KR101617327B1 - Surface protection film and optical component attached with the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 피착체에 대한 오염이 적고, 또한 시간이 지나도 피착체에 대한 저오염성이 변화하지 않는 표면 보호 필름으로서, 경시 열화되지 않으며 우수한 박리 대전 방지 성능을 갖는 표면 보호 필름 및 그것을 사용한 광학 부품을 제공한다. 투명성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름(1)의 한쪽 면에 점착제층(2)이 형성되어 이루어지고, 당해 점착제층(2) 위에 박리제층(4)을 갖는 박리 필름(5)이 첩합된 표면 보호 필름(10)에 있어서, 상기 박리 필름(5)이 수지 필름(3)의 한쪽 면에 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와, 20℃에서 액체인 실리콘계 화합물과, 융점이 30∼80℃인 이온성 화합물을 포함하는 수지 조성물에 의해 상기 박리제층(4)이 형성되어 이루어지며, 상기 점착제층(2)이 아크릴계 점착제층이다.The present invention relates to a surface protective film which is less susceptible to adherence to an adherend and which does not change its low staining property to an adherend even after a lapse of time, to provide. (2) is formed on one surface of a substrate film (1) made of a resin having transparency and a surface protective film (5) having a release film (5) having a release agent layer (4) The film (10) according to any one of claims 1 to 3, wherein the release film (5) comprises a releasing agent comprising dimethylpolysiloxane as a main component, a silicone compound as a liquid at 20 캜, and an ionic The release agent layer (4) is formed by a resin composition containing a compound, and the pressure-sensitive adhesive layer (2) is an acrylic pressure-sensitive adhesive layer.

Description

표면 보호 필름 및 그것이 첩합된 광학 부품{SURFACE PROTECTION FILM AND OPTICAL COMPONENT ATTACHED WITH THE SAME}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a surface protective film,

본 발명은 편광판, 위상차판, 디스플레이용 렌즈 필름 등의 광학 부품(이하, 광학용 필름으로 칭하는 경우도 있다)의 표면에 첩합되는 표면 보호 필름에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 본 발명은 피착체에 대한 오염이 적고, 또한 경시 열화되지 않으며 우수한 박리 대전 방지 성능을 갖는 표면 보호 필름 및 그것이 첩합된 광학 부품을 제공한다.The present invention relates to a surface protective film that is applied to the surface of an optical component such as a polarizing plate, a retarder, and a lens film for display (hereinafter, sometimes referred to as an optical film). More specifically, the present invention provides a surface protective film having little peeling and no deterioration with time and excellent peeling electrification preventing performance to an adherend, and an optical component to which the surface protective film is adhered.

편광판, 위상차판, 디스플레이용 렌즈 필름, 반사 방지 필름, 하드 코트 필름, 터치 패널용 투명 도전성 필름 등의 광학용 필름 및 이를 사용한 디스플레이 등의 광학 제품을 제조, 반송할 때는 당해 광학용 필름의 표면에 표면 보호 필름을 첩합하여, 후공정에 있어서의 표면의 오염이나 흠집을 방지하는 것이 이루어지고 있다. 제품인 광학용 필름의 외관 검사는 표면 보호 필름을 박리하였다가 다시 첩합하는 수고를 생략하여 작업 효율을 높이기 위해, 표면 보호 필름을 광학용 필름에 첩합한 상태로 행하는 경우도 있다.When manufacturing and transporting an optical product such as a polarizing plate, a retardation plate, a display lens film, an antireflection film, a hard coat film, a transparent conductive film for a touch panel, and a display using the same, And the surface protective film is laminated to prevent contamination and scratches on the surface in a subsequent step. The appearance inspection of the optically-usable film may be carried out in a state in which the surface-protective film is stuck to the optical film in order to eliminate the labor of peeling the surface-protective film and joining it again to improve the working efficiency.

종래부터, 기재 필름의 한쪽 면에 점착제층을 형성한 표면 보호 필름이, 광학 제품의 제조 공정에 있어서 흠집이나 오염의 부착을 방지하기 위해 일반적으로 사용되고 있다. 표면 보호 필름은 미(微)점착력의 점착제층을 개재하여 광학용 필름에 첩합된다. 점착제층을 미점착력으로 하는 것은, 사용이 끝난 표면 보호 필름을 광학용 필름의 표면에서 박리하여 제거할 때 용이하게 박리할 수 있고, 또한 점착제가 피착체인 제품의 광학용 필름에 부착되어 잔류하지 않도록 (이른바, 점착제 잔여물의 발생을 방지)하기 위함이다.Background Art [0002] Conventionally, a surface protective film having a pressure-sensitive adhesive layer formed on one surface of a base film is generally used to prevent scratches or contamination from adhering to an optical product. The surface protective film is bonded to the optical film through a pressure sensitive adhesive layer. Adhesion of the pressure-sensitive adhesive layer to the pressure-sensitive adhesive layer can be easily released when the used surface-protecting film is peeled off from the surface of the optical film and the pressure-sensitive adhesive is adhered to the optical film of the product (To prevent the occurrence of so-called adhesive residue).

근래에는 액정 디스플레이 패널의 생산 공정에 있어서, 광학용 필름 위에 첩합된 표면 보호 필름을 박리하여 제거할 때 발생하는 박리 대전압에 의해, 액정 디스플레이의 표시 화면을 제어하기 위한 드라이버 IC 등의 회로 부품이 파괴되는 현상이나, 액정 분자의 배향이 손상되는 현상이 발생 건수는 적으나 일어나고 있다.In recent years, circuit components such as driver ICs for controlling the display screen of the liquid crystal display have been developed by the peeling electrification voltage generated when the surface protective film adhered on the optical film is peeled and removed in the production process of the liquid crystal display panel The phenomenon that the liquid crystal molecules are destroyed or the alignment of the liquid crystal molecules is damaged occurs in a small number.

또한, 액정 디스플레이 패널의 소비 전력을 저감시키기 위해 액정 재료의 구동 전압이 낮아지고 있고, 이에 수반하여 드라이버 IC의 파괴 전압도 낮아지고 있다. 최근에는, 박리 대전압을 ＋0.7㎸∼－0.7㎸ 범위 내로 하는 것이 요구되고 있다.Further, in order to reduce the power consumption of the liquid crystal display panel, the driving voltage of the liquid crystal material is lowered, and accordingly the breakdown voltage of the driver IC is lowered. In recent years, it is required to set the peeling electrification voltage within the range of +0.7 kV to -0.7 kV.

이 때문에, 표면 보호 필름을 피착체인 광학용 필름에서 박리할 때에 박리 대전압이 높은 것에 의한 문제를 방지하기 위해, 박리 대전압을 낮게 억제하기 위한 대전 방지제를 포함하는 점착제층을 사용한 표면 보호 필름이 제안되고 있다.Therefore, in order to prevent problems caused by a high peeling electrification voltage when the surface protective film is peeled off from an optical film to be adhered, a surface protective film using a pressure sensitive adhesive layer containing an antistatic agent for suppressing the peeling electrification voltage Has been proposed.

예를 들면, 특허문헌 1에는 알킬트리메틸암모늄염, 수산기 함유 아크릴계 폴리머, 폴리이소시아네이트로 이루어지는 점착제를 사용한 표면 보호 필름이 개시되어 있다.For example, Patent Document 1 discloses a surface protective film using a pressure-sensitive adhesive composed of an alkyltrimethylammonium salt, a hydroxyl group-containing acrylic polymer, and a polyisocyanate.

또한, 특허문헌 2에는 이온성 액체와 산가가 1.0 이하인 아크릴 폴리머로 이루어지는 점착제 조성물 및 그것을 사용한 점착 시트류가 개시되어 있다.Patent Document 2 discloses a pressure-sensitive adhesive composition comprising an ionic liquid and an acrylic polymer having an acid value of 1.0 or less, and pressure-sensitive adhesive sheets using the same.

또한, 특허문헌 3에는 아크릴 폴리머, 폴리에테르폴리올 화합물, 음이온 흡착성 화합물에 의해 처리된 알칼리 금속염으로 이루어지는 점착 조성물 및 그것을 사용한 표면 보호 필름이 개시되어 있다.Patent Document 3 discloses a pressure-sensitive adhesive composition comprising an alkali metal salt treated with an acrylic polymer, a polyether polyol compound, and an anion adsorptive compound, and a surface protective film using the same.

또한, 특허문헌 4에는 이온성 액체, 알칼리 금속염, 유리 전이 온도 0℃ 이하의 폴리머로 이루어지는 점착제 조성물 및 그것을 사용한 표면 보호 필름이 개시되어 있다.Patent Document 4 discloses a pressure-sensitive adhesive composition comprising an ionic liquid, an alkali metal salt, a polymer having a glass transition temperature of 0 ° C or lower, and a surface protective film using the pressure-sensitive adhesive composition.

또한, 특허문헌 5, 6에는 표면 보호 필름의 점착제층 내에 폴리에테르 변성 실리콘을 혼합하는 것이 개시되어 있다.Patent Documents 5 and 6 disclose mixing polyether-modified silicone in the pressure-sensitive adhesive layer of the surface protective film.

일본 공개특허공보 2005-131957호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-131957 일본 공개특허공보 2005-330464호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2005-330464 일본 공개특허공보 2005-314476호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2005-314476 일본 공개특허공보 2006-152235호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2006-152235 일본 공개특허공보 2009-275128호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-275128 일본 특허공보 제4537450호Japanese Patent Publication No. 4537450

상기 특허문헌 1∼4에서는 점착제층의 내부에 대전 방지제가 첨가되어 있으나, 점착제층의 두께가 두꺼워짐에 따라, 또한 경과 시간이 지남에 따라, 표면 보호 필름이 첩합된 피착체에 대해서 점착제층에서 피착체로 이행되는 대전 방지제의 양이 많아진다. 또한, LR(Low Reflective) 편광판이나 AG(Anti Glare)-LR 편광판 등의 광학용 필름에서는, 광학용 필름의 표면이 실리콘 화합물이나 불소 화합물 등으로 방오 처리되어 있기 때문에, 이러한 광학용 필름에 사용되는 표면 보호 필름을 피착체인 광학용 필름에서 박리할 때의 박리 대전압이 높아진다.In the above Patent Documents 1 to 4, an antistatic agent is added to the pressure-sensitive adhesive layer. However, as the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer becomes thicker and the elapsed time becomes longer, an adherend to which the surface- The amount of the antistatic agent transferred to the adherend increases. Further, in optical films such as LR (Low Reflective) polarizing plates and AG (Anti Glare) -LR polarizing plates, the surface of the optical film is treated with a silicone compound or a fluorine compound, The peeling electrification voltage at the time of peeling off the surface protective film from the optical film as the adherend becomes high.

