JP2015017005A - 光学素子の製造方法、及び、光学素子の製造装置 - Google Patents

Abstract

【課題】光学素子の製造方法及び光学素子において、外形寸法を高精度に形成しながら、迷光による弊害を簡単かつ確実に防止する方法を提供する。
【解決手段】成形素材を加熱軟化させ、光学素子１００を成形する成形工程と、成形で形成された光学素子１００の外形寸法（外径Ｅ）を実質的に維持しながら、光学素子１００の有効径１００ａ外においてレーザーの照射等により有効径外にクラック又は変質層を形成し散乱領域１００ｆを創生する散乱領域創生工程と、を有する光学素子の製造方法。
【選択図】図２Ａ

Description

本発明は、光学素子を製造する光学素子の製造方法及び製造装置に関する。

従来、研削による外径心取り加工によってレンズの外周面を粗面に形成する手法が行われている。これにより、レンズに入射された光の一部が迷光となって外周面に当たった際に、粗面における乱反射によりゴーストやフレアの防止がなされていた。

図６Ａは、外周面が研削面２００ａであるレンズ２００を示す断面図である。
図６Ｂは、外周面が鏡面３００ａであるレンズ３００を示す断面図である。

図６Ａに示すように、レンズ２００の外周面が研削面２００ａである場合、迷光Ｌ１０が研削面２００ａにおいて乱反射により散乱する（散乱光Ｌ１１，Ｌ１２，Ｌ１３）。そのため、ゴーストやフレアを防止することができる。

一方、図６Ｂに示すように、レンズ３００の外周面が鏡面３００ａである場合、迷光Ｌ２０は研削面２００ａにおいて反射する（反射光Ｌ２１）。そのため、この反射光Ｌ２１がゴーストやフレアを生じさせる。

よって、ゴーストやフレアを防止する観点では、レンズの外周面は、図６Ａに示す研削面２００ａのような粗面であることが望ましい。しかしながら、昨今、レンズ外径の精度向上が求められ、研削により高精度な外径を形成すると非常にコストが高くなる問題が生じる。

この点、成形素材を加熱軟化させ光学素子を成形することで高精度な外径を形成することは外径規制部材の精度をそのまま転写するため低コストで量産可能である。また、この外径規制部材に凹凸を持たせることで、凹凸外周面を有する光学素子を成形することも可能である（例えば、特許文献１参照）。

また、光学素子の有効径外に紫外線を照射することで、灰色に着色された迷光抑制領域を形成する手法が知られている（例えば、特許文献２参照）。
なお、光透過性材料にマーキングを施すマーキング方法ではあるが、レーザー光によって光透過性材料の内部にマーキングを施す手法が知られている（例えば、特許文献３参照）。

特開２０００−２０３８５２号公報 特開２００７−１６３５５１号公報 特許第３２０８７３０号公報

上記のように外径規制部材により光学素子に凹凸外周面を形成する手法は、成形による自由表面を含んだ凹凸外周面が形成されるため、迷光を十分に散乱させることができず、ゴーストやフレアなどの迷光による弊害を確実に防止することができない。また、外周面の凹凸によって、外径を高精度に形成することができなかったり、光学素子と外径規制部材の線膨張差以上の凹凸をつけると成形された光学素子が外周規制部材から抜けなくなったりする問題が発生する。

また、上記のように灰色に着色された迷光抑制領域を形成する手法は、迷光抑制領域の形成に長時間を要したり、光学素子の材料によっては十分に着色するのが困難であったりする。更には、迷光を散乱させることができないため、迷光による弊害を確実に防止することができない。

なお、光学素子の外周面に研削などの処理を行わず外周面を成形後の鏡面のままにすることで、外径を高精度に安価に形成することができる。しかしながら、迷光による弊害を防止するために、外周面に添加剤を入れた塗料を塗布するなどの対策が必要になり、例えば塗料の膜厚のバラツキによって、結果的に外径の精度が悪化する。

なお、上述の従来技術の問題点は、レンズのみならず、プリズム等の他の光学素子においても生じるものである。また、外径の精度について述べたが、光学素子が多角筒形状である場合の１辺の長さや幅などの他の外形寸法についても、同様に精度が求められる。

