し、使用中に保護フィルムが浮いたり剥がれたりする問題がある。   If the thickness of the pressure-sensitive adhesive is reduced in order to reduce the change with time of the antistatic agent transferred from the pressure-sensitive adhesive layer to the adherend, another problem arises. For example, when used for optical films with irregularities on the surface, such as anti-glare polarizing plates to prevent glare, the adhesive may not follow the irregularities on the surface of the optical film, and bubbles may enter, or the optical film And the adhesive area of the pressure-sensitive adhesive is reduced, the adhesive strength is lowered, and there is a problem that the protective film floats or peels off during use.

このため、光学用フィルムに使用する表面保護フィルムであって、表面に凹凸がある光学用フィルムに対しても使用でき、被着体に対する汚染が非常に少なく、かつ、経時でも被着体に対する汚染性が変化しない表面保護フィルムで、かつ、表面保護フィルムを剥離する時の剥離帯電圧を低く抑えた表面保護フィルムが求められている。   For this reason, it is a surface protective film used for an optical film, and can be used for an optical film having irregularities on the surface, and there is very little contamination to the adherend, and contamination to the adherend over time. There is a demand for a surface protective film that does not change its property and that suppresses the peeling voltage when the surface protective film is peeled down.

本発明者らは、この課題について鋭意検討を行なった。
被着体に対する汚染が少なく、かつ汚染性の経時変化も少なくするためには、被着体を汚染していると推測される帯電防止成分を減量する必要がある。しかし、帯電防止成分を減量した場合には、表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、剥離帯電圧が高くなってしまう。本発明者らは、帯電防止成分の絶対量を増加しないで、表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、剥離帯電圧を低く抑える方法について検討した。
その結果、粘着剤の中に、帯電防止剤を添加し混ぜて粘着剤層を形成するのではなく、粘着剤組成物を塗工・乾燥して粘着剤層を積層した後に、粘着剤層の表面に、適量の帯電防止成分を付与することにより、表面保護フィルムを、被着体である光学用フィルムから剥離する時の、剥離帯電圧を低く抑えられることを見出し、本発明を完成した。
The present inventors have intensively studied this problem.
In order to reduce the contamination of the adherend and reduce the change in contamination with time, it is necessary to reduce the amount of the antistatic component presumed to contaminate the adherend. However, when the antistatic component is reduced, the stripping voltage when the surface protective film is stripped from the adherend becomes high. The inventors of the present invention have studied a method for suppressing the peeling voltage when peeling the surface protective film from the adherend without increasing the absolute amount of the antistatic component.
As a result, instead of adding an antistatic agent to the adhesive and mixing it to form an adhesive layer, the adhesive composition is applied and dried to laminate the adhesive layer. The inventors have found that by applying an appropriate amount of an antistatic component to the surface, it is possible to suppress the peeling voltage when the surface protective film is peeled off from the optical film as the adherend, and the present invention has been completed.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、表面に凹凸がある光学用フィルムに対しても使用でき、被着体への汚染が少なく、経時しても被着体に対する低汚染性が変わらない表面保護フィルムであって、且つ、経時劣化しないで優れた剥離帯電防止性能を有する表面保護フィルム、及びそれを用いた光学部品を提供することを課題とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and can be used for an optical film having irregularities on the surface, has little contamination to the adherend, and low contamination to the adherend even with time. It is an object of the present invention to provide a surface protective film that does not change in properties and has excellent peeling antistatic performance without deterioration over time, and an optical component using the same.

上記の課題を解決するため、本発明の表面保護フィルムは、粘着剤組成物を塗工・乾燥して粘着剤層を積層した後に、粘着剤層の表面に適量の帯電防止剤を付与することにより、被着体に対する汚染性を低く抑えた上、被着体である光学用フィルムから剥離する時の、剥離帯電圧を低く抑えることを技術思想としている。   In order to solve the above problems, the surface protective film of the present invention is to apply an appropriate amount of an antistatic agent to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer after the pressure-sensitive adhesive composition is applied and dried to laminate the pressure-sensitive adhesive layer. Thus, the technical idea is to keep the contamination voltage for the adherend to a low level and to keep the stripping voltage at the time of peeling from the optical film as the adherend low.

上記の課題を解決するため、本発明は基材フィルムの片面に粘着剤層が形成された帯電防止表面保護フィルムの、前記粘着剤層の表面に、帯電防止剤を転写できる帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルムであって、前記粘着剤層が、(メタ)アクリレート共重合体と、架橋剤とを含有する粘着剤組成物を架橋させたアクリル系粘着剤層であり、前記架橋剤が、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、メラミン化合物、金属キレート化合物からなる化合物群から選択した1種以上であり、前記帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルム、樹脂フィルムの片面に、帯電防止剤を含有する剥離剤層が積層されてなり、前記剥離剤層が、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、該剥離剤と反応しない帯電防止剤とを含有する樹脂組成物により形成されてなり、前記帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルムを、前記剥離剤層を介して前記粘着剤層の表面に貼り合せたときに、前記剥離剤層の帯電防止剤を前記粘着剤層の表面に転写できることを特徴とする帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルムを提供する。 To solve the above problems, the present invention is the antistatic surface protecting film on one side to the pressure-sensitive adhesive layer is formed of a base film, the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, an antistatic surface protecting can be transferred antistatic agent A release film for a film, wherein the pressure-sensitive adhesive layer is an acrylic pressure-sensitive adhesive layer obtained by crosslinking a pressure-sensitive adhesive composition containing a (meth) acrylate copolymer and a crosslinking agent, and the crosslinking agent is isocyanate compounds, epoxy compounds, melamine compounds, not less than one selected from the group of compounds consisting of metal chelate compounds, the antistatic surface protecting film release film on one surface of the resin film, a release agent containing an antistatic agent layer is being laminated, the release agent layer, and a release agent composed mainly of dimethyl polysiloxane, the resin sets containing antistatic agent which does not react with the release agent It is formed by an object, the antistatic surface protecting film for a release film, when bonded to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer through the release agent layer, the adhesive antistatic agent of the release agent layer providing antistatic surface protecting film for a release film, characterized in Rukoto be transferred to the surface of the layer.

また、前記剥離剤層が、前記ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の固形分100重量部に対して、前記帯電防止剤を固形分として5〜100重量部の割合で含有することが好ましい。 Moreover, it is preferable that the said release agent layer contains the said antistatic agent in the ratio of 5-100 weight part as solid content with respect to 100 weight part of solid content of the release agent which has the said dimethylpolysiloxane as a main component. .

また、前記帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルムを、前記剥離剤層を介して前記粘着剤層の表面に貼り合せた後、23℃×50%RHの試験環境下で引張試験機を用いて300mm/分の剥離速度で180°の方向に、前記粘着剤層から剥離するときの剥離力が、0.2N/50mm以下であることが好ましい。 Further, after the release film for the antistatic surface protective film is bonded to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer through the release agent layer, it is 300 mm using a tensile tester in a test environment of 23 ° C. × 50% RH. It is preferable that the peeling force when peeling from the pressure-sensitive adhesive layer in the direction of 180 ° at a peeling speed of / min is 0.2 N / 50 mm or less .

また、前記帯電防止剤が、アルカリ金属塩であることが好ましい。 The antistatic agent is preferably an alkali metal salt .

また、本発明は、上記の帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルムが貼されてなる光学用フィルム用の帯電防止表面保護フィルムを提供する。 Further, the present invention provides an antistatic surface protecting film for optical film formed by I if Ri bonded antistatic surface protecting film for a release film above.

本発明の表面保護フィルムは、被着体に対する汚染が少なく、被着体に対する低汚染性が経時変化しない。また、本発明によれば、被着体が、AG偏光板などの、表面に凹凸がある光学用フィルムであっても使用できる。また、本発明の表面保護フィルムによれば、被着体である光学用フィルムから剥離する時に発生する、剥離帯電圧を低く抑えることができ、経時劣化しないで優れた剥離帯電防止性能を有する表面保護フィルム、及びそれを用いた光学部品を提供できる。
本発明の表面保護フィルムによれば、光学用フィルムの表面を確実に保護することができることから、生産性の向上と歩留まりの向上を図ることができる。
The surface protective film of the present invention has little contamination on the adherend, and the low contamination on the adherend does not change with time. Further, according to the present invention, the adherend may be an optical film having an uneven surface, such as an AG polarizing plate. In addition, according to the surface protective film of the present invention, the surface having excellent peeling antistatic performance without deterioration over time, which can suppress the peeling voltage generated when peeling from the optical film as the adherend. A protective film and an optical component using the protective film can be provided.
According to the surface protective film of the present invention, the surface of the optical film can be reliably protected, so that productivity and yield can be improved.