또한 특허문헌 5, 6에 기재된, 점착제층 내에 폴리에테르 변성 실리콘을 혼합했을 경우에는, 표면 보호 필름의 점착력을 미조정하는 것이 곤란하다. 또한 점착제층 내에 폴리에테르 변성 실리콘이 혼합되어 있기 때문에, 점착제 조성물을 기재 필름 위에 도공·건조시키는 조건이 변화하면, 표면 보호 필름이 형성된 점착제층의 표면 특성이 미묘하게 변화한다. 게다가, 광학용 필름의 표면을 보호한다는 관점에서, 점착제층의 두께를 극단적으로 얇게 할 수 없다. 이 때문에, 점착제층의 두께에 따라 점착제층 내에 혼합하는 폴리에테르 변성 실리콘의 첨가량을 늘릴 필요가 있고, 결과적으로 피착체 표면을 오염시키기 쉬워져, 경시에서의 점착력이나 피착체에 대한 오염성이 변화한다.Further, when the polyether-modified silicone is mixed in the pressure-sensitive adhesive layer described in Patent Documents 5 and 6, it is difficult to fine-tune the adhesive strength of the surface protective film. Further, since the polyether-modified silicone is mixed in the pressure-sensitive adhesive layer, if the conditions for coating and drying the pressure-sensitive adhesive composition on the base film are changed, the surface characteristics of the pressure-sensitive adhesive layer on which the surface- In addition, from the viewpoint of protecting the surface of the optical film, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer can not be made extremely thin. For this reason, it is necessary to increase the amount of the polyether-modified silicone to be mixed in the pressure-sensitive adhesive layer depending on the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer, and as a result, the surface of the adherend tends to be easily contaminated and the sticking force with time and the staining property with respect to the adherend change .

근래에는 3D 디스플레이(입체시 디스플레이)의 보급에 수반하여, 편광판 등의 광학용 필름의 표면에 FPR(Film Patterned Retarder) 필름을 첩합한 것이 있다. 편광판 등의 광학용 필름의 표면에 첩합되어 있던 표면 보호 필름을 박리한 후에 FPR 필름이 첩합된다. 그러나, 편광판 등의 광학용 필름의 표면이 표면 보호 필름에 사용되고 있는 점착제나 대전 방지제로 오염되어 있으면, FPR 필름이 접착되기 어렵다는 문제가 있다. 이 때문에, 당해 용도에 사용되는 표면 보호 필름은 피착체에 대한 오염이 적은 것이 요구되고 있다.2. Description of the Related Art In recent years, there has been an FPR (Film Patterned Retarder) film laminated on a surface of an optical film such as a polarizing plate in conjunction with the spread of a 3D display (stereoscopic display). The FPR film is bonded after peeling the surface protective film that has been adhered to the surface of the optical film such as a polarizing plate. However, if the surface of an optical film such as a polarizing plate is contaminated with a pressure-sensitive adhesive or an antistatic agent used in the surface protective film, there is a problem that the FPR film is difficult to adhere. For this reason, it is required that the surface protective film used in this application is less contaminated with the adherend.

한편, 몇 군데의 액정 패널 메이커에서는 표면 보호 필름의 피착체에 대한 오염성의 평가 방법으로서, 편광판 등의 광학용 필름에 첩합되어 있는 표면 보호 필름을 한 번 박리하고, 기포를 혼입시킨 상태로 재첩합한 것을 소정 조건에서 가열 처리한 후, 표면 보호 필름을 박리하여 피착체의 표면을 관찰하는 방법이 채용되고 있다. 이러한 평가 방법에서는 피착체의 표면 오염이 미량이어도, 기포를 혼입시킨 부분과 표면 보호 필름의 점착제가 접하고 있던 부분에 피착체의 표면 오염의 차이가 있으면, 기포의 흔적(기포 얼룩이라고 하는 경우도 있다)으로서 남는다. 이 때문에, 피착체의 표면에 대한 오염성의 평가 방법으로는 매우 엄격한 평가 방법이 된다. 근래에는 이러한 엄격한 평가 방법에 의한 판정 결과여도 피착체의 표면에 대한 오염성에 문제가 없는 표면 보호 필름이 요구되고 있다. 그러나, 종래부터 제안되고 있는 대전 방지제를 함유하는 점착제층을 사용한 표면 보호 필름은 당해 요구를 해결하는 것이 곤란한 상황이었다.On the other hand, in some liquid crystal panel manufacturers, as a method for evaluating the stain resistance of an adherend of a surface protective film, a surface protective film adhered to an optical film such as a polarizing plate is once peeled off, A heat treatment is performed under a predetermined condition and then the surface protective film is peeled off to observe the surface of the adherend. In this evaluation method, even if the surface contamination of the adherend is minute, if there is a difference in surface contamination of the adherend at the portion where the air bubbles are mixed and the surface protective film is in contact with the pressure sensitive adhesive, there may be a trace of air bubbles ). Therefore, the evaluation method of the stain on the surface of the adherend is a very strict evaluation method. In recent years, there has been a demand for a surface protective film which does not cause contamination on the surface of an adherend even when the result of the determination is determined by such a strict evaluation method. However, it has been difficult for the surface protective film using the pressure-sensitive adhesive layer containing the antistatic agent proposed in the prior art to solve the above-mentioned demand.

이 때문에, 광학용 필름에 사용되는 표면 보호 필름으로서, 피착체에 대한 오염이 매우 적고, 또한 시간이 지나도 피착체에 대한 오염성이 변화되지 않는 표면 보호 필름이며, 또한 표면 보호 필름을 박리할 때의 박리 대전압도 낮게 억제한 표면 보호 필름이 요구되고 있다.Therefore, the surface protective film used in the optical film is a surface protective film which is very little contaminated with an adherend and does not change the staining property to an adherend even after a lapse of time. Also, There is a demand for a surface protective film in which the peeling charging voltage is suppressed to a low level.

본 발명자들은 이 과제에 대하여 예의 검토를 행하였다.The present inventors have conducted extensive studies on this problem.

피착체에 대한 오염이 적고, 또한 오염성의 경시 변화도 작게 하기 위해서는 피착체를 오염시키고 있는 것으로 추측되는 대전 방지 성분을 감량시킬 필요가 있다. 그러나, 대전 방지 성분을 감량시켰을 경우에는, 표면 보호 필름을 피착체에서 박리할 때의 박리 대전압이 높아진다. 본 발명자들은 대전 방지 성분의 절대량을 증가시키지 않으며, 표면 보호 필름을 피착체에서 박리할 때의 박리 대전압을 낮게 억제하는 방법에 대해 검토하였다.It is necessary to reduce the antistatic component which is presumed to be contaminating the adherend in order to reduce the stain on the adherend and also to reduce the change in staining property over time. However, when the antistatic component is reduced, the peeling electrification voltage when peeling the surface protective film from the adherend becomes high. The present inventors have studied a method of suppressing the peeling electrification voltage when the surface protective film is peeled from the adherend without increasing the absolute amount of the antistatic component.

그 결과, 점착제 내에 대전 방지제를 첨가하고 혼합하여 점착제층을 형성하는 것이 아니라, 점착제 조성물을 도공·건조시켜 점착제층을 적층한 후에 점착제층의 표면에 적당량의 대전 방지 성분을 부여함으로써, 표면 보호 필름을 피착체인 광학용 필름에서 박리할 때의 박리 대전압을 낮게 억제할 수 있다는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하였다.As a result, an antistatic agent is added and mixed to form a pressure-sensitive adhesive layer, followed by coating and drying the pressure-sensitive adhesive composition to laminate the pressure-sensitive adhesive layer and then applying an appropriate amount of antistatic component to the surface of the pressure- The peeling electrification voltage at the time of peeling in the optically-usable film as the adherend can be suppressed to a low level, thereby completing the present invention.

본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 피착체에 대한 오염이 적고, 또한 시간이 지나도 피착체에 대한 저오염성이 변화하지 않는 표면 보호 필름으로서, 또한 경시 열화되지 않으며 우수한 박리 대전 방지 성능을 갖는 표면 보호 필름 및 그것을 사용한 광학 부품을 제공하는 것을 과제로 한다.Disclosure of the Invention The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to provide a surface protective film which is less susceptible to adherence to an adherend and does not change the staining property to an adherend over time, A surface protective film and an optical component using the same.

또한, 본 발명은 LR 편광판이나 AG-LR 편광판 등의 표면이 실리콘 화합물이나 불소 화합물 등으로 방오 처리되어 있는 광학용 필름에 대해서도, 박리 대전압을 낮게 억제할 수 있는 표면 보호 필름을 제공하는 것을 과제로 한다.It is another object of the present invention to provide a surface protective film capable of suppressing the peeling electrification voltage to a low level even for an optical film whose surface is treated with an anti-fouling agent such as a LR polarizing plate or an AG-LR polarizing plate with a silicone compound or a fluorine compound .

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 표면 보호 필름은 점착제 조성물을 도공·건조시켜 점착제층을 적층한 후에, 점착제층의 표면에 적당량의 20℃에서 액체인 실리콘계 화합물 및 대전 방지제를 부여함으로써, 피착체에 대한 오염성을 낮게 억제하면서 피착체인 광학용 필름에서 박리할 때의 박리 대전압을 낮게 억제하는 것을 기술 사상으로 하고 있다.In order to solve the above problems, the surface protective film of the present invention is produced by laminating a pressure-sensitive adhesive composition by coating and drying the pressure-sensitive adhesive composition, and then applying a liquid silicone compound and an antistatic agent to the surface of the pressure- The peeling electrification voltage at the time of peeling in the optical film as the adhesion is controlled to be low while suppressing the staining property to the complex.

