JP6907395B2 - Surface protective film and optical components to which it is attached - Google Patents
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本発明は、偏光板、位相差板、ディスプレイ用のレンズフィルムなどの光学部品（以下、光学用フィルムと称する場合もある。）の表面に貼合される、表面保護フィルムに関する。さらに詳細には、被着体に対する汚染が少ない表面保護フィルム、さらには、経時劣化しないで優れた剥離帯電防止性能を有する表面保護フィルム、及びそれを用いた光学部品を提供するものである。 The present invention relates to a surface protective film that is attached to the surface of an optical component (hereinafter, also referred to as an optical film) such as a polarizing plate, a retardation plate, and a lens film for a display. More specifically, the present invention provides a surface protective film having less contamination on an adherend, a surface protective film having excellent peeling antistatic performance without deterioration over time, and an optical component using the same.
従来から、偏光板、位相差板、ディスプレイ用のレンズフィルム、反射防止フィルム、ハードコートフィルム、タッチパネル用透明導電性フィルム、等の光学用フィルム、及びそれを用いたディスプレイなどの光学製品を、製造、搬送する際には、該光学用フィルムの表面に表面保護フィルムを貼合して、後工程における表面の汚れや傷付きを防止することがなされている。製品である光学用フィルムの外観検査は、表面保護フィルムを剥がして、再び、貼合する手間を省いて作業効率を高めるため、表面保護フィルムを光学用フィルムに貼合したまま行うこともある。 Conventionally, we have manufactured optical films such as polarizing plates, retardation plates, lens films for displays, antireflection films, hard coat films, transparent conductive films for touch panels, and optical products such as displays using them. At the time of transportation, a surface protective film is attached to the surface of the optical film to prevent the surface from being soiled or scratched in a subsequent step. The appearance inspection of the optical film, which is a product, may be performed with the surface protective film attached to the optical film in order to save the trouble of peeling off the surface protective film and attaching it again to improve work efficiency.
一般的に、基材フィルムの片面に、粘着剤層を設けた表面保護フィルムが、光学製品の製造工程において、傷や汚れの付着を防止するために使用されている。表面保護フィルムは、微粘着力の粘着剤層を介して光学用フィルムに貼合される。粘着剤層を微粘着力とするのは、使用済みの表面保護フィルムを光学用フィルムの表面から剥離して取り除くときに、容易に剥離でき、且つ、粘着剤が、被着体である製品の光学用フィルムに付着して残留しないようにする（いわゆる、糊残りの発生を防ぐ）ためである。 Generally, a surface protective film provided with an adhesive layer on one side of a base film is used in the manufacturing process of an optical product to prevent scratches and stains from adhering. The surface protective film is attached to the optical film via an adhesive layer having a slight adhesive strength. The reason why the adhesive layer has a slight adhesive strength is that the used surface protective film can be easily peeled off when it is peeled off from the surface of the optical film, and the adhesive is an adherend of the product. This is to prevent the adhesive from adhering to the optical film and remaining (so-called adhesive residue is prevented).
近年、液晶ディスプレイパネルの生産工程において、光学用フィルムの上に貼合された表面保護フィルムを、剥離して取り除くときに発生する剥離帯電圧により、液晶ディスプレイパネルの表示画面を制御するための、ドライバーＩＣ等の回路部品が破壊される現象や、液晶分子の配向が損傷する現象が、発生件数は少ないながらも起きている。
また、液晶ディスプレイパネルの消費電力を低減させるため、液晶材料の駆動電圧が低くなってきており、これに伴って、ドライバーＩＣの破壊電圧も低くなっている。最近では、剥離帯電圧を＋０．７ｋＶ〜−０．７ｋＶの範囲内にすることが求められてきている。
In recent years, in the production process of a liquid crystal display panel, the display screen of the liquid crystal display panel is controlled by the peeling band voltage generated when the surface protective film bonded on the optical film is peeled off and removed. Although the number of occurrences is small, the phenomenon that circuit parts such as driver ICs are destroyed and the phenomenon that the orientation of liquid crystal molecules is damaged are occurring.
Further, in order to reduce the power consumption of the liquid crystal display panel, the driving voltage of the liquid crystal material is getting lower, and the breaking voltage of the driver IC is also getting lower accordingly. Recently, it has been required to set the peeling band voltage within the range of +0.7 kV to −0.7 kV.
また、近年、３Ｄディスプレイ（立体視ディスプレイ）の普及に伴い、偏光板等の光学用フィルムの表面に、ＦＰＲ（Ｆｉｌｍ Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｒｅｔａｒｄｅｒ）フィルムを貼合したものがある。偏光板等の光学用フィルムの表面に貼合されていた表面保護フィルムを剥がした後に、ＦＰＲフィルムが貼合される。しかし、偏光板等の光学用フィルムの表面が、表面保護フィルムに使用している粘着剤や帯電防止剤で汚染されていると、ＦＰＲフィルムが接着し難いという問題がある。このため、当該用途に用いる表面保護フィルムには、被着体に対する汚染の少ないものが求められている。 Further, in recent years, with the spread of 3D displays (stereoscopic displays), there are some films in which an FPR (Film Patterned Renderer) film is attached to the surface of an optical film such as a polarizing plate. After peeling off the surface protective film attached to the surface of the optical film such as a polarizing plate, the FPR film is attached. However, if the surface of an optical film such as a polarizing plate is contaminated with an adhesive or an antistatic agent used for the surface protective film, there is a problem that the FPR film is difficult to adhere. Therefore, the surface protective film used for this purpose is required to have less contamination on the adherend.
また、いくつかの液晶パネルメーカーにおいては、表面保護フィルムの被着体に対する汚染性の評価方法として、偏光板等の光学用フィルムに貼合されている表面保護フィルムを一度剥がし、気泡を混入させた状態で再貼合したものを所定条件で加熱処理し、その後、表面保護フィルムを剥がして被着体の表面を観察する方法が採用されている。このような評価方法では、被着体の表面汚染が微量であっても、気泡を混入させた部分と、表面保護フィルムの粘着剤が接していた部分とで、被着体の表面汚染の差があると、気泡の跡（気泡ジミと言うこともある）として残る。そのため、被着体の表面に対する汚染性の評価方法としては、非常に厳しい評価方法となる。近年、こうした厳しい評価方法による判定の結果でも、被着体の表面に対する汚染性に問題がない表面保護フィルムが求められている。 In addition, in some liquid crystal panel makers, as a method of evaluating the contamination of the surface protective film on the adherend, the surface protective film attached to the optical film such as a polarizing plate is once peeled off and air bubbles are mixed. A method is adopted in which the reattached film is heat-treated under predetermined conditions, and then the surface protective film is peeled off to observe the surface of the adherend. In such an evaluation method, even if the surface contamination of the adherend is very small, the difference in surface contamination of the adherend is between the portion where air bubbles are mixed and the portion where the adhesive of the surface protective film is in contact. If there is, it remains as a trace of bubbles (sometimes called bubble stain). Therefore, it is a very strict evaluation method as a method for evaluating the contamination of the surface of the adherend. In recent years, even as a result of judgment by such a strict evaluation method, there is a demand for a surface protective film that does not have a problem of contamination on the surface of the adherend.
表面保護フィルムを、被着体である光学用フィルムから剥離する時に、剥離帯電圧が高いことに起因する不具合の発生を防止するため、剥離帯電圧を低く抑えるための、帯電防止剤を含む粘着剤層を用いた表面保護フィルムが、提案されている。 Adhesive containing an antistatic agent to keep the peeling band voltage low in order to prevent problems caused by the high peeling band voltage when the surface protective film is peeled off from the optical film that is the adherend. A surface protective film using an agent layer has been proposed.
例えば、特許文献１には、アルキルトリメチルアンモニウム塩、水酸基含有アクリル系ポリマー、ポリイソシアネートからなる粘着剤を用いた、表面保護フィルムが開示されている。
また、特許文献２には、イオン性液体と酸価が１．０以下のアクリルポリマーからなる粘着剤組成物、及びそれを用いた粘着シート類が開示されている。
また、特許文献３には、アクリルポリマー、ポリエーテルポリオール化合物、アニオン吸着性化合物により処理したアルカリ金属塩からなる粘着剤組成物、及びそれを用いた表面保護フィルムが開示されている。
また、特許文献４には、イオン性液体、アルカリ金属塩、ガラス転移温度０℃以下のポリマーからなる粘着剤組成物、及びそれを用いた表面保護フィルムが開示されている。
また、特許文献５には、液体イオン塩を含有するポリマーからなる光学部材の表面保護シートに用いる粘着剤組成物、及び粘着シートが開示されている。
For example,
Further,
Further, Patent Document 3 discloses a pressure-sensitive adhesive composition composed of an acrylic polymer, a polyether polyol compound, an alkali metal salt treated with an anion-adsorbing compound, and a surface protective film using the same.