本発明の目的は、外形寸法を高精度に形成しながら、迷光による弊害を簡単かつ確実に防止することができる光学素子の製造方法及び光学素子を提供することである。

本発明の光学素子の製造方法は、成形素材を加熱軟化させ、光学素子を成形する成形工程と、成形で形成された前記光学素子の外形寸法を実質的に維持しながら、前記光学素子の有効径外において散乱領域を創生する散乱領域創生工程と、を有する。

本発明の光学素子は、成形素材を加熱軟化させることにより成形された光学素子であって、成形で形成された外形寸法を実質的に維持しながら有効径外において創生された散乱領域を有する。

本発明によれば、外形寸法を高精度に形成しながら、迷光による弊害を簡単かつ確実に防止することができる。

本発明の第１実施形態における光学素子の成形状態を示す断面図である。 本発明の第１実施形態における散乱領域の創生を説明するための正面図である。 本発明の第１実施形態における散乱領域の創生を説明するための右側面図である。 本発明の第２実施形態における散乱領域の創生を説明するための正面図である。 本発明の第２実施形態における散乱領域の創生を説明するための右側面図である。 本発明の第３実施形態における散乱領域の創生を説明するための正面図である。 本発明の第３実施形態における散乱領域の創生を説明するための右側面図である。 本発明の第４実施形態における散乱領域の創生を説明するための正面図である。 本発明の第４実施形態における散乱領域の創生を説明するための右側面図である。 外周面が研削面であるレンズを示す断面図である。 外周面が鏡面であるレンズを示す断面図である。

＜第１実施形態＞
図１は、本発明の第１実施形態における光学素子１００の成形状態を示す断面図である。
図１に示す型セット１０は、上型１１と、下型１２と、胴型１３と、を有する。

上型１１は、略円柱形状を呈し、底面に凸状成形面１１ａが形成されている。
下型１２は、略円柱形状を呈し、上面に平面状成形面１２ａが形成されている。
なお、上型１１及び下型１２は、一対の成形型の一例であり、上記の形状はあくまで一例にすぎない。

胴型１３は、筒状を呈し、上型１１及び下型１２の周囲に位置する。胴型１３の内周には、内周成形面１３ａが形成されている。
上型１１は、図示しない加圧手段により下方に押圧されることで、胴型１３内を摺動して光学素子１００を加圧する。

光学素子１００は、例えば型セット１０からの熱伝導により成形素材が加熱軟化した状態で、型セット１０（例えば上型１１）を介して加圧され成形されることで得られる（成形工程）。光学素子１００は、例えばレンズである。また、成形素材は、ガラスであることが望ましい。

図２Ａ及び図２Ｂに示す光学素子１００の成形により形成された外径Ｅは、後述する散乱領域創生工程を経ても実質的に維持される。そのため、光学素子１００の外径Ｅは、成形工程において所望の寸法に形成するとよい。

なお、光学素子１００は、後述する散乱領域創生工程前に例えばガラス転移点以下の温度になるまで冷却される。そのため、成形工程は、成形素材を加熱する加熱工程と、加熱された成形素材を加圧する加圧工程と、加圧された成形素材を冷却する冷却工程と、を含む。

光学素子１００は、上型１１、下型１２、及び胴型１３から形状を転写されることによって、上成形面１００ｂ、下成形面１００ｃ、及び外周成形面１００ｄが形成される。上成形面１００ｂには、凸状成形面１１ａから形状を転写されるため、中央に凹部１００ｂ−１が形成される。光学素子１００の形状は、例えば、円板形状、円柱形状などであるが、多角柱形状などの他の形状としてもよい。

光学素子１００の有効径１００ａは、光学的特性を発揮する部分（光学機能面）であり、例えば、上成形面１００ｂの凹部１００ｂ−１よりも平面視において狭い部分である。詳しくは後述するが、本実施形態では、有効径１００ａの外側の一例として、凹部１００ｂ−１よりも外側の領域に散乱領域１００ｆが創生される。

光学素子１００は、上型１１、下型１２、及び胴型１３との非接触部分、すなわち、上成形面１００ｂと外周成形面１００ｄとの間及び下成形面１００ｃと外周成形面１００ｄとの間の部分が自由表面１００ｅとなる。この自由表面１００ｅは、例えば鏡面となる。

次に、成形により形成された光学素子１００の外径Ｅを実質的に維持しながら、光学素子１００の有効径１００ａ外において散乱領域１００ｆを創生する散乱領域創生工程について説明する。なお、外径Ｅは、外形寸法の一例であり、他の外形寸法としては、光学素子１００が多角筒形状である場合の１辺の長さや幅などの寸法も挙げられる。