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 투명성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름의 한쪽 면에 점착제층이 형성되어 이루어지고, 당해 점착제층 위에 박리제층을 갖는 박리 필름이 첩합된 표면 보호 필름에 있어서, 상기 박리 필름이 수지 필름의 한쪽 면에 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와, 20℃에서 액체인 실리콘계 화합물과, 융점이 30∼80℃인 이온성 화합물을 포함하는 수지 조성물에 의해 상기 박리제층이 형성되어 이루어지며, 상기 점착제층이 아크릴계 점착제층인 표면 보호 필름을 제공한다.In order to solve the above problems, the present invention provides a surface protective film comprising a base film made of a resin having transparency and having a pressure-sensitive adhesive layer formed on one side thereof, and a release film having a release agent layer on the pressure- The releasing film is formed on one side of the resin film by a resin composition comprising a releasing agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, a silicone compound as a liquid at 20 占 폚 and an ionic compound having a melting point of 30 to 80 占 폚 Wherein the pressure-sensitive adhesive layer is an acrylic pressure-sensitive adhesive layer.

또한, 상기 실리콘계 화합물이 폴리에테르 변성 실리콘인 것이 바람직하다.It is also preferable that the silicone compound is a polyether-modified silicone.

또한, 상기 아크릴계 점착제층이 (메타)아크릴레이트 공중합체를 가교시켜 이루어지는 것이 바람직하다.It is also preferable that the acrylic pressure sensitive adhesive layer is formed by crosslinking the (meth) acrylate copolymer.

또한, 상기 박리 필름의 상기 아크릴계 점착제층으로부터의 박리력이 0.2N/50㎜ 이하인 것이 바람직하다.It is also preferable that the release force of the release film from the acrylic pressure-sensitive adhesive layer is 0.2 N / 50 mm or less.

또한, 본 발명은 상기 표면 보호 필름이 첩합되어 이루어지는 광학 부품을 제공한다.Further, the present invention provides an optical component in which the above-mentioned surface protective film is bonded.

본 발명의 표면 보호 필름은 피착체에 대한 오염이 적고, 시간이 지나도 피착체에 대한 저오염성이 변화하지 않는다. 또한 본 발명에 의하면, LR 편광판이나 AG-LR 편광판 등의 피착체의 표면이 실리콘 화합물이나 불소 화합물 등으로 방오 처리되어 있는 광학용 필름이어도, 표면 보호 필름을 피착체에서 박리할 때에 발생하는 박리 대전압을 낮게 억제할 수 있어, 경시 열화되지 않으며 우수한 박리 대전 방지 성능을 갖는 표면 보호 필름 및 그것을 사용한 광학 부품을 제공할 수 있다.The surface protective film of the present invention is less contaminated with the adherend and does not change the stain resistance to the adherend over time. Further, according to the present invention, even when the surface of an adherend such as an LR polarizing plate or an AG-LR polarizing plate is subjected to an anti-fouling treatment with a silicone compound, a fluorine compound or the like, even when the surface protective film is peeled off from the adherend, It is possible to provide a surface protective film which can suppress the voltage to a low level and does not deteriorate over time and has excellent peeling electrification preventing performance and an optical component using the same.

본 발명의 표면 보호 필름에 의하면, 광학용 필름의 표면을 확실히 보호할 수 있다는 점에서 생산성 향상과 수율 향상을 도모할 수 있다.According to the surface protective film of the present invention, the surface of the optical film can be reliably protected, thereby improving the productivity and improving the yield.

도 1은 본 발명의 표면 보호 필름의 개념을 나타낸 단면도이다.
도 2는 본 발명의 표면 보호 필름에서 박리 필름을 박리한 상태를 나타내는 단면도이다.
도 3은 본 발명의 광학 부품의 실시예 중 하나를 나타낸 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing the concept of a surface protective film of the present invention.
2 is a cross-sectional view showing a state in which a release film is peeled from a surface protective film of the present invention.
3 is a cross-sectional view showing one embodiment of the optical component of the present invention.

이하, 실시형태에 기초하여 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail based on embodiments.

도 1은 본 발명의 표면 보호 필름의 개념을 나타낸 단면도이다. 이 표면 보호 필름(10)은, 투명한 기재 필름(1)의 한쪽 면의 표면에 점착제층(2)이 형성되어 있다. 이 점착제층(2)의 표면에는 수지 필름(3)의 표면에 박리제층(4)이 형성된 박리 필름(5)이 첩합되어 있다.1 is a cross-sectional view showing the concept of a surface protective film of the present invention. In the surface protective film 10, the pressure-sensitive adhesive layer 2 is formed on the surface of one side of the transparent base film 1. [ On the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (2), a release film (5) having a release agent layer (4) formed on the surface of the resin film (3) is bonded.

본 발명에 따른 표면 보호 필름(10)에 사용되는 기재 필름(1)으로는, 투명성 및 가요성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름이 사용된다. 이로써, 표면 보호 필름을 피착체인 광학 부품에 첩합한 상태로 광학 부품의 외관 검사를 행할 수 있다. 기재 필름(1)으로서 사용되는 투명성을 갖는 수지로 이루어지는 필름은, 바람직하게는 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에틸렌이소프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르 필름이 사용된다. 폴리에스테르 필름 외에, 필요한 강도를 갖고 또한 광학 적성을 갖는 것이면 다른 수지로 이루어지는 필름도 사용 가능하다. 기재 필름(1)은 무연신 필름이어도 되고, 1축 또는 2축 연신된 필름이어도 된다. 또한, 연신 필름의 연신 배율이나 연신 필름의 결정화에 수반하여 형성되는 축방향의 배향 각도를 특정 값으로 제어해도 된다.As the base film (1) used for the surface protective film (10) according to the present invention, a base film made of a resin having transparency and flexibility is used. As a result, the appearance inspection of the optical component can be performed in a state in which the surface protective film is attached to the optical component as the adhesion. As the film made of a transparent resin used as the base film (1), a polyester film such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene isophthalate, polybutylene terephthalate and the like is preferably used. In addition to the polyester film, films made of other resins can be used as long as they have the required strength and optical suitability. The base film (1) may be a non-oriented film or a uniaxially or biaxially oriented film. Further, the stretching magnification of the stretched film or the orientation angle in the axial direction formed by crystallization of the stretched film may be controlled to a specific value.

본 발명에 따른 표면 보호 필름(10)에 사용되는 기재 필름(1)의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 12∼100㎛ 정도의 두께가 바람직하고, 20∼50㎛ 정도의 두께이면 취급하기 쉬워 보다 바람직하다.The thickness of the base film (1) used in the surface protective film (10) according to the present invention is not particularly limited. For example, the thickness is preferably about 12 to 100 mu m, It is easier and more desirable.

또한, 필요에 따라서 기재 필름(1)의 점착제층(2)이 형성된 면의 반대측면에 표면의 오염을 방지하는 방오층, 대전 방지층, 흠집 방지의 하드 코트층 등을 형성할 수 있다. 또한, 기재 필름(1)의 표면에 코로나 방전에 의한 표면 개질, 앵커 코트제의 도포 등의 이(易)접착 처리를 실시해도 된다.If necessary, an antifouling layer, an antistatic layer, a scratch-resistant hard coat layer, or the like for preventing surface contamination can be formed on the opposite side of the surface of the base film 1 on which the pressure-sensitive adhesive layer 2 is formed. Further, the surface of the base film 1 may be subjected to easy adhesion treatment such as surface modification by corona discharge, application of an anchor coat, and the like.

또한, 본 발명에 따른 표면 보호 필름(10)에 사용되는 점착제층(2)은 피착체의 표면에 접착되고, 사용이 끝난 후에 간단하게 박리할 수 있으며, 또한 피착체를 오염시키기 어려운 점착제층이면 특별히 한정되지 않지만, 광학용 필름에 첩합 후의 내구성 등을 고려하면, (메타)아크릴레이트 공중합체를 가교시켜 이루어지는 아크릴계 점착제층을 사용하는 것이 일반적이다.Further, the pressure-sensitive adhesive layer (2) used in the surface protective film (10) according to the present invention can be easily peeled off after being used and adhered to the surface of the adherend, Although not particularly limited, it is general to use an acrylic pressure-sensitive adhesive layer formed by crosslinking a (meth) acrylate copolymer in consideration of durability after bonding to an optical film.

(메타)아크릴레이트 공중합체로는, n-부틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, 이소옥틸아크릴레이트, 이소노닐아크릴레이트 등의 주 모노머와, 아크릴로니트릴, 초산비닐, 메틸메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트 등의 코모노머, 아크릴산, 메타크릴산, 히드록시에틸아크릴레이트, 히드록시부틸아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트, N-메틸올메타크릴아미드 등의 관능성 모노머, 메톡시폴리에틸렌글리콜메타크릴레이트 등의 폴리옥시알킬렌기를 함유하는 모노머를 공중합시킨 공중합체를 들 수 있다. (메타)아크릴레이트 공중합체는 주 모노머 및 다른 모노머가 모두 (메타)아크릴레이트여도 되고, 주 모노머 이외의 모노머로서 (메타)아크릴레이트 이외의 모노머를 1종 또는 2종 이상 포함해도 된다. 주 모노머 이외의 모노머는 상기 코모노머, 관능성 모노머, 폴리옥시알킬렌기를 함유하는 모노머 등에서 특별히 한정되지 않고 선택할 수 있다.(Meth) acrylate copolymer is preferably a copolymer of a main monomer such as n-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, isooctyl acrylate, isononyl acrylate, and the like with at least one monomer selected from the group consisting of acrylonitrile, vinyl acetate, methyl methacrylate, ethyl Acrylic acid, methacrylic acid, hydroxyethyl acrylate, hydroxybutyl acrylate, glycidyl methacrylate, N-methylol methacrylamide, and other functional monomers such as methoxypolyethylene glycol methacrylate And a copolymer of a monomer containing a polyoxyalkylene group such as acrylate and acrylate. (Meth) acrylate copolymer may contain both (meth) acrylate as the main monomer and the other monomer, and may contain one or more monomers other than (meth) acrylate as the monomers other than the main monomer. The monomer other than the main monomer is not particularly limited and may be selected from the above comonomers, functional monomers, monomers containing polyoxyalkylene groups, and the like.