Further, Patent Document 4 discloses an adhesive composition composed of an ionic liquid, an alkali metal salt, a polymer having a glass transition temperature of 0 ° C. or lower, and a surface protective film using the same.
Further,
上記の特許文献１〜５では、粘着剤層の内部に帯電防止剤が添加されている。しかし、粘着剤層の厚みが厚くなる程、また、被着体に貼り合せた後の経過時間が経つにつれて、表面保護フィルムの貼合された被着体に対して、粘着剤層から被着体へ移行する帯電防止剤の量が多くなる。被着体へ移行する帯電防止剤の量が多くなると、被着体である光学用フィルムの外観品位が低下したり、ＦＰＲフィルムを貼合する時に、ＦＰＲフィルムの接着性が低下する可能性がある。
In the above-mentioned
こうした、粘着剤層から被着体へ移行する帯電防止剤の経時的な増加を少なくするために、粘着剤層の厚みを薄くすると、別の問題が生じる。例えば、ギラツキ防止のためアンチグレア処理した偏光板など、表面に凹凸のある光学用フィルムに使用した場合に、光学用フィルム表面の凹凸に粘着剤層が追従できずに気泡が混入したり、光学用フィルムと粘着剤層との接着面積が減ることにより粘着力が低下し、使用中に表面保護フィルムが浮いたり剥がれたりする問題がある。 If the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is reduced in order to reduce the increase in the antistatic agent that migrates from the pressure-sensitive adhesive layer to the adherend over time, another problem arises. For example, when it is used for an optical film having an uneven surface such as a polarizing plate treated with anti-glare to prevent glare, the adhesive layer cannot follow the unevenness on the surface of the optical film and air bubbles are mixed in, or for optical use. Since the adhesive area between the film and the adhesive layer is reduced, the adhesive strength is reduced, and there is a problem that the surface protective film floats or peels off during use.
このため、光学用フィルムに使用する表面保護フィルムであって、表面に凹凸がある光学用フィルムに対しても使用でき、被着体に対する汚染が非常に少なく、かつ、経時でも被着体に対する汚染が増加しない表面保護フィルムで、かつ、表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、剥離帯電圧を低く抑えた表面保護フィルムが求められている。 Therefore, it is a surface protective film used for an optical film, and can be used for an optical film having an uneven surface, very little contamination of the adherend, and contamination of the adherend over time. There is a demand for a surface protective film that does not increase the amount of shavings and that suppresses the peeling zone voltage when the surface protective film is peeled from the adherend.
本発明者らは、この課題について鋭意検討を行なった。
被着体に対する汚染が少なく、かつ汚染の経時的な増加を少なくするためには、被着体を汚染していると推測される粘着剤層内の帯電防止剤の成分を減量する必要がある。しかし、粘着剤層内の帯電防止剤の成分を減量した場合には、表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、剥離帯電圧が高くなってしまう。そこで、粘着剤層内の帯電防止剤の成分の絶対量を増加しないで、表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、剥離帯電圧を低く抑える方法について検討した。
その結果、基材フィルムの片面に、帯電防止剤を含有する粘着剤組成物を塗布・乾燥して粘着剤層を形成するのではなく、帯電防止剤を含有していない粘着剤組成物を塗工・乾燥して粘着剤層を積層した後に、粘着剤層の表面のみに、適量の帯電防止剤の成分を付与することにより、表面保護フィルムを、被着体である光学用フィルムから剥離する時の、剥離帯電圧を低く抑えることができることを見出し、本発明を完成した。
The present inventors have diligently studied this subject.
In order to reduce the contamination of the adherend and the increase of contamination over time, it is necessary to reduce the amount of the antistatic agent component in the pressure-sensitive adhesive layer that is presumed to contaminate the adherend. .. However, when the amount of the antistatic agent component in the pressure-sensitive adhesive layer is reduced, the peeling band voltage when the surface protective film is peeled from the adherend becomes high. Therefore, a method of suppressing the peeling band voltage when the surface protective film is peeled from the adherend without increasing the absolute amount of the antistatic agent component in the pressure-sensitive adhesive layer was investigated.
As a result, instead of applying and drying the pressure-sensitive adhesive composition containing an antistatic agent on one side of the base film to form a pressure-sensitive adhesive layer, the pressure-sensitive adhesive composition containing no antistatic agent is applied. After working and drying to laminate the pressure-sensitive adhesive layer, the surface protective film is peeled off from the optical film as an adherend by applying an appropriate amount of an antistatic agent component only to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. The present invention has been completed by finding that the peeling band voltage at that time can be suppressed to a low level.
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、表面に凹凸がある光学用フィルムに対しても使用でき、被着体に対する汚染が少なく、経時しても被着体に対する低汚染性が変わらない表面保護フィルムであって、且つ、経時劣化しないで優れた剥離帯電防止性能を有する表面保護フィルム、及びそれを用いた光学部品を提供することを課題とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and can be used for an optical film having an uneven surface, has less contamination on an adherend, and has low contamination on an adherend over time. It is an object of the present invention to provide a surface protective film that does not change and has excellent peeling antistatic performance without deterioration over time, and an optical component using the same.
上記の課題を解決するため、本発明の表面保護フィルムは、基材フィルムの片面に、帯電防止剤を含有していない粘着剤組成物を塗工・乾燥して粘着剤層を積層した後に、粘着剤層の表面に適量の帯電防止剤を付与することにより、被着体に対する汚染性を低く抑えた上、被着体である光学用フィルムから剥離する時の、剥離帯電圧を低く抑えることを技術思想としている。 In order to solve the above problems, in the surface protective film of the present invention, an antistatic agent-free pressure-sensitive adhesive composition is applied and dried on one side of a base film, and then a pressure-sensitive adhesive layer is laminated. By applying an appropriate amount of antistatic agent to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, the stain resistance to the adherend is suppressed to a low level, and the peeling band voltage when peeling from the optical film which is the adherend is kept low. Is the technical idea.
上記の課題を解決するため、本発明は、透明性を有する樹脂からなる基材フィルムの片面に、粘着剤層が形成され、該粘着剤層の上に、剥離剤層を有する剥離フィルムが貼合されてなる表面保護フィルムであって、該剥離フィルムが、樹脂フィルムの片面に、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、該剥離剤と反応しない帯電防止剤と、帯電防止補助剤とを含有する剥離剤層を積層してなり、前記帯電防止剤の成分が、融点が３０℃未満のイオン性化合物であり、前記帯電防止補助剤が、ポリエーテル変性シリコーンであり、前記帯電防止剤の成分と前記帯電防止補助剤とが、前記剥離フィルムの前記剥離剤層から前記粘着剤層の表面に転写され、前記粘着剤層を被着体から剥離するときの剥離帯電圧が低減されてなることを特徴とする表面保護フィルムを提供する。 In order to solve the above problems, in the present invention, an adhesive layer is formed on one side of a base film made of a transparent resin, and a release film having a release agent layer is attached on the adhesive layer. A surface protective film made of a combination, wherein the release film has a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, an antistatic agent that does not react with the release agent, and an antistatic auxiliary agent on one side of the resin film. The antistatic agent is an ionic compound having a melting point of less than 30 ° C., the antistatic auxiliary agent is polyether-modified silicone, and the antistatic agent is formed by laminating a release agent layer containing the above. And the antistatic auxiliary agent are transferred from the release agent layer of the release film to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, and the peeling band voltage when the pressure-sensitive adhesive layer is peeled off from the adherend is reduced. Provided is a surface protective film characterized by becoming.
また、前記粘着剤層が、（メタ）アクリレート共重合体と、架橋剤と、を含有する粘着剤組成物を架橋させてなることが好ましい。 Further, it is preferable that the pressure-sensitive adhesive layer is formed by cross-linking a pressure-sensitive adhesive composition containing a (meth) acrylate copolymer and a cross-linking agent.
また、前記剥離フィルムを、前記粘着剤層から剥離するときの剥離力が、０．２Ｎ／５０ｍｍ以下であることが好ましい。 Further, the peeling force when peeling the release film from the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 0.2 N / 50 mm or less.
また、本発明は、上記の表面保護フィルムが、貼合されてなる光学部品を提供する。 The present invention also provides an optical component in which the above surface protective film is bonded.
