JP6655681B2

JP6655681B2 - Release film for antistatic surface protection film

Info

Publication number: JP6655681B2
Application number: JP2018154583A
Authority: JP
Inventors: 小林　弘幸; 弘幸小林; 充春日; 洋人新見; 千恵鈴木; 智美五十嵐; 絵美子木俣; 林　益史; 益史林
Original assignee: Fujimori Kogyo Co Ltd
Current assignee: Fujimori Kogyo Co Ltd
Priority date: 2018-08-21
Filing date: 2018-08-21
Publication date: 2020-02-26
Anticipated expiration: 2036-02-16
Also published as: JP2019014257A

Description

本発明は、偏光板、位相差板、ディスプレイ用のレンズフィルムなどの光学部品（以下、光学用フィルムと称する場合もある。）の表面に貼合される、表面保護フィルムに関する。さらに詳細には、被着体に対する汚染が少ない表面保護フィルム、さらには、経時劣化しないで優れた剥離帯電防止性能を有する表面保護フィルム、及びそれを用いた光学部品を提供するものである。 The present invention relates to a surface protective film that is bonded to the surface of an optical component (hereinafter, sometimes referred to as an optical film) such as a polarizing plate, a retardation plate, and a lens film for a display. More specifically, an object of the present invention is to provide a surface protective film that causes less contamination of an adherend, a surface protective film that has excellent anti-peeling performance without deterioration over time, and an optical component using the same.

従来から、偏光板、位相差板、ディスプレイ用のレンズフィルム、反射防止フィルム、ハードコートフィルム、タッチパネル用透明導電性フィルム、等の光学用フィルム、及びそれを用いたディスプレイなどの光学製品を、製造、搬送する際には、該光学用フィルムの表面に表面保護フィルムを貼合して、後工程における表面の汚れや傷付きを防止することがなされている。製品である光学用フィルムの外観検査は、表面保護フィルムを剥がして、再び、貼合する手間を省いて作業効率を高めるため、表面保護フィルムを光学用フィルムに貼合したまま行うこともある。 Conventionally, optical films such as polarizing plates, retardation plates, lens films for displays, antireflection films, hard coat films, transparent conductive films for touch panels, etc., and optical products such as displays using them have been manufactured. At the time of transportation, a surface protective film is attached to the surface of the optical film to prevent the surface from being stained or damaged in a later step. The appearance inspection of the optical film, which is a product, is sometimes performed with the surface protective film adhered to the optical film in order to remove the surface protective film and increase the work efficiency by eliminating the labor for laminating again.

一般的に、基材フィルムの片面に、粘着剤層を設けた表面保護フィルムが、光学製品の製造工程において、傷や汚れの付着を防止するために使用されている。表面保護フィルムは、微粘着力の粘着剤層を介して光学用フィルムに貼合される。粘着剤層を微粘着力とするのは、使用済みの表面保護フィルムを光学用フィルムの表面から剥離して取り除くときに、容易に剥離でき、且つ、粘着剤が、被着体である製品の光学用フィルムに付着して残留しないようにする（いわゆる、糊残りの発生を防ぐ）ためである。 In general, a surface protection film having an adhesive layer provided on one side of a base film is used in a manufacturing process of an optical product in order to prevent adhesion of scratches and dirt. The surface protective film is bonded to the optical film via a slightly adhesive pressure-sensitive adhesive layer. The adhesive layer is made to have a slight adhesive strength because, when the used surface protective film is peeled off from the surface of the optical film and removed, the adhesive can be easily peeled off, and the adhesive is applied to the product to be adhered. This is to prevent the adhesive film from adhering and remaining on the optical film (so-called adhesive residue is prevented from being generated).

近年、液晶ディスプレイパネルの生産工程において、光学用フィルムの上に貼合された表面保護フィルムを、剥離して取り除くときに発生する剥離帯電圧により、液晶ディスプレイパネルの表示画面を制御するための、ドライバーＩＣ等の回路部品が破壊される現象や、液晶分子の配向が損傷する現象が、発生件数は少ないながらも起きている。
また、液晶ディスプレイパネルの消費電力を低減させるため、液晶材料の駆動電圧が低くなってきており、これに伴って、ドライバーＩＣの破壊電圧も低くなっている。最近では、剥離帯電圧を＋０．７ｋＶ〜−０．７ｋＶの範囲内にすることが求められてきている。 In recent years, in the production process of the liquid crystal display panel, to control the display screen of the liquid crystal display panel by a peeling voltage generated when peeling and removing the surface protective film bonded on the optical film, A phenomenon in which circuit components such as driver ICs are destroyed and a phenomenon in which the alignment of liquid crystal molecules is damaged have occurred although the number of occurrences is small.
In addition, in order to reduce the power consumption of the liquid crystal display panel, the driving voltage of the liquid crystal material has been reduced, and accordingly, the breakdown voltage of the driver IC has been reduced. Recently, it has been required that the peeling voltage be within the range of +0.7 kV to -0.7 kV.

また、近年、３Ｄディスプレイ（立体視ディスプレイ）の普及に伴い、偏光板等の光学用フィルムの表面に、ＦＰＲ（ＦｉｌｍＰａｔｔｅｒｎｅｄＲｅｔａｒｄｅｒ）フィルムを貼合したものがある。偏光板等の光学用フィルムの表面に貼合されていた表面保護フィルムを剥がした後に、ＦＰＲフィルムが貼合される。しかし、偏光板等の光学用フィルムの表面が、表面保護フィルムに使用している粘着剤や帯電防止剤で汚染されていると、ＦＰＲフィルムが接着し難いという問題がある。このため、当該用途に用いる表面保護フィルムには、被着体に対する汚染の少ないものが求められている。 In recent years, with the spread of 3D displays (stereoscopic displays), there is a type in which an FPR (Film Patterned Retarder) film is bonded to the surface of an optical film such as a polarizing plate. After peeling off the surface protective film bonded to the surface of the optical film such as a polarizing plate, the FPR film is bonded. However, if the surface of an optical film such as a polarizing plate is contaminated with the pressure-sensitive adhesive or antistatic agent used for the surface protective film, there is a problem that the FPR film is difficult to adhere. For this reason, the surface protective film used for the purpose is required to have low contamination on the adherend.

また、いくつかの液晶パネルメーカーにおいては、表面保護フィルムの被着体に対する汚染性の評価方法として、偏光板等の光学用フィルムに貼合されている表面保護フィルムを一度剥がし、気泡を混入させた状態で再貼合したものを所定条件で加熱処理し、その後、表面保護フィルムを剥がして被着体の表面を観察する方法が採用されている。このような評価方法では、被着体の表面汚染が微量であっても、気泡を混入させた部分と、表面保護フィルムの粘着剤が接していた部分とで、被着体の表面汚染の差があると、気泡の跡（気泡ジミと言うこともある）として残る。そのため、被着体の表面に対する汚染性の評価方法としては、非常に厳しい評価方法となる。近年、こうした厳しい評価方法による判定の結果でも、被着体の表面に対する汚染性に問題がない表面保護フィルムが求められている。 In addition, some LCD panel manufacturers evaluate the contamination of the surface protective film on the adherend by peeling off the surface protective film pasted on the optical film, such as a polarizing plate, and introducing air bubbles. In this state, a heat treatment is performed on the re-bonded product under a predetermined condition, and then the surface protective film is peeled off and the surface of the adherend is observed. In such an evaluation method, even if the surface contamination of the adherend is very small, the difference in the surface contamination of the adherend between the part where the air bubbles are mixed and the part where the adhesive of the surface protective film is in contact with the adhesive is used. If there is, it remains as a mark of air bubbles (sometimes referred to as air bubble spots). Therefore, a very strict evaluation method is used as a method for evaluating contamination on the surface of the adherend. In recent years, there has been a demand for a surface protective film which does not have a problem in the contamination of the surface of the adherend even if the result of such a strict evaluation is used.

表面保護フィルムを、被着体である光学用フィルムから剥離する時に、剥離帯電圧が高いことに起因する不具合の発生を防止するため、剥離帯電圧を低く抑えるための、帯電防止剤を含む粘着剤層を用いた表面保護フィルムが、提案されている。 When the surface protective film is peeled off from the optical film as the adherend, in order to prevent the occurrence of a defect caused by a high peeling electrostatic voltage, an adhesive containing an antistatic agent for keeping the peeling electrostatic voltage low. A surface protective film using an agent layer has been proposed.

例えば、特許文献１には、アルキルトリメチルアンモニウム塩、水酸基含有アクリル系ポリマー、ポリイソシアネートからなる粘着剤を用いた、表面保護フィルムが開示されている。
また、特許文献２には、イオン性液体と酸価が１．０以下のアクリルポリマーからなる粘着剤組成物、及びそれを用いた粘着シート類が開示されている。
また、特許文献３には、アクリルポリマー、ポリエーテルポリオール化合物、アニオン吸着性化合物により処理したアルカリ金属塩からなる粘着剤組成物、及びそれを用いた表面保護フィルムが開示されている。
また、特許文献４には、イオン性液体、アルカリ金属塩、ガラス転移温度０℃以下のポリマーからなる粘着剤組成物、及びそれを用いた表面保護フィルムが開示されている。
また、特許文献５には、液体イオン塩を含有するポリマーからなる光学部材の表面保護シートに用いる粘着剤組成物、及び粘着シートが開示されている。 For example, Patent Document 1 discloses a surface protective film using an adhesive composed of an alkyltrimethylammonium salt, a hydroxyl group-containing acrylic polymer, and a polyisocyanate.
Patent Document 2 discloses a pressure-sensitive adhesive composition comprising an ionic liquid and an acrylic polymer having an acid value of 1.0 or less, and pressure-sensitive adhesive sheets using the same.
Patent Document 3 discloses a pressure-sensitive adhesive composition comprising an alkali metal salt treated with an acrylic polymer, a polyether polyol compound, and an anion-adsorbing compound, and a surface protective film using the same.
Patent Document 4 discloses a pressure-sensitive adhesive composition comprising an ionic liquid, an alkali metal salt, and a polymer having a glass transition temperature of 0 ° C. or lower, and a surface protective film using the same.
Patent Document 5 discloses a pressure-sensitive adhesive composition and a pressure-sensitive adhesive sheet used for a surface protection sheet of an optical member made of a polymer containing a liquid ionic salt.