점착제층(2)에 첨가하는 경화제로는 (메타)아크릴레이트 공중합체를 가교시키는 가교제로서, 이소시아네이트 화합물, 에폭시 화합물, 멜라민 화합물, 금속 킬레이트 화합물 등을 들 수 있다. 또한, 점착 부여제로는 로진계, 쿠마론인덴계, 테르펜계, 석유계, 페놀계 등을 들 수 있다.Examples of the curing agent to be added to the pressure-sensitive adhesive layer (2) include an isocyanate compound, an epoxy compound, a melamine compound and a metal chelate compound as a crosslinking agent for crosslinking the (meth) acrylate copolymer. Examples of the tackifier include rosin, coumarone indene, terpene, petroleum, and phenol.

본 발명에 따른 표면 보호 필름(10)에 사용되는 점착제층(2)의 두께는 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면 5∼40㎛ 정도의 두께가 바람직하고, 10∼30㎛ 정도의 두께가 보다 바람직하다. 표면 보호 필름의 피착체 표면에 대한 박리 강도(점착력)가 0.03∼0.3N/25㎜ 정도의 미점착력을 갖는 점착제층(2)인 것이, 피착체에서 표면 보호 필름을 박리할 때의 조작성이 우수하므로 바람직하다. 또한, 표면 보호 필름(10)에서 박리 필름(5)을 박리할 때의 조작성이 우수하다는 점에서, 박리 필름(5)의 아크릴계 점착제층(2)으로부터의 박리력이 0.2N/50㎜ 이하인 것이 바람직하다.The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer (2) used in the surface protective film (10) according to the present invention is not particularly limited, but is preferably about 5 to 40 탆, more preferably about 10 to 30 탆 Do. The pressure-sensitive adhesive layer (2) having a peel strength (adhesive force) of about 0.03 to 0.3 N / 25 mm to the adherend surface of the surface protective film is excellent in operability when peeling the surface protective film from the adherend . It is also preferable that the peeling force from the acrylic pressure-sensitive adhesive layer (2) of the release film (5) is 0.2 N / 50 mm or less in view of the excellent operability in peeling the release film (5) desirable.

또한, 본 발명에 따른 표면 보호 필름(10)에 사용되는 박리 필름(5)은 수지 필름(3)의 한쪽 면에 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와, 20℃에서 액체인 실리콘계 화합물과, 융점이 30∼80℃인 이온성 화합물을 포함하는 수지 조성물에 의해 박리제층(4)이 형성되어 있다.The release film 5 used in the surface protective film 10 according to the present invention is obtained by forming on the one side of the resin film 3 a release agent comprising dimethylpolysiloxane as a main component and a silicone compound as a liquid at 20 캜, The release agent layer 4 is formed by the resin composition containing the ionic compound at 30 to 80 캜.

수지 필름(3)으로는 폴리에스테르 필름, 폴리아미드 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리이미드 필름 등을 들 수 있지만, 투명성이 우수한 점이나 가격이 비교적 저렴한 점에서 폴리에스테르 필름이 특히 바람직하다. 수지 필름은 무연신 필름이어도 되고, 1축 또는 2축 연신된 필름이어도 된다. 또한, 연신 필름의 연신 배율이나 연신 필름의 결정화에 수반하여 형성되는 축방향의 배향 각도를 특정 값으로 제어해도 된다.As the resin film (3), a polyester film, a polyamide film, a polyethylene film, a polypropylene film, a polyimide film and the like can be mentioned, but a polyester film is particularly preferable because of its excellent transparency and relatively low cost. The resin film may be a non-oriented film or a uniaxially or biaxially oriented film. Further, the stretching magnification of the stretched film or the orientation angle in the axial direction formed by crystallization of the stretched film may be controlled to a specific value.

수지 필름(3)의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 12∼100㎛ 정도의 두께가 바람직하고, 20∼50㎛ 정도의 두께이면 취급하기 쉬워 보다 바람직하다.The thickness of the resin film 3 is not particularly limited, but is preferably about 12 to 100 占 퐉, for example, and more preferably 20 to 50 占 퐉.

또한, 필요에 따라서 수지 필름(3)의 표면에 코로나 방전에 의한 표면 개질, 앵커 코트제의 도포 등의 이(易)접착 처리를 실시해도 된다.If necessary, the surface of the resin film 3 may be subjected to easy adhesion treatment such as surface modification by corona discharge or application of an anchor coat agent.

박리제층(4)을 구성하는 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제로는, 부가 반응형, 축합 반응형, 양이온 중합형, 라디칼 중합형 등의 공지된 실리콘계 박리제를 들 수 있다. 부가 반응형 실리콘계 박리제로서 시판되고 있는 제품에는, 예를 들면 KS-776A, KS-847T, KS-779H, KS-837, KS-778, KS-830(신에츠 화학 공업(주) 제조), SRX-211, SRX-345, SRX-357, SD7333, SD7220, SD7223, LTC-300B, LTC-350G, LTC-310(도레이 다우코닝(주) 제조) 등을 들 수 있다. 축합 반응형으로서 시판되고 있는 제품에는, 예를 들면 SRX-290, SYLOFF-23(도레이 다우코닝(주) 제조) 등을 들 수 있다. 양이온 중합형으로서 시판되고 있는 제품에는, 예를 들면 TPR-6501, TPR-6500, UV9300, UV9315, UV9430(모멘티브 퍼포먼스 머티리얼즈사 제조), X62-7622(신에츠 화학 공업(주) 제조) 등을 들 수 있다. 라디칼 중합형으로서 시판되고 있는 제품에는, 예를 들면 X62-7205(신에츠 화학 공업(주) 제조) 등을 들 수 있다.Examples of the releasing agent whose main component is dimethylpolysiloxane constituting the releasing agent layer 4 include known releasing agents such as addition reaction type, condensation reaction type, cationic polymerization type and radical polymerization type. KS-837, KS-778, KS-830 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), SRX- LTC-350, LTC-310 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), and the like. Commercially available products of the condensation reaction type include, for example, SRX-290 and SYLOFF-23 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.). Examples of commercially available products of the cationic polymerization type include TPR-6501, TPR-6500, UV9300, UV9315, UV9430 (manufactured by Momentive Performance Materials Company) and X62-7622 (manufactured by Shinetsu Kagaku Kogyo Co., Ltd.) . Commercially available products as the radical polymerization type include, for example, X62-7205 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).

박리제층(4)을 구성하는 20℃에서 액체인 실리콘계 화합물로는, 폴리에테르 변성 실리콘, 알킬 변성 실리콘, 카르비놀 고급 지방산 에스테르 변성 실리콘 등을 들 수 있다. 본 발명에서는 점착제층 표면의 대전 방지성을 향상시키기 위해서, 디메틸폴리실록산을 주성분으로 한 박리제층 내에 상용되어 있는 상태의, 20℃에서 액체인 실리콘계 화합물이 사용된다. 본 발명의 용도에는 변성 실리콘 화합물 중에서도 폴리에테르 변성 실리콘이 바람직하다. 폴리에테르 변성 실리콘에 있어서의 폴리에테르 사슬은, 에틸렌옥사이드, 프로필렌옥사이드 등으로 구성되고, 예를 들면 측쇄에 사용되는 폴리에틸렌옥사이드의 분자량을 선택함으로써, 실리콘 박리제와의 상용성이나 대전 방지 효과 등의 물성이 조정된다.Examples of the silicon-based compound which is liquid at 20 占 폚 constituting the release agent layer 4 include polyether-modified silicone, alkyl-modified silicone, carbinol higher fatty acid ester-modified silicone and the like. In the present invention, in order to improve the antistatic property of the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, a silicone compound which is liquid at 20 占 폚 in a state of being used in a release agent layer containing dimethylpolysiloxane as a main component is used. Of the modified silicone compounds, polyether-modified silicone is preferred for use in the present invention. The polyether chain in the polyether-modified silicone is composed of ethylene oxide, propylene oxide and the like. By selecting the molecular weight of the polyethylene oxide used for the side chain, for example, the polyether chain can have properties such as compatibility with the silicone release agent and antistatic effect Is adjusted.

또한, 폴리에테르 변성 실리콘으로서 시판되고 있는 제품에는, 예를 들면 KF-351A, KF-352A, KF-353, KF-354L, KF-355A, KF-642(신에츠 화학 공업(주) 제조), SH8400, SH8700, SF8410(도레이 다우코닝(주) 제조), TSF-4440, TSF-4441, TSF-4445, TSF-4446, TSF-4450(모멘티브 퍼포먼스 머티리얼즈사 제조), BYK-300, BYK-306, BYK-307, BYK-320, BYK-325, BYK-330(빅 케미사 제조) 등을 들 수 있다.KF-352A, KF-355A, KF-355A, KF-642 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and SH8400 (trade name, , BYK-300, BYK-306, and BYK-4450 (manufactured by Momentive Performance Materials Co.), SH8700, SF8410 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), TSF-4440, TSF-4441, TSF- BYK-307, BYK-320, BYK-325 and BYK-330 (manufactured by Big Chemicals).

디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제에 대한 20℃에서 액체인 실리콘계 화합물의 첨가량은 실리콘 화합물의 종류나 박리제와의 상용성 정도에 따라 상이하나, 표면 보호 필름을 피착체에서 박리할 때의 원하는 박리 대전압, 피착체에 대한 오염성, 점착 특성 등을 고려하여 설정하면 된다.The amount of the silicone compound added to the releasing agent containing dimethylpolysiloxane as a main component at 20 캜 is different depending on the type of the silicone compound and the degree of compatibility with the releasing agent. However, when the surface protective film is peeled off from the adherend, , The stain on the adherend, and the adhesive property.