図２Ａ及び図２Ｂは、第１実施形態における散乱領域１００ｆの創生を説明するための正面図及び右側面図である。
図２Ａ及び図２Ｂに示すように、光学素子１００は、一対の回転保持部２１，２２により保持された状態で、これら回転保持部２１，２２が回転することで、回転する（矢印Ｄ２）。

レーザー照射部２３は、集光レンズ２３ａを介してレーザーＬを光学素子１００に照射する。レーザー照射部２３は、光学素子１００の厚み方向（矢印Ｄ１）に移動自在である。
本実施形態では、レーザー照射部２３は、有効径１００ａ外の部分の一例として、光学素子１００の外周面である外周成形面１００ｄと、自由表面１００ｅとにレーザーＬを照射する。

これにより、光学素子１００の外周成形面１００ｄ及び自由表面１００ｅには、レーザマーキングによってクラック又は変質層である散乱領域１００ｆが創生される。なお、外周成形面１００ｄと自由表面１００ｅとのうちの一方のみに散乱領域１００ｆを創生してもよい。また、外周成形面１００ｄ及び自由表面１００ｅには一部のみに散乱領域１００ｆを創生してもよい。

散乱領域１００ｆは、光学素子１００の外径Ｅが成形工程により形成されたものを実質的に維持しながら創生される。なお、光学素子１００の外径Ｅが実質的に維持される場合とは、光学素子１００の外径Ｅが散乱領域創生工程を経ても例えば５μｍを超えて変動しない場合である。

なお、従来のように研削により光学素子１００の外周面に粗面を形成する場合には、５μｍを超えて変動しないように加工するには通常加工では難しくコストアップの原因となっていた。

レーザー照射部２３は、光学素子１００の外周１周分に散乱領域１００ｆを創生した後、厚み方向（矢印Ｄ１）に移動して、再び光学素子１００の外周１周分に散乱領域１００ｆを創生するという動作を繰り返すとよい。但し、レーザー照射部２３を厚み方向（矢印Ｄ１）に微動させ且つ光学素子１００を回転させながら散乱領域１００ｆを創生してもよい。また、光学素子１００を回転させずにレーザー照射部２３を光学素子１００の周囲で回転させるようにしてもよい。

レーザーＬがフェムト秒レーザーなどの超短パルスレーザーである場合、散乱領域１００ｆは、熱が伝わる前に短時間で変質層が形成されるため、クラックは生じない。しかし、散乱領域１００ｆは、有効径１００ａ外に創生されるため、クラックであっても大きさが小さければ実質、問題が生じない場合が多い。

以上説明した第１実施形態では、光学素子１００の製造方法は、成形素材を加熱軟化させ、光学素子１００を成形する成形工程と、成形で形成された光学素子１００の外径Ｅ（外形寸法の一例）を実質的に維持しながら、光学素子１００の有効径１００ａ外において散乱領域１００ｆを創生する散乱領域創生工程と、を有する。

そのため、研削や成形時に粗面を形成する場合のように外径Ｅの精度を悪化させずに、散乱領域１００ｆを創生することができる。また、散乱領域１００ｆを創生することで、従来のように光学素子１００の内部に着色部分を形成する場合ほど時間を要さずに、散乱領域１００ｆによってゴーストやフレアなどの迷光による弊害を確実に防止することができる。

よって、本実施形態によれば、外径Ｅを高精度に形成しながら、迷光による弊害を簡単かつ確実に防止することができる。

また、本実施形態では、光学素子１００の外周面である外周成形面１００ｄにレーザーＬを照射し、外周成形面１００ｄにクラック又は変質層を形成することによって、外周成形面１００ｄに散乱領域１００ｆが創生される。

そのため、外周成形面１００ｄにレーザーＬを照射することで散乱領域１００ｆを創生することができるため、簡単に迷光による弊害を防止することができる。

また、本実施形態では、光学素子１００の自由表面１００ｅにレーザーＬを照射し、自由表面１００ｅにクラック又は変質層を形成することによって、自由表面１００ｅに散乱領域１００ｆが創生される。

ところで、特に心取り加工をしない成形のみで得られる光学素子１００において、例えば鏡面である自由表面１００ｅにおける内部反射がゴーストやフレアなどの弊害を生じさせる大きな原因となっていたことが判明した。そのため、自由表面１００ｅに散乱領域１００ｆを創生することで、簡単かつ確実に迷光による弊害を防止することができる。