本発明の表面保護フィルムの、概念を示した断面図である。It is sectional drawing which showed the concept of the surface protection film of this invention. 本発明の表面保護フィルムから、剥離フィルムを剥がした状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which peeled off the peeling film from the surface protection film of this invention. 本発明の光学部品の、実施例の1つを示した断面図である。It is sectional drawing which showed one of the Examples of the optical component of this invention.

以下、実施の形態に基づいて、本発明を詳しく説明する。
図1は、本発明の表面保護フィルムの、概念を示した断面図である。この表面保護フィルム10は、透明な基材フィルム1の片面の表面に、粘着剤層2が形成されている。この粘着剤層2の表面には、樹脂フィルム3の表面に剥離剤層4が形成された剥離フィルム5が、貼合されている。
Hereinafter, the present invention will be described in detail based on embodiments.
FIG. 1 is a cross-sectional view showing the concept of the surface protective film of the present invention. The surface protective film 10 has a pressure-sensitive adhesive layer 2 formed on the surface of one side of a transparent base film 1. A release film 5 having a release agent layer 4 formed on the surface of the resin film 3 is bonded to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2.

本発明に係わる表面保護フィルム10に使用される基材フィルム1としては、透明性及び可撓性を有する樹脂からなる基材フィルムが用いられる。これにより、表面保護フィルムを、被着体である光学部品に貼合した状態で、光学部品の外観検査を行うことができる。基材フィルム1として用いる透明性を有する樹脂からなるフィルムは、好適には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステルフィルムが用いられる。ポリエステルフィルムのほか、必要な強度を有し、かつ光学適性を有するものであれば、他の樹脂からなるフィルムも使用可能である。基材フィルム1は、無延伸フィルムであっても、一軸または二軸延伸されたフィルムであってもよい。また、延伸フィルムの延伸倍率や、延伸フィルムの結晶化に伴い形成される軸方法の配向角度を、特定の値に制御してもよい。
本発明に係わる表面保護フィルム10に使用される基材フィルム1の厚みは、特に限定はないが、例えば、12〜100μm程度の厚みが好ましく、20〜50μm程度の厚みであれば取り扱い易く、より好ましい。
また、必要に応じて、基材フィルム1の粘着剤層2が形成された面の反対側の面に、表面の汚れを防止する防汚層、帯電防止層、傷つき防止のハードコート層などを設けることができる。また、基材フィルム1の表面に、コロナ放電による表面改質、アンカーコート剤の塗付などの易接着処理を施してもよい。
As the base film 1 used for the surface protective film 10 according to the present invention, a base film made of a resin having transparency and flexibility is used. Thereby, the external appearance test | inspection of an optical component can be performed in the state which bonded the surface protection film to the optical component which is a to-be-adhered body. The film made of a resin having transparency used as the base film 1 is preferably a polyester film such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene isophthalate, or polybutylene terephthalate. In addition to the polyester film, a film made of another resin can be used as long as it has a required strength and optical suitability. The base film 1 may be an unstretched film or a uniaxially or biaxially stretched film. Moreover, you may control the draw ratio of a stretched film, and the orientation angle of the axial method formed with crystallization of a stretched film to a specific value.
Although the thickness of the base film 1 used for the surface protection film 10 according to the present invention is not particularly limited, for example, a thickness of about 12 to 100 μm is preferable, and a thickness of about 20 to 50 μm is easy to handle. preferable.
Further, if necessary, an antifouling layer for preventing surface contamination, an antistatic layer, a hard coat layer for preventing scratches, etc. on the surface opposite to the surface on which the adhesive layer 2 of the base film 1 is formed. Can be provided. Further, the surface of the base film 1 may be subjected to easy adhesion treatment such as surface modification by corona discharge and application of an anchor coating agent.

また、本発明に係わる表面保護フィルム10に使用される粘着剤層2は、被着体の表面に接着し、用済み後に簡単に剥がせ、かつ、被着体を汚染しにくい粘着剤であれば特に限定されるものではないが、光学用フィルムに貼合後の耐久性などを考慮すると、(メタ)アクリレート共重合体を架橋させてなる粘着剤を用いるのが一般的である。   The pressure-sensitive adhesive layer 2 used in the surface protective film 10 according to the present invention is a pressure-sensitive adhesive that adheres to the surface of the adherend, can be easily peeled off after use, and does not easily contaminate the adherend. Although not particularly limited, it is general to use a pressure-sensitive adhesive obtained by crosslinking a (meth) acrylate copolymer in consideration of durability after bonding to an optical film.

(メタ)アクリレート共重合体としては、n−ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、イソノニルアクリレートなどの主モノマーと、アクリロニトリル、酢酸ビニル、メチルメタクリレート、エチルアクリレートなどのコモノマー、アクリル酸、メタクリル酸、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシブチルアクリレート、グリシジルメタクリレート、N−メチロールメタクリルアミドなどの官能性モノマーを共重合した共重合体を挙げることができる。(メタ)アクリレート共重合体は、主モノマー及び他のモノマーがすべて(メタ)アクリレートであってもよく、主モノマー以外のモノマーとして、(メタ)アクリレート以外のモノマーを1種又は2種以上含んでもよい。   As the (meth) acrylate copolymer, main monomers such as n-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, isooctyl acrylate and isononyl acrylate, comonomers such as acrylonitrile, vinyl acetate, methyl methacrylate and ethyl acrylate, acrylic acid, Mention may be made of copolymers obtained by copolymerizing functional monomers such as methacrylic acid, hydroxyethyl acrylate, hydroxybutyl acrylate, glycidyl methacrylate, N-methylol methacrylamide. In the (meth) acrylate copolymer, the main monomer and other monomers may all be (meth) acrylates, and may include one or more monomers other than (meth) acrylate as monomers other than the main monomer. Good.

また、(メタ)アクリレート共重合体にポリオキシアルキレン基を含有する化合物を共重合したり、混合してもよい。共重合可能なポリオキシアルキレン基を含有する化合物としては、ポリエチレングリコール(400)モノアクリル酸エステル、ポリエチレングリコール(400)モノメタクリル酸エステル、メトキシポリエチレングリコール(400)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(400)メタクリレート、ポリプロピレングリコール(400)モノアクリル酸エステル、ポリプロピレングリコール(400)モノメタクリル酸エステル、メトキシポリプロピレングリコール(400)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール(400)メタクリレートなどが挙げられる。これらのポリオキシアルキレン基を含有するモノマーを、前記(メタ)アクリレート共重合体の主モノマーや官能性モノマーと共重合することにより、ポリオキシアルキレン基を含有する共重合体からなる粘着剤を得ることができる。   Further, a compound containing a polyoxyalkylene group may be copolymerized or mixed with the (meth) acrylate copolymer. Examples of the compound containing a copolymerizable polyoxyalkylene group include polyethylene glycol (400) monoacrylate, polyethylene glycol (400) monomethacrylate, methoxypolyethylene glycol (400) acrylate, and methoxypolyethylene glycol (400) methacrylate. , Polypropylene glycol (400) monoacrylate, polypropylene glycol (400) monomethacrylate, methoxypolypropylene glycol (400) acrylate, methoxypolypropylene glycol (400) methacrylate, and the like. By copolymerizing these polyoxyalkylene group-containing monomers with the main monomer or functional monomer of the (meth) acrylate copolymer, a pressure-sensitive adhesive made of a copolymer containing a polyoxyalkylene group is obtained. be able to.