特開２００５−１３１９５７号公報JP 2005-131957 A 特開２００５−３３０４６４号公報JP-A-2005-330364 特開２００５−３１４４７６号公報JP 2005-314476 A 特開２００６−１５２２３５号公報JP 2006-152235 A 特開２００８−０６９２６１号公報JP 2008-069261 A

上記の特許文献１〜５では、粘着剤層の内部に帯電防止剤が添加されている。しかし、粘着剤層の厚みが厚くなる程、また、被着体に貼り合せた後の経過時間が経つにつれて、表面保護フィルムの貼合された被着体に対して、粘着剤層から被着体へ移行する帯電防止剤の量が多くなる。被着体へ移行する帯電防止剤の量が多くなると、被着体である光学用フィルムの外観品位が低下したり、ＦＰＲフィルムを貼合する時に、ＦＰＲフィルムの接着性が低下する可能性がある。 In the above Patent Documents 1 to 5, an antistatic agent is added inside the pressure-sensitive adhesive layer. However, as the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer increases, and as the elapsed time after bonding to the adherend passes, the pressure-sensitive adhesive layer adheres to the adherend to which the surface protective film has been bonded. The amount of antistatic agent that migrates to the body increases. When the amount of the antistatic agent transferred to the adherend increases, the appearance quality of the optical film as the adherend may decrease or the adhesiveness of the FPR film may decrease when the FPR film is bonded. is there.

こうした、粘着剤層から被着体へ移行する帯電防止剤の経時的な増加を少なくするために、粘着剤層の厚みを薄くすると、別の問題が生じる。例えば、ギラツキ防止のためアンチグレア処理した偏光板など、表面に凹凸のある光学用フィルムに使用した場合に、光学用フィルム表面の凹凸に粘着剤層が追従できずに気泡が混入したり、光学用フィルムと粘着剤層との接着面積が減ることにより粘着力が低下し、使用中に表面保護フィルムが浮いたり剥がれたりする問題がある。 Another problem arises when the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is reduced in order to reduce the time-dependent increase of the antistatic agent transferred from the pressure-sensitive adhesive layer to the adherend. For example, when used for optical films with irregularities on the surface, such as polarizing plates that have been subjected to anti-glare treatment to prevent glare, bubbles may not be able to follow the irregularities on the surface of the optical film, and air bubbles may be mixed in. There is a problem that the adhesion area between the film and the pressure-sensitive adhesive layer is reduced so that the adhesive strength is reduced and the surface protective film floats or peels off during use.

このため、光学用フィルムに使用する表面保護フィルムであって、表面に凹凸がある光学用フィルムに対しても使用でき、被着体に対する汚染が非常に少なく、かつ、経時でも被着体に対する汚染が増加しない表面保護フィルムで、かつ、表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、剥離帯電圧を低く抑えた表面保護フィルムが求められている。 For this reason, it is a surface protective film used for an optical film, and can be used for an optical film having irregularities on its surface. There has been a demand for a surface protective film which does not increase and which has a low peeling voltage when peeling the surface protective film from an adherend.

本発明者らは、この課題について鋭意検討を行なった。
被着体に対する汚染が少なく、かつ汚染の経時的な増加を少なくするためには、被着体を汚染していると推測される粘着剤層内の帯電防止剤の成分を減量する必要がある。しかし、粘着剤層内の帯電防止剤の成分を減量した場合には、表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、剥離帯電圧が高くなってしまう。そこで、粘着剤層内の帯電防止剤の成分の絶対量を増加しないで、表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、剥離帯電圧を低く抑える方法について検討した。
その結果、基材フィルムの片面に、帯電防止剤を含有する粘着剤組成物を塗布・乾燥して粘着剤層を形成するのではなく、帯電防止剤を含有していない粘着剤組成物を塗工・乾燥して粘着剤層を積層した後に、粘着剤層の表面のみに、適量の帯電防止剤の成分を付与することにより、表面保護フィルムを、被着体である光学用フィルムから剥離する時の、剥離帯電圧を低く抑えることができることを見出し、本発明を完成した。 The present inventors have intensively studied this problem.
It is necessary to reduce the amount of the antistatic agent component in the pressure-sensitive adhesive layer which is presumed to be contaminating the adherend in order to reduce the contamination on the adherend and reduce the increase of the contamination over time. . However, when the component of the antistatic agent in the pressure-sensitive adhesive layer is reduced, the peeling voltage when peeling the surface protective film from the adherend increases. Therefore, a method of suppressing the peeling voltage when peeling the surface protective film from the adherend without increasing the absolute amount of the component of the antistatic agent in the pressure-sensitive adhesive layer was studied.
As a result, instead of applying and drying an adhesive composition containing an antistatic agent on one side of the base film to form an adhesive layer, an adhesive composition containing no antistatic agent is applied. After laminating and drying the pressure-sensitive adhesive layer, only a surface of the pressure-sensitive adhesive layer is applied with an appropriate amount of an antistatic agent component to peel off the surface protective film from the optical film as the adherend. The inventors have found that the peeling voltage at the time can be suppressed low, and have completed the present invention.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、表面に凹凸がある光学用フィルムに対しても使用でき、被着体に対する汚染が少なく、経時しても被着体に対する低汚染性が変わらない表面保護フィルムであって、且つ、経時劣化しないで優れた剥離帯電防止性能を有する表面保護フィルム、及びそれを用いた光学部品を提供することを課題とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and can be used even for an optical film having irregularities on its surface, and has low contamination to an adherend and low contamination to an adherend even with time. It is an object of the present invention to provide a surface protective film which does not change, and which has excellent anti-peeling antistatic performance without deterioration with time, and an optical component using the same.

上記の課題を解決するため、本発明の表面保護フィルムは、基材フィルムの片面に、帯電防止剤を含有していない粘着剤組成物を塗工・乾燥して粘着剤層を積層した後に、粘着剤層の表面に適量の帯電防止剤を付与することにより、被着体に対する汚染性を低く抑えた上、被着体である光学用フィルムから剥離する時の、剥離帯電圧を低く抑えることを技術思想としている。 In order to solve the above problems, the surface protective film of the present invention, on one side of the base film, after applying and drying an adhesive composition containing no antistatic agent and laminating the adhesive layer, By applying an appropriate amount of an antistatic agent to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, the contamination on the adherend can be kept low, and the peeling voltage when peeling from the optical film as the adherend can be kept low. Is a technical idea.

上記の課題を解決するため、本発明は、透明性を有する樹脂からなる基材フィルムの片面に、粘着剤層が形成された帯電防止表面保護フィルムの、前記粘着剤層の表面に、帯電防止剤を転写できる帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルムであって、前記帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルムが、樹脂フィルムの片面に、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、該剥離剤と反応しない帯電防止剤と、少なくとも１個以上のエーテル結合を含有するエステル系可塑剤とを含有する剥離剤層を積層してなり、前記帯電防止剤の成分が、融点が３０℃未満のイオン性化合物であり、前記帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルムを、前記剥離剤層を介して前記粘着剤層に貼り合せたときに、前記剥離剤層の前記帯電防止剤の成分と前記エステル系可塑剤とを前記粘着剤層の表面に転写できることを特徴とする帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルムを提供する。 In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides an antistatic surface protection film in which an adhesive layer is formed on one surface of a base film made of a transparent resin , A release film for an antistatic surface protective film capable of transferring an agent , wherein the release film for an antistatic surface protective film is formed on one surface of a resin film by reacting with a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component and the release agent. And a release agent layer containing at least one ester-based plasticizer containing at least one ether bond, wherein the component of the antistatic agent is an ionic compound having a melting point of less than 30 ° C. , and the said antistatic surface protecting film for a release film, when bonded to the adhesive layer through the release agent layer, before and components of the antistatic agent of the release agent layer Providing antistatic surface protecting film for a release film, characterized in that it transfer the ester plasticizer to the surface of the adhesive layer.

また、前記粘着剤層が、（メタ）アクリレート共重合体と、架橋剤と、を含有する粘着剤組成物を架橋させてなることが好ましい。 Further, it is preferable that the pressure-sensitive adhesive layer is formed by crosslinking a pressure-sensitive adhesive composition containing a (meth) acrylate copolymer and a crosslinking agent.

また、前記エステル系可塑剤が、ジエチレングリコールジ−２−エチルヘキソネート、テトラエチレングリコールジ−２−エチルヘキソネート、ヘキサエチレングリコールジ−２−エチルヘキソネート、トリエチレングリコールジエチルブチレート、ポリエチレングリコールジエチルブチレート、ポリプロピレングリコールジエチルヘキソネート、トリエチレングリコールジベンゾエート、テトラエチレングリコールジベンゾエート、ポリエチレングリコールジベンゾエート、ポリプロピレングリコールジベンゾエート、及びポリエチレングリコール−２−エチルヘキソネートベンゾエートからなる群から選択された１種以上であることが好ましい。 Further, the ester plasticizer is diethylene glycol di-2-ethylhexonate, tetraethylene glycol di-2-ethylhexonate, hexaethylene glycol di-2-ethylhexonate, triethylene glycol diethyl butyrate, From the group consisting of polyethylene glycol diethyl butyrate, polypropylene glycol diethylhexonate, triethylene glycol dibenzoate, tetraethylene glycol dibenzoate, polyethylene glycol dibenzoate, polypropylene glycol dibenzoate, and polyethylene glycol-2-ethylhexonate benzoate It is preferable that one or more types are selected .