＜第２実施形態＞
本実施形態では、散乱領域１００ｇの位置を光学素子１００の内部としたことにおいて第１実施形態と相違し、その他は同様である。そのため、詳細な説明は省略する。

図３Ａ及び図３Ｂは、第２実施形態における散乱領域１００ｇの創生を説明するための正面図及び右側面図である。
本実施形態においても、図３Ａ及び図３Ｂに示すように、光学素子１００は、一対の回転保持部２１，２２により保持された状態で、これら回転保持部２１，２２が回転することで、回転する（矢印Ｄ２）。また、本実施形態においても、レーザー照射部２３は、光学素子１００の厚み方向（矢印Ｄ１）に移動自在である。

本実施形態では、レーザー照射部２３は、光学素子１００の有効径１００ａ外の内部にレーザーＬを照射する。これにより、光学素子１００の内部には、クラック又は変質層である散乱領域１００ｇが創生される。

散乱領域１００ｇは、光学素子１００の内部に創生されるため、外径Ｅが成形工程により形成されたものと変化せず維持される（実質的に維持される）。
本実施形態においても、レーザー照射部２３は、光学素子１００の外周１周分に散乱領域１００ｆを創生した後、厚み方向（矢印Ｄ１）に移動して、再び光学素子１００の外周１周分に散乱領域１００ｆを創生するという動作を繰り返すとよい。これにより、光学素子１００の内部には、円筒形状に散乱領域１００ｇが創生される。

なお、光学素子１００の上成形面１００ｂと下成形面１００ｃとに亘ってクラックである散乱領域１００ｇが創生されると、光学素子１００が欠落し或いは欠けるおそれがある。そのため、散乱領域１００ｇの両端が上成形面１００ｂや下成形面１００ｃとの間に間隔を隔てて位置し外部に露出させないようにするとよい。

また、内部の散乱領域１００ｇは、自由表面１００ｅに迷光が到達しづらいように、光学素子１００への光の入射側と自由表面１００ｅとの間に創生するとよい。
また、レーザー照射部２３は、光学素子１００の上成形面１００ｂ側から又は下成形面１００ｃ側から厚み方向（矢印Ｄ１）にレーザーＬを照射してもよいが、その場合、厚み方向（矢印Ｄ１）の奥から手前に向かって散乱領域１００ｇを創生しないと、先に創生した散乱領域１００ｇが、散乱領域１００ｇの創生を阻害することになる。

以上説明した第２実施形態においても、光学素子１００の製造方法は、成形素材を加熱軟化させ、光学素子１００を成形する成形工程と、成形で形成された光学素子１００の外径Ｅ（外形寸法の一例）を実質的に維持しながら、光学素子１００の有効径１００ａ外において散乱領域１００ｇを創生する散乱領域創生工程と、を有するため、外径Ｅを高精度に形成しながら、迷光による弊害を簡単かつ確実に防止することができる。

また、本実施形態では、光学素子１００の内部にレーザーＬを照射し、内部にクラック又は変質層を形成することによって、内部に散乱領域１００ｇが創生される。
そのため、第１実施形態の外周成形面１００ｄや自由表面１００ｅのように外周面に散乱領域１００ｆを創生する場合と比較して、散乱領域１００ｇの創生が外径に影響を与えないため、クラックや変質層を大きく形成することなどによって、確実に迷光を散乱させることができる。

＜第３実施形態＞
本実施形態では、光学素子１００の外周側（外周成形面１００ｄ側又は自由表面１００ｅ側）から光学素子１００の内部にレーザーＬが照射される。また、散乱領域１００ｈ−１，１００ｈ−２，１００ｈ−３を形成する位置の深さを光学素子１００の厚み方向（矢印Ｄ１）において変化させることにより、散乱領域１００ｈ−１，１００ｈ−２，１００ｈ−３が非連続的に創生される。本実施形態では、これらについて第１実施形態及び第２実施形態と相違し、その他は同様である。そのため、詳細な説明は省略する。