박리제층(4)을 구성하는 대전 방지제로는 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제 용액에 대해 분산성이 좋으며, 또한 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제의 경화를 저해하지 않는 것이 바람직하다. 이러한 대전 방지제로는 융점이 30∼80℃인 이온성 화합물이 바람직하다.As the antistatic agent constituting the release agent layer (4), it is preferable that the antistatic agent is good in dispersibility to a remover solution containing dimethylpolysiloxane as a main component and does not inhibit the hardening of the remover containing dimethylpolysiloxane as a main component. As such an antistatic agent, an ionic compound having a melting point of 30 to 80 占 폚 is preferable.

융점이 30∼80℃인 이온성 화합물로는, 양이온과 음이온을 갖는 이온성 화합물로서, 양이온이 피리디늄 카티온, 이미다졸륨 카티온, 피리미디늄 카티온, 피라졸륨 카티온, 피롤리디니늄 카티온, 암모늄 카티온 등의 함질소 오늄 카티온이나, 포스포늄 카티온, 술포늄 카티온 등이고, 음이온이 6불화인산염(PF6 -), 티오시안산염(SCN-), 알킬벤젠술폰산염(RC6H4SO3 -), 과염소산염(ClO4 -), 4불화붕산염(BF4 -) 등의 무기 혹은 유기 음이온인 화합물을 들 수 있다. 알킬기의 사슬 길이나 치환기의 위치, 개수 등의 선택에 따라, 융점이 30∼80℃인 것을 얻을 수 있다. 양이온은 바람직하게는 4급 함질소 오늄 카티온이고, 1-알킬피리디늄(2∼6위치의 탄소 원자는 치환기를 가져도 되고 무치환이어도 된다) 등의 4급 피리디늄 카티온이나, 1,3-디알킬이미다졸륨(2, 4, 5위치의 탄소 원자는 치환기를 가져도 되고 무치환이어도 된다) 등의 4급 이미다졸륨 카티온, 테트라알킬암모늄 등의 4급 암모늄 카티온 등을 들 수 있다. Examples of the ionic compound having a melting point of 30 to 80 캜 include an ionic compound having a cation and an anion, wherein the cation is at least one selected from the group consisting of pyridinium cate, imidazolium cate, pyrimidinium cate, pyrazolium cate, (PF 6 - ), thiocyanate salt (SCN - ), alkylbenzenesulfonic acid salt (sulfonic acid salt), and the like can be used as the anion, (RC 6 H 4 SO 3 - ), perchlorate (ClO 4 - ), tetrafluoroborate (BF 4 - ), and the like. Depending on the chain length of the alkyl group, the position of the substituent, the number of substituents, etc., a melting point of 30 to 80 占 폚 can be obtained. The cation is preferably a quaternary ammonium onium cation, a quaternary pyridinium cation or a quaternary pyridinium cation such as 1-alkyl pyridinium (the carbon atom at 2-6 may have a substituent or may be unsubstituted) Quaternary imidazolium cation such as 3-dialkyl imidazolium (the carbon atom at the 2, 4 and 5 positions may have a substituent or may be unsubstituted), quaternary ammonium cation such as tetraalkylammonium and the like .

디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제에 대한 대전 방지제의 첨가량은 대전 방지제의 종류나 박리제와의 친화성 정도에 따라 상이하나, 표면 보호 필름을 피착체에서 박리할 때의 원하는 박리 대전압, 피착체에 대한 오염성, 점착 특성 등을 고려하여 설정하면 된다.The amount of the antistatic agent added to the releasing agent containing dimethylpolysiloxane as a main component varies depending on the kind of the antistatic agent and the degree of affinity with the exfoliating agent, but the desired peeling electrification voltage when the surface protective film is peeled from the adherend, Stain resistance, adhesion property, and the like.

디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와, 폴리에테르 변성 실리콘 및 대전 방지제의 혼합 방법은 특별히 한정되지 않는다. 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제에 폴리에테르 변성 실리콘 및 대전 방지제를 첨가하여 혼합한 후에 박리제 경화용 촉매를 첨가·혼합하는 방법, 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제를 미리 유기 용제로 희석한 후에 폴리에테르 변성 실리콘 및 대전 방지제와 박리제 경화용 촉매를 첨가·혼합하는 방법, 실록산을 주성분으로 하는 박리제를 미리 유기 용제에 희석한 후 촉매를 첨가·혼합하고 그 후 폴리에테르 변성 실리콘 및 대전 방지제를 첨가·혼합하는 방법 등 어느 방법이어도 된다. 또한 필요에 따라서, 실란 커플링제 등의 밀착 향상제나 폴리옥시알킬렌기를 함유하는 화합물 등의 대전 방지 효과를 보조하는 재료를 첨가해도 된다.The method of mixing the exfoliating agent containing dimethylpolysiloxane as a main component and the polyether-modified silicone and the antistatic agent is not particularly limited. A method of adding and mixing a polyether-modified silicone and an antistatic agent to a releasing agent containing dimethylpolysiloxane as a main component and then adding and mixing a catalyst for releasing agent curing, a method of diluting a releasing agent containing dimethylpolysiloxane as a main component in advance with an organic solvent, A method of adding and mixing silicone and an antistatic agent and a releasing agent curing catalyst, a method of diluting a releasing agent containing a siloxane as a main component in advance in an organic solvent, adding and mixing a catalyst, and then adding and mixing a polyether-denatured silicone and an antistatic agent Method, or the like. If necessary, a material for assisting an antistatic effect such as adhesion promoter such as a silane coupling agent and a compound containing a polyoxyalkylene group may be added.

디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와, 폴리에테르 변성 실리콘 및 대전 방지제의 혼합 비율은 특별히 한정되지 않지만, 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제의 고형분 100에 대해서, 폴리에테르 변성 실리콘 및 대전 방지제를 고형분으로 5∼100 정도의 비율이 바람직하다. 폴리에테르 변성 실리콘 및 대전 방지제의 고형분 환산 첨가량이 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제의 고형분 100에 대해서 5의 비율보다 적으면, 점착제층의 표면에 대한 대전 방지제의 전사량도 적어져서 점착제층에 대전 방지의 기능이 발휘되기 어려워진다. 또한, 폴리에테르 변성 실리콘 및 대전 방지제의 고형분 환산 첨가량이 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제의 고형분 100에 대해서 100의 비율을 초과하면, 폴리에테르 변성 실리콘 및 대전 방지제와 함께 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제도 점착제층의 표면에 전사되기 때문에, 점착제층의 점착 특성을 저하시킬 가능성이 있다.The mixing ratio of the releasing agent containing dimethylpolysiloxane as a main component and the polyether-denatured silicone and the antistatic agent is not particularly limited, but the polyether-denatured silicone and the antistatic agent may be added to the solid component of the releasing agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, 100 is preferable. When the addition amount of the polyether-modified silicon and the antistatic agent in terms of the solid content in terms of the solid content of the releasing agent containing dimethylpolysiloxane as the main component is less than 5, the amount of the antistatic agent transferred to the surface of the pressure sensitive adhesive layer is decreased, The function becomes difficult to be exerted. When the addition amount of the polyether-modified silicone and the antistatic agent in terms of the solid content in terms of the solid content of the releasing agent containing dimethylpolysiloxane as the main component exceeds 100, the releasing agent containing dimethyl polysiloxane as a main component together with the polyether- Is transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, there is a possibility that the pressure-sensitive adhesive property of the pressure-sensitive adhesive layer is lowered.

본 발명에 따른 표면 보호 필름(10)의 기재 필름(1)에 점착제층(2)을 형성하는 방법 및 박리 필름(5)을 첩합하는 방법은, 공지된 방법으로 행하면 되고 특별히 한정되지 않는다. 구체적으로는, (1) 기재 필름(1)의 한쪽 면에 점착제층(2)을 형성하기 위한 수지 조성물을 도포, 건조시켜 점착제층을 형성한 후에 박리 필름(5)을 첩합하는 방법, (2) 박리 필름(5)의 표면에 점착제층(2)을 형성하기 위한 수지 조성물을 도포·건조시켜 점착제층을 형성한 후에 기재 필름(1)을 첩합하는 방법 등을 들 수 있지만, 어느 방법을 사용해도 된다.The method of forming the pressure-sensitive adhesive layer (2) on the base film (1) of the surface protective film (10) according to the present invention and the method of bonding the release film (5) can be carried out by known methods and are not particularly limited. Specifically, there are (1) a method of applying a resin composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 2 on one side of the base film 1 and drying to form a pressure-sensitive adhesive layer, followed by bonding the release film 5, ) A method of applying a resin composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 2 on the surface of the release film 5 and drying to form a pressure-sensitive adhesive layer, followed by bonding the base film 1, .

또한, 기재 필름(1)의 표면에 점착제층(2)을 형성하는 것은 공지된 방법으로 행하면 된다. 구체적으로는, 리버스 코팅, 콤마 코팅, 그라비아 코팅, 슬롯 다이 코팅, 메이어 바 코팅, 에어 나이프 코팅 등의 공지된 도공 방법을 사용할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive layer (2) may be formed on the surface of the base film (1) by a known method. Specifically, known coating methods such as reverse coating, comma coating, gravure coating, slot die coating, Meyer bar coating and air knife coating can be used.

또한, 동일하게 수지 필름(3)에 박리제층(4)을 형성하는 것은 공지된 방법으로 행하면 된다. 구체적으로는, 그라비아 코팅, 메이어 바 코팅, 에어 나이프 코팅 등의 공지된 도공 방법을 사용할 수 있다.In the same manner, the release agent layer 4 may be formed on the resin film 3 by a known method. Specifically, known coating methods such as gravure coating, Meyer bar coating and air knife coating can be used.