また、本発明は、透明性を有する樹脂からなる基材フィルムの片面に、粘着剤層が形成された帯電防止表面保護フィルムの、前記粘着剤層の表面に、上記の帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルムが、貼合されてなる光学フィルム用の表面保護フィルムを提供する。 Further, the present invention provides an antistatic surface protective film having a pressure-sensitive adhesive layer formed on one surface of a substrate film made of a resin having transparency, on the surface of the adhesive layer, the above-described antistatic surface protective film. Provided is a surface protective film for an optical film to which a release film is attached.

本発明の表面保護フィルムは、被着体に対する汚染が少なく、経時しても被着体に対する低汚染性が変わらない。また、本発明の表面保護フィルムは、被着体が、ＡＧ偏光板などの表面に凹凸がある光学用フィルムであっても、使用できる。また、本発明によれば、被着体である光学用フィルムから剥離する時に発生する剥離帯電圧を低く抑えることができ、経時劣化しないで優れた剥離帯電防止性能を有する表面保護フィルム、及びそれを用いた光学部品を提供できる。
本発明の表面保護フィルムによれば、光学用フィルムの表面を確実に保護することができるから、生産性の向上と歩留まりの向上を図ることができる。 The surface protective film of the present invention causes less contamination to the adherend, and does not change the low-contamination property to the adherend over time. Further, the surface protective film of the present invention can be used even if the adherend is an optical film having irregularities on the surface such as an AG polarizing plate. Further, according to the present invention, a surface protection film which can suppress a peeling electrostatic voltage generated when peeling from an optical film as an adherend and has excellent peeling antistatic performance without deterioration over time, and An optical component using the same can be provided.
According to the surface protective film of the present invention, since the surface of the optical film can be reliably protected, it is possible to improve the productivity and the yield.

本発明の表面保護フィルムの、概念を示した断面図である。It is sectional drawing which showed the concept of the surface protective film of this invention. 本発明の表面保護フィルムから、剥離フィルムを剥がした状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which peeled the release film from the surface protective film of this invention. 本発明の光学部品の、実施例の１つを示した断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing one of the examples of the optical component of the present invention.

以下、実施の形態に基づいて、本発明を詳しく説明する。
図１は、本発明の表面保護フィルムの、概念を示した断面図である。この表面保護フィルム１０は、透明な基材フィルム１の片面の表面に、粘着剤層２が形成されている。この粘着剤層２の表面には、樹脂フィルム３の表面に剥離剤層４が形成された剥離フィルム５が、貼合されている。 Hereinafter, the present invention will be described in detail based on embodiments.
FIG. 1 is a sectional view showing the concept of the surface protective film of the present invention. The surface protective film 10 has a transparent base film 1 on one surface of which a pressure-sensitive adhesive layer 2 is formed. A release film 5 in which a release agent layer 4 is formed on the surface of the resin film 3 is bonded to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2.

本発明に係わる表面保護フィルム１０に使用される基材フィルム１としては、透明性及び可撓性を有する樹脂からなる基材フィルムが用いられる。これにより、表面保護フィルムを、被着体である光学部品に貼合した状態で、光学部品の外観検査を行うことができる。基材フィルム１として用いる透明性を有する樹脂からなるフィルムは、好適には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステルフィルムが用いられる。ポリエステルフィルムのほか、必要な強度を有し、かつ光学適性を有するものであれば、他の樹脂からなるフィルムも使用可能である。基材フィルム１は、無延伸フィルムであっても、一軸または二軸延伸されたフィルムであってもよい。また、延伸フィルムの延伸倍率や、延伸フィルムの結晶化に伴い形成される軸方向の配向角度を、特定の値に制御してもよい。
本発明に係わる表面保護フィルム１０に使用される基材フィルム１の厚みは、特に限定はないが、例えば、１２〜１００μｍ程度の厚みが好ましく、２０〜５０μｍ程度の厚みであれば取り扱い易く、より好ましい。
また、必要に応じて、基材フィルム１の粘着剤層２が形成された面の反対側の面に、表面の汚れを防止する防汚層、帯電防止層、傷つき防止のハードコート層などを設けることができる。また、基材フィルム１の表面に、コロナ放電による表面改質、アンカーコート剤の塗付などの易接着処理を施してもよい。 As the base film 1 used for the surface protection film 10 according to the present invention, a base film made of a resin having transparency and flexibility is used. Thus, the appearance inspection of the optical component can be performed in a state where the surface protection film is bonded to the optical component as the adherend. As the film made of a resin having transparency used as the base film 1, a polyester film such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene isophthalate, and polybutylene terephthalate is preferably used. In addition to the polyester film, a film made of another resin can be used as long as it has the necessary strength and optical suitability. The base film 1 may be a non-stretched film or a uniaxially or biaxially stretched film. Further, the stretching ratio of the stretched film and the orientation angle in the axial direction formed along with the crystallization of the stretched film may be controlled to specific values.
The thickness of the base film 1 used for the surface protective film 10 according to the present invention is not particularly limited, but is, for example, preferably about 12 to 100 μm, and is easy to handle if it is about 20 to 50 μm. preferable.
If necessary, an antifouling layer for preventing surface dirt, an antistatic layer, a hard coat layer for preventing scratching, and the like are provided on the surface of the base film 1 opposite to the surface on which the pressure-sensitive adhesive layer 2 is formed. Can be provided. Further, the surface of the base film 1 may be subjected to an easy adhesion treatment such as surface modification by corona discharge, application of an anchor coat agent, and the like.

また、本発明に係わる表面保護フィルム１０に使用される粘着剤層２は、被着体の表面に接着し、用済み後に簡単に剥がすことができ、かつ、被着体を汚染しにくい粘着剤であれば特に限定されるものではないが、光学用フィルムに貼合後の耐久性などを考慮すると、（メタ）アクリレート共重合体を架橋させてなる粘着剤を用いるのが一般的である。 The pressure-sensitive adhesive layer 2 used in the surface protection film 10 according to the present invention adheres to the surface of the adherend, can be easily peeled off after use, and hardly contaminates the adherend. If it is not particularly limited, an adhesive formed by crosslinking a (meth) acrylate copolymer is generally used in consideration of durability after bonding to an optical film.

（メタ）アクリレート共重合体としては、ｎ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、イソノニルアクリレートなどの主モノマーと、アクリロニトリル、酢酸ビニル、メチルメタクリレート、エチルアクリレートなどのコモノマー、アクリル酸、メタクリル酸、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシブチルアクリレート、グリシジルメタクリレート、Ｎ−メチロールメタクリルアミドなどの官能性モノマー、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート等のポリオキシアルキレン基を含有するモノマーを共重合した共重合体を挙げることができる。（メタ）アクリレート共重合体は、主モノマー及び他のモノマーがすべて（メタ）アクリレートであってもよく、主モノマー以外の他のモノマーとして、（メタ）アクリレート以外のモノマーを１種又は２種以上含んでもよい。主モノマー以外の他のモノマーは、上記のコモノマー、官能性モノマー、ポリオキシアルキレン基を含有するモノマーなどから特に限定することなく選択できる。 As the (meth) acrylate copolymer, main monomers such as n-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, isooctyl acrylate and isononyl acrylate, and comonomers such as acrylonitrile, vinyl acetate, methyl methacrylate and ethyl acrylate, acrylic acid, Methacrylic acid, hydroxyethyl acrylate, hydroxybutyl acrylate, glycidyl methacrylate, a functional monomer such as N-methylol methacrylamide, a copolymer obtained by copolymerizing a monomer containing a polyoxyalkylene group such as methoxypolyethylene glycol methacrylate. it can. In the (meth) acrylate copolymer, the main monomer and the other monomers may be all (meth) acrylates, and as the other monomer other than the main monomer, one or more monomers other than the (meth) acrylate May be included. The monomer other than the main monomer can be selected without particular limitation from the above comonomers, functional monomers, monomers containing a polyoxyalkylene group, and the like.

粘着剤層２に添加する硬化剤としては、（メタ）アクリレート共重合体を架橋させる架橋剤として、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、メラミン化合物、金属キレート化合物などが挙げられる。また、粘着付与剤としては、ロジン系、クマロンインデン系、テルペン系、石油系、フェノール系などが挙げられる。 Examples of the curing agent to be added to the pressure-sensitive adhesive layer 2 include an isocyanate compound, an epoxy compound, a melamine compound, and a metal chelate compound as a crosslinking agent for crosslinking the (meth) acrylate copolymer. Examples of the tackifier include rosin, coumarone indene, terpene, petroleum, and phenol.

本発明に係わる表面保護フィルム１０に使用される粘着剤層２の厚みは、特に限定はないものの、例えば、５〜４０μｍ程度の厚みが好ましく、１０〜３０μｍ程度の厚みがより好ましい。また、表面保護フィルムの、被着体の表面に対する剥離強度（粘着力）が、０．０３〜０．３Ｎ／２５ｍｍ程度の、微粘着力を有する粘着剤層２であることが、被着体から表面保護フィルムを剥がす時の操作性に優れることから好ましい。また、表面保護フィルム１０から剥離フィルム５を剥がす時の操作性に優れることから、剥離フィルム５を、粘着剤層２から剥離するときの剥離力が、０．２Ｎ／５０ｍｍ以下であることが好ましく、０．１４Ｎ／５０ｍｍ以下であることがより好ましい。 The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 2 used in the surface protective film 10 according to the present invention is not particularly limited, but is preferably, for example, about 5 to 40 μm, and more preferably about 10 to 30 μm. In addition, the pressure-sensitive adhesive layer 2 having a slight adhesive force with a peel strength (adhesive force) of the surface protective film to the surface of the adherend of about 0.03 to 0.3 N / 25 mm is considered. It is preferable because of excellent operability when peeling the surface protective film from. In addition, since the operability when peeling the release film 5 from the surface protective film 10 is excellent, the peeling force when the release film 5 is peeled from the pressure-sensitive adhesive layer 2 is preferably 0.2 N / 50 mm or less. , 0.14 N / 50 mm or less.