(メタ)アクリレート共重合体に混合可能なポリオキシアルキレン基を含有する化合物としては、ポリオキシアルキレン基を含有する(メタ)アクリレート共重合体が好ましく、ポリオキシアルキレン基を含有する(メタ)アクリル系モノマーの重合物がより好ましく、例えば、ポリエチレングリコール(400)モノアクリル酸エステル、ポリエチレングリコール(400)モノメタクリル酸エステル、メトキシポリエチレングリコール(400)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(400)メタクリレート、ポリプロピレングリコール(400)モノアクリル酸エステル、ポリプロピレングリコール(400)モノメタクリル酸エステル、メトキシポリプロピレングリコール(400)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール(400)メタクリレートなどの重合物が挙げられる。これらのポリオキシアルキレン基を含有する化合物を、前記(メタ)アクリレート共重合体と混合することにより、ポリオキシアルキレン基を含有する化合物が添加された粘着剤を得ることができる。   The compound containing a polyoxyalkylene group that can be mixed with the (meth) acrylate copolymer is preferably a (meth) acrylate copolymer containing a polyoxyalkylene group, and a (meth) acrylic containing a polyoxyalkylene group. Polymers of monomers are more preferable. For example, polyethylene glycol (400) monoacrylate, polyethylene glycol (400) monomethacrylate, methoxypolyethylene glycol (400) acrylate, methoxypolyethylene glycol (400) methacrylate, polypropylene glycol ( 400) monoacrylic acid ester, polypropylene glycol (400) monomethacrylic acid ester, methoxypolypropylene glycol (400) acrylate, methoxypolypropylene Polymers, such as glycol (400) methacrylate. By mixing these polyoxyalkylene group-containing compounds with the (meth) acrylate copolymer, a pressure-sensitive adhesive to which a compound containing a polyoxyalkylene group is added can be obtained.

粘着剤層2に添加する硬化剤としては、(メタ)アクリレート共重合体を架橋させる架橋剤として、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、メラミン化合物、金属キレート化合物などが挙げられる。また、粘着付与剤としては、ロジン系、クマロンインデン系、テルペン系、石油系、フェノール系などが挙げられる。   Examples of the curing agent added to the pressure-sensitive adhesive layer 2 include an isocyanate compound, an epoxy compound, a melamine compound, and a metal chelate compound as a crosslinking agent for crosslinking the (meth) acrylate copolymer. Examples of the tackifier include rosin, coumarone indene, terpene, petroleum, and phenol.

本発明に係わる表面保護フィルム10に使用される粘着剤層2の厚みは、特に限定はないものの、例えば、5〜40μm程度の厚みが好ましく、10〜30μm程度の厚みがより好ましい。表面保護フィルムの被着体の表面に対する剥離強度(粘着力)が、0.03〜0.3N/25mm程度の、微粘着力を有する粘着剤層2であることが、被着体から表面保護フィルムを剥がす時の操作性に優れることから好ましい。また、表面保護フィルム10から剥離フィルム5を剥がす時の操作性に優れることから、剥離フィルム5の粘着剤層2からの剥離力が、0.2N/50mm以下であることが好ましい。   Although the thickness of the adhesive layer 2 used for the surface protection film 10 according to the present invention is not particularly limited, for example, a thickness of about 5 to 40 μm is preferable, and a thickness of about 10 to 30 μm is more preferable. It is the surface protection from the adherend that the peel strength (adhesive strength) of the surface protective film to the surface of the adherend is about 0.03 to 0.3 N / 25 mm and has a slight adhesive strength. It is preferable because it is excellent in operability when peeling the film. Moreover, since it is excellent in the operativity at the time of peeling the peeling film 5 from the surface protection film 10, it is preferable that the peeling force from the adhesive layer 2 of the peeling film 5 is 0.2 N / 50mm or less.

また、本発明に係わる表面保護フィルム10に使用される剥離フィルム5は、樹脂フィルム3の片面に、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、該剥離剤と反応しない帯電防止剤とを含有する剥離剤層4が積層されている。   The release film 5 used for the surface protective film 10 according to the present invention contains a release agent mainly composed of dimethylpolysiloxane and an antistatic agent that does not react with the release agent on one side of the resin film 3. A release agent layer 4 is laminated.

樹脂フィルム3としては、ポリエステルフィルム、ポリアミドフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリイミドフィルムなどが挙げられるが、透明性に優れていることや価格が比較的に安価であることから、ポリエステルフィルムが特に好ましい。樹脂フィルムは、無延伸フィルムであっても、一軸または二軸延伸されたフィルムであってもよい。また、延伸フィルムの延伸倍率や、延伸フィルムの結晶化に伴い形成される軸方法の配向角度を、特定の値に制御してもよい。
樹脂フィルム3の厚みは、特に限定はないが、例えば、12〜100μm程度の厚みが好ましく、20〜50μm程度の厚みであれば取り扱い易く、より好ましい。
また、必要に応じて、樹脂フィルム3の表面に、コロナ放電による表面改質、アンカーコート剤の塗付などの易接着処理を施してもよい。
Examples of the resin film 3 include a polyester film, a polyamide film, a polyethylene film, a polypropylene film, and a polyimide film, and a polyester film is particularly preferable because of its excellent transparency and a relatively low price. . The resin film may be an unstretched film or a uniaxially or biaxially stretched film. Moreover, you may control the draw ratio of a stretched film, and the orientation angle of the axial method formed with crystallization of a stretched film to a specific value.
Although the thickness of the resin film 3 is not particularly limited, for example, a thickness of about 12 to 100 μm is preferable, and a thickness of about 20 to 50 μm is more preferable because it is easy to handle.
Further, if necessary, the surface of the resin film 3 may be subjected to easy adhesion treatment such as surface modification by corona discharge or application of an anchor coating agent.

剥離剤層4を構成するジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤には、付加反応型、縮合反応型、カチオン重合型、ラジカル重合型などの、公知のシリコーン系剥離剤が挙げられる。付加反応型シリコーン系剥離剤として市販されている製品には、例えば、KS−776A、KS−847T、KS−779H、KS−837、KS−778、KS−830(信越化学工業(株)製)、SRX−211、SRX−345、SRX−357、SD7333、SD7220、SD7223、LTC−300B、LTC−350G、LTC−310(東レダウコーニング(株)製)などが挙げられる。縮合反応型として市販されている製品には、例えば、SRX−290、SYLOFF−23(東レダウコーニング(株)製)などが挙げられる。カチオン重合型として市販されている製品には、例えば、TPR−6501、TPR−6500、UV9300、VU9315、UV9430(モメンティブ・パーフォーマンス・マテリアルズ社製)、X62−7622(信越化学工業(株)製)などが挙げられる。ラジカル重合型として市販されている製品には、例えば、X62−7205(信越化学工業(株)製)などが挙げられる。   Examples of the release agent mainly composed of dimethylpolysiloxane constituting the release agent layer 4 include known silicone release agents such as an addition reaction type, a condensation reaction type, a cationic polymerization type, and a radical polymerization type. Examples of products that are commercially available as addition reaction type silicone release agents include KS-776A, KS-847T, KS-779H, KS-837, KS-778, and KS-830 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). SRX-211, SRX-345, SRX-357, SD7333, SD7220, SD7223, LTC-300B, LTC-350G, LTC-310 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) and the like. Examples of products marketed as a condensation reaction type include SRX-290, SYLOFF-23 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), and the like. Examples of products marketed as a cationic polymerization type include TPR-6501, TPR-6500, UV9300, VU9315, UV9430 (manufactured by Momentive Performance Materials), X62-7622 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). ) And the like. Examples of the product marketed as a radical polymerization type include X62-7205 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).

剥離剤層4を構成する帯電防止剤としては、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤溶液に対して分散性の良いもので、かつ、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の硬化を阻害しないものが好ましい。また、剥離剤層4から粘着剤層2の表面に移行して粘着剤層に帯電防止効果を付与するため、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と反応しないものが良い。こうした帯電防止剤としてはアルカリ金属塩が好適である。   The antistatic agent constituting the release agent layer 4 has good dispersibility in a release agent solution mainly composed of dimethylpolysiloxane and inhibits curing of the release agent mainly composed of dimethylpolysiloxane. Those that do not are preferred. Moreover, since it transfers to the surface of the adhesive layer 2 from the release agent layer 4 and provides an antistatic effect to an adhesive layer, what does not react with the release agent which has a dimethylpolysiloxane as a main component is good. As such an antistatic agent, an alkali metal salt is suitable.