상기 구성을 갖는 본 발명에 따른 표면 보호 필름(10)은, 피착체인 광학용 필름에서 박리할 때의 표면 전위가 ＋0.7㎸∼－0.7㎸인 것이 바람직하다. 또한, 표면 전위가 ＋0.5㎸∼－0.5㎸인 것이 보다 바람직하고, 표면 전위가 ＋0.1㎸∼－0.1㎸인 것이 특히 바람직하다. 이 표면 전위는 박리제층에 함유되는 폴리에테르 변성 실리콘 및 대전 방지제의 종류, 첨가량 등을 가감함으로써 조정할 수 있다.The surface protective film 10 according to the present invention having the above-described structure preferably has a surface potential of +0.7 kV to -0.7 kV when peeled off from the optical film as the adherend. It is more preferable that the surface potential is +0.5 kV to -0.5 kV, and the surface potential is particularly preferably + 0.1 kV to -0.1 kV. This surface potential can be adjusted by adding or subtracting the kind of polyether-modified silicone contained in the release agent layer and the antistatic agent, the addition amount, and the like.

도 2는 본 발명의 표면 보호 필름에서 박리 필름을 박리한 상태를 나타내는 단면도이다.2 is a cross-sectional view showing a state in which a release film is peeled from a surface protective film of the present invention.

도 1에 나타낸 표면 보호 필름(10)에서 박리 필름(5)을 박리함으로써, 박리 필름(5)의 박리제층(4)에 포함되는 20℃에서 액체인 실리콘계 화합물 및 대전 방지제(부호 7)의 일부가, 표면 보호 필름(10)의 점착제층(2)의 표면에 전사된다(부착된다). 이 때문에, 도 2에 있어서는 표면 보호 필름의 점착제층(2)의 표면에 부착된 20℃에서 액체인 실리콘계 화합물 및 대전 방지제를 부호 7의 반점으로써 모식적으로 나타내고 있다.The peeling film 5 is peeled off from the surface protective film 10 shown in Fig. 1 so that a part of the silicone compound and the antistatic agent (reference numeral 7) contained in the peeling agent layer 4 of the peeling film 5 at 20 deg. (Adhered) to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 of the surface protection film 10. For this reason, in FIG. 2, the silicone compound and the antistatic agent which are liquids at 20 占 폚 adhered to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (2) of the surface protective film are schematically shown by spots of reference numeral 7.

본 발명에 따른 표면 보호 필름에서는 도 2에 나타낸 박리 필름을 박리한 상태의 표면 보호 필름(11)을 피착체에 첩합함에 있어, 이 점착제층(2)의 표면에 전사된 20℃에서 액체인 실리콘계 화합물 및 대전 방지제가 피착체의 표면에 접촉한다. 이로 인해, 재차 피착체에서 표면 보호 필름을 박리할 때의 박리 대전압을 낮게 억제할 수 있다.In the surface protective film according to the present invention, when the surface protective film 11 in the peeled state of the peeling film shown in Fig. 2 is adhered to an adherend, The silicone compound and the antistatic agent come into contact with the surface of the adherend. Thus, the peeling electrification voltage when peeling the surface protective film from the adherend can be suppressed to a low level.

도 3은 본 발명의 광학 부품의 실시예를 나타낸 단면도이다.3 is a cross-sectional view showing an embodiment of the optical component of the present invention.

본 발명의 표면 보호 필름(10)에서 박리 필름(5)이 박리되어 점착제층(2)이 표출된 상태로, 이 점착제층(2)을 개재하여 피착체인 광학 부품(8)에 첩합된다.The release film 5 is peeled off from the surface protective film 10 of the present invention and is adhered to the optical component 8 as the adhesive through the pressure sensitive adhesive layer 2 in a state in which the pressure sensitive adhesive layer 2 is exposed.

즉, 도 3에는 본 발명의 표면 보호 필름(10)이 첩합된 광학 부품(20)을 나타내고 있다. 광학 부품으로는, 편광판, 위상차판, 렌즈 필름, 위상차판 겸용 편광판, 렌즈 필름 겸용 편광판 등의 광학용 필름을 들 수 있다. 이와 같은 광학 부품은 액정 표시 패널 등의 액정 표시 장치, 각종 계기류의 광학계 장치 등의 구성 부재로서 사용된다. 또한 광학 부품으로는, 반사 방지 필름, 하드 코트 필름, 터치 패널용 투명 도전성 필름 등의 광학용 필름도 들 수 있다. 특히, 표면이 실리콘 화합물이나 불소 화합물 등으로 방오 처리되어 있는 저반사 처리 편광판(LR 편광판)이나 안티글레어 저반사 처리 편광판(AG-LR 편광판) 등의 광학용 필름의 방오 처리한 면에 첩합되는 표면 보호 필름으로서 바람직하게 사용할 수 있다.That is, FIG. 3 shows an optical component 20 to which the surface protective film 10 of the present invention is bonded. Examples of the optical component include optical films such as a polarizing plate, a retardation plate, a lens film, a polarizing plate serving as a retardation plate, and a polarizing plate serving also as a lens film. Such an optical component is used as a constituent member of a liquid crystal display device such as a liquid crystal display panel or an optical system device of various instruments. Examples of optical parts include optical films such as an antireflection film, a hard coat film, and a transparent conductive film for a touch panel. In particular, a surface to be stuck to an antifouling treated surface of an optical film such as a low reflection polarizing plate (LR polarizing plate) or an anti-glare low reflection polarizing plate (AG-LR polarizing plate) whose surface has been subjected to antifouling treatment with a silicone compound, Can be preferably used as a protective film.

본 발명의 광학 부품에 의하면, 표면 보호 필름(10)을 피착체인 광학 부품(광학용 필름)에서 박리 제거할 때 박리 대전압을 충분히 낮게 억제할 수 있기 때문에, 드라이버 IC, TFT 소자, 게이트선 구동 회로 등의 회로 부품을 파괴할 우려가 없고, 액정 표시 패널 등을 제조하는 공정에서의 생산 효율을 높여 생산 공정의 신뢰성을 유지할 수 있다.According to the optical component of the present invention, since the peeling electrification voltage can be suppressed to a sufficiently low level when the surface protective film 10 is peeled off from the optical component (optical film) serving as the adherend, the driver IC, the TFT element, There is no risk of destroying circuit components such as circuits and the reliability of the production process can be maintained by increasing the production efficiency in the process of manufacturing liquid crystal display panels and the like.

실시예Example

이어서, 실시예에 의해 본 발명을 보다 상세히 설명한다.EXAMPLES Next, the present invention will be described in more detail by examples.

(실시예 1)(Example 1)

(표면 보호 필름의 제작)(Production of surface protective film)

부가 반응형의 실리콘(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SRX-345) 5중량부, 폴리에테르 변성 실리콘(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SH8400) 0.3중량부, 융점이 48℃의 이온성 화합물인 N-부틸-4-메틸피리디늄 헥사플루오로포스페이트 1중량부, 톨루엔과 초산에틸의 1:1의 혼합 용매 95중량부, 백금 촉매(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SRX-212) 0.05중량부를 섞고 교반·혼합하여, 실시예 1의 박리제층을 형성하는 도료를 조정하였다. 두께가 38㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에 실시예 1의 박리제층을 형성하는 도료를 건조 후의 두께가 0.2㎛가 되도록 메이어 바로 도포하고, 120℃의 열풍 순환식 오븐에서 1분간 건조시켜, 실시예 1의 박리 필름을 얻었다. 한편, 2-에틸헥실아크릴레이트와 2-히드록시에틸아크릴레이트를 100:4의 중량비로 공중합시킨 중량 평균 분자량 47만의 아크릴레이트 공중합체 30중량부를 초산에틸 70중량부에 용해시킨 점착제(고형분 30％의 초산에틸 용액) 100중량부에 대해서, HDI계 경화제(닛폰 폴리우레탄 공업(주) 제조. 품명: 코로네이트 HX) 1.2중량부를 첨가, 혼합한 도포액을 두께가 38㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에 건조 후의 두께가 20㎛가 되도록 도포한 후, 100℃의 열풍 순환식 오븐에서 2분간 건조시켜 점착제층을 형성하였다. 그 후, 이 점착제층의 표면에 상기에서 제작한 실시예 1의 박리 필름의 박리제층(실리콘 처리면)을 첩합하였다. 얻어진 점착 필름을 40℃의 환경하에서 5일간 보온하고, 점착제를 경화시켜 실시예 1의 표면 보호 필름을 얻었다., 5 parts by weight of an addition reaction type silicone (trade name: SRX-345, manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), 0.3 parts by weight of polyether-modified silicone (SH8400, 1 part by weight of a mixed solvent of toluene and ethyl acetate at a ratio of 1: 1, a platinum catalyst (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX -212) were mixed and stirred and mixed to prepare a coating material for forming the release agent layer of Example 1. On the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 mu m, a coating material for forming the release agent layer of Example 1 was applied to the surface of Meyer immediately after drying to a thickness of 0.2 mu m and dried in a hot air circulating oven at 120 DEG C for 1 minute A release film of Example 1 was obtained. On the other hand, 30 parts by weight of an acrylate copolymer having a weight average molecular weight of 470,000 obtained by copolymerizing 2-ethylhexyl acrylate and 2-hydroxyethyl acrylate in a weight ratio of 100: 4 was dissolved in 70 parts by weight of ethyl acetate to obtain a pressure- 1.2 parts by weight of an HDI-based curing agent (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., Coronate HX) was added to 100 parts by weight of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm Coated on the surface to a thickness of 20 mu m after drying, and then dried in a hot air circulating oven at 100 DEG C for 2 minutes to form a pressure-sensitive adhesive layer. Thereafter, the release agent layer (silicone-treated surface) of the release film of Example 1 prepared above was bonded to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. The obtained pressure-sensitive adhesive film was kept at 40 캜 for 5 days, and the pressure-sensitive adhesive was cured to obtain a surface protective film of Example 1.

(실시예 2)(Example 2)

실시예 1의 박리제층을 형성하는 도료의 건조 후의 두께를 0.1㎛로 한 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 2의 표면 보호 필름을 얻었다.The surface protective film of Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the paint forming the release agent layer of Example 1 after drying was 0.1 탆.