また、本発明に係わる表面保護フィルム１０に使用される剥離フィルム５は、樹脂フィルム３の片面に、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、該剥離剤と反応しない帯電防止剤と、少なくとも１個以上のエーテル結合を含有するエステル系可塑剤とを含有する剥離剤層４が積層されている。本発明に係わる表面保護フィルムに使用される剥離フィルムにおいては、前記帯電防止剤の成分が、融点が３０℃未満のイオン性化合物であることが好ましい。 Further, the release film 5 used for the surface protective film 10 according to the present invention includes, on one surface of the resin film 3, a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, an antistatic agent that does not react with the release agent, A release agent layer 4 containing at least one ester plasticizer containing an ether bond is laminated. In the release film used for the surface protective film according to the present invention, the component of the antistatic agent is preferably an ionic compound having a melting point of less than 30 ° C.

樹脂フィルム３としては、ポリエステルフィルム、ポリアミドフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリイミドフィルムなどが挙げられるが、透明性に優れていることや価格が比較的に安価であることから、ポリエステルフィルムが特に好ましい。樹脂フィルムは、無延伸フィルムであっても、一軸または二軸延伸されたフィルムであってもよい。また、延伸フィルムの延伸倍率や、延伸フィルムの結晶化に伴い形成される軸方向の配向角度を、特定の値に制御してもよい。
樹脂フィルム３の厚みは、特に限定はないが、例えば、１２〜１００μｍ程度の厚みが好ましく、１６〜５０μｍ程度の厚みであれば取り扱い易く、より好ましい。
また、必要に応じて、樹脂フィルム３の表面に、コロナ放電による表面改質、アンカーコート剤の塗付などの易接着処理を施してもよい。 Examples of the resin film 3 include a polyester film, a polyamide film, a polyethylene film, a polypropylene film, and a polyimide film, and a polyester film is particularly preferable because of its excellent transparency and relatively low price. . The resin film may be a non-stretched film or a uniaxially or biaxially stretched film. Further, the stretching ratio of the stretched film and the orientation angle in the axial direction formed along with the crystallization of the stretched film may be controlled to specific values.
Although the thickness of the resin film 3 is not particularly limited, for example, a thickness of about 12 to 100 μm is preferable, and a thickness of about 16 to 50 μm is easy to handle and more preferable.
Further, if necessary, the surface of the resin film 3 may be subjected to an easy adhesion treatment such as surface modification by corona discharge or application of an anchor coat agent.

剥離剤層４を構成するジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤には、付加反応型、縮合反応型、カチオン重合型、ラジカル重合型などの、公知のシリコーン系剥離剤が挙げられる。付加反応型シリコーン系剥離剤として市販されている製品には、例えば、ＫＳ−７７６Ａ、ＫＳ−８４７Ｔ、ＫＳ−７７９Ｈ、ＫＳ−８３７、ＫＳ−７７８、ＫＳ−８３０（信越化学工業（株）製）、ＳＲＸ−２１１、ＳＲＸ−３４５、ＳＲＸ−３５７、ＳＤ７３３３、ＳＤ７２２０、ＳＤ７２２３、ＬＴＣ−３００Ｂ、ＬＴＣ−３５０Ｇ、ＬＴＣ−３１０（東レダウコーニング（株）製）などが挙げられる。縮合反応型として市販されている製品には、例えば、ＳＲＸ−２９０、ＳＹＬＯＦＦ−２３（東レダウコーニング（株）製）などが挙げられる。カチオン重合型として市販されている製品には、例えば、ＴＰＲ−６５０１、ＴＰＲ−６５００、ＵＶ９３００、ＶＵ９３１５、ＵＶ９４３０（モメンティブ・パーフォーマンス・マテリアルズ社製）、Ｘ６２−７６２２（信越化学工業（株）製）などが挙げられる。ラジカル重合型として市販されている製品には、例えば、Ｘ６２−７２０５（信越化学工業（株）製）などが挙げられる。 Examples of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component of the release agent layer 4 include known silicone release agents such as an addition reaction type, a condensation reaction type, a cationic polymerization type, and a radical polymerization type. Products commercially available as addition-reaction type silicone release agents include, for example, KS-776A, KS-847T, KS-779H, KS-837, KS-778, and KS-830 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). , SRX-211, SRX-345, SRX-357, SD7333, SD7220, SD7223, LTC-300B, LTC-350G, LTC-310 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.). Examples of commercially available products of the condensation reaction type include SRX-290 and SYLOFF-23 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.). Commercially available products of the cationic polymerization type include, for example, TPR-6501, TPR-6500, UV9300, VU9315, UV9430 (manufactured by Momentive Performance Materials, Inc.), X62-7622 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) ). Examples of products commercially available as a radical polymerization type include X62-7205 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).

剥離剤層４を構成する帯電防止剤としては、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤溶液に対して分散性の良いもので、かつ、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の硬化を阻害しないものが好ましい。また、剥離剤層４から粘着剤層２の表面に転写して、粘着剤層２に帯電防止の機能を付与するため、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と反応しない帯電防止剤が良い。こうした帯電防止剤としては、融点が３０℃未満であるイオン性化合物が好適である。 The antistatic agent constituting the release agent layer 4 has a good dispersibility in a release agent solution containing dimethylpolysiloxane as a main component and inhibits curing of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component. Those that do not are preferred. Further, an antistatic agent which does not react with a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component is preferable in order to transfer from the release agent layer 4 to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 and to provide the pressure-sensitive adhesive layer 2 with an antistatic function. . As such an antistatic agent, an ionic compound having a melting point of less than 30 ° C. is suitable.

融点が３０℃未満のイオン性化合物としては、カチオンとアニオンを有するイオン性化合物であって、カチオンが、イミダゾリウムイオンなどの環状アミジンイオン、ピリジニウムイオン、アンモニウムイオン、スルホニウムイオン、ホスホニウムイオン等が挙げられる。また、アニオンとしては、Ｃ_ｎＨ_２ｎ＋１ＣＯＯ⁻、Ｃ_ｎＦ_２ｎ＋１ＣＯＯ⁻、ＮＯ_３ ⁻、Ｃ_ｎＦ_２ｎ＋１ＳＯ_３ ⁻、（Ｃ_ｎＦ_２ｎ＋１ＳＯ_２）_２Ｎ⁻、（Ｃ_ｎＦ_２ｎ＋１ＳＯ_２）_３Ｃ⁻、ＰＯ_４ ^３−、ＡｌＣｌ_４ ⁻、Ａｌ_２Ｃｌ_７ ⁻、ＣｌＯ_４ ⁻、ＢＦ_４ ⁻、ＰＦ_６ ⁻、ＡｓＦ_６ ⁻、ＳｂＦ_６ ⁻等が挙げられる。
ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤に対する帯電防止剤の添加量は、帯電防止剤の種類や、剥離剤との親和性の度合いにより異なる。帯電防止剤の添加量は、表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、望まれる剥離帯電圧、被着体に対する汚染性、粘着特性などを考慮して設定すればよい。 Examples of the ionic compound having a melting point of less than 30 ° C. include ionic compounds having a cation and an anion, wherein the cation includes a cyclic amidine ion such as an imidazolium ion, a pyridinium ion, an ammonium ion, a sulfonium ion, a phosphonium ion, and the like. Can be As the _{_{^{_{anion, C n H 2n + 1 COO}}}} -, C n F 2n + 1 COO -, NO 3 -, C n F 2n + 1 SO 3 -, (C n F 2n + 1 SO 2) 2 N -, (C n F 2n + 1 SO _{_{^{_{^{2) 3 C -, PO 4}}}}} 3-, AlCl 4 -, Al 2 Cl 7 -, ClO 4 -, BF 4 -, PF 6 -, AsF 6 -, SbF 6 - , and the like.
The amount of the antistatic agent added to the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component differs depending on the type of the antistatic agent and the degree of affinity with the release agent. The amount of the antistatic agent to be added may be set in consideration of a desired peeling voltage, a stain on the adherend, an adhesive property, and the like when the surface protective film is peeled from the adherend.

剥離剤層４を構成する少なくとも１個以上のエーテル結合を含有するエステル系可塑剤は、粘着剤層２の表面の帯電防止性を向上するために用いられる。剥離剤層４に含まれる可塑剤としては、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤溶液に対して分散性の良い可塑剤が好ましい。かつ、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の硬化を阻害しない可塑剤が好ましい。また、可塑剤は、剥離剤層４に含まれる帯電防止剤が、剥離剤層４から粘着剤層２の表面に移行することを補助する役割を果たしている。このため、可塑剤は、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、反応しないものが良い。こうした可塑剤としては、分子中に少なくとも１個以上のエーテル結合を有するエステル系可塑剤が好適である。 The ester plasticizer containing at least one or more ether bonds constituting the release agent layer 4 is used for improving the antistatic property of the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2. As the plasticizer contained in the release agent layer 4, a plasticizer having good dispersibility in a release agent solution containing dimethylpolysiloxane as a main component is preferable. Further, a plasticizer that does not inhibit the curing of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component is preferable. Further, the plasticizer plays a role of assisting the migration of the antistatic agent contained in the release agent layer 4 from the release agent layer 4 to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2. For this reason, it is preferable that the plasticizer does not react with the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component. As such a plasticizer, an ester plasticizer having at least one ether bond in a molecule is preferable.

エステル系可塑剤中の、分子中に存在する少なくとも１個以上のエーテル結合は、帯電防止剤との親和性を高めるために必要である。また、本発明に係わる表面保護フィルムにおいて、剥離剤層と粘着剤層が接触した時に、帯電防止剤の成分を、剥離剤層から粘着剤層の表面に、効率よく転写させるために可塑剤を用いている。本発明では、剥離剤層と粘着剤層との親和性を高めるため、エステル基を有した可塑剤が、好適となる。 At least one or more ether bonds present in the molecule in the ester-based plasticizer are necessary to increase the affinity with the antistatic agent. Further, in the surface protective film according to the present invention, when the release agent layer and the pressure-sensitive adhesive layer are in contact, the component of the antistatic agent, from the release agent layer to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, a plasticizer for efficient transfer. Used. In the present invention, a plasticizer having an ester group is suitable for increasing the affinity between the release agent layer and the pressure-sensitive adhesive layer.