アルカリ金属塩としては、リチウム、ナトリウム、カリウムからなる金属塩があげられ、具体的には、たとえば、Li、Na、Kよりなるカチオンと、Cl、Br、I、BF 、PF 、SCN、ClO 、CFSO 、(CFSO、(CSO、(CFSOよりなるアニオンから構成される金属塩が好適に用いられる。なかでも特に、LiBr、LiI、LiBF、LiPF、LiSCN、LiClO、LiCFSO、Li(CFSON、Li(CSON、Li(CFSOCなどのリチウム塩が好ましく用いられる。これらのアルカリ金属塩は単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよい。イオン性物質の安定化のため、ポリオキシアルキレン構造を含有する化合物を添加しても良い。
ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤に対する帯電防止剤の添加量は、帯電防止剤の種類や剥離剤との親和性の度合いにより異なるが、表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、望まれる剥離帯電圧、被着体に対する汚染性、粘着特性などを考慮して設定すればよい。
Examples of the alkali metal salt include a metal salt composed of lithium, sodium and potassium. Specifically, for example, a cation composed of Li + , Na + and K + , Cl , Br , I and BF 4 are used. , PF 6 , SCN , ClO 4 , CF 3 SO 3 , (CF 3 SO 2 ) 2 N , (C 2 F 5 SO 2 ) 2 N , (CF 3 SO 2 ) 3 C A metal salt composed of an anion is preferably used. Among these, LiBr, LiI, LiBF 4 , LiPF 6 , LiSCN, LiClO 4 , LiCF 3 SO 3 , Li (CF 3 SO 2 ) 2 N, Li (C 2 F 5 SO 2 ) 2 N, Li (CF 3 A lithium salt such as SO 2 ) 3 C is preferably used. These alkali metal salts may be used alone or in combination of two or more. In order to stabilize the ionic substance, a compound containing a polyoxyalkylene structure may be added.
The amount of antistatic agent added to the release agent based on dimethylpolysiloxane varies depending on the type of antistatic agent and the degree of affinity with the release agent, but when peeling the surface protective film from the adherend, What is necessary is just to set in consideration of the peeling voltage desired, the contamination with respect to a to-be-adhered body, an adhesive characteristic, etc.

剥離剤層4は、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、該剥離剤と反応しない帯電防止剤との混合物からなる剥離剤層4であってもよい。ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、帯電防止剤との混合方法には、特に限定はない。ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤に、帯電防止剤を添加して、混合した後に剥離剤硬化用の触媒を添加・混合する方法、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤を、あらかじめ有機溶剤で希釈したのちに帯電防止剤と剥離剤硬化用の触媒を添加、混合する方法、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤をあらかじめ有機溶剤に希釈後、触媒を添加・混合し、その後帯電防止剤を添加、混合する方法など、いずれの方法でも良い。また、必要に応じて、シランカップリング剤などの密着向上剤やポリオキシアルキレン基を含有する化合物などの帯電防止効果を補助する材料、を添加しても良い。   The release agent layer 4 may be a release agent layer 4 made of a mixture of a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component and an antistatic agent that does not react with the release agent. There is no particular limitation on the method of mixing the release agent mainly composed of dimethylpolysiloxane and the antistatic agent. A method of adding an antistatic agent to a release agent based on dimethylpolysiloxane and mixing and then adding and mixing a catalyst for curing the release agent. Method of adding and mixing antistatic agent and release agent curing catalyst after diluting with solvent, diluting release agent based on dimethylpolysiloxane in organic solvent in advance, adding and mixing catalyst, then charging Any method such as a method of adding and mixing an inhibitor may be used. Moreover, you may add the material which assists the antistatic effect, such as adhesion improving agents, such as a silane coupling agent, and the compound containing a polyoxyalkylene group as needed.

ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、帯電防止剤との混合比率は、特に限定はないが、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の固形分100に対して、帯電防止剤を固形分として5〜100程度の割合が好ましい。帯電防止剤の固形分換算の添加量が、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の固形分100に対して5の割合より少ないと、粘着剤層の表面への帯電防止剤の転写量も少なくなり、粘着剤に帯電防止の機能が発揮され難くなる。また、帯電防止剤の固形分換算の添加量が、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の固形分100に対して100の割合を越えると、帯電防止剤とともにジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤も、粘着剤層の表面に転写されてしまうため、粘着剤の粘着特性を低下させる可能性がある。   The mixing ratio of the release agent mainly comprising dimethylpolysiloxane and the antistatic agent is not particularly limited, but the antistatic agent is solid relative to the solid content 100 of the release agent mainly containing dimethylpolysiloxane. A ratio of about 5 to 100 is preferable as a minute. When the addition amount of the antistatic agent in terms of solid content is less than 5 to the solid content 100 of the release agent mainly composed of dimethylpolysiloxane, the transfer amount of the antistatic agent to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer is also reduced. As a result, the antistatic function is hardly exhibited in the adhesive. Further, when the addition amount of the antistatic agent in terms of solid content exceeds 100 with respect to the solid content 100 of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, dimethylpolysiloxane is used as the main component together with the antistatic agent. Since the release agent is also transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, the pressure-sensitive adhesive properties of the pressure-sensitive adhesive may be reduced.

本発明に係わる表面保護フィルム10の基材フィルム1に、粘着剤層2を形成する方法、及び剥離フィルム5を貼合する方法は、公知の方法で行えばよく、特に限定されない。具体的には、(1)基材フィルム1の片面に、粘着剤層2を形成するための樹脂組成物を塗布、乾燥し粘着剤層を形成した後に、剥離フィルム5を貼合する方法、(2)剥離フィルム5の表面に、粘着剤層2を形成するための樹脂組成物を塗布・乾燥し粘着剤層を形成した後に、基材フィルム1を貼合する方法などが挙げられるが、いずれの方法を用いても良い。   The method for forming the pressure-sensitive adhesive layer 2 and the method for laminating the release film 5 on the base film 1 of the surface protective film 10 according to the present invention may be carried out by known methods and are not particularly limited. Specifically, (1) A method of laminating the release film 5 after applying a resin composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 2 on one side of the base film 1 and drying to form a pressure-sensitive adhesive layer, (2) On the surface of the release film 5, after applying and drying the resin composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 2 to form the pressure-sensitive adhesive layer, a method of pasting the base film 1 can be mentioned. Any method may be used.

また、基材フィルム1の表面に、粘着剤層2を形成するのは、公知の方法で行えばよい。具体的には、リバースコーティング、コンマコーティング、グラビアコーティング、スロットダイコーティング、メイヤーバーコーティング、エアーナイフコーティングなどの、公知の塗工方法を使用することができる。   Moreover, what is necessary is just to perform the adhesive layer 2 on the surface of the base film 1 by a well-known method. Specifically, known coating methods such as reverse coating, comma coating, gravure coating, slot die coating, Mayer bar coating, and air knife coating can be used.

また、同様に、樹脂フィルム3に、剥離剤層4を形成するのは、公知の方法で行えばよい。具体的には、グラビアコーティング、メイヤーバーコーティング、エアーナイフコーティングなどの、公知の塗工方法を使用することができる。   Similarly, the release agent layer 4 may be formed on the resin film 3 by a known method. Specifically, known coating methods such as gravure coating, Mayer bar coating, and air knife coating can be used.

上記の構成を有する本発明に係わる表面保護フィルム10は、被着体である光学用フィルムから剥離する際の表面電位が、+0.7kV〜−0.7kVであることが好ましい。さらに、表面電位が、+0.5kV〜−0.5kVであることがより好ましく、表面電位が、+0.1kV〜−0.1kVであることが特に好ましい。この表面電位は、剥離剤層に含有される帯電防止剤の種類、添加量等を加減することによって調整できる。   The surface protective film 10 according to the present invention having the above configuration preferably has a surface potential of +0.7 kV to −0.7 kV when peeled from the optical film as an adherend. Furthermore, the surface potential is more preferably +0.5 kV to −0.5 kV, and the surface potential is particularly preferably +0.1 kV to −0.1 kV. This surface potential can be adjusted by adjusting the type and amount of the antistatic agent contained in the release agent layer.