本発明の表面保護フィルムは、被着体に対する汚染が少なく、経時しても被着体に対する低汚染性が変わらない。また、本発明の表面保護フィルムは、被着体が、ＡＧ偏光板などの表面に凹凸がある光学用フィルムであっても、使用できる。また、本発明によれば、被着体である光学用フィルムから剥離する時に発生する剥離帯電圧を低く抑えることができ、経時劣化しないで優れた剥離帯電防止性能を有する表面保護フィルム、及びそれを用いた光学部品を提供できる。
本発明の表面保護フィルムによれば、光学用フィルムの表面を確実に保護することができるから、生産性の向上と歩留まりの向上を図ることができる。
The surface protective film of the present invention has less contamination on the adherend, and the low contamination property on the adherend does not change over time. Further, the surface protective film of the present invention can be used even if the adherend is an optical film having irregularities on the surface such as an AG polarizing plate. Further, according to the present invention, a peeling band voltage generated when peeling from an optical film as an adherend can be suppressed to a low level, and a surface protective film having excellent peeling antistatic performance without deterioration over time, and a surface protective film thereof. Can provide an optical component using.
According to the surface protective film of the present invention, the surface of the optical film can be reliably protected, so that productivity and yield can be improved.
以下、実施の形態に基づいて、本発明を詳しく説明する。
図１は、本発明の表面保護フィルムの、概念を示した断面図である。この表面保護フィルム１０は、透明な基材フィルム１の片面の表面に、粘着剤層２が形成されている。この粘着剤層２の表面には、樹脂フィルム３の表面に剥離剤層４が形成された剥離フィルム５が、貼合されている。
Hereinafter, the present invention will be described in detail based on the embodiments.
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a concept of the surface protective film of the present invention. In the surface
本発明に係わる表面保護フィルム１０に使用される基材フィルム１としては、透明性及び可撓性を有する樹脂からなる基材フィルムが用いられる。これにより、表面保護フィルムを、被着体である光学部品に貼合した状態で、光学部品の外観検査を行うことができる。基材フィルム１として用いる透明性を有する樹脂からなるフィルムは、好適には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステルフィルムが用いられる。ポリエステルフィルムのほか、必要な強度を有し、かつ光学適性を有するものであれば、他の樹脂からなるフィルムも使用可能である。基材フィルム１は、無延伸フィルムであっても、一軸または二軸延伸されたフィルムであってもよい。また、延伸フィルムの延伸倍率や、延伸フィルムの結晶化に伴い形成される軸方向の配向角度を、特定の値に制御してもよい。
本発明に係わる表面保護フィルム１０に使用される基材フィルム１の厚みは、特に限定はないが、例えば、１２〜１００μｍ程度の厚みが好ましく、２０〜５０μｍ程度の厚みであれば取り扱い易く、より好ましい。
また、必要に応じて、基材フィルム１の粘着剤層２が形成された面の反対側の面に、表面の汚れを防止する防汚層、帯電防止層、傷つき防止のハードコート層などを設けることができる。また、基材フィルム１の表面に、コロナ放電による表面改質、アンカーコート剤の塗付などの易接着処理を施してもよい。
As the
The thickness of the
Further, if necessary, an antifouling layer for preventing surface contamination, an antistatic layer, a hard coat layer for preventing scratches, and the like are provided on the surface of the
また、本発明に係わる表面保護フィルム１０に使用される粘着剤層２は、被着体の表面に接着し、用済み後に簡単に剥がすことができ、かつ、被着体を汚染しにくい粘着剤であれば特に限定されるものではないが、光学用フィルムに貼合後の耐久性などを考慮すると、（メタ）アクリレート共重合体を架橋させてなる粘着剤を用いるのが一般的である。
Further, the
（メタ）アクリレート共重合体としては、ｎ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、イソノニルアクリレートなどの主モノマーと、アクリロニトリル、酢酸ビニル、メチルメタクリレート、エチルアクリレートなどのコモノマー、アクリル酸、メタクリル酸、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシブチルアクリレート、グリシジルメタクリレート、Ｎ−メチロールメタクリルアミドなどの官能性モノマー、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート等のポリオキシアルキレン基を含有するモノマーを共重合した共重合体を挙げることができる。（メタ）アクリレート共重合体は、主モノマー及び他のモノマーがすべて（メタ）アクリレートであってもよく、主モノマー以外の他のモノマーとして、（メタ）アクリレート以外のモノマーを１種又は２種以上含んでもよい。主モノマー以外の他のモノマーは、上記のコモノマー、官能性モノマー、ポリオキシアルキレン基を含有するモノマーなどから特に限定することなく選択できる。 Examples of the (meth) acrylate copolymer include main monomers such as n-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, isooctyl acrylate and isononyl acrylate, comonomer such as acrylonitrile, vinyl acetate, methyl methacrylate and ethyl acrylate, and acrylic acid. Examples of copolymers obtained by copolymerizing a functional monomer such as methacrylic acid, hydroxyethyl acrylate, hydroxybutyl acrylate, glycidyl methacrylate, N-methylol methacrylate, and a monomer containing a polyoxyalkylene group such as methoxypolyethylene glycol methacrylate. can. In the (meth) acrylate copolymer, the main monomer and other monomers may be all (meth) acrylates, and one or more monomers other than (meth) acrylate may be used as other monomers other than the main monomer. It may be included. The monomer other than the main monomer can be selected from the above-mentioned comonomer, functional monomer, monomer containing a polyoxyalkylene group, and the like without particular limitation.
粘着剤層２に添加する硬化剤としては、（メタ）アクリレート共重合体を架橋させる架橋剤として、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、メラミン化合物、金属キレート化合物などが挙げられる。また、粘着付与剤としては、ロジン系、クマロンインデン系、テルペン系、石油系、フェノール系などが挙げられる。
Examples of the curing agent added to the pressure-
本発明に係わる表面保護フィルム１０に使用される粘着剤層２の厚みは、特に限定はないものの、例えば、５〜４０μｍ程度の厚みが好ましく、１０〜３０μｍ程度の厚みがより好ましい。また、表面保護フィルムの、被着体の表面に対する剥離強度（粘着力）が、０．０３〜０．３Ｎ／２５ｍｍ程度の、微粘着力を有する粘着剤層２であることが、被着体から表面保護フィルムを剥がす時の操作性に優れることから好ましい。また、表面保護フィルム１０から剥離フィルム５を剥がす時の操作性に優れることから、剥離フィルム５を、粘着剤層２から剥離するときの剥離力が、０．２Ｎ／５０ｍｍ以下であることが好ましく、０．１４Ｎ／５０ｍｍ以下であることがより好ましい。
The thickness of the pressure-
また、本発明に係わる表面保護フィルム１０に使用される剥離フィルム５は、樹脂フィルム３の片面に、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、該剥離剤と反応しない帯電防止剤と、帯電防止補助剤とを含有する剥離剤層４が積層されている。本発明に係わる表面保護フィルムに使用される剥離フィルムにおいては、前記帯電防止剤の成分が、融点が３０℃未満のイオン性化合物であり、前記帯電防止補助剤が、ポリエーテル変性シリコーンであることが好ましい。
Further, the
樹脂フィルム３としては、ポリエステルフィルム、ポリアミドフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリイミドフィルムなどが挙げられるが、透明性に優れていることや価格が比較的に安価であることから、ポリエステルフィルムが特に好ましい。樹脂フィルムは、無延伸フィルムであっても、一軸または二軸延伸されたフィルムであってもよい。また、延伸フィルムの延伸倍率や、延伸フィルムの結晶化に伴い形成される軸方向の配向角度を、特定の値に制御してもよい。
樹脂フィルム３の厚みは、特に限定はないが、例えば、１２〜１００μｍ程度の厚みが好ましく、１６〜５０μｍ程度の厚みであれば取り扱い易く、より好ましい。
また、必要に応じて、樹脂フィルム３の表面に、コロナ放電による表面改質、アンカーコート剤の塗付などの易接着処理を施してもよい。
Examples of the resin film 3 include a polyester film, a polyamide film, a polyethylene film, a polypropylene film, and a polyimide film, but the polyester film is particularly preferable because of its excellent transparency and relatively low price. .. The resin film may be a non-stretched film or a uniaxially or biaxially stretched film. Further, the draw ratio of the stretched film and the axial orientation angle formed by the crystallization of the stretched film may be controlled to a specific value.
The thickness of the resin film 3 is not particularly limited, but is preferably about 12 to 100 μm, and more preferably about 16 to 50 μm because it is easy to handle.