(실시예 3)(Example 3)

실시예 1의 부가 반응형 실리콘을 도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SRX-211, 폴리에테르 변성 실리콘을 신에츠 화학 공업(주) 제조, 품명: KS-352A로 하고, N-부틸-4-메틸피리디늄 헥사플루오로포스페이트를 대신하여 융점이 62℃의 이온성 화합물인 1-메틸-3-에틸이미다졸륨 헥사플루오로포스페이트로 한 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 3의 표면 보호 필름을 얻었다.The addition reaction type silicone of Example 1 was changed to N-butyl-4-aminopyridine (trade name) manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., SRX-211 and polyether modified silicone by Shin-Etsu Chemical Co., Methylpyridinium hexafluorophosphate was replaced with 1-methyl-3-ethylimidazolium hexafluorophosphate, which is an ionic compound having a melting point of 62 占 폚, to obtain the surface protection of Example 3 A film was obtained.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

부가 반응형의 실리콘(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SRX-345) 5중량부, 톨루엔과 초산에틸의 1:1 혼합 용매 95중량부, 백금 촉매(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SRX-212) 0.05중량부를 섞고 교반·혼합하여, 비교예 1의 박리제층을 형성하는 도료를 조정하였다. 두께가 38㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에 비교예 1의 박리제층을 형성하는 도료를 건조 후의 두께가 0.2㎛가 되도록 메이어 바로 도포하고, 120℃의 열풍 순환식 오븐에서 1분간 건조시켜, 비교예 1의 박리 필름을 얻었다. 한편, 실시예 1의 점착제(고형분 30％의 초산에틸 용액) 100중량부에 대해서, 폴리에테르 변성 실리콘(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SH8400) 0.6중량부, N-부틸-4-메틸피리디늄 헥사플루오로포스페이트 2중량부, HDI계 경화제(닛폰 폴리우레탄 공업(주) 제조. 품명: 코로네이트 HX) 1.2중량부를 첨가, 혼합한 도포액을 두께가 38㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에 건조 후의 두께가 20㎛가 되도록 도포한 후, 100℃의 열풍 순환식 오븐에서 2분간 건조시켜 점착제층을 형성하였다. 그 후, 이 점착제층의 표면에 상기에서 제작한 비교예 1의 박리 필름의 박리제층(실리콘 처리면)을 첩합하였다. 얻어진 점착 필름을 40℃의 환경하에서 5일간 보온하고, 점착제를 경화시켜 비교예 1의 표면 보호 필름을 얻었다., 5 parts by weight of an addition reaction type silicone (trade name: SRX-345, manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), 95 parts by weight of a 1: 1 mixed solvent of toluene and ethyl acetate, : SRX-212), and the mixture was stirred and mixed to prepare a coating material for forming the release agent layer of Comparative Example 1. On the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 탆, a coating material for forming the release agent layer of Comparative Example 1 was applied to the surface of a Meyer bar so that the thickness after drying was 0.2 탆 and dried in a hot air circulating oven at 120 캜 for one minute, A release film of Example 1 was obtained. On the other hand, 0.6 part by weight of a polyether-modified silicone (trade name: SH8400, manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) and 100 parts by weight of a pressure-sensitive adhesive (ethyl acetate solution having a solid content of 30% 2 parts by weight of pyridinium hexafluorophosphate, and 1.2 parts by weight of an HDI-based curing agent (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., Coronate HX) were added and mixed to form a coating liquid on the surface of a polyethylene terephthalate film To a thickness of 20 mu m after drying, and then dried in a hot air circulating oven at 100 DEG C for 2 minutes to form a pressure-sensitive adhesive layer. Thereafter, the release agent layer (silicone-treated surface) of the release film of Comparative Example 1 prepared above was bonded to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. The obtained pressure-sensitive adhesive film was kept at an environment of 40 캜 for 5 days, and the pressure-sensitive adhesive was cured to obtain a surface protective film of Comparative Example 1.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

폴리에테르 변성 실리콘(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SH8400) 0.06중량부, N-부틸-4-메틸피리디늄 헥사플루오로포스페이트 0.2중량부로 한 이외에는 비교예 1과 동일하게 하여, 비교예 2의 표면 보호 필름을 얻었다.0.06 parts by weight of polyether-modified silicone (trade name: SH8400, manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) and 0.2 parts by weight of N-butyl-4-methylpyridinium hexafluorophosphate were used, Of the surface protective film.

(실시예 4)(Example 4)

실시예 1의 도포액을 대신하여, 2-에틸헥실아크릴레이트와, 부틸아크릴레이트와, 2-히드록시에틸아크릴레이트를 60:40:4의 중량비로 공중합시킨 중량 평균 분자량 48만의 아크릴레이트 공중합체 30중량부를 초산에틸 70중량부로 용해시킨 점착제(고형분 30％의 초산에틸 용액) 100중량부에 대해서, HDI계 경화제(닛폰 폴리우레탄 공업(주) 제조. 품명: 코로네이트 HX) 1.2중량부를 첨가, 혼합한 도포액을 사용한 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 4의 표면 보호 필름을 얻었다.An acrylate copolymer having a weight average molecular weight of 480,000 obtained by copolymerizing 2-ethylhexyl acrylate, butyl acrylate and 2-hydroxyethyl acrylate in a weight ratio of 60: 40: 4 instead of the coating liquid of Example 1 1.2 parts by weight of an HDI curing agent (Coronate HX, trade name, manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) was added to 100 parts by weight of a pressure-sensitive adhesive (ethyl acetate solution having a solid content of 30%) dissolved in 30 parts by weight of ethyl acetate in an amount of 70 parts by weight, A surface protective film of Example 4 was obtained in the same manner as in Example 1 except that a mixed coating liquid was used.

(실시예 5)(Example 5)

실시예 1의 도포액을 대신하여, 2-에틸헥실아크릴레이트와, 메톡시폴리에틸렌글리콜(400) 메타크릴레이트와, 2-히드록시에틸아크릴레이트를 90:10:4의 중량비로 공중합시킨 중량 평균 분자량 38만의 아크릴레이트 공중합체 30중량부를 초산에틸 70중량부로 용해시킨 점착제(고형분 30％의 초산에틸 용액) 100중량부에 대해서, HDI계 경화제(닛폰 폴리우레탄 공업(주) 제조. 품명: 코로네이트 HX) 1.2중량부를 첨가, 혼합한 도포액을 사용한 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 5의 표면 보호 필름을 얻었다.A weight average value obtained by copolymerizing 2-ethylhexyl acrylate, methoxy polyethylene glycol (400) methacrylate, and 2-hydroxyethyl acrylate in a weight ratio of 90: 10: 4 instead of the coating liquid of Example 1 100 parts by weight of a pressure-sensitive adhesive (ethyl acetate solution having a solid content of 30%) obtained by dissolving 30 parts by weight of an acrylate copolymer having a molecular weight of 380,000 in 70 parts by weight of ethyl acetate was blended with an HDI curing agent HX) were added and mixed in the same manner as in Example 1, to thereby obtain a surface protecting film of Example 5.

(실시예 6)(Example 6)

실시예 1의 도포액을 대신하여, 2-에틸헥실아크릴레이트와 아크릴산을 100:4의 중량비로 공중합시킨 중량 평균 분자량 52만의 아크릴레이트 공중합체 30중량부를 초산에틸 70중량부로 용해시킨 점착제(고형분 30％의 초산에틸 용액) 100중량부에 대해서, 에폭시계 경화제(미츠비시 가스 화학(주) 제조. 품명: TETRAD-C) 1.0중량부를 첨가, 혼합한 도포액을 사용한 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 6의 표면 보호 필름을 얻었다.30 parts by weight of an acrylate copolymer having a weight average molecular weight of 52,000, which was obtained by copolymerizing 2-ethylhexyl acrylate and acrylic acid in a weight ratio of 100: 4 in place of the coating solution of Example 1, was dissolved in 70 parts by weight of ethyl acetate to obtain a pressure- 1.0 part by weight of an epoxy curing agent (trade name: TETRAD-C, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) was added to and mixed with 100 parts by weight of an ethyl acetate solution A surface protective film of Example 6 was obtained.

이하, 평가 시험 방법 및 결과에 대해 나타낸다.Hereinafter, evaluation test methods and results are shown.

〈박리 필름의 박리력의 측정 방법〉≪ Method of measuring peel strength of release film >

표면 보호 필름의 샘플을 폭 50㎜, 길이 150㎜로 재단한다. 23℃×50％RH의 시험 환경하, 인장 시험기를 이용하여 300㎜/분의 박리 속도로 180° 방향으로 박리 필름을 박리했을 때의 강도를 측정하여, 이것을 박리 필름의 박리력(N/50㎜)으로 하였다.A sample of the surface protective film is cut to a width of 50 mm and a length of 150 mm. The peel strength of the peeled film in the 180 ° direction was measured at a peeling rate of 300 mm / min using a tensile tester under a test environment of 23 ° C × 50% RH, and the peel strength (N / 50 Mm).

〈표면 보호 필름의 점착력의 측정 방법〉≪ Method for Measuring Adhesive Force of Surface Protective Film >

유리판의 표면에 안티글레어 저반사 처리 편광판(AG-LR 편광판)을 첩합기를 이용하여 첩합하였다. 그 후, 편광판의 표면에 폭 25㎜로 재단한 표면 보호 필름을 첩합시킨 후, 23℃×50%RH의 시험 환경하에 1일간 보관하였다. 그 후, 인장 시험기를 이용하여 300㎜/분의 박리 속도로 180°방향으로 표면 보호 필름을 박리했을 때의 강도를 측정하여, 이것을 점착력(N/25㎜)으로 하였다.An anti-glare low reflection polarizing plate (AG-LR polarizing plate) was bonded to the surface of the glass plate using a coater. Thereafter, a surface protective film cut to a width of 25 mm was adhered to the surface of the polarizing plate, and then stored for 1 day under a test environment of 23 캜 50% RH. Thereafter, the strength when the surface protective film was peeled off in the 180 占 direction at a peeling speed of 300 mm / min was measured using a tensile tester, and this was regarded as an adhesive force (N / 25 mm).