図2は、本発明の表面保護フィルムから、剥離フィルムを剥がした状態を示す断面図である。
図1に示した表面保護フィルム10から、剥離フィルム5を剥がすことにより、剥離フィルム5の剥離剤層4に含まれる帯電防止剤(符号7)の一部が、表面保護フィルム10の粘着剤層2の表面に、転写される(付着する)。そのため、図2においては、表面保護フィルムの粘着剤層2の表面に付着した帯電防止剤を、符号7の斑点で模式的に示している。帯電防止剤7の成分が、剥離フィルム5から粘着剤層2の表面に転写されることにより、転写する前の粘着剤層2に比べて、粘着剤層2の被着体からの剥離帯電圧が低減される。なお、粘着剤層を被着体から剥離する際の剥離帯電圧は、公知の方法で測定可能である。例えば、表面保護フィルムを偏光板などの被着体に貼り合せた後、高速剥離試験機(テスター産業製)を用いて毎分40mの剥離速度で表面保護フィルムを剥離しながら、被着体表面の表面電位を、表面電位計(キーエンス(株)製)を用いて10ms毎に測定したときの、表面電位の絶対値の最大値を、剥離帯電圧(kV)として測定する。
本発明に係わる表面保護フィルムでは、図2に示した剥離フィルムを剥がした状態の表面保護フィルム11を、被着体に貼合するに当たり、この粘着剤層2の表面に転写された、帯電防止剤が、被着体の表面に接触する。そのことにより、再度、被着体から表面保護フィルムを剥がす時の剥離帯電圧を低く抑えることができる。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a state where the release film is peeled off from the surface protective film of the present invention.
A part of the antistatic agent (symbol 7) contained in the release agent layer 4 of the release film 5 is peeled off from the surface protection film 10 shown in FIG. 2 is transferred (attached) to the surface of 2. Therefore, in FIG. 2, the antistatic agent adhering to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 of the surface protective film is schematically indicated by the reference numeral 7. When the component of the antistatic agent 7 is transferred from the release film 5 to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2, the release voltage from the adherend of the pressure-sensitive adhesive layer 2 is higher than that of the pressure-sensitive adhesive layer 2 before transfer. Is reduced. In addition, the peeling voltage at the time of peeling an adhesive layer from a to-be-adhered body can be measured by a well-known method. For example, after the surface protective film is bonded to an adherend such as a polarizing plate, the surface of the adherend is peeled off at a peeling speed of 40 m / min using a high-speed peel tester (manufactured by Tester Sangyo). The maximum value of the absolute value of the surface potential when the surface potential is measured every 10 ms by using a surface potentiometer (manufactured by Keyence Corporation) is measured as a peeling voltage (kV).
In the surface protective film according to the present invention, the antistatic material transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 when the surface protective film 11 in a state where the release film shown in FIG. The agent contacts the surface of the adherend. As a result, the stripping voltage when the surface protective film is peeled off from the adherend can be kept low again.

図3は、本発明の光学部品の、実施例を示した断面図である。
本発明の表面保護フィルム10から、剥離フィルム5が剥がされて、粘着剤層2が表出した状態で、その粘着剤層2を介して被着体である光学部品8に貼合される。
すなわち、図3には、本発明の表面保護フィルム10が貼合された、光学部品20を示している。光学部品としては、偏光板、位相差板、レンズフィルム、位相差板兼用の偏光板、レンズフィルム兼用の偏光板などの、光学用フィルムが挙げられる。このような光学部品は、液晶表示パネルなどの液晶表示装置、各種計器類の光学系装置、等の構成部材として使用される。また、光学部品としては、反射防止フィルム、ハードコートフィルム、タッチパネル用透明導電性フィルムなどの、光学用フィルムも挙げられる。
本発明の光学部品によれば、表面保護フィルム10を、被着体である光学部品(光学用フィルム)から剥離除去するとき、剥離帯電圧を充分に低く抑制することができる。そのため、ドライバーIC、TFT素子、ゲート線駆動回路などの回路部品を破壊する恐れがなく、液晶表示パネル等を製造する工程での生産効率を高め、生産工程の信頼性を保つことができる。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example of the optical component of the present invention.
The release film 5 is peeled off from the surface protective film 10 of the present invention, and the pressure-sensitive adhesive layer 2 is exposed, and is bonded to the optical component 8 that is an adherend through the pressure-sensitive adhesive layer 2.
That is, FIG. 3 shows the optical component 20 to which the surface protective film 10 of the present invention is bonded. Examples of the optical component include optical films such as a polarizing plate, a retardation plate, a lens film, a polarizing plate that also serves as a retardation plate, and a polarizing plate that also serves as a lens film. Such an optical component is used as a constituent member of a liquid crystal display device such as a liquid crystal display panel, an optical system device of various instruments, and the like. Examples of the optical component include optical films such as an antireflection film, a hard coat film, and a transparent conductive film for a touch panel.
According to the optical component of the present invention, when the surface protective film 10 is peeled and removed from the optical component (optical film) that is an adherend, the stripping voltage can be suppressed sufficiently low. Therefore, there is no fear of destroying circuit components such as a driver IC, a TFT element, and a gate line driving circuit, and the production efficiency in the process of manufacturing a liquid crystal display panel and the like can be improved and the reliability of the production process can be maintained.

次に、実施例により、本発明をさらに説明する。
(実施例1)
(表面保護フィルムの作製)
付加反応型のシリコーン(東レダウコーニング(株)製、品名:SRX−345)5重量部、過塩素酸リチウム10%酢酸エチル溶液7.5重量部、トルエンと酢酸エチルの1:1の混合溶媒95重量部、白金触媒(東レダウコーニング(株)製、品名:SRX−212)0.05重量部を混ぜ合わせて撹拌・混合して、実施例1の剥離剤層を形成する塗料を調整した。厚みが38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、実施例1の剥離剤層を形成する塗料を、乾燥後の厚さが0.2μmになるようにメイヤバーにて塗布し、120℃の熱風循環式オーブンにて1分間乾燥し、実施例1の剥離フィルムを得た。一方、2−エチルヘキシルアクリレートと、2−ヒドロキシエチルアクリレートとを、100:4の重量比で共重合した、重量平均分子量47万のアクリレート共重合体30重量部を、酢酸エチル70重量部に溶解した粘着剤(固形分30%の酢酸エチル溶液)100重量部に対して、HDI系硬化剤(日本ポリウレタン工業(株)製。品名:コロネートHX)1.2重量部を添加、混合した塗付液を、厚みが38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、乾燥後の厚さが20μmとなるように、塗布した後、100℃の熱風循環式オーブンにて2分間乾燥させて粘着剤層を形成した。その後、この粘着剤層の表面に、上記にて作製した、実施例1の剥離フィルムの剥離剤層(シリコーン処理面)を貼合した。得られた粘着フィルムを40℃の環境下で5日間保温し、粘着剤を硬化させて、実施例1の表面保護フィルムを得た。
Next, the present invention will be further described with reference to examples.
Example 1
(Production of surface protective film)
Addition reaction type silicone (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX-345) 5 parts by weight, lithium perchlorate 10% ethyl acetate solution 7.5 parts by weight, 1: 1 mixed solvent of toluene and ethyl acetate 95 parts by weight, platinum catalyst (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX-212) 0.05 parts by weight were mixed and stirred and mixed to prepare a coating material for forming the release agent layer of Example 1. . The paint for forming the release agent layer of Example 1 was applied to the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm with a Mayer bar so that the thickness after drying was 0.2 μm, and a 120 ° C. hot-air circulating oven And dried for 1 minute to obtain a release film of Example 1. On the other hand, 30 parts by weight of an acrylate copolymer having a weight average molecular weight of 470,000 obtained by copolymerizing 2-ethylhexyl acrylate and 2-hydroxyethyl acrylate at a weight ratio of 100: 4 was dissolved in 70 parts by weight of ethyl acetate. Coating solution in which 1.2 parts by weight of an HDI curing agent (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., product name: Coronate HX) is added to and mixed with 100 parts by weight of an adhesive (ethyl acetate solution having a solid content of 30%). Was applied to the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm so that the thickness after drying was 20 μm, and then dried in a hot air circulation oven at 100 ° C. for 2 minutes to form an adhesive layer. Then, the release agent layer (silicone treatment surface) of the release film of Example 1 produced above was bonded to the surface of this adhesive layer. The obtained pressure-sensitive adhesive film was kept warm at 40 ° C. for 5 days to cure the pressure-sensitive adhesive, and the surface protective film of Example 1 was obtained.