図４Ａ及び図４Ｂは、第３実施形態における散乱領域１００ｈ−１，１００ｈ−２，１００ｈ−３の創生を説明するための正面図及び右側面図である。
本実施形態においても、図４Ａ及び図４Ｂに示すように、光学素子１００は、一対の回転保持部２１，２２により保持された状態で、これら回転保持部２１，２２が回転することで、回転する（矢印Ｄ２）。また、本実施形態においても、レーザー照射部２３は、光学素子１００の厚み方向（矢印Ｄ１）に移動自在である。

本実施形態では、レーザー照射部２３は、光学素子１００の外周側（外周成形面１００ｄ又は自由表面１００ｅ）から光学素子１００の内部にレーザーＬを照射する。また、レーザー照射部２３は、レーザーＬの焦点位置を変化させることで、散乱領域１００ｈ−１，１００ｈ−２，１００ｈ−３を形成する位置の深さを光学素子１００の厚み方向（矢印Ｄ１）において変化させる。これにより、光学素子１００の内部には、クラック又は変質層である複数の散乱領域１００ｈ−１，１００ｈ−２，１００ｈ−３が非連続的に創生される。

第２実施形態と同様に、散乱領域１００ｈ−１，１００ｈ−２，１００ｈ−３は、光学素子１００の内部に創生されるため、外径Ｅが成形工程により形成されたものと変化せず維持される（実質的に維持される）。

本実施形態においても、レーザー照射部２３は、光学素子１００の外周１周分に散乱領域１００ｆを創生した後、厚み方向（矢印Ｄ１）に移動して、再び光学素子１００の外周１周分に散乱領域１００ｆを創生するという動作を繰り返すとよい。また、１回以上、レーザー照射部２３によるレーザーＬの焦点位置を変更することにより、上述のように散乱領域１００ｈ−１，１００ｈ−２，１００ｈ−３を形成する位置の深さを光学素子１００の厚み方向（矢印Ｄ１）において変化させるとよい。

以上説明した第３実施形態においても、光学素子１００の製造方法は、成形素材を加熱軟化させ、光学素子１００を成形する成形工程と、成形で形成された光学素子１００の外径Ｅ（外形寸法の一例）を実質的に維持しながら、光学素子１００の有効径１００ａ外において散乱領域１００ｈ−１，１００ｈ−２，１００ｈ−３を創生する散乱領域創生工程と、を有するため、外径Ｅを高精度に形成しながら、迷光による弊害を簡単かつ確実に防止することができる。

また、本実施形態では、光学素子１００の外周側（外周成形面１００ｄ側又は自由表面１００ｅ側）から光学素子１００の内部にレーザーＬを照射し、散乱領域１００ｈ−１，１００ｈ−２，１００ｈ−３を形成する位置の深さを、光学素子１００の厚み方向（矢印Ｄ１）において変化させることにより、散乱領域光学素子１００ｈ−１，１００ｈ−２，１００ｈ−３が非連続的に創生される。

そのため、第２実施形態と同様に、散乱領域１００ｇの創生が外径に影響を与えないため、クラックや変質層を大きく形成することなどによって、確実に迷光を散乱させることができる。更には、光学素子１００の内部において、散乱領域１００ｈ−１，１００ｈ−２，１００ｈ−３が連続することに起因して光学素子１００が欠落し或いは欠けるのを防止することができる。

＜第４実施形態＞
本実施形態では、エッチングにより散乱領域１００ｉを創生することにおいて第１実施形態と相違し、その他は同様である。そのため、詳細な説明は省略する。

図５Ａ及び図５Ｂは、第４実施形態における散乱領域１００ｉの創生を説明するための正面図及び右側面図である。
本実施形態においても、図４Ａ及び図４Ｂに示すように、光学素子１００は、一対の回転保持部２１，２２により保持された状態で、これら回転保持部２１，２２が回転することで、回転する（矢印Ｄ２）。

また、本実施形態では、一例として、エッチング用ペン２４を用いてフッ化物を塗布することで、自由表面１００ｅに散乱領域１００ｉを創生する。散乱領域１００ｉは、有効径１００ａ外に創生されればよいため、外周成形面１００ｄにも散乱領域１００ｉを創生してもよいし、外周成形面１００ｄのみに散乱領域１００ｉを創生してもよい。また、エッチング用ペン２４は、人の手により操作しても自動で移動するようにしてもよい。

散乱領域１００ｉは、光学素子１００の外径Ｅが成形工程により形成されたものを実質的に維持しながら創生される。第１実施形態において述べたとおり、光学素子１００の外径Ｅが実質的に維持される場合とは、光学素子１００の外径Ｅが散乱領域創生工程を経ても例えば５μｍを超えて変動しない場合である。