上記の、分子中に少なくとも１個以上のエーテル結合を有するエステル系可塑剤としては、例えば、ジエチレングリコールジ−２−エチルヘキソネート、テトラエチレングリコールジ−２−エチルヘキソネート、ヘキサエチレングリコールジ−２−エチルヘキソネート、トリエチレングリコールジエチルブチレート、ポリエチレングリコールジエチルブチレート、ポリプロピレングリコールジエチルヘキソネート、トリエチレングリコールジベンゾエート、テトラエチレングリコールジベンゾエート、ポリエチレングリコールジベンゾエート、ポリプロピレングリコールジベンゾエート、またはポリエチレングリコール−２−エチルヘキソネートベンゾエートなどが挙げられる。これらのエステル系可塑剤群の中から選択した１種、または２種以上が混合して用いられる。ここで、エチルヘキソネートは、エチルヘキサノエート（ethylhexanoate）、エチルヘキソエート（ethylhexoate）、エチルヘキサン酸エステル等ともいう。ベンゾエート（benzoate）は、安息香酸エステルを意味する。 Examples of the ester plasticizer having at least one ether bond in the molecule include diethylene glycol di-2-ethylhexonate, tetraethylene glycol di-2-ethylhexonate, and hexaethylene glycol di- -2-ethylhexonate, triethylene glycol diethyl butyrate, polyethylene glycol diethyl butyrate, polypropylene glycol diethylhexonate, triethylene glycol dibenzoate, tetraethylene glycol dibenzoate, polyethylene glycol dibenzoate, polypropylene glycol dibenzoate, Or polyethylene glycol-2-ethylhexonate benzoate. One selected from these ester-based plasticizers, or a mixture of two or more thereof is used. Here, the ethylhexonate is also referred to as ethylhexanoate, ethylhexoate, ethylhexanoate, or the like. Benzoate means benzoate.

ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤に対するエステル系可塑剤の添加量は、可塑剤の種類や、剥離剤との親和性の度合いにより異なるが、表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、望まれる剥離帯電圧、被着体に対する汚染性、粘着特性などを考慮して設定すればよい。 The amount of the ester-based plasticizer to be added to the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component varies depending on the type of the plasticizer and the degree of affinity with the release agent. It may be set in consideration of a desired peeling voltage, contamination to an adherend, adhesive properties, and the like.

ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、帯電防止剤およびエステル系可塑剤との混合方法には、特に限定はない。ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤に、帯電防止剤およびエステル系可塑剤を添加して、混合した後に剥離剤硬化用の触媒を添加・混合する方法、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤を、あらかじめ有機溶剤で希釈したのちに帯電防止剤およびエステル系可塑剤と剥離剤硬化用の触媒を添加、混合する方法、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤をあらかじめ有機溶剤に希釈後、触媒を添加・混合し、その後帯電防止剤とエステル系可塑剤を添加、混合する方法など、いずれの方法でも良い。また、必要に応じて、シランカップリング剤などの密着向上剤やポリオキシアルキレン基を含有する化合物などの帯電防止効果を補助する材料、を添加しても良い。 The method of mixing the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component with the antistatic agent and the ester plasticizer is not particularly limited. A method in which an antistatic agent and an ester plasticizer are added to a dimethylpolysiloxane-based release agent, mixed, and then a catalyst for curing the release agent is added and mixed. A method of adding and mixing an antistatic agent and an ester plasticizer and a catalyst for releasing agent curing after diluting the agent in advance with an organic solvent, and then diluting the releasing agent containing dimethylpolysiloxane as a main component into the organic solvent in advance. And a method of adding and mixing a catalyst, and then adding and mixing an antistatic agent and an ester-based plasticizer. If necessary, a material for assisting the antistatic effect such as an adhesion improver such as a silane coupling agent or a compound containing a polyoxyalkylene group may be added.

ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、帯電防止剤およびエステル系可塑剤との混合比率は、特に限定はないが、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の固形分１００に対して、帯電防止剤およびエステル系可塑剤の合計を固形分として５〜１００程度の割合が好ましい。帯電防止剤およびエステル系可塑剤の合計の固形分換算の添加量が、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の固形分１００に対して５の割合より少ないと、粘着剤層の表面への帯電防止剤およびエステル系可塑剤の転写量も少なくなり、粘着剤に帯電防止の機能が発揮され難くなる。また、帯電防止剤およびエステル系可塑剤の合計の固形分換算の添加量が、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の固形分１００に対して１００の割合を越えると、帯電防止剤およびエステル系可塑剤とともにジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤も、粘着剤層の表面に転写されてしまうため、粘着剤の粘着特性を低下させる可能性がある。 The mixing ratio of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component and the antistatic agent and the ester-based plasticizer is not particularly limited. The ratio of the total of the antistatic agent and the ester plasticizer to the solid content is preferably about 5 to 100. If the total amount of the antistatic agent and the ester-based plasticizer in terms of solid content is less than 5 relative to 100 of the solid content of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, the pressure-sensitive adhesive layer surface The transfer amount of the antistatic agent and the ester-based plasticizer is also reduced, and it becomes difficult for the pressure-sensitive adhesive to exhibit the antistatic function. When the total amount of the antistatic agent and the ester-based plasticizer in terms of solid content exceeds 100 relative to the solid content of 100 of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, the antistatic agent and the ester A release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component together with the system plasticizer is also transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, and thus may degrade the pressure-sensitive adhesive properties of the pressure-sensitive adhesive.

本発明に係わる表面保護フィルム１０の基材フィルム１に、粘着剤層２を形成する方法、及び剥離フィルム５を貼合する方法は、公知の方法で行えばよく、特に限定されない。具体的には、（１）基材フィルム１の片面に、粘着剤層２を形成するための樹脂組成物を塗布、乾燥し、粘着剤層を形成した後に、剥離フィルム５を貼合する方法、（２）剥離フィルム５の表面に、粘着剤層２を形成するための樹脂組成物を塗布・乾燥し、粘着剤層を形成した後に、基材フィルム１を貼合する方法などが挙げられるが、いずれの方法を用いても良い。 The method for forming the pressure-sensitive adhesive layer 2 and the method for laminating the release film 5 on the base film 1 of the surface protective film 10 according to the present invention may be performed by a known method, and are not particularly limited. Specifically, (1) a method in which a resin composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 2 is applied to one surface of the base film 1 and dried to form a pressure-sensitive adhesive layer, and then a release film 5 is bonded. And (2) a method of applying and drying a resin composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 2 on the surface of the release film 5, forming a pressure-sensitive adhesive layer, and then bonding the base film 1 to the surface. However, any method may be used.

また、基材フィルム１の表面に、粘着剤層２を形成するのは、公知の方法で行えばよい。具体的には、リバースコーティング、コンマコーティング、グラビアコーティング、スロットダイコーティング、メイヤーバーコーティング、エアーナイフコーティングなどの、公知の塗工方法を使用することができる。 The formation of the pressure-sensitive adhesive layer 2 on the surface of the base film 1 may be performed by a known method. Specifically, known coating methods such as reverse coating, comma coating, gravure coating, slot die coating, Meyer bar coating, and air knife coating can be used.

また、同様に、樹脂フィルム３に、剥離剤層４を形成するのは、公知の方法で行えばよい。具体的には、グラビアコーティング、メイヤーバーコーティング、エアーナイフコーティングなどの、公知の塗工方法を使用することができる。 Similarly, the release agent layer 4 may be formed on the resin film 3 by a known method. Specifically, known coating methods such as gravure coating, Meyer bar coating, and air knife coating can be used.

上記の構成を有する、本発明に係わる表面保護フィルム１０は、被着体である光学用フィルムから粘着剤層を剥離する際の表面電位が、＋０．７ｋＶ〜−０．７ｋＶであることが好ましい。さらに、表面電位が、＋０．５ｋＶ〜−０．５ｋＶであることがより好ましく、表面電位が、＋０．１ｋＶ〜−０．１ｋＶであることが特に好ましい。この表面電位は、剥離剤層に含有される帯電防止剤およびエステル系可塑剤の種類、添加量等を加減することによって調整できる。 In the surface protective film 10 according to the present invention having the above configuration, the surface potential when the pressure-sensitive adhesive layer is peeled off from the optical film as the adherend is preferably +0.7 kV to -0.7 kV. . Further, the surface potential is more preferably from +0.5 kV to -0.5 kV, and particularly preferably from +0.1 kV to -0.1 kV. This surface potential can be adjusted by adjusting the types and amounts of the antistatic agent and the ester plasticizer contained in the release agent layer.