(実施例2)
実施例1の剥離剤層を形成する塗料の、乾燥後の厚さを0.1μmにした以外は、実施例1と同様にして、実施例2の表面保護フィルムを得た。
(Example 2)
A surface protective film of Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the coating material forming the release agent layer of Example 1 was 0.1 μm after drying.

(実施例3)
実施例1の付加反応型のシリコーンを、東レダウコーニング(株)製、品名:SRX−211にし、過塩素酸リチウム10%酢酸エチル溶液7.5重量部の代りにリチウムビス(トリフルオロメタンスルフォニル)イミド10%酢酸エチル溶液10重量部にした以外は、実施例1と同様にして、実施例3の表面保護フィルムを得た。
(Example 3)
The addition reaction type silicone of Example 1 was manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX-211, and lithium bis (trifluoromethanesulfonyl) was used instead of 7.5 parts by weight of lithium perchlorate 10% ethyl acetate solution. A surface protective film of Example 3 was obtained in the same manner as Example 1 except that 10 parts by weight of imide 10% ethyl acetate solution was used.

(比較例1)
付加反応型のシリコーン(東レダウコーニング(株)製、品名:SRX−345)5重量部、トルエンと酢酸エチルの1:1の混合溶媒95重量部、白金触媒(東レダウコーニング(株)製、品名:SRX−212)0.05重量部を混ぜ合わせて撹拌・混合して、比較例1の剥離剤層を形成する塗料を調整した。厚みが38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、比較例1の剥離剤層を形成する塗料を、乾燥後の厚さが0.2μmになるようにメイヤバーにて塗布し、120℃の熱風循環式オーブンにて1分間乾燥し、比較例1の剥離フィルムを得た。一方、実施例1の粘着剤(固形分30%の酢酸エチル溶液)100重量部に対して、過塩素酸リチウム10%酢酸エチル溶液5重量部、HDI系硬化剤(日本ポリウレタン工業(株)製。品名:コロネートHX)1.2重量部を添加、混合した塗付液を、厚みが38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、乾燥後の厚さが20μmとなるように、塗布した後、100℃の熱風循環式オーブンにて2分間乾燥させて粘着剤層を形成した。その後、この粘着剤層の表面に、上記にて作製した、比較例1の剥離フィルムの剥離剤層(シリコーン処理面)を貼合した。得られた粘着フィルムを40℃の環境下で5日間保温し、粘着剤を硬化させて、比較例1の表面保護フィルムを得た。
(Comparative Example 1)
Addition reaction type silicone (Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX-345) 5 parts by weight, toluene and ethyl acetate 1: 1 mixed solvent 95 parts by weight, platinum catalyst (Toray Dow Corning Co., Ltd., Product name: SRX-212) 0.05 parts by weight were mixed and stirred and mixed to prepare a coating material for forming the release agent layer of Comparative Example 1. A paint for forming the release agent layer of Comparative Example 1 was applied to the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm with a Mayer bar so that the thickness after drying was 0.2 μm, and a 120 ° C. hot air circulation oven And dried for 1 minute to obtain a release film of Comparative Example 1. On the other hand, with respect to 100 parts by weight of the pressure-sensitive adhesive of Example 1 (ethyl acetate solution having a solid content of 30%), 5 parts by weight of lithium perchlorate 10% ethyl acetate solution, HDI-based curing agent (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) (Product name: Coronate HX) 1.2 parts by weight added and mixed was applied to the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm so that the thickness after drying was 20 μm, and then 100 ° C. Were dried in a hot air circulation oven for 2 minutes to form an adhesive layer. Thereafter, the release agent layer (silicone-treated surface) of the release film of Comparative Example 1 prepared above was bonded to the surface of this pressure-sensitive adhesive layer. The obtained pressure-sensitive adhesive film was kept warm at 40 ° C. for 5 days to cure the pressure-sensitive adhesive, and the surface protective film of Comparative Example 1 was obtained.

(比較例2)
過塩素酸リチウム10%酢酸エチル溶液0.2重量部にした以外は、比較例1と同様にして、比較例2の表面保護フィルムを得た。
(Comparative Example 2)
A surface protective film of Comparative Example 2 was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that 0.2 parts by weight of lithium perchlorate 10% ethyl acetate solution was used.

(実施例4)
実施例1の塗付液の代わりに、2−エチルヘキシルアクリレートと、ブチルアクリレートと、2−ヒドロキシエチルアクリレートとを、60:40:4の重量比で共重合した、重量平均分子量48万のアクリレート共重合体30重量部を、酢酸エチル70重量部で溶解した粘着剤(固形分30%の酢酸エチル溶液)100重量部に対して、HDI系硬化剤(日本ポリウレタン工業(株)製。品名:コロネートHX)1.2重量部を添加、混合した塗付液を用いた以外は、実施例1と同様にして、実施例4の表面保護フィルムを得た。
Example 4
Instead of the coating solution of Example 1, 2-ethylhexyl acrylate, butyl acrylate, and 2-hydroxyethyl acrylate were copolymerized at a weight ratio of 60: 40: 4, and the acrylate copolymer having a weight average molecular weight of 480,000 was used. 30 parts by weight of the polymer is dissolved in 70 parts by weight of ethyl acetate and 100 parts by weight of the pressure-sensitive adhesive (ethyl acetate solution having a solid content of 30%). An HDI-based curing agent (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd. (HX) A surface protective film of Example 4 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 1.2 parts by weight of the added and mixed coating liquid was used.

(実施例5)
実施例1の塗付液の代わりに、2−エチルヘキシルアクリレートと、メトキシポリエチレングリコール(400)メタクリレートと、2−ヒドロキシエチルアクリレートとを、90:10:4の重量比で共重合した、重量平均分子量38万のアクリレート共重合体30重量部を、酢酸エチル70重量部で溶解した粘着剤(固形分30%の酢酸エチル溶液)100重量部に対して、HDI系硬化剤(日本ポリウレタン工業(株)製。品名:コロネートHX)1.2重量部を添加、混合した塗付液を用いた以外は、実施例1と同様にして、実施例5の表面保護フィルムを得た。
(Example 5)
Instead of the coating liquid of Example 1, 2-ethylhexyl acrylate, methoxypolyethylene glycol (400) methacrylate, and 2-hydroxyethyl acrylate were copolymerized at a weight ratio of 90: 10: 4. 100 parts by weight of an adhesive (ethyl acetate solution having a solid content of 30%) in which 30 parts by weight of 380,000 acrylate copolymer is dissolved in 70 parts by weight of ethyl acetate is used as an HDI curing agent (Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) Product name: Coronate HX) A surface protective film of Example 5 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 1.2 parts by weight of an added and mixed coating solution was used.

(実施例6)
実施例1の塗付液の代わりに、2−エチルヘキシルアクリレートと、アクリル酸とを、100:4の重量比で共重合した、重量平均分子量52万のアクリレート共重合体30重量部を、酢酸エチル70重量部で溶解した粘着剤(固形分30%の酢酸エチル溶液)100重量部に対して、エポキシ系硬化剤(三菱瓦斯化学(株)製。品名:TETRAD−C)1.0重量部を添加、混合した塗付液を用いた以外は、実施例1と同様にして、実施例6の表面保護フィルムを得た。
(Example 6)
Instead of the coating liquid of Example 1, 2-ethylhexyl acrylate and acrylic acid were copolymerized at a weight ratio of 100: 4, and 30 parts by weight of an acrylate copolymer having a weight average molecular weight of 520,000 was mixed with ethyl acetate. To 100 parts by weight of the pressure-sensitive adhesive (solid solution of 30% solid content) dissolved in 70 parts by weight, 1.0 part by weight of an epoxy curing agent (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., product name: TETRAD-C) A surface protective film of Example 6 was obtained in the same manner as Example 1 except that the added and mixed coating solution was used.