Further, if necessary, the surface of the resin film 3 may be subjected to an easy-adhesion treatment such as surface modification by corona discharge or application of an anchor coating agent.
剥離剤層４を構成するジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤には、付加反応型、縮合反応型、カチオン重合型、ラジカル重合型などの、公知のシリコーン系剥離剤が挙げられる。付加反応型シリコーン系剥離剤として市販されている製品には、例えば、ＫＳ−７７６Ａ、ＫＳ−８４７Ｔ、ＫＳ−７７９Ｈ、ＫＳ−８３７、ＫＳ−７７８、ＫＳ−８３０（信越化学工業（株）製）、ＳＲＸ−２１１、ＳＲＸ−３４５、ＳＲＸ−３５７、ＳＤ７３３３、ＳＤ７２２０、ＳＤ７２２３、ＬＴＣ−３００Ｂ、ＬＴＣ−３５０Ｇ、ＬＴＣ−３１０（東レダウコーニング（株）製）などが挙げられる。縮合反応型として市販されている製品には、例えば、ＳＲＸ−２９０、ＳＹＬＯＦＦ−２３（東レダウコーニング（株）製）などが挙げられる。カチオン重合型として市販されている製品には、例えば、ＴＰＲ−６５０１、ＴＰＲ−６５００、ＵＶ９３００、ＶＵ９３１５、ＵＶ９４３０（モメンティブ・パーフォーマンス・マテリアルズ社製）、Ｘ６２−７６２２（信越化学工業（株）製）などが挙げられる。ラジカル重合型として市販されている製品には、例えば、Ｘ６２−７２０５（信越化学工業（株）製）などが挙げられる。 Examples of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component constituting the release agent layer 4 include known silicone-based release agents such as addition reaction type, condensation reaction type, cationic polymerization type, and radical polymerization type. Products commercially available as addition reaction type silicone release agents include, for example, KS-776A, KS-847T, KS-779H, KS-837, KS-778, KS-830 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). , SRX-211, SRX-345, SRX-357, SD7333, SD7220, SD7223, LTC-300B, LTC-350G, LTC-310 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) and the like. Examples of products commercially available as a condensation reaction type include SRX-290 and SYLOFF-23 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.). Products commercially available as cationically polymerized types include, for example, TPR-6501, TPR-6500, UV9300, VU9315, UV9430 (manufactured by Momentive Performance Materials), X62-7622 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). ) And so on. Examples of products commercially available as a radical polymerization type include X62-7205 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).
剥離剤層４を構成する帯電防止剤としては、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤溶液に対して分散性の良いもので、かつ、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の硬化を阻害しないものが好ましい。また、剥離剤層４から粘着剤層２の表面に転写して、粘着剤層２に帯電防止の機能を付与するため、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と反応しない帯電防止剤が良い。こうした帯電防止剤としては、融点が３０℃未満であるイオン性化合物が好適である。
The antistatic agent constituting the release agent layer 4 has good dispersibility in a release agent solution containing dimethylpolysiloxane as a main component and inhibits curing of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component. Those that do not are preferable. Further, since the release agent layer 4 is transferred to the surface of the pressure-
融点が３０℃未満のイオン性化合物としては、カチオンとアニオンを有するイオン性化合物であって、カチオンが、イミダゾリウムイオンなどの環状アミジンイオン、ピリジニウムイオン、アンモニウムイオン、スルホニウムイオン、ホスホニウムイオン等が挙げられる。また、アニオンとしては、ＣｎＨ２ｎ＋１ＣＯＯ−、ＣｎＦ２ｎ＋１ＣＯＯ−、ＮＯ３ −、ＣｎＦ２ｎ＋１ＳＯ３ −、（ＣｎＦ２ｎ＋１ＳＯ２）２Ｎ−、（ＣｎＦ２ｎ＋１ＳＯ２）３Ｃ−、ＰＯ４ ３−、ＡｌＣｌ４ −、Ａｌ２Ｃｌ７ −、ＣｌＯ４ −、ＢＦ４ −、ＰＦ６ −、ＡｓＦ６ −、ＳｂＦ６ −等が挙げられる。
ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤に対する帯電防止剤の添加量は、帯電防止剤の種類や、剥離剤との親和性の度合いにより異なる。帯電防止剤の添加量は、表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、望まれる剥離帯電圧、被着体に対する汚染性、粘着特性などを考慮して設定すればよい。
Examples of the ionic compound having a melting point of less than 30 ° C. include an ionic compound having a cation and an anion, and the cation includes a cyclic amidin ion such as imidazolium ion, a pyridinium ion, an ammonium ion, a sulfonium ion, and a phosphonium ion. Be done. As the anion, C n H 2n + 1 COO -, C n F 2n + 1 COO -, NO 3 -, C n F 2n + 1 SO 3 -, (C n F 2n + 1 SO 2) 2 N -, (C n F 2n + 1 SO 2 ) Examples thereof include 3 C − , PO 4 3 − , AlCl 4 −, Al 2 Cl 7 − , ClO 4 − , BF 4 − , PF 6 − , AsF 6 − , and SbF 6 −.
The amount of the antistatic agent added to the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component varies depending on the type of the antistatic agent and the degree of affinity with the release agent. The amount of the antistatic agent added may be set in consideration of the desired peeling band voltage when the surface protective film is peeled from the adherend, the contamination with the adherend, the adhesive properties, and the like.
剥離剤層４を構成する帯電防止補助剤は、粘着剤層の表面の帯電防止性を向上するために用いられる。こうした帯電防止補助剤としては、ポリエーテル変性シリコーンが好適である。ポリエーテル変性シリコーンにおけるポリエーテル鎖は、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイドなどで構成され、例えば、側鎖に用いるポリエチレンオキサイドの分子量を選択することにより、シリコーン剥離剤との相溶性や帯電防止効果などの物性が調整される。
また、ポリエーテル変性シリコーンとして市販されている製品には、例えば、ＫＦ−３５１Ａ、ＫＦ−３５２Ａ、ＫＦ−３５３、ＫＦ−３５４Ｌ、ＫＦ−３５５Ａ、ＫＦ−６４２（信越化学工業（株）製）、ＳＨ８４００、ＳＨ８７００、ＳＦ８４１０（東レダウコーニング（株）製）、ＴＳＦ−４４４０、ＴＳＦ−４４４１、ＴＳＦ−４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ−４４５０（モメンティブパーフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＢＹＫ−３００、ＢＹＫ−３０６、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３２０、ＢＹＫ−３２５、ＢＹＫ−３３０（ビックケミー社製）などが挙げられる。
ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤に対するポリエーテル変性シリコーンの添加量は、ポリエーテル変性シリコーンの種類や、剥離剤との相溶性の度合いにより異なるが、表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、望まれる剥離帯電圧、被着体に対する汚染性、粘着特性などを考慮して設定すればよい。
The antistatic auxiliary agent constituting the release agent layer 4 is used to improve the antistatic property of the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. As such an antistatic auxiliary agent, polyether-modified silicone is suitable. The polyether chain in the polyether-modified silicone is composed of ethylene oxide, propylene oxide, etc. For example, by selecting the molecular weight of the polyethylene oxide used for the side chain, physical properties such as compatibility with the silicone release agent and antistatic effect can be obtained. Is adjusted.
In addition, products commercially available as polyether-modified silicone include, for example, KF-351A, KF-352A, KF-353, KF-354L, KF-355A, KF-642 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). SH8400, SH8700, SF8410 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), TSF-4440, TSF-4441, TSF-4445, TSF-4446, TSF-4450 (manufactured by Momentive Performance Materials), BYK-300, BYK -306, BYK-307, BYK-320, BYK-325, BYK-330 (manufactured by Big Chemie) and the like.
The amount of the polyether-modified silicone added to the release agent containing dimethylpolysiloxane as the main component varies depending on the type of the polyether-modified silicone and the degree of compatibility with the release agent, but the surface protective film is peeled off from the adherend. The setting may be made in consideration of the desired peeling band voltage, the contaminating property on the adherend, the adhesive property, and the like at that time.
ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、帯電防止剤および帯電防止補助剤との混合方法には、特に限定はない。ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤に、帯電防止剤および帯電防止補助剤を添加して、混合した後に剥離剤硬化用の触媒を添加・混合する方法、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤を、あらかじめ有機溶剤で希釈したのちに帯電防止剤および帯電防止補助剤と剥離剤硬化用の触媒を添加、混合する方法、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤をあらかじめ有機溶剤に希釈後、触媒を添加・混合し、その後帯電防止剤と帯電防止補助剤を添加、混合する方法など、いずれの方法でも良い。また、必要に応じて、シランカップリング剤などの密着向上剤やポリオキシアルキレン基を含有する化合物などの帯電防止効果を補助する材料、を添加しても良い。 The method of mixing the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component with the antistatic agent and the antistatic auxiliary agent is not particularly limited. A method in which an antistatic agent and an antistatic auxiliary agent are added to a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, and then a catalyst for curing the release agent is added and mixed after mixing. A method of diluting the agent with an organic solvent in advance, then adding and mixing an antistatic agent, an antistatic auxiliary agent and a catalyst for curing the release agent, and after diluting the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component with an organic solvent in advance. , A catalyst is added and mixed, and then an antistatic agent and an antistatic auxiliary agent are added and mixed, or any other method may be used. Further, if necessary, an adhesion improver such as a silane coupling agent or a material that assists the antistatic effect such as a compound containing a polyoxyalkylene group may be added.
ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、帯電防止剤および帯電防止補助剤との混合比率は、特に限定はないが、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の固形分１００に対して、帯電防止剤および帯電防止補助剤の合計を固形分として５〜１００程度の割合が好ましい。帯電防止剤および帯電防止補助剤の合計の固形分換算の添加量が、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の固形分１００に対して５の割合より少ないと、粘着剤層の表面への帯電防止剤および帯電防止補助剤の転写量も少なくなり、粘着剤に帯電防止の機能が発揮され難くなる。また、帯電防止剤および帯電防止補助剤の合計の固形分換算の添加量が、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の固形分１００に対して１００の割合を越えると、帯電防止剤および帯電防止補助剤とともにジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤も、粘着剤層の表面に転写されてしまうため、粘着剤の粘着特性を低下させる可能性がある。 The mixing ratio of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component and the antistatic agent and the antistatic auxiliary agent is not particularly limited, but with respect to the solid content 100 of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, The total solid content of the antistatic agent and the antistatic auxiliary agent is preferably about 5 to 100. When the total amount of the antistatic agent and the antistatic auxiliary agent added in terms of solid content is less than 5 with respect to the solid content of 100 of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, it is applied to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. The transfer amount of the antistatic agent and the antistatic auxiliary agent is also reduced, and it becomes difficult for the adhesive to exert the antistatic function. Further, when the total amount of the antistatic agent and the antistatic auxiliary agent added in terms of solid content exceeds 100 with respect to the solid content of 100 of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, the antistatic agent and the antistatic agent are charged. Along with the antistatic agent, a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component is also transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, which may reduce the pressure-sensitive adhesive properties of the pressure-sensitive adhesive.
本発明に係わる表面保護フィルム１０の基材フィルム１に、粘着剤層２を形成する方法、及び剥離フィルム５を貼合する方法は、公知の方法で行えばよく、特に限定されない。具体的には、（１）基材フィルム１の片面に、粘着剤層２を形成するための樹脂組成物を塗布、乾燥し、粘着剤層を形成した後に、剥離フィルム５を貼合する方法、（２）剥離フィルム５の表面に、粘着剤層２を形成するための樹脂組成物を塗布・乾燥し、粘着剤層を形成した後に、基材フィルム１を貼合する方法などが挙げられるが、いずれの方法を用いても良い。
The method of forming the pressure-
また、基材フィルム１の表面に、粘着剤層２を形成するのは、公知の方法で行えばよい。具体的には、リバースコーティング、コンマコーティング、グラビアコーティング、スロットダイコーティング、メイヤーバーコーティング、エアーナイフコーティングなどの、公知の塗工方法を使用することができる。
Further, the pressure-
また、同様に、樹脂フィルム３に、剥離剤層４を形成するのは、公知の方法で行えばよい。具体的には、グラビアコーティング、メイヤーバーコーティング、エアーナイフコーティングなどの、公知の塗工方法を使用することができる。 Similarly, the release agent layer 4 may be formed on the resin film 3 by a known method. Specifically, known coating methods such as gravure coating, Mayer bar coating, and air knife coating can be used.
上記の構成を有する、本発明に係わる表面保護フィルム１０は、被着体である光学用フィルムから粘着剤層を剥離する際の表面電位が、＋０．７ｋＶ〜−０．７ｋＶであることが好ましい。さらに、表面電位が、＋０．５ｋＶ〜−０．５ｋＶであることがより好ましく、表面電位が、＋０．１ｋＶ〜−０．１ｋＶであることが特に好ましい。この表面電位は、剥離剤層に含有される帯電防止剤および帯電防止補助剤の種類、添加量等を加減することによって調整できる。
The surface
図２は、本発明の表面保護フィルムから、剥離フィルムを剥がした状態を示す断面図である。
図１に示した表面保護フィルム１０から、剥離フィルム５を剥がすことにより、剥離フィルム５の剥離剤層４に含まれる帯電防止剤および帯電防止補助剤（符号７）の一部が、表面保護フィルム１０の粘着剤層２の表面に、転写される（付着する）。そのため、図２においては、剥離フィルムを剥がした状態の表面保護フィルム１１の粘着剤層２の表面に転写された帯電防止剤および帯電防止補助剤を、符号７の斑点で模式的に示している。帯電防止剤および帯電防止補助剤の成分７が、剥離フィルム５から粘着剤層２の表面に転写されることにより、転写する前の粘着剤層２に比べて、粘着剤層２を被着体から剥離するときの剥離帯電圧が低減される。なお、粘着剤層を被着体から剥離する際の剥離帯電圧は、公知の方法で測定可能である。例えば、表面保護フィルムを偏光板などの被着体に貼り合せた後、高速剥離試験機（テスター産業製）を用いて毎分４０ｍの剥離速度で表面保護フィルムを剥離しながら、被着体表面の表面電位を、表面電位計（キーエンス（株）製）を用いて１０ｍｓ毎に測定したときの、表面電位の絶対値の最大値を、剥離帯電圧（ｋＶ）として測定する。
本発明に係わる表面保護フィルムでは、図２に示した剥離フィルムを剥がした状態の表面保護フィルム１１を、被着体に貼合するに当たり、この粘着剤層２の表面に剥離剤層から転写された、帯電防止剤および帯電防止補助剤が、被着体の表面に接触する。そのことにより、再度、被着体から表面保護フィルムを剥がす時の、剥離帯電圧を低く抑えることができる。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a state in which the release film is peeled off from the surface protective film of the present invention.
By peeling the
In the surface protective film according to the present invention, when the surface
図３は、本発明の光学部品の実施例を示した断面図である。
本発明の表面保護フィルム１０から、剥離フィルム５が剥がされて、粘着剤層２が表出した状態で、その粘着剤層２を介して被着体である光学部品８に貼合される。
すなわち、図３には、本発明の表面保護フィルム１１が貼合された光学部品２０を示している。光学部品としては、偏光板、位相差板、レンズフィルム、位相差板兼用の偏光板、レンズフィルム兼用の偏光板などの光学用フィルムが挙げられる。このような光学部品は、液晶表示パネルなどの液晶表示装置、各種計器類の、光学系装置等の構成部材として使用される。また、光学部品としては、反射防止フィルム、ハードコートフィルム、タッチパネル用透明導電性フィルムなどの、光学用フィルムも挙げられる。
本発明の光学部品によれば、表面保護フィルム１１を、被着体である光学部品（光学用フィルム）から剥離除去するとき、剥離帯電圧を充分に低く抑制することができる。そのため、ドライバーＩＣ、ＴＦＴ素子、ゲート線駆動回路などの回路部品を破壊する恐れがなく、液晶表示パネル等を製造する工程での生産効率を高め、生産工程の信頼性を保つことができる。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing an embodiment of the optical component of the present invention.