〈표면 보호 필름의 박리 대전압의 측정 방법〉≪ Method of measuring peeling electrification voltage of surface protective film >

유리판의 표면에 안티글레어 저반사 처리 편광판(AG-LR 편광판)을 첩합기를 이용하여 첩합하였다. 그 후, 편광판의 표면에 폭 25㎜로 재단한 표면 보호 필름을 첩합시킨 후, 23℃×50%RH의 시험 환경하에 1일간 보관하였다. 그 후, 고속 박리 시험기(테스터 산업 제조)를 이용하여 매분 40m의 박리 속도로 표면 보호 필름을 박리하면서, 상기 편광판 표면의 표면 전위를 표면 전위계(키엔스 (주) 제조)를 이용하여 10㎳마다 측정했을 때의 표면 전위의 절대값의 최대값을 박리 대전압(㎸)으로 하였다.An anti-glare low reflection polarizing plate (AG-LR polarizing plate) was bonded to the surface of the glass plate using a coater. Thereafter, a surface protective film cut to a width of 25 mm was adhered to the surface of the polarizing plate, and then stored for 1 day under a test environment of 23 캜 50% RH. Thereafter, the surface potential of the surface of the polarizing plate was measured every 10 ms using a surface electrometer (manufactured by KYOTEC CO., LTD.) While peeling off the surface protective film at a peeling rate of 40 m per minute using a high-speed peeling tester And the maximum value of the absolute value of the surface potential at the time of peeling off voltage (kV).

〈표면 보호 필름의 표면 오염성의 확인 방법〉≪ Method of confirming surface staining property of surface protective film >

유리판의 표면에 안티글레어 저반사 처리 편광판(AG-LR 편광판)을 첩합기를 이용하여 첩합하였다. 그 후, 편광판 표면에 폭 25㎜로 재단한 표면 보호 필름을 첩합시킨 후, 23℃×50%RH의 시험 환경하에 3일 및 30일 보관하였다. 그 후, 표면 보호 필름을 박리하여, 편광판 표면의 오염성을 육안으로 관찰하였다. 표면 오염성의 판정 기준으로서, 편광판에 오염 이행이 없는 경우를 「○」로 하고, 편광판에 오염 이행이 확인된 경우를 「×」로 하였다.An anti-glare low reflection polarizing plate (AG-LR polarizing plate) was bonded to the surface of the glass plate using a coater. Thereafter, a surface protective film cut to a width of 25 mm was adhered to the surface of the polarizing plate, and then stored for 3 days and 30 days under the test environment of 23 캜 50% RH. Thereafter, the surface protective film was peeled off and the stain on the surface of the polarizing plate was visually observed. As a criterion of the surface staining property, a case in which no staining was observed in the polarizing plate was evaluated as "? &Quot;, and a case in which contamination was confirmed in the polarizing plate was evaluated as "

얻어진 실시예 1∼6 및 비교예 1∼2의 표면 보호 필름에 대해 측정한 측정 결과를 표 1∼2에 나타냈다. 각각, 「2EHA」는 2-에틸헥실아크릴레이트를, 「HEA」는 2-히드록시에틸아크릴레이트를, 「BA」는 부틸아크릴레이트를, 「#400G」는 메톡시폴리에틸렌글리콜(400) 메타크릴레이트를, 「AA」는 아크릴산을, 「AS-a」는 N-부틸-4-메틸피리디늄 헥사플루오로포스페이트를, 「AS-b」는 1-메틸-3-에틸이미다졸륨 헥사플루오로포스페이트를 의미한다.The measurement results of the obtained surface protective films of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2 are shown in Tables 1 and 2. Acrylate, "BA", and "# 400G" are methoxy polyethylene glycol (meth) acrylate (meth) acrylate (meth) acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2- Quot; AS-b " refers to 1-methyl-3-ethylimidazolium hexafluoro Phosphate. ≪ / RTI >

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Figure 112014049388102-pat00002
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표 1 및 표 2에 나타낸 측정 결과로부터 이하를 확인할 수 있다.From the measurement results shown in Table 1 and Table 2, the following can be confirmed.

본 발명에 따른 실시예 1∼6의 표면 보호 필름은 적당한 점착력이 있고, 피착체의 표면에 대한 오염이 없으며, 또한 표면 보호 필름을 피착체에서 박리했을 때의 박리 대전압이 낮다.The surface protective films of Examples 1 to 6 according to the present invention have appropriate adhesive force, do not contaminate the surface of the adherend, and have low peeling electrification voltage when the surface protective film is peeled off from the adherend.

한편, 실리콘 화합물 및 대전 방지제를 점착제층에 첨가한 비교예 1의 표면 보호 필름은 표면 보호 필름을 피착체에서 박리했을 때의 박리 대전압이 낮아 양호하지만, 박리한 후의 피착체에 대한 오염이 많아졌다. 또한, 대전 방지제 및 실리콘 화합물을 감량한 비교예 2에서는 피착체에 대한 오염성은 개선되었으나, 표면 보호 필름을 피착체에서 박리했을 때의 박리 대전압이 높아졌다. 점착제에 실리콘 화합물과 대전 방지제를 혼합시키는 방법으로는 박리 대전압의 저감과 피착체에 대한 오염성을 양립시키는 것이 곤란하다. 한편, 박리제층에 실리콘 화합물 및 대전 방지제를 첨가하여 점착제층의 표면에 전사시키는 본 발명의 방법은 소량의 첨가량으로 박리 대전압의 저감 효과가 있기 때문에, 피착체에 대한 오염도 없고 양호한 것이 얻어졌다.On the other hand, the surface protective film of Comparative Example 1 in which the silicone compound and the antistatic agent were added to the pressure-sensitive adhesive layer was good because the peeling electrification voltage when the surface protective film was peeled from the adherend was low. However, lost. In Comparative Example 2 in which the antistatic agent and the silicone compound were reduced, the stain resistance to the adherend was improved, but the peeling electrification voltage when the surface protective film was peeled from the adherend was increased. In the method of mixing the silicone compound and the antistatic agent with the pressure-sensitive adhesive, it is difficult to achieve both reduction of the peeling electrification voltage and stain resistance to the adherend. On the other hand, the method of the present invention, in which the silicone compound and the antistatic agent are added to the release agent layer and transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, has an effect of reducing the peeling electrification voltage by a small addition amount.

본 발명의 표면 보호 필름은, 예를 들면 편광판이나 위상차판, 렌즈 필름 등의 광학용 필름, 그 밖의 각종 광학 부품 등의 생산 공정 등에 있어서, 당해 광학 부품 등의 표면에 첩합하여 표면을 보호하기 위해 사용할 수 있다. 특히, 표면이 실리콘 화합물이나 불소 화합물 등으로 방오 처리되어 있는 LR 편광판이나 AG-LR 편광판 등의 광학용 필름의 표면 보호 필름으로서 사용하는 경우에는, 피착체에서 박리할 때에 발생하는 정전기의 양을 저감시킬 수 있고, 또한 박리 대전 방지 성능의 경시 변화 및 피착체에 대한 오염이 적으며, 광학 부품의 표면을 확실하게 보호하고, 생산 공정의 수율을 향상시킬 수 있다.The surface protective film of the present invention can be applied to a surface of an optical component or the like in a production process such as a polarizing plate, a phase difference plate, a lens film and other optical films, Can be used. Particularly, when the surface is used as a surface protective film for an optical film such as an LR polarizing plate or an AG-LR polarizing plate which has been subjected to an antifouling treatment with a silicone compound, a fluorine compound or the like, the amount of static electricity generated upon peeling from the adherend is reduced It is possible to prevent deterioration of the peeling antistatic performance with time and contamination to the adherend, to securely protect the surface of the optical component, and to improve the yield of the production process.

1…기재 필름, 2…점착제층, 3…수지 필름, 4…박리제층, 5…박리 필름, 7…20℃에서 액체인 실리콘계 화합물 및 대전 방지제, 8…피착체(광학 부품), 10…표면 보호 필름, 11…박리 필름을 박리한 표면 보호 필름, 20…표면 보호 필름을 첩합한 광학 부품.One… Base film, 2 ... Adhesive layer, 3 ... Resin film, 4 ... The release agent layer, 5 ... Peeling film, 7 ... Silicone compounds and antistatic agents which are liquid at 20 占 폚, 8 ... Adhesive (optical parts), 10 ... Surface protection film, 11 ... Surface protection film with exfoliated film, 20 ... Optical parts with surface protection film laminated.

Claims (5)

투명성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름의 한쪽 면에 점착제층이 형성되어 이루어지고, 당해 점착제층 위에 박리제층을 갖는 박리 필름이 첩합된 표면 보호 필름에 있어서, 상기 박리 필름이 수지 필름의 한쪽 면에 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와, 20℃에서 액체인 실리콘계 화합물과, 융점이 30∼80℃인 이온성 화합물을 포함하는 수지 조성물에 의해 상기 박리제층이 형성되어 이루어지며, 상기 점착제층이 아크릴계 점착제층이고,
상기 실리콘계 화합물 및 상기 이온성 화합물이 상기 점착제층의 표면에 전사되어 있는 표면 보호 필름.1. A surface protective film comprising a base film made of a resin having transparency and having a pressure-sensitive adhesive layer formed on one side thereof and a release film having a release agent layer formed thereon, the release film comprising: Wherein the releasing agent layer is formed by a releasing agent comprising a polysiloxane as a main component, a silicone compound as a liquid at 20 占 폚 and an ionic compound having a melting point of 30 to 80 占 폚, ego,
Wherein the silicone compound and the ionic compound are transferred onto the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. 제 1 항에 있어서,
상기 실리콘계 화합물이 폴리에테르 변성 실리콘인 표면 보호 필름.The method according to claim 1,
Wherein the silicone compound is a polyether-modified silicone. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 아크릴계 점착제층이 (메타)아크릴레이트 공중합체를 가교시켜 이루어지는 표면 보호 필름.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the acrylic pressure sensitive adhesive layer is formed by crosslinking a (meth) acrylate copolymer. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 박리 필름의 상기 아크릴계 점착제층으로부터의 박리력이 0.2N/50㎜ 이하인 표면 보호 필름.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the peel strength of the release film from the acrylic pressure sensitive adhesive layer is 0.2 N / 50 mm or less. 제 1 항 또는 제 2 항의 표면 보호 필름이 첩합되어 이루어지는 광학 부품.An optical component in which the surface protective film of claim 1 or 2 is bonded.
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