以下、評価試験の方法および結果について示す。
〈剥離フィルムの剥離力の測定方法〉
表面保護フィルムのサンプルを、幅50mm、長さ150mmに裁断する。23℃×50%RHの試験環境下、引張試験機を用いて300mm/分の剥離速度で180°の方向に、剥離フィルムを剥離したときの強度を測定し、これを剥離フィルムの剥離力(N/50mm)とした。
The evaluation test methods and results are shown below.
<Measurement method of peel strength of release film>
A sample of the surface protective film is cut into a width of 50 mm and a length of 150 mm. In a test environment of 23 ° C. × 50% RH, the strength when the release film was peeled in the direction of 180 ° at a peel rate of 300 mm / min was measured using a tensile tester, and this was measured as the peel strength ( N / 50 mm).

〈表面保護フィルムの粘着力の測定方法〉
ガラス板の表面に、アンチグレア低反射処理した偏光板(AG−LR偏光板)を、貼合機を用いて貼合した。その後、偏光板の表面に、幅25mmに裁断した表面保護フィルムを貼合した後、23℃×50%RHの試験環境下に1日間保管した。その後、引張試験機を用いて300mm/分の剥離速度で180°の方向に、表面保護フィルムを剥離したときの強度を測定し、これを粘着力(N/25mm)とした。
<Measurement method of adhesive strength of surface protective film>
A polarizing plate (AG-LR polarizing plate) subjected to antiglare low reflection treatment was bonded to the surface of the glass plate using a bonding machine. Thereafter, a surface protective film cut to a width of 25 mm was bonded to the surface of the polarizing plate, and then stored for 1 day in a test environment of 23 ° C. × 50% RH. Then, the strength when the surface protective film was peeled in the direction of 180 ° at a peeling speed of 300 mm / min was measured using a tensile tester, and this was defined as adhesive strength (N / 25 mm).

〈表面保護フィルムの剥離帯電圧の測定方法〉
ガラス板の表面に、アンチグレア低反射処理した偏光板(AG−LR偏光板)を、貼合機を用いて貼合した。その後、偏光板の表面に、幅25mmに裁断した表面保護フィルムを貼合した後、23℃×50%RHの試験環境下に1日間保管した。その後、高速剥離試験機(テスター産業製)を用いて毎分40mの剥離速度で表面保護フィルムを剥離しながら、前記偏光板表面の表面電位を、表面電位計(キーエンス(株)製)を用いて10ms毎に測定したときの、表面電位の絶対値の最大値を、剥離帯電圧(kV)とした。
<Measuring method of peeling voltage of surface protective film>
A polarizing plate (AG-LR polarizing plate) subjected to antiglare low reflection treatment was bonded to the surface of the glass plate using a bonding machine. Thereafter, a surface protective film cut to a width of 25 mm was bonded to the surface of the polarizing plate, and then stored for 1 day in a test environment of 23 ° C. × 50% RH. Then, using a surface potentiometer (manufactured by Keyence Corporation), the surface potential of the polarizing plate surface was peeled off while peeling the surface protective film at a peeling speed of 40 m / min using a high-speed peel tester (manufactured by Tester Sangyo). The maximum value of the absolute value of the surface potential when measured every 10 ms was defined as the stripping voltage (kV).

〈表面保護フィルムの表面汚染性の確認方法〉
ガラス板の表面に、アンチグレア低反射処理した偏光板(AG−LR偏光板)を、貼合機を用いて貼合した。その後、偏光板の表面に、幅25mmに裁断した表面保護フィルムを貼合した後、23℃×50%RHの試験環境下に3日および30日保管した。その後、表面保護フィルムを剥がし、偏光板の表面における汚染の有無を目視にて観察し、表面汚染性を確認した。表面汚染性の判定基準として、偏光板に汚染の移行が無かった場合を(○)とし、偏光板に汚染の移行が確認された場合を(×)とした。
<Method for confirming surface contamination of surface protective film>
A polarizing plate (AG-LR polarizing plate) subjected to antiglare low reflection treatment was bonded to the surface of the glass plate using a bonding machine. Thereafter, a surface protective film cut to a width of 25 mm was bonded to the surface of the polarizing plate, and then stored for 3 days and 30 days in a test environment of 23 ° C. × 50% RH. Thereafter, the surface protective film was peeled off, and the presence or absence of contamination on the surface of the polarizing plate was visually observed to confirm surface contamination. As criteria for determining surface contamination, the case where there was no migration of contamination on the polarizing plate was marked with (◯), and the case where the migration of contamination was confirmed on the polarizing plate was marked with (×).

得られた実施例1〜6及び比較例1〜2の表面保護フィルムについて、測定した測定結果を表1〜2に示した。「2EHA」は、2−エチルヘキシルアクリレートを、「HEA」は、2−ヒドロキシエチルアクリレートを、「BA」はブチルアクリレートを、「#400G」はメトキシポリエチレングリコール(400)メタクリレートを、「AA」はアクリル酸を、「LiClO」は、過塩素酸リチウムを、「Li(CFSON」は、リチウムビス(トリフルオロメタンスルフォニル)イミドを、それぞれ意味する。 About the obtained surface protective films of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2, measured measurement results are shown in Tables 1 and 2. “2EHA” is 2-ethylhexyl acrylate, “HEA” is 2-hydroxyethyl acrylate, “BA” is butyl acrylate, “# 400G” is methoxypolyethylene glycol (400) methacrylate, and “AA” is acrylic. “LiClO 4 ” means lithium perchlorate, and “Li (CF 3 SO 2 ) 2 N” means lithium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide.

Figure 0006127119
Figure 0006127119

Figure 0006127119
Figure 0006127119

表1に示した測定結果から、以下のことが分かる。
本発明に係わる実施例1〜6の表面保護フィルムは、適度な粘着力があり、被着体の表面に対する汚染がなく、かつ、表面保護フィルムを被着体から剥離した時の剥離帯電圧が低い。
一方、帯電防止剤を粘着剤層に添加した比較例1の表面保護フィルムは、表面保護フィルムを被着体から剥離した時の剥離帯電圧が低く良好であるが、剥離した後の、被着体に対する汚染が多くなった。また、帯電防止剤を減量した比較例2では、被着体に対する汚染性は改善したが、表面保護フィルムを被着体から剥離した時の剥離帯電圧が高くなった。
すなわち、粘着剤に帯電防止剤を混合させた比較例1、2では、剥離帯電圧の低減と被着体に対する汚染性を両立することが難しい。他方、剥離剤層に帯電防止剤を添加して、粘着剤層の表面に転写させた実施例1〜6では、少量の添加量で剥離帯電圧の低減効果があるため、被着体に対する汚染もなく良好なものが得られた。
From the measurement results shown in Table 1, the following can be understood.
The surface protective films of Examples 1 to 6 according to the present invention have moderate adhesive strength, no contamination on the surface of the adherend, and the stripping voltage when the surface protective film is peeled from the adherend. Low.
On the other hand, the surface protective film of Comparative Example 1 in which an antistatic agent was added to the pressure-sensitive adhesive layer has a low and low peel voltage when the surface protective film is peeled off from the adherend. Increased body contamination. Further, in Comparative Example 2 in which the amount of the antistatic agent was reduced, the contamination property to the adherend was improved, but the peeling voltage when the surface protective film was peeled from the adherend was increased.
That is, in Comparative Examples 1 and 2 in which an antistatic agent is mixed with an adhesive, it is difficult to achieve both reduction of the peeling voltage and contamination to the adherend. On the other hand, in Examples 1 to 6, in which an antistatic agent was added to the release agent layer and transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, since there was an effect of reducing the release band voltage with a small addition amount, contamination to the adherend A good product was obtained.