The
That is, FIG. 3 shows the optical component 20 to which the surface
According to the optical component of the present invention, when the surface
次に、実施例により、本発明をさらに説明する。
（実施例１）
（表面保護フィルムの作製）
付加反応型のシリコーン（東レダウコーニング（株）製、品名：ＳＲＸ−３４５）５重量部、融点が２７．５℃のイオン性化合物であるトリ−ｎ−ブチルメチルアンモニウム ビストリフルオロメタンスルホンイミド（スリーエム社製ＦＣ−４４００）１０％酢酸エチル溶液７．５重量部、ポリエーテル変性シリコーン（東レダウコーニング（株）製、品名：ＳＨ８４００）０．３重量部、トルエンと酢酸エチルの１：１の混合溶媒９５重量部、白金触媒（東レダウコーニング（株）製、品名：ＳＲＸ−２１２）０．０５重量部を混ぜ合わせて撹拌・混合して、実施例１の剥離剤層を形成する塗料を調整した。厚みが３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、実施例１の剥離剤層を形成する塗料を、乾燥後の厚みが０．２μｍになるようにメイヤーバーにて塗布し、１２０℃の熱風循環式オーブンにて１分間乾燥し、実施例１の剥離フィルムを得た。一方、２−エチルヘキシルアクリレートと、２−ヒドロキシエチルアクリレートとを、９６：４の重量比で共重合した、重量平均分子量４７万のアクリレート共重合体３０重量部を、酢酸エチル７０重量部に溶解した粘着剤ポリマー溶液（固形分３０％の酢酸エチル溶液）１００重量部に対して、ＨＤＩ系硬化剤（東ソー（株）製、品名：コロネート（登録商標）ＨＸ）１．２重量部を添加、混合して、実施例１の粘着剤組成物を調合した。なお、「ＨＤＩ系」とは、「ヘキサメチレンジイソシアネート系」を意味する。
厚みが３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、実施例１の粘着剤組成物を、乾燥後の厚みが２０μｍとなるように塗布した後、１００℃の熱風循環式オーブンにて２分間乾燥させて粘着剤層を形成した。その後、この粘着剤層の表面に、上記にて作製した、実施例１の剥離フィルムの剥離剤層（シリコーン処理面）を貼合した。得られた粘着フィルムを、４０℃の環境下で５日間保温し、粘着剤層を硬化させて、実施例１の表面保護フィルムを得た。
Next, the present invention will be further described with reference to Examples.
(Example 1)
(Preparation of surface protection film)
Addition reaction type silicone (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX-345) 5 parts by weight, tri-n-butylmethylammonium bistrifluoromethanesulfonimide (3M) which is an ionic compound having a melting point of 27.5 ° C. FC-4400) 10% ethyl acetate solution 7.5 parts by weight, polyether-modified silicone (manufactured by Toray Couning Co., Ltd., product name: SH8400) 0.3 parts by weight, 1: 1 mixture of toluene and ethyl acetate 95 parts by weight of the solvent and 0.05 parts by weight of the platinum catalyst (manufactured by Toledau Corning Co., Ltd., product name: SRX-212) are mixed, stirred and mixed to prepare the coating material forming the release agent layer of Example 1. did. The paint forming the release agent layer of Example 1 is applied to the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm with a Mayer bar so that the thickness after drying becomes 0.2 μm, and a hot air circulation oven at 120 ° C. The film was dried for 1 minute to obtain a release film of Example 1. On the other hand, 30 parts by weight of an acrylate copolymer having a weight average molecular weight of 470,000 obtained by copolymerizing 2-ethylhexyl acrylate and 2-hydroxyethyl acrylate at a weight ratio of 96: 4 was dissolved in 70 parts by weight of ethyl acetate. Add 1.2 parts by weight of an HDI-based curing agent (manufactured by Toso Co., Ltd., product name: Coronate (registered trademark) HX) to 100 parts by weight of a pressure-sensitive adhesive polymer solution (ethyl acetate solution having a solid content of 30%) and mix. Then, the pressure-sensitive adhesive composition of Example 1 was prepared. The "HDI system" means "hexamethylene diisocyanate system".
The pressure-sensitive adhesive composition of Example 1 was applied to the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm so that the thickness after drying was 20 μm, and then dried in a hot air circulation oven at 100 ° C. for 2 minutes to adhere. A drug layer was formed. Then, the release agent layer (silicone-treated surface) of the release film of Example 1 prepared above was bonded to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. The obtained pressure-sensitive adhesive film was kept warm in an environment of 40 ° C. for 5 days to cure the pressure-sensitive adhesive layer to obtain the surface protective film of Example 1.
（比較例１）
付加反応型のシリコーン（東レダウコーニング（株）製、品名：ＳＲＸ−３４５）５重量部、トルエンと酢酸エチルの１：１の混合溶媒９５重量部、白金触媒（東レダウコーニング（株）製、品名：ＳＲＸ−２１２）０．０５重量部を混ぜ合わせて撹拌・混合して、比較例１の剥離剤層を形成する塗料を調整した。厚みが３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、比較例１の剥離剤層を形成する塗料を、乾燥後の厚みが０．２μｍになるようにメイヤーバーにて塗布し、１２０℃の熱風循環式オーブンにて１分間乾燥し、比較例１の剥離フィルムを得た。一方、実施例１の粘着剤ポリマー溶液（固形分３０％の酢酸エチル溶液）１００重量部に対して、融点が２７．５℃のイオン性化合物であるトリ−ｎ−ブチルメチルアンモニウム ビストリフルオロメタンスルホンイミド（スリーエム社製ＦＣ−４４００）１０％酢酸エチル溶液３重量部、ＨＤＩ系硬化剤（東ソー（株）製、品名：コロネート（登録商標）ＨＸ）１．２重量部を添加、混合して、比較例１の粘着剤組成物を調合した。
厚みが３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、比較例１の粘着剤組成物を、乾燥後の厚みが２０μｍとなるように塗布した後、１００℃の熱風循環式オーブンにて２分間乾燥させて粘着剤層を形成した。その後、この粘着剤層の表面に、上記にて作製した、比較例１の剥離フィルムの剥離剤層（シリコーン処理面）を貼合した。得られた粘着フィルムを、４０℃の環境下で５日間保温し、粘着剤層を硬化させて、比較例１の表面保護フィルムを得た。
(Comparative Example 1)
Addition reaction type silicone (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX-345) 5 parts by weight, 95 parts by weight of a 1: 1 mixed solvent of toluene and ethyl acetate, platinum catalyst (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., Product name: SRX-212) 0.05 parts by weight were mixed, stirred and mixed to prepare a coating material forming the release agent layer of Comparative Example 1. On the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm, a paint for forming a release agent layer of Comparative Example 1 is applied with a Mayer bar so that the thickness after drying becomes 0.2 μm, and a hot air circulation type oven at 120 ° C. The film was dried for 1 minute to obtain a release film of Comparative Example 1. On the other hand, tri-n-butylmethylammonium bistrifluoromethanesulfone, which is an ionic compound having a melting point of 27.5 ° C., with respect to 100 parts by weight of the pressure-sensitive adhesive polymer solution (ethyl acetate solution having a solid content of 30%) of Example 1. Add and mix 3 parts by weight of imide (FC-4400 manufactured by 3M) 10% ethyl acetate solution and 1.2 parts by weight of HDI-based curing agent (manufactured by Toso Co., Ltd., product name: Coronate (registered trademark) HX). The pressure-sensitive adhesive composition of Comparative Example 1 was prepared.
The pressure-sensitive adhesive composition of Comparative Example 1 was applied to the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm so that the thickness after drying was 20 μm, and then dried in a hot air circulation oven at 100 ° C. for 2 minutes to adhere. A drug layer was formed. Then, the release agent layer (silicone-treated surface) of the release film of Comparative Example 1 prepared above was bonded to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. The obtained pressure-sensitive adhesive film was kept warm in an environment of 40 ° C. for 5 days to cure the pressure-sensitive adhesive layer to obtain a surface protective film of Comparative Example 1.
（比較例２）
粘着剤層に、融点が２７．５℃のイオン性化合物であるトリ−ｎ−ブチルメチルアンモニウム ビストリフルオロメタンスルホンイミドを含有させなかった以外は、比較例１と同様にして、比較例２の表面保護フィルムを得た。
(Comparative Example 2)
The surface of Comparative Example 2 in the same manner as in Comparative Example 1 except that the pressure-sensitive adhesive layer did not contain tri-n-butylmethylammonium bistrifluoromethanesulfonimide, which is an ionic compound having a melting point of 27.5 ° C. Obtained a protective film.
（比較例３）
剥離剤層に、ポリエーテル変性シリコーンを含有させなかった以外は、実施例１と同様にして、比較例３の表面保護フィルムを得た。
(Comparative Example 3)
A surface protective film of Comparative Example 3 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the release agent layer did not contain the polyether-modified silicone.