図２は、本発明の表面保護フィルムから、剥離フィルムを剥がした状態を示す断面図である。
図１に示した表面保護フィルム１０から、剥離フィルム５を剥がすことにより、剥離フィルム５の剥離剤層４に含まれる帯電防止剤およびエステル系可塑剤（符号７）の一部が、表面保護フィルム１０の粘着剤層２の表面に、転写される（付着する）。そのため、図２においては、剥離フィルムを剥がした状態の表面保護フィルム１１の粘着剤層２の表面に転写された帯電防止剤およびエステル系可塑剤を、符号７の斑点で模式的に示している。帯電防止剤およびエステル系可塑剤の成分７が、剥離フィルム５から粘着剤層２の表面に転写されることにより、転写する前の粘着剤層２に比べて、粘着剤層２を被着体から剥離するときの剥離帯電圧が低減される。なお、粘着剤層を被着体から剥離する際の剥離帯電圧は、公知の方法で測定可能である。例えば、表面保護フィルムを偏光板などの被着体に貼り合せた後、高速剥離試験機（テスター産業製）を用いて毎分４０ｍの剥離速度で表面保護フィルムを剥離しながら、被着体表面の表面電位を、表面電位計（キーエンス（株）製）を用いて１０ｍｓ毎に測定したときの、表面電位の絶対値の最大値を、剥離帯電圧（ｋＶ）として測定する。
本発明に係わる表面保護フィルムでは、図２に示した剥離フィルムを剥がした状態の表面保護フィルム１１を、被着体に貼合するに当たり、この粘着剤層２の表面に転写された、帯電防止剤およびエステル系可塑剤が、被着体の表面に接触する。そのことにより、再度、被着体から表面保護フィルムを剥がす時の、剥離帯電圧を低く抑えることができる。 FIG. 2 is a cross-sectional view showing a state where a release film is peeled off from the surface protective film of the present invention.
By peeling the release film 5 from the surface protective film 10 shown in FIG. 1, a part of the antistatic agent and the ester-based plasticizer (symbol 7) contained in the release agent layer 4 of the release film 5 become It is transferred (attached) to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 of No. 10. Therefore, in FIG. 2, the antistatic agent and the ester-based plasticizer transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 of the surface protective film 11 in a state where the release film is peeled off are schematically shown by spots of reference numeral 7. . The component 7 of the antistatic agent and the ester-based plasticizer is transferred from the release film 5 to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2, so that the pressure-sensitive adhesive layer 2 is adhered to the adhesive layer 2 before the transfer. The peeling voltage at the time of peeling from the substrate is reduced. The peeling voltage at the time of peeling the pressure-sensitive adhesive layer from the adherend can be measured by a known method. For example, after bonding the surface protective film to an adherend such as a polarizing plate, the surface protective film is peeled off at a peeling speed of 40 m / min using a high-speed peeling tester (manufactured by Tester Sangyo). Is measured every 10 ms using a surface potentiometer (manufactured by Keyence Corporation), and the maximum value of the absolute value of the surface potential is measured as a peeling voltage (kV).
In the surface protective film according to the present invention, when the surface protective film 11 in a state where the release film shown in FIG. 2 is peeled off is bonded to the adherend, the antistatic transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 The agent and the ester plasticizer come into contact with the surface of the adherend. Thereby, the peeling electrostatic voltage when the surface protective film is peeled off from the adherend again can be suppressed low.

図３は、本発明の光学部品の実施例を示した断面図である。
本発明の表面保護フィルム１０から、剥離フィルム５が剥がされて、粘着剤層２が表出した状態で、その粘着剤層２を介して被着体である光学部品８に貼合される。
すなわち、図３には、本発明の表面保護フィルム１１が貼合された光学部品２０を示している。光学部品としては、偏光板、位相差板、レンズフィルム、位相差板兼用の偏光板、レンズフィルム兼用の偏光板などの光学用フィルムが挙げられる。このような光学部品は、液晶表示パネルなどの液晶表示装置、各種計器類の、光学系装置等の構成部材として使用される。また、光学部品としては、反射防止フィルム、ハードコートフィルム、タッチパネル用透明導電性フィルムなどの、光学用フィルムも挙げられる。
本発明の光学部品によれば、表面保護フィルム１１を、被着体である光学部品（光学用フィルム）から剥離除去するとき、剥離帯電圧を充分に低く抑制することができる。そのため、ドライバーＩＣ、ＴＦＴ素子、ゲート線駆動回路などの回路部品を破壊する恐れがなく、液晶表示パネル等を製造する工程での生産効率を高め、生産工程の信頼性を保つことができる。 FIG. 3 is a sectional view showing an embodiment of the optical component of the present invention.
In a state where the release film 5 is peeled off from the surface protective film 10 of the present invention and the pressure-sensitive adhesive layer 2 is exposed, the pressure-sensitive adhesive layer 2 is bonded to the optical component 8 as an adherend via the pressure-sensitive adhesive layer 2.
That is, FIG. 3 shows an optical component 20 to which the surface protective film 11 of the present invention has been bonded. Examples of the optical component include optical films such as a polarizing plate, a retardation plate, a lens film, a polarizing plate also serving as a retardation plate, and a polarizing plate also serving as a lens film. Such an optical component is used as a constituent member of a liquid crystal display device such as a liquid crystal display panel and an optical system device of various instruments. Examples of the optical component include optical films such as an antireflection film, a hard coat film, and a transparent conductive film for a touch panel.
According to the optical component of the present invention, when the surface protective film 11 is peeled off from the optical component (optical film) as an adherend, the peeling electrostatic voltage can be suppressed sufficiently low. Therefore, there is no possibility that circuit components such as a driver IC, a TFT element, and a gate line driving circuit will be destroyed, and the production efficiency in the process of manufacturing a liquid crystal display panel and the like can be increased, and the reliability of the production process can be maintained.

次に、実施例により、本発明をさらに説明する。
（実施例１）
（表面保護フィルムの作製）
付加反応型のシリコーン（東レダウコーニング（株）製、品名：ＳＲＸ−３４５）５重量部、融点が２７．５℃のイオン性化合物であるトリ−ｎ−ブチルメチルアンモニウムビストリフルオロメタンスルホンイミド（スリーエム社製ＦＣ−４４００）１０％酢酸エチル溶液７．５重量部、テトラエチレングリコールジ−２−エチルヘキソネート０．７５重量部、トルエンと酢酸エチルの１：１の混合溶媒９５重量部、白金触媒（東レダウコーニング（株）製、品名：ＳＲＸ−２１２）０．０５重量部を混ぜ合わせて撹拌・混合して、実施例１の剥離剤層を形成する塗料を調整した。厚みが３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、実施例１の剥離剤層を形成する塗料を、乾燥後の厚みが０．２μｍになるようにメイヤーバーにて塗布し、１２０℃の熱風循環式オーブンにて１分間乾燥し、実施例１の剥離フィルムを得た。一方、２−エチルヘキシルアクリレート９０重量部、メトキシポリエチレングリコール（４００）メタクリレート７重量部、２−ヒドロキシエチルアクリレート３重量部の共重合体からなる粘着剤ポリマーの３０％酢酸エチル溶液１００重量部に対して、イソシアネート系硬化剤（東ソー（株）製、品名：コロネート（登録商標）ＨＸ）１．５重量部を撹拌・混合して、実施例１の粘着剤組成物を調合した。なお、コロネート（登録商標）ＨＸは、ＨＤＩ系（ヘキサメチレンジイソシアネート系）の硬化剤である。
厚みが３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、実施例１の粘着剤組成物を、乾燥後の厚みが２０μｍとなるように塗布した後、１００℃の熱風循環式オーブンにて２分間乾燥させて粘着剤層を形成した。その後、この粘着剤層の表面に、上記にて作製した、実施例１の剥離フィルムを、剥離剤層（シリコーン処理面）を介して貼合した。得られた粘着フィルムを、４０℃の環境下で５日間保温し、粘着剤層を硬化させて、実施例１の表面保護フィルムを得た。 Next, the present invention will be further described with reference to examples.
(Example 1)
(Preparation of surface protection film)
5 parts by weight of addition reaction type silicone (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX-345), tri-n-butylmethylammonium bistrifluoromethanesulfonimide (3M) which is an ionic compound having a melting point of 27.5 ° C. FC-4400, manufactured by Co., Ltd.) 7.5 parts by weight of a 10% ethyl acetate solution, 0.75 parts by weight of tetraethylene glycol di-2-ethylhexonate, 95 parts by weight of a 1: 1 mixed solvent of toluene and ethyl acetate, platinum 0.05 parts by weight of a catalyst (trade name: SRX-212, manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) was mixed, stirred and mixed to prepare a coating material for forming a release agent layer of Example 1. A 38 μm thick polyethylene terephthalate film surface was coated with a paint for forming a release agent layer of Example 1 using a Mayer bar so as to have a dry thickness of 0.2 μm, and a hot air circulating oven at 120 ° C. For 1 minute to obtain a release film of Example 1. On the other hand, based on 90 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate, 7 parts by weight of methoxypolyethylene glycol (400) methacrylate, and 100 parts by weight of a 30% ethyl acetate solution of an adhesive polymer composed of a copolymer of 3 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate. Then, 1.5 parts by weight of an isocyanate-based curing agent (manufactured by Tosoh Corporation, trade name: Coronate (registered trademark) HX) was stirred and mixed to prepare the pressure-sensitive adhesive composition of Example 1. Note that Coronate (registered trademark) HX is an HDI (hexamethylene diisocyanate) curing agent.
After applying the pressure-sensitive adhesive composition of Example 1 to a surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm so as to have a thickness of 20 μm after drying, the adhesive composition was dried by a hot-air circulation oven at 100 ° C. for 2 minutes to adhere. An agent layer was formed. Thereafter, the release film of Example 1 prepared above was bonded to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer via a release agent layer (silicone-treated surface). The resulting pressure-sensitive adhesive film was kept at 40 ° C. for 5 days to cure the pressure-sensitive adhesive layer, thereby obtaining a surface protective film of Example 1.