本発明の表面保護フィルムは、例えば、偏光板、位相差板、レンズフィルム、などの光学用フィルム、その他、各種の光学部品等の生産工程などにおいて、該光学部品等に貼合して表面を保護するために用いることができる。また、本発明の表面保護フィルムは、被着体から剥離する時に発生する静電気の量を低くでき、かつ、剥離帯電防止性能の経時変化および被着体に対する汚染が少なく、生産工程の歩留まりを向上させることができ、産業上の利用価値が大である。   The surface protective film of the present invention is, for example, an optical film such as a polarizing plate, a retardation plate, a lens film, and the like, and in other production processes such as various optical components. Can be used to protect. In addition, the surface protective film of the present invention can reduce the amount of static electricity generated when peeling from the adherend, and the change in antistatic performance against peeling and the contamination of the adherend are small, improving the yield of the production process. The industrial utility value is great.

1…基材フィルム、2…粘着剤層、3…樹脂フィルム、4…剥離剤層、5…剥離フィルム、7…帯電防止剤、8…被着体(光学部品)、10…表面保護フィルム、11…剥離フィルムを剥がした表面保護フィルム、20…表面保護フィルムを貼合した光学部品。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base film, 2 ... Adhesive layer, 3 ... Resin film, 4 ... Release agent layer, 5 ... Release film, 7 ... Antistatic agent, 8 ... Adhering body (optical component), 10 ... Surface protection film, 11 ... Surface protective film from which release film has been peeled off, 20 ... Optical component with surface protective film bonded thereto.

Claims (5)

基材フィルムの片面に粘着剤層が形成された帯電防止表面保護フィルムの、前記粘着剤層の表面に、帯電防止剤を転写できる帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルムであって、
前記粘着剤層が、(メタ)アクリレート共重合体と、架橋剤とを含有する粘着剤組成物を架橋させたアクリル系粘着剤層であり、
前記架橋剤が、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、メラミン化合物、金属キレート化合物からなる化合物群から選択した1種以上であり、
前記帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルムは、樹脂フィルムの片面に、帯電防止剤を含有する剥離剤層が積層されてなり、前記剥離剤層が、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、該剥離剤と反応しない帯電防止剤とを含有する樹脂組成物により形成されてなり、
前記帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルムを、前記剥離剤層を介して前記粘着剤層の表面に貼り合せたときに、前記剥離剤層の帯電防止剤を前記粘着剤層の表面に転写できることを特徴とする帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルム。
An antistatic surface protective film having an adhesive layer formed on one side of a base film, a release film for an antistatic surface protective film capable of transferring an antistatic agent to the surface of the adhesive layer,
The pressure-sensitive adhesive layer is an acrylic pressure-sensitive adhesive layer obtained by crosslinking a pressure-sensitive adhesive composition containing a (meth) acrylate copolymer and a crosslinking agent,
The crosslinking agent is at least one selected from the group consisting of an isocyanate compound, an epoxy compound, a melamine compound, and a metal chelate compound;
The release film for the antistatic surface protective film is formed by laminating a release agent layer containing an antistatic agent on one surface of a resin film, and the release agent layer is a release agent mainly composed of dimethylpolysiloxane, Formed of a resin composition containing an antistatic agent that does not react with the release agent,
When the release film for the antistatic surface protective film is bonded to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer via the release agent layer, the antistatic agent of the release agent layer can be transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. A release film for an antistatic surface protective film.
前記剥離剤層が、前記ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の固形分100重量部に対して、前記帯電防止剤を固形分として5〜100重量部の割合で含有することを特徴とする請求項1に記載の帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルム。   The release agent layer contains the antistatic agent in a proportion of 5 to 100 parts by weight as a solid content with respect to 100 parts by weight of a solid content of the release agent mainly composed of dimethylpolysiloxane. The release film for an antistatic surface protective film according to claim 1. 前記帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルムを、前記剥離剤層を介して前記粘着剤層の表面に貼り合せた後、23℃×50%RHの試験環境下で引張試験機を用いて300mm/分の剥離速度で180°の方向に、前記粘着剤層から剥離するときの剥離力が、0.2N/50mm以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載の帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルム。   After the release film for the antistatic surface protective film is bonded to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer via the release agent layer, it is 300 mm / min using a tensile tester in a test environment of 23 ° C. × 50% RH. 3. The antistatic surface protective film according to claim 1, wherein a peeling force when peeling from the pressure-sensitive adhesive layer in a direction of 180 ° at a peeling speed of 0.2 N / 50 mm or less. Release film. 前記帯電防止剤が、アルカリ金属塩であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルム。   The release film for an antistatic surface protective film according to any one of claims 1 to 3, wherein the antistatic agent is an alkali metal salt. 請求項1〜4のいずれかに記載の帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルムが貼り合わされてなる光学用フィルム用の帯電防止表面保護フィルム。   The antistatic surface protection film for optical films by which the peeling film for antistatic surface protection films in any one of Claims 1-4 is bonded together.
JP2015237685A 2015-12-04 2015-12-04 Release film for antistatic surface protective film, and antistatic surface protective film Active JP6127119B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015237685A JP6127119B2 (en) 2015-12-04 2015-12-04 Release film for antistatic surface protective film, and antistatic surface protective film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015237685A JP6127119B2 (en) 2015-12-04 2015-12-04 Release film for antistatic surface protective film, and antistatic surface protective film

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013157064A Division JP5852998B2 (en) 2013-07-29 2013-07-29 Surface protective film and optical component on which it is bonded

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016211605A Division JP6233993B2 (en) 2016-10-28 2016-10-28 Release film for antistatic surface protective film, and antistatic surface protective film

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016083941A JP2016083941A (en) 2016-05-19
JP6127119B2 true JP6127119B2 (en) 2017-05-10

Family

ID=55972960

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015237685A Active JP6127119B2 (en) 2015-12-04 2015-12-04 Release film for antistatic surface protective film, and antistatic surface protective film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6127119B2 (en)

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09165460A (en) * 1995-12-14 1997-06-24 Hitachi Chem Co Ltd Antistatic treatment method
JP2011191768A (en) * 2011-04-05 2011-09-29 Nitto Denko Corp Surface protective film for optical film
JP6019206B2 (en) * 2015-12-04 2016-11-02 藤森工業株式会社 Release film for antistatic surface protective film, and antistatic surface protective film

Also Published As

Publication number Publication date
JP2016083941A (en) 2016-05-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5852998B2 (en) Surface protective film and optical component on which it is bonded
JP5882266B2 (en) Surface protective film and optical component on which it is bonded
JP5852995B2 (en) Method for producing antistatic surface protective film, and antistatic surface protective film
JP5863722B2 (en) Surface protective film and optical component on which it is bonded
JP5853001B2 (en) Surface protective film and optical component on which it is bonded
JP2013235024A (en) Surface protective film and optical component laminated with the film
JP6224547B2 (en) Surface protective film and optical component on which it is bonded
KR102037109B1 (en) Antistatic surface-protective film
JP6392799B2 (en) Surface protective film and optical component on which it is bonded
JP6392798B2 (en) Surface protective film and optical component on which it is bonded
JP6019206B2 (en) Release film for antistatic surface protective film, and antistatic surface protective film
JP6414983B2 (en) Surface protective film and optical component on which it is bonded
JP6339515B2 (en) Surface protective film and optical component on which it is bonded
JP6382169B2 (en) Surface protective film and optical component on which it is bonded
JP6314333B2 (en) Surface protective film and method for producing optical component bonded with surface protective film
JP6076517B2 (en) Release film for antistatic surface protection film
JP6233993B2 (en) Release film for antistatic surface protective film, and antistatic surface protective film
JP6127119B2 (en) Release film for antistatic surface protective film, and antistatic surface protective film
JP2019218549A (en) Production method of antistatic surface protective film
JP5982552B2 (en) Release film for antistatic surface protective film, and antistatic surface protective film
JP2018134877A (en) Release film for antistatic surface protective film
JP2019014258A (en) Release film for antistatic surface protective film
JP6403354B2 (en) Release film for surface protection film
JP6655681B2 (en) Release film for antistatic surface protection film
JP6566590B2 (en) Surface protective film and optical component on which it is bonded

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A132

Effective date: 20160906

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20161028

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170314

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170410

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6127119

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250