（実施例２）
実施例１の粘着剤組成物の代わりに、２−エチルヘキシルアクリレートと、ブチルアクリレートと２−ヒドロキシエチルアクリレートとを、６０：３６：４の重量比で共重合した、重量平均分子量４８万のアクリレート共重合体３０重量部を、酢酸エチル７０重量部に溶解した粘着剤ポリマー溶液（固形分３０％の酢酸エチル溶液）１００重量部に対して、ＨＤＩ系硬化剤（東ソー（株）製、品名：コロネート（登録商標）ＨＸ）１．２重量部を添加、混合した粘着剤組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして、実施例２の表面保護フィルムを得た。
(Example 2)
Instead of the pressure-sensitive adhesive composition of Example 1, 2-ethylhexyl acrylate, butyl acrylate and 2-hydroxyethyl acrylate were copolymerized at a weight ratio of 60:36: 4, and the acrylate having a weight average molecular weight of 480,000 was used. HDI-based curing agent (manufactured by Toso Co., Ltd., product name: Coronate) with respect to 100 parts by weight of an adhesive polymer solution (ethyl acetate solution having a solid content of 30%) in which 30 parts by weight of the polymer is dissolved in 70 parts by weight of ethyl acetate. (Registered Trademark) HX) A surface protective film of Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that an adhesive composition in which 1.2 parts by weight was added and mixed was used.
（実施例３）
実施例１の粘着剤組成物の代わりに、２−エチルヘキシルアクリレートと、メトキシポリエチレングリコール（４００）メタクリレートと、２−ヒドロキシエチルアクリレートとを、８６：１０：４の重量比で共重合した、重量平均分子量３８万の（メタ）アクリレート共重合体３０重量部を、酢酸エチル７０重量部に溶解した粘着剤ポリマー溶液（固形分３０％の酢酸エチル溶液）１００重量部に対して、ＨＤＩ系硬化剤（東ソー（株）製、品名：コロネート（登録商標）ＨＸ）１．２重量部を添加、混合した粘着剤組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして、実施例３の表面保護フィルムを得た。
(Example 3)
Instead of the pressure-sensitive adhesive composition of Example 1, 2-ethylhexyl acrylate, methoxypolyethylene glycol (400) methacrylate, and 2-hydroxyethyl acrylate were copolymerized at a weight ratio of 86: 10: 4, weight average. An HDI-based curing agent (HDI-based curing agent) based on 100 parts by weight of a pressure-sensitive adhesive polymer solution (ethyl acetate solution having a solid content of 30%) in which 30 parts by weight of a (meth) acrylate copolymer having a molecular weight of 380,000 was dissolved in 70 parts by weight of ethyl acetate. The surface protective film of Example 3 in the same manner as in Example 1 except that an adhesive composition manufactured by Toso Co., Ltd., product name: Coronate (registered trademark) HX) 1.2 parts by weight was added and mixed was used. Got
以下、評価試験の方法および結果について示す。
〈剥離フィルムの剥離力の測定方法〉
表面保護フィルムのサンプルを、幅５０ｍｍ、長さ１５０ｍｍに裁断する。２３℃×５０％ＲＨの試験環境下、引張試験機を用いて３００ｍｍ／分の剥離速度で１８０°の方向に、剥離フィルムを剥離したときの強度を測定し、これを剥離フィルムの剥離力（Ｎ／５０ｍｍ）とした。
The methods and results of the evaluation test are shown below.
<Measurement method of peeling force of release film>
A sample of the surface protective film is cut into a width of 50 mm and a length of 150 mm. In a test environment of 23 ° C. x 50% RH, the strength when the peeling film was peeled off was measured in the direction of 180 ° at a peeling speed of 300 mm / min using a tensile tester, and this was measured as the peeling force of the peeling film (the peeling force of the peeling film ( N / 50 mm).
〈表面保護フィルムの粘着力の測定方法〉
ガラス板の表面に、アンチグレア低反射処理偏光板（ＡＧ−ＬＲ偏光板）を、貼合機を用いて両面粘着テープにより貼合した。その後、偏光板の表面に、幅２５ｍｍに裁断した表面保護フィルムを貼合した後、２３℃×５０％ＲＨの試験環境下に１日間保管した。その後、引張試験機を用いて３００ｍｍ／分の剥離速度で１８０°の方向に、表面保護フィルムを剥離したときの強度を測定し、これを粘着力（Ｎ／２５ｍｍ）とした。
<Measurement method of adhesive strength of surface protective film>
An anti-glare low-reflection treated polarizing plate (AG-LR polarizing plate) was bonded to the surface of the glass plate with a double-sided adhesive tape using a bonding machine. Then, a surface protective film cut to a width of 25 mm was attached to the surface of the polarizing plate, and then stored in a test environment of 23 ° C. × 50% RH for 1 day. Then, the strength when the surface protective film was peeled off was measured in the direction of 180 ° at a peeling speed of 300 mm / min using a tensile tester, and this was defined as the adhesive strength (N / 25 mm).
〈表面保護フィルムの剥離帯電圧の測定方法〉
ガラス板の表面に、アンチグレア低反射処理偏光板（ＡＧ−ＬＲ偏光板）を、貼合機を用いて両面粘着テープにより貼合した。その後、偏光板の表面に、幅２５ｍｍに裁断した表面保護フィルムを貼合した後、２３℃×５０％ＲＨの試験環境下に１日間保管した。その後、高速剥離試験機（テスター産業製）を用いて毎分４０ｍの剥離速度で表面保護フィルムを剥離しながら、前記偏光板表面の表面電位を、表面電位計（キーエンス（株）製）を用いて１０ｍｓ毎に測定したときの、表面電位の絶対値の最大値を、剥離帯電圧（ｋＶ）とした。
<Measurement method of peeling band voltage of surface protective film>
An anti-glare low-reflection treated polarizing plate (AG-LR polarizing plate) was bonded to the surface of the glass plate with a double-sided adhesive tape using a bonding machine. Then, a surface protective film cut to a width of 25 mm was attached to the surface of the polarizing plate, and then stored in a test environment of 23 ° C. × 50% RH for 1 day. Then, while peeling the surface protective film at a peeling speed of 40 m / min using a high-speed peeling tester (manufactured by Tester Sangyo), the surface potential of the polarizing plate surface was measured using a surface electrometer (manufactured by Keyence Co., Ltd.). The maximum value of the absolute value of the surface potential when measured every 10 ms was defined as the stripping band voltage (kV).
〈表面保護フィルムの表面汚染性の確認方法〉
ガラス板の表面に、アンチグレア低反射処理偏光板（ＡＧ−ＬＲ偏光板）を、貼合機を用いて両面粘着テープにより貼合した。その後、偏光板の表面に、幅２５ｍｍに裁断した表面保護フィルムを貼合した後、２３℃×５０％ＲＨの試験環境下に３日および３０日保管した。その後、表面保護フィルムを剥がし、偏光板の表面における汚染の有無を目視にて観察した。表面汚染性の判定基準として、偏光板に汚染の移行が無かった場合を（○）とし、偏光板に汚染の移行が確認された場合を（×）とした。
<How to check the surface contamination of the surface protection film>
An anti-glare low-reflection treated polarizing plate (AG-LR polarizing plate) was bonded to the surface of the glass plate with a double-sided adhesive tape using a bonding machine. Then, a surface protective film cut to a width of 25 mm was attached to the surface of the polarizing plate, and then stored in a test environment of 23 ° C. × 50% RH for 3 days and 30 days. Then, the surface protective film was peeled off, and the presence or absence of contamination on the surface of the polarizing plate was visually observed. As a criterion for determining surface contamination, the case where no contamination was transferred to the polarizing plate was evaluated as (◯), and the case where the transfer of contamination was confirmed on the polarizing plate was evaluated as (x).
得られた実施例１〜３及び比較例１〜３の表面保護フィルムについて、測定した測定結果を表１〜２に示した。「２ＥＨＡ」は、２−エチルヘキシルアクリレートを、「ＨＥＡ」は、２−ヒドロキシエチルアクリレートを、「ＢＡ」はブチルアクリレートを、「＃４００Ｇ」はメトキシポリエチレングリコール（４００）メタクリレートを、「ＦＣ４４００」は、トリ−ｎ−ブチルメチルアンモニウム ビストリフルオロメタンスルホンイミドを、それぞれ意味する。表１、２において、粘着剤層の組成は、粘着剤ポリマー（固形分）の全量が、約１００重量部となるように、重量部で表している。このため、比較例１の粘着剤層において、粘着剤ポリマー（固形分）とＦＣ４４００との重量比率は、３０重量部：０．３重量部＝１００重量部：１．０重量部となる。 The measured measurement results of the obtained surface protective films of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3 are shown in Tables 1 and 2. "2EHA" is 2-ethylhexyl acrylate, "HEA" is 2-hydroxyethyl acrylate, "BA" is butyl acrylate, "# 400G" is methoxypolyethylene glycol (400) methacrylate, and "FC4400" is. It means tri-n-butylmethylammonium bistrifluoromethanesulfonimide, respectively. In Tables 1 and 2, the composition of the pressure-sensitive adhesive layer is represented by parts by weight so that the total amount of the pressure-sensitive adhesive polymer (solid content) is about 100 parts by weight. Therefore, in the pressure-sensitive adhesive layer of Comparative Example 1, the weight ratio of the pressure-sensitive adhesive polymer (solid content) to FC4400 is 30 parts by weight: 0.3 parts by weight = 100 parts by weight: 1.0 parts by weight.