（比較例１）
付加反応型のシリコーン（東レダウコーニング（株）製、品名：ＳＲＸ−３４５）５重量部、トルエンと酢酸エチルの１：１の混合溶媒９５重量部、白金触媒（東レダウコーニング（株）製、品名：ＳＲＸ−２１２）０．０５重量部を混ぜ合わせて撹拌・混合して、比較例１の剥離剤層を形成する塗料を調整した。厚みが３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、比較例１の剥離剤層を形成する塗料を、乾燥後の厚みが０．２μｍになるようにメイヤーバーにて塗布し、１２０℃の熱風循環式オーブンにて１分間乾燥し、比較例１の剥離フィルムを得た。一方、実施例１の粘着剤ポリマー溶液（固形分３０％の酢酸エチル溶液）１００重量部に対して、融点が２７．５℃のイオン性化合物であるトリ−ｎ−ブチルメチルアンモニウムビストリフルオロメタンスルホンイミド（スリーエム社製ＦＣ−４４００）１０％酢酸エチル溶液３重量部、イソシアネート系硬化剤（東ソー（株）製、品名：コロネート（登録商標）ＨＸ）１．５重量部を撹拌・混合して、比較例１の粘着剤組成物を調合した。
厚みが３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、比較例１の粘着剤組成物を、乾燥後の厚みが２０μｍとなるように塗布した後、１００℃の熱風循環式オーブンにて２分間乾燥させて粘着剤層を形成した。その後、この粘着剤層の表面に、上記にて作製した、比較例１の剥離フィルムの剥離剤層（シリコーン処理面）を貼合した。得られた粘着フィルムを、４０℃の環境下で５日間保温し、粘着剤層を硬化させて、比較例１の表面保護フィルムを得た。 (Comparative Example 1)
5 parts by weight of addition reaction type silicone (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX-345), 95 parts by weight of a 1: 1 mixed solvent of toluene and ethyl acetate, platinum catalyst (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) (Product name: SRX-212) 0.05 parts by weight were mixed, stirred and mixed to prepare a coating material for forming a release agent layer of Comparative Example 1. A paint for forming a release agent layer of Comparative Example 1 was applied to a surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm with a Meyer bar so that the thickness after drying became 0.2 μm, and a hot air circulating oven at 120 ° C. For 1 minute to obtain a release film of Comparative Example 1. On the other hand, tri-n-butylmethylammonium bistrifluoromethanesulfone which is an ionic compound having a melting point of 27.5 ° C. is added to 100 parts by weight of the pressure-sensitive adhesive polymer solution (ethyl acetate solution having a solid content of 30%) of Example 1. 3 parts by weight of 10% ethyl acetate solution of imide (FC-4400 manufactured by 3M) and 1.5 parts by weight of an isocyanate-based curing agent (trade name: Coronate (registered trademark) HX, manufactured by Tosoh Corporation) were stirred and mixed. The pressure-sensitive adhesive composition of Comparative Example 1 was prepared.
After applying the pressure-sensitive adhesive composition of Comparative Example 1 on the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm so that the thickness after drying becomes 20 μm, the adhesive composition was dried by a hot-air circulating oven at 100 ° C. for 2 minutes and adhered. An agent layer was formed. Thereafter, the release agent layer (silicone-treated surface) of the release film of Comparative Example 1 prepared above was bonded to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. The obtained pressure-sensitive adhesive film was kept at 40 ° C. for 5 days to cure the pressure-sensitive adhesive layer, thereby obtaining a surface protective film of Comparative Example 1.

（比較例２）
粘着剤層に、融点が２７．５℃のイオン性化合物であるトリ−ｎ−ブチルメチルアンモニウムビストリフルオロメタンスルホンイミドを添加しなかった以外は、比較例１と同様にして、比較例２の表面保護フィルムを得た。 (Comparative Example 2)
The surface of Comparative Example 2 was prepared in the same manner as in Comparative Example 1 except that tri-n-butylmethylammonium bistrifluoromethanesulfonimide, an ionic compound having a melting point of 27.5 ° C., was not added to the pressure-sensitive adhesive layer. A protective film was obtained.

（比較例３）
剥離剤層に、エステル系可塑剤であるテトラエチレングリコールジ−２−エチルヘキソネートを添加しなかった以外は、実施例１と同様にして、比較例３の表面保護フィルムを得た。 (Comparative Example 3)
A surface protective film of Comparative Example 3 was obtained in the same manner as in Example 1 except that tetraethylene glycol di-2-ethylhexonate as an ester plasticizer was not added to the release agent layer.

（実施例２）
実施例１の粘着剤組成物の代わりに、２−エチルヘキシルアクリレート５８重量部、ブチルアクリレート３８重量部、２−ヒドロキシエチルアクリレート４重量部の共重合体からなる粘着剤ポリマーの３０％酢酸エチル溶液１００重量部に対して、イソシアネート系硬化剤（東ソー（株）製、品名：コロネート（登録商標）ＨＸ）１．２重量部を添加、混合した粘着剤組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして、実施例２の表面保護フィルムを得た。 (Example 2)
Instead of the pressure-sensitive adhesive composition of Example 1, a 30% ethyl acetate solution 100 of a pressure-sensitive adhesive polymer comprising a copolymer of 58 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate, 38 parts by weight of butyl acrylate, and 4 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate Example 1 was repeated except that an isocyanate-based curing agent (manufactured by Tosoh Corporation, trade name: Coronate (registered trademark) HX) (1.2 parts by weight) was added to and mixed with an adhesive composition. Similarly, a surface protective film of Example 2 was obtained.

（実施例３）
実施例１の粘着剤組成物の代わりに、２−エチルヘキシルアクリレート９６重量部、２−ヒドロキシエチルアクリレート４重量部の共重合体からなる粘着剤ポリマーの３０％酢酸エチル溶液１００重量部に対して、イソシアネート系硬化剤（東ソー（株）製、品名：コロネート（登録商標）ＨＸ）１．２重量部を添加、混合した粘着剤組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして、実施例３の表面保護フィルムを得た。 (Example 3)
Instead of the pressure-sensitive adhesive composition of Example 1, 96 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate and 100 parts by weight of a 30% ethyl acetate solution of a pressure-sensitive adhesive polymer composed of a copolymer of 4 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate were used. Example 1 was repeated in the same manner as in Example 1, except that 1.2 parts by weight of an isocyanate-based curing agent (manufactured by Tosoh Corporation, product name: Coronate (registered trademark) HX) was added and mixed. 3 was obtained.

以下、評価試験の方法および結果について示す。
〈剥離フィルムの剥離力の測定方法〉
表面保護フィルムのサンプルを、幅５０ｍｍ、長さ１５０ｍｍに裁断する。２３℃×５０％ＲＨの試験環境下、引張試験機を用いて３００ｍｍ／分の剥離速度で１８０°の方向に、剥離フィルムを剥離したときの強度を測定し、これを剥離フィルムの剥離力（Ｎ／５０ｍｍ）とした。 Hereinafter, the method and results of the evaluation test will be described.
<Measurement method of release force of release film>
A sample of the surface protective film is cut into a width of 50 mm and a length of 150 mm. In a test environment of 23 ° C. × 50% RH, the strength at the time of peeling the release film was measured in a direction of 180 ° at a peeling speed of 300 mm / min using a tensile tester, and the peel strength of the release film ( N / 50 mm).

〈表面保護フィルムの粘着力の測定方法〉
ガラス板の表面に、アンチグレア低反射処理偏光板（ＡＧ−ＬＲ偏光板）を、貼合機を用いて両面粘着テープにより貼合した。その後、偏光板の表面に、幅２５ｍｍに裁断した表面保護フィルムを貼合した後、２３℃×５０％ＲＨの試験環境下に１日間保管した。その後、引張試験機を用いて３００ｍｍ／分の剥離速度で１８０°の方向に、表面保護フィルムを剥離したときの強度を測定し、これを粘着力（Ｎ／２５ｍｍ）とした。 <Method of measuring adhesive strength of surface protective film>
An anti-glare low-reflection polarizing plate (AG-LR polarizing plate) was bonded to the surface of the glass plate with a double-sided adhesive tape using a bonding machine. Thereafter, a surface protective film cut to a width of 25 mm was attached to the surface of the polarizing plate, and then stored for one day in a test environment of 23 ° C. × 50% RH. Thereafter, the strength when the surface protective film was peeled was measured in a direction of 180 ° at a peeling speed of 300 mm / min using a tensile tester, and this was defined as the adhesive strength (N / 25 mm).

〈表面保護フィルムの剥離帯電圧の測定方法〉
ガラス板の表面に、アンチグレア低反射処理偏光板（ＡＧ−ＬＲ偏光板）を、貼合機を用いて両面粘着テープにより貼合した。その後、偏光板の表面に、幅２５ｍｍに裁断した表面保護フィルムを貼合した後、２３℃×５０％ＲＨの試験環境下に１日間保管した。その後、高速剥離試験機（テスター産業製）を用いて毎分４０ｍの剥離速度で表面保護フィルムを剥離しながら、前記偏光板表面の表面電位を、表面電位計（キーエンス（株）製）を用いて１０ｍｓ毎に測定したときの、表面電位の絶対値の最大値を、剥離帯電圧（ｋＶ）とした。 <Measurement method of peeling voltage of surface protective film>
An anti-glare low-reflection polarizing plate (AG-LR polarizing plate) was bonded to the surface of the glass plate with a double-sided adhesive tape using a bonding machine. Thereafter, a surface protective film cut to a width of 25 mm was attached to the surface of the polarizing plate, and then stored for one day in a test environment of 23 ° C. × 50% RH. Then, the surface potential of the polarizing plate surface was measured using a surface potentiometer (manufactured by Keyence Corporation) while peeling the surface protective film at a peeling speed of 40 m / min using a high-speed peeling tester (manufactured by Tester Sangyo). The maximum value of the absolute value of the surface potential measured every 10 ms was defined as the peeling voltage (kV).

〈表面保護フィルムの表面汚染性の確認方法〉
ガラス板の表面に、アンチグレア低反射処理偏光板（ＡＧ−ＬＲ偏光板）を、貼合機を用いて両面粘着テープにより貼合した。その後、偏光板の表面に、幅２５ｍｍに裁断した表面保護フィルムを貼合した後、２３℃×５０％ＲＨの試験環境下に３日および３０日保管した。その後、表面保護フィルムを剥がし、偏光板の表面における汚染の有無を目視にて観察した。表面汚染性の判定基準として、偏光板に汚染の移行が無かった場合を（○）とし、偏光板に汚染の移行が確認された場合を（×）とした。 <Method for confirming surface contamination of surface protective film>
An anti-glare low-reflection polarizing plate (AG-LR polarizing plate) was bonded to the surface of the glass plate with a double-sided adhesive tape using a bonding machine. Thereafter, a surface protective film cut to a width of 25 mm was bonded to the surface of the polarizing plate, and stored for 3 days and 30 days in a test environment of 23 ° C. × 50% RH. Thereafter, the surface protective film was peeled off, and the presence or absence of contamination on the surface of the polarizing plate was visually observed. As a criterion for determining the surface contamination, a case where there was no transfer of contamination to the polarizing plate was defined as (、), and a case where transfer of contamination was confirmed to the polarizing plate was defined as (×).