本実施形態では、光学素子１００の外周１周分に散乱領域１００ｉを創生した後、エッチング用ペン２４を厚み方向（矢印Ｄ１）に移動させ、再び光学素子１００の外周１周分に散乱領域１００ｉを創生するという動作を繰り返すとよい。

なお、散乱領域１００ｉを創生するには、フッ化物による化学的なウェットエッチングではなく、プラズマイオンビームなどによる他のエッチングを用いてもよい。或いは、光学素子１００の外径Ｅが実質的に維持されれば、散乱領域１００ｉは、上述の第１〜第３実施形態のレーザーＬや本実施形態のエッチングを用いずに創生してもよい。

以上説明した第４実施形態においても、光学素子１００の製造方法は、成形素材を加熱軟化させ、光学素子１００を成形する成形工程と、成形で形成された光学素子１００の外径Ｅ（外形寸法の一例）を実質的に維持しながら、光学素子１００の有効径１００ａ外において散乱領域１００ｉを創生する散乱領域創生工程と、を有するため、外径Ｅを高精度に形成しながら、迷光による弊害を簡単かつ確実に防止することができる。

また、本実施形態では、エッチングにより散乱領域１００ｉを創生するため、簡単に迷光による弊害を防止することができる。更には、レーザーＬ以外のエッチングなどの他の手法により散乱領域１００ｉを創生することで、光学素子１００の材料や製造設備などに応じて散乱領域１００ｉの創生方法を決定することができる。

なお、上述の第１〜第４実施形態によれば、外形寸法（外径Ｅ）を高精度に形成することができるが、外径を実質的に維持しながら散乱領域を形成することに１つの特徴があり、例えば、成形段階で外周面に微細な凹凸が一切ない鏡面を成形する場合でなくとも上述の第１〜第４実施形態における効果を得ることができる。そのため、成形工程における外径は、高精度であるほど望ましいが、必要な精度で適宜決定されればよく、特に制限されない。

１０ 型セット
１１ 上型
１１ａ 凸状成形面
１２ 下型
１２ａ 平面状成形面
１３ 胴型
１３ａ 内周成形面
２１ 回転保持部
２２ 回転保持部
２３ レーザー照射部
２３ａ 集光レンズ
２４ エッチング用ペン
１００ 光学素子（成形素材）
１００ａ 有効径
１００ｂ 上成形面
１００ｂ−１ 凹部
１００ｃ 下成形面
１００ｄ 外周成形面
１００ｅ 自由表面
１００ｆ 散乱領域
１００ｇ 散乱領域
１００ｈ−１ 散乱領域
１００ｈ−２ 散乱領域
１００ｈ−３ 散乱領域
１００ｉ 散乱領域

Claims (6)

1. 成形素材を加熱軟化させ、光学素子を成形する成形工程と、
   成形で形成された前記光学素子の外形寸法を実質的に維持しながら、前記光学素子の有効径外において散乱領域を創生する散乱領域創生工程と、
   を有する光学素子の製造方法。
2. 前記散乱領域創生工程では、前記光学素子の外周面にレーザーを照射し、前記外周面にクラック又は変質層を形成することによって、前記外周面に前記散乱領域を創生する、請求項１記載の光学素子の製造方法。
3. 前記成形工程では、一対の成形型と当該一対の成形型の周囲に位置する筒状の胴型とにより前記光学素子を成形し、
   前記散乱領域形成工程では、前記光学素子のうち前記一対の成形型及び前記胴型との非接触部分である自由表面に前記散乱領域を創生する、請求項１記載の光学素子の製造方法。
4. 前記散乱領域創生工程では、前記光学素子の内部にレーザーを照射し、前記内部にクラック又は変質層を形成することによって、前記内部に前記散乱領域を創生する、請求項１記載の光学素子の製造方法。
5. 前記散乱領域形成工程では、前記光学素子の外周側から前記内部にレーザーを照射し、前記散乱領域を形成する位置の深さを、前記光学素子の厚み方向において変化させることにより、前記散乱領域を非連続的に創生する、請求項４記載の光学素子の製造方法。
6. 成形素材を加熱軟化させることにより成形された光学素子であって、
   成形で形成された外形寸法を実質的に維持しながら有効径外において創生された散乱領域を有する、光学素子。

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