表１および表２に示した測定結果から、以下のことが分かる。
本発明に係わる実施例１〜３の表面保護フィルムは、適度な粘着力があり、被着体の表面を汚染することがなく、かつ、表面保護フィルムを被着体から剥離した時の剥離帯電圧が低い。
一方、帯電防止剤を粘着剤層に含有させた比較例１の表面保護フィルムは、表面保護フィルムを被着体から剥離した時の剥離帯電圧が低く良好であるが、剥離した後の、被着体に対する汚染が多くなった。
また、表面保護フィルムの粘着剤層及び剥離フィルムの剥離剤層の両方に、帯電防止剤を含有させなかった比較例２の表面保護フィルムでは、被着体に対する汚染性は良好であるが、表面保護フィルムを被着体から剥離した時の剥離帯電圧が高くなった。
すなわち、表面保護フィルムの粘着剤層に帯電防止剤を含有させた比較例１の表面保護フィルムや、表面保護フィルムの粘着剤層及び剥離フィルムの剥離剤層のいずれにも、帯電防止剤を含有させていない比較例２の表面保護フィルムでは、剥離帯電圧の低減と被着体に対する汚染性を両立することが難しい。
他方、剥離フィルムの剥離剤層に、帯電防止剤と帯電防止補助剤とを含有させた後、粘着剤層の表面のみに、剥離剤層の帯電防止剤と帯電防止補助剤とを転写させた実施例１〜３の表面保護フィルムでは、少量の帯電防止補助剤の添加で剥離帯電圧の著しい低減効果があるため、被着体に対する汚染もなく、剥離帯電防止性能も良好であった。
また、剥離剤層に帯電防止剤のみを含有させ、帯電防止補助剤を含有させなかった比較例３の表面保護フィルムでは、被着体に対する汚染もなく、剥離帯電防止性能も良好であった。しかし、剥離剤層に帯電防止剤と帯電防止補助剤とを含有させた実施例１〜３の表面保護フィルムに比べると、剥離帯電圧が高くなった。
From the measurement results shown in Tables 1 and 2, the following can be seen.
The surface protective films of Examples 1 to 3 according to the present invention have appropriate adhesive strength, do not contaminate the surface of the adherend, and have a peeling band when the surface protective film is peeled off from the adherend. The voltage is low.
On the other hand, the surface protective film of Comparative Example 1 in which the antistatic agent is contained in the pressure-sensitive adhesive layer has a low peeling band voltage when the surface protective film is peeled from the adherend, and is good. There was a lot of contamination on the body.
Further, the surface protective film of Comparative Example 2 in which both the pressure-sensitive adhesive layer of the surface protective film and the release agent layer of the release film did not contain an antistatic agent had good stain resistance to the adherend, but the surface. The peeling band voltage when the protective film was peeled from the adherend became high.
That is, the antistatic agent is contained in both the surface protection film of Comparative Example 1 in which the pressure-sensitive adhesive layer of the surface protection film contains an antistatic agent, the pressure-sensitive adhesive layer of the surface protection film, and the release agent layer of the release film. With the surface protective film of Comparative Example 2 which is not used, it is difficult to achieve both reduction of the peeling zone voltage and contamination of the adherend.
On the other hand, after the antistatic agent and the antistatic auxiliary agent were contained in the release agent layer of the release film, the antistatic agent and the antistatic auxiliary agent of the release agent layer were transferred only to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. In the surface protective films of Examples 1 to 3, the addition of a small amount of antistatic auxiliary had a significant effect of reducing the peeling zone voltage, so that there was no contamination on the adherend and the peeling antistatic performance was also good.
Further, in the surface protective film of Comparative Example 3 in which only the antistatic agent was contained in the release agent layer and no antistatic auxiliary agent was contained, there was no contamination on the adherend and the release antistatic performance was also good. However, the peeling band voltage was higher than that of the surface protective films of Examples 1 to 3 in which the release agent layer contained the antistatic agent and the antistatic auxiliary agent.
本発明の表面保護フィルムは、例えば、偏光板、位相差板、レンズフィルム、などの光学用フィルム、その他、各種の光学部品等の生産工程などにおいて、該光学部品等に貼合して表面を保護するために用いることができる。また、本発明の表面保護フィルムは、被着体から剥離する時に発生する静電気の量を低くでき、かつ、剥離帯電防止性能の経時変化および被着体に対する汚染が少なく、生産工程の歩留まりを向上させることができ、産業上の利用価値が大である。 The surface protective film of the present invention is attached to an optical component such as a polarizing plate, a retardation plate, a lens film, or the like in a production process of various other optical components to form a surface. It can be used for protection. Further, the surface protective film of the present invention can reduce the amount of static electricity generated when the film is peeled from the adherend, and the peeling antistatic performance is less likely to change with time and the adherend is less contaminated, thereby improving the yield of the production process. It can be made to have great industrial utility value.
１…基材フィルム、２…粘着剤層、３…樹脂フィルム、４…剥離剤層、５…剥離フィルム、７…帯電防止剤と帯電防止補助剤、８…被着体（光学部品）、１０…表面保護フィルム、１１…剥離フィルムを剥がした表面保護フィルム、２０…表面保護フィルムを貼合した光学部品。 1 ... Base film, 2 ... Adhesive layer, 3 ... Resin film, 4 ... Release agent layer, 5 ... Release film, 7 ... Antistatic agent and antistatic auxiliary agent, 8 ... Adhesive body (optical component), 10 ... Surface protective film, 11 ... Surface protective film from which the release film has been peeled off, 20 ... Optical components to which the surface protective film is attached.
Claims (3)
前記粘着剤層が、（メタ）アクリレート共重合体と、架橋剤とを含有する粘着剤組成物を架橋させてなり、かつ、帯電防止剤を含有しておらず、
前記剥離フィルムが、樹脂フィルムの片面に、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、前記剥離剤と反応しない帯電防止剤と、帯電防止補助剤とを含有する剥離剤層を積層してなり、
前記帯電防止剤の成分が、融点が３０℃未満のイオン性化合物（但し、アルカリ金属塩ではない）であり、前記帯電防止補助剤が、ポリエーテル変性シリコーンであり、
前記イオン性化合物が、カチオンとアニオンを有するイオン性化合物であり、
前記帯電防止剤の成分と前記帯電防止補助剤とが、前記剥離フィルムの前記剥離剤層から前記粘着剤層の表面に転写されてなり、
前記表面保護フィルムを被着体である光学部品に貼り合せた後、前記表面保護フィルムの前記粘着剤層を、前記被着体である光学部品から剥離するときの剥離帯電圧が低減され、
前記表面保護フィルムの前記粘着剤層を、前記被着体である光学部品から剥離する際の表面電位が、＋０．１ｋＶ〜−０．１ｋＶであることを特徴とする表面保護フィルム。 A surface protective film in which an adhesive layer is formed on one side of a base film made of a transparent resin, and a release film having a release agent layer is bonded onto the pressure-sensitive adhesive layer.
The pressure-sensitive adhesive layer is formed by cross-linking a pressure-sensitive adhesive composition containing a (meth) acrylate copolymer and a cross-linking agent, and does not contain an antistatic agent.
The release film is formed by laminating a release agent layer containing a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, an antistatic agent that does not react with the release agent, and an antistatic auxiliary agent on one side of a resin film. ,
The component of the antistatic agent is an ionic compound having a melting point of less than 30 ° C. (however, it is not an alkali metal salt), and the antistatic auxiliary agent is a polyether-modified silicone.
The ionic compound is an ionic compound having a cation and an anion.
The components of the antistatic agent and the antistatic auxiliary agent are transferred from the release agent layer of the release film to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer.
After the surface protective film is attached to the optical component which is the adherend, the peeling band voltage when the adhesive layer of the surface protective film is peeled off from the optical component which is the adherend is reduced.
A surface protective film having a surface potential of +0.1 kV to −0.1 kV when the pressure-sensitive adhesive layer of the surface protective film is peeled off from an optical component which is an adherend.
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