得られた実施例１〜３及び比較例１〜３の表面保護フィルムについて、測定した測定結果を表１〜２に示した。「２ＥＨＡ」は、２−エチルヘキシルアクリレートを、「＃４００Ｇ」はメトキシポリエチレングリコール（４００）メタクリレートを、「ＨＥＡ」は、２−ヒドロキシエチルアクリレートを、「ＢＡ」はブチルアクリレートを、「ＦＣ４４００」は、トリ−ｎ−ブチルメチルアンモニウムビストリフルオロメタンスルホンイミドを、「可塑剤」はテトラエチレングリコールジ−２−エチルヘキソネートを、それぞれ意味する。表１、２において、粘着剤層の組成は、粘着剤ポリマー（固形分）の全量が、約１００重量部となるように、重量部で表している。このため、比較例１の粘着剤層において、粘着剤ポリマー（固形分）とＦＣ４４００との重量比率は、３０重量部：０．３重量部＝１００重量部：１．０重量部となる。 Tables 1 and 2 show the measurement results of the obtained surface protective films of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3. "2EHA" is 2-ethylhexyl acrylate, "# 400G" is methoxypolyethylene glycol (400) methacrylate, "HEA" is 2-hydroxyethyl acrylate, "BA" is butyl acrylate, and "FC4400" is Tri-n-butylmethylammonium bistrifluoromethanesulfonimide and "plasticizer" mean tetraethylene glycol di-2-ethylhexonate, respectively. In Tables 1 and 2, the composition of the pressure-sensitive adhesive layer is represented by parts by weight so that the total amount of the pressure-sensitive adhesive polymer (solid content) is about 100 parts by weight. Therefore, in the pressure-sensitive adhesive layer of Comparative Example 1, the weight ratio of the pressure-sensitive adhesive polymer (solid content) to FC4400 is 30 parts by weight: 0.3 parts by weight = 100 parts by weight: 1.0 part by weight.

表１および表２に示した測定結果から、以下のことが分かる。
本発明に係わる実施例１〜３の表面保護フィルムは、適度な粘着力があり、被着体の表面を汚染することがなく、かつ、表面保護フィルムを被着体から剥離した時の剥離帯電圧が低い。
一方、帯電防止剤を粘着剤層に含有させた比較例１の表面保護フィルムは、表面保護フィルムを被着体から剥離した時の剥離帯電圧が低く良好であるが、剥離した後の、被着体に対する汚染が多くなった。
また、表面保護フィルムの粘着剤層及び剥離フィルムの剥離剤層の両方に、帯電防止剤を含有させなかった比較例２の表面保護フィルムでは、被着体に対する汚染性は良好であるが、表面保護フィルムを被着体から剥離した時の剥離帯電圧が高くなった。
すなわち、表面保護フィルムの粘着剤層に帯電防止剤を含有させた比較例１の表面保護フィルムや、表面保護フィルムの粘着剤層及び剥離フィルムの剥離剤層のいずれにも、帯電防止剤を含有させていない比較例２の表面保護フィルムでは、剥離帯電圧の低減と被着体に対する汚染性を両立することが難しい。
他方、剥離フィルムの剥離剤層に、帯電防止剤とエステル系可塑剤とを含有させた後、粘着剤層の表面のみに、剥離剤層の帯電防止剤とエステル系可塑剤とを転写させた実施例１〜３の表面保護フィルムでは、少量のエステル系可塑剤の添加で剥離帯電圧の著しい低減効果があるため、被着体に対する汚染もなく、剥離帯電防止性能も良好であった。
また、剥離剤層に帯電防止剤のみを含有させ、エステル系可塑剤を含有させなかった比較例３の表面保護フィルムでは、被着体に対する汚染もなく、剥離帯電防止性能も良好であった。しかし、剥離剤層に帯電防止剤とエステル系可塑剤とを含有させた実施例１〜３の表面保護フィルムに比べると、剥離帯電圧が高くなった。 From the measurement results shown in Tables 1 and 2, the following can be understood.
The surface protective films of Examples 1 to 3 according to the present invention have a moderate adhesive strength, do not contaminate the surface of the adherend, and have a release band when the surface protective film is peeled off from the adherend. Voltage is low.
On the other hand, the surface protective film of Comparative Example 1 in which the antistatic agent was contained in the pressure-sensitive adhesive layer had a low peeling voltage when the surface protective film was peeled off from the adherend, and was good. Contamination to the body has increased.
Further, in the surface protective film of Comparative Example 2 in which the antistatic agent was not contained in both the pressure-sensitive adhesive layer of the surface protective film and the release agent layer of the release film, the contamination to the adherend was good, The peeling voltage when the protective film was peeled off from the adherend was increased.
That is, the surface protection film of Comparative Example 1 in which an antistatic agent was added to the pressure-sensitive adhesive layer of the surface protection film, and both the pressure-sensitive adhesive layer of the surface protection film and the release agent layer of the release film contained an antistatic agent. In the case of the surface protective film of Comparative Example 2 which was not made, it is difficult to achieve both a reduction in the peeling charge voltage and a stain on the adherend.
On the other hand, after the antistatic agent and the ester-based plasticizer were contained in the release agent layer of the release film, the antistatic agent and the ester-based plasticizer of the release agent layer were transferred only to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. In the surface protective films of Examples 1 to 3, the addition of a small amount of the ester-based plasticizer had a remarkable effect of reducing the peeling electrostatic voltage. Therefore, there was no contamination on the adherend and the peeling antistatic performance was good.
Further, in the surface protective film of Comparative Example 3 in which only the antistatic agent was contained in the release agent layer and the ester-based plasticizer was not contained, there was no contamination to the adherend and the antistatic release performance was good. However, as compared with the surface protection films of Examples 1 to 3 in which the antistatic agent and the ester-based plasticizer were contained in the release agent layer, the release electrostatic voltage was higher.

本発明の表面保護フィルムは、例えば、偏光板、位相差板、レンズフィルム、などの光学用フィルム、その他、各種の光学部品等の生産工程などにおいて、該光学部品等に貼合して表面を保護するために用いることができる。また、本発明の表面保護フィルムは、被着体から剥離する時に発生する静電気の量を低くでき、かつ、剥離帯電防止性能の経時変化および被着体に対する汚染が少なく、生産工程の歩留まりを向上させることができ、産業上の利用価値が大である。 The surface protective film of the present invention is, for example, an optical film such as a polarizing plate, a retardation plate, a lens film, and the like, and in a production process of various optical components and the like, is bonded to the optical components and the like to form a surface. Can be used to protect. In addition, the surface protective film of the present invention can reduce the amount of static electricity generated when peeled from an adherend, and has little change over time in peeling antistatic performance and contamination to the adherend, thereby improving the production process yield. It has great industrial value.

１…基材フィルム、２…粘着剤層、３…樹脂フィルム、４…剥離剤層、５…剥離フィルム、７…帯電防止剤とエステル系可塑剤、８…被着体（光学部品）、１０…表面保護フィルム、１１…剥離フィルムを剥がした表面保護フィルム、２０…表面保護フィルムを貼合した光学部品。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base film, 2 ... Adhesive layer, 3 ... Resin film, 4 ... Release agent layer, 5 ... Release film, 7 ... Antistatic agent and ester plasticizer, 8 ... Adherend (optical component), 10 ... Surface protection film, 11 ... Surface protection film from which release film was peeled off, 20 ... Optical component to which surface protection film was bonded.

Claims

On one side of a base film made of a resin having transparency, of an antistatic surface protective film having an adhesive layer formed thereon, on the surface of the adhesive layer, a release film for an antistatic surface protective film capable of transferring an antistatic agent. And
The release film for an antistatic surface protection film contains, on one surface of a resin film, a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, an antistatic agent that does not react with the release agent, and at least one or more ether bond. By laminating a release agent layer containing an ester plasticizer,
The component of the antistatic agent is an ionic compound having a melting point of less than 30 ° C,
When the antistatic surface protective film release film is bonded to the pressure-sensitive adhesive layer via the release agent layer, the component of the antistatic agent of the release agent layer and the ester-based plasticizer adhere to the adhesive. A release film for an antistatic surface protective film, which can be transferred to the surface of an agent layer.

The release film for an antistatic surface protective film according to claim 1, wherein the pressure-sensitive adhesive layer is formed by crosslinking a pressure-sensitive adhesive composition containing a (meth) acrylate copolymer and a crosslinking agent. .

The ester plasticizer is diethylene glycol di-2-ethylhexonate, tetraethylene glycol di-2-ethylhexonate, hexaethylene glycol di-2-ethylhexonate, triethylene glycol diethyl butyrate, polyethylene glycol Selected from the group consisting of diethyl butyrate, polypropylene glycol diethylhexonate, triethylene glycol dibenzoate, tetraethylene glycol dibenzoate, polyethylene glycol dibenzoate, polypropylene glycol dibenzoate, and polyethylene glycol-2-ethylhexonate benzoate. The release film for an antistatic surface protective film according to claim 1, wherein the release film is at least one kind.

The antistatic surface according to any one of claims 1 to 3 , wherein the surface of the adhesive layer of the antistatic surface protective film having an adhesive layer formed on one surface of a substrate film made of a resin having transparency. A surface protective film for an optical film obtained by bonding a release film for a protective film.