JP2015015250A - Resin composition - Google Patents

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栄一 林
Eiichi Hayashi
栄一 林
影山 裕一
Yuichi Kageyama
裕一 影山
基之 高田
Motoyuki Takada
基之 高田
天野 博
Hiroshi Amano
博 天野
滋 河原
Shigeru Kawahara
滋 河原
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    • H10K59/8722Peripheral sealing arrangements, e.g. adhesives, sealants
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    • H05K3/28Applying non-metallic protective coatings
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thermosetting type resin composition for sealing organic EL device which includes an epoxy resin, which can be caused to flow and cured rapidly even in a low-temperature region, and which enables the formation of a cured material layer having excellent moisture permeation resistance and high bonding strength.SOLUTION: A resin composition for sealing an organic EL device comprises: an epoxy resin; a hardening agent; and a particular moisture-absorptive metal oxide.

Description

本発明は有機EL素子封止用樹脂組成物に関する。   The present invention relates to a resin composition for sealing an organic EL element.

有機EL(Electroluminescence)素子は水分に極めて弱く、有機EL素子を用いてディスプレイや照明装置を構成する場合に、有機材料自体が水分によって変質して、輝度が低下したり、延いては、発光しなくなったり、また、電極と有機EL層との界面が水分の影響で剥離したり、金属が酸化して高抵抗化してしまったりするといった欠点がある。そこで、例えば、図4に示すような、ガラス基板1上に形成した有機EL素子2に、吸湿材3を付設したガラス板4を所定間隔を空けて対向させて、基板1とガラス板4の間を不活性ガス雰囲気或いは真空状態にして密封する缶封止が行われている。しかし、有機EL素子及び2枚のガラス板を含む封止構造部の厚みが大きくなってしまうため、ディスプレイや照明装置を十分に薄型化することができなくなってしまう。   Organic EL (Electroluminescence) elements are extremely sensitive to moisture, and when organic EL elements are used to construct displays and lighting devices, the organic materials themselves are altered by moisture, resulting in a decrease in luminance or even emission. There are drawbacks that the interface between the electrode and the organic EL layer is peeled off due to the influence of moisture, and the metal is oxidized to increase the resistance. Therefore, for example, as shown in FIG. 4, the glass plate 4 provided with the hygroscopic material 3 is opposed to the organic EL element 2 formed on the glass substrate 1 at a predetermined interval, so that the substrate 1 and the glass plate 4 are aligned. Can sealing is performed in which the gap is sealed in an inert gas atmosphere or in a vacuum state. However, since the thickness of the sealing structure portion including the organic EL element and the two glass plates is increased, the display and the lighting device cannot be sufficiently thinned.

このため、図1に示されるように、その片面に有機EL素子2を形成したガラス基板1上に有機EL素子2の全面を覆うように硬化性樹脂組成物層6を形成し、その上から封止基材7を貼り合わせて、硬化性樹脂組成物層6を硬化させて硬化層を形成する封止構造(以下、この封止構造を「有機EL素子の全面封止」又は単に「全面封止」とも呼ぶ。)も提案されている(特許文献1)。しかし、該特許文献1に記載の硬化性樹脂組成物はアクリル系の紫外線硬化型樹脂組成物であるため、紫外線による有機EL素子の劣化の問題や、紫外線が届かない所(未硬化部)を発生して、信頼性の高い封止構造が得られにくいという問題がある。また、エポキシ樹脂と比較し、アクリル樹脂は耐熱性等の物性面で劣ることとなる。   For this reason, as shown in FIG. 1, a curable resin composition layer 6 is formed on a glass substrate 1 having an organic EL element 2 formed on one side so as to cover the entire surface of the organic EL element 2, and from above A sealing structure in which the sealing substrate 7 is bonded and the curable resin composition layer 6 is cured to form a cured layer (hereinafter, this sealing structure is referred to as “entire surface sealing of an organic EL element” or simply “entire surface”). (Also referred to as “sealing”) has been proposed (Patent Document 1). However, since the curable resin composition described in Patent Document 1 is an acrylic ultraviolet curable resin composition, there is a problem of deterioration of the organic EL element due to ultraviolet rays and a place where ultraviolet rays do not reach (uncured portion). It occurs and there is a problem that it is difficult to obtain a highly reliable sealing structure. Moreover, compared with an epoxy resin, an acrylic resin is inferior in physical properties, such as heat resistance.

従って、近年、有機EL素子の全面封止を行う硬化性樹脂組成物(封止材)として、エポキシ樹脂を主剤とする熱硬化型樹脂組成物を適用することも検討されている(例えば、特許文献2等)。しかし、それらに記載の樹脂組成物から得られる硬化物層は耐透湿性が十分でなく、有機EL素子の水分による不具合の発生を十分に抑制できるものとは言い難い。また、有機EL素子は水分に弱いだけでなく熱劣化を生じやすいため、エポキシ樹脂を主剤とする熱硬化型樹脂組成物によって高信頼性の封止構造を得るためには、硬化物の耐透湿性が高いだけでなく、溶融物が良好な流動性を示し、かつ、低温域で硬化が速やかに進行して、高い接着強度の硬化層を形成できることが必要であるが、かかる要求を十分に満足できるエポキシ樹脂組成物は提案されていない。   Therefore, in recent years, application of a thermosetting resin composition mainly composed of an epoxy resin as a curable resin composition (sealing material) for sealing an entire surface of an organic EL element has been studied (for example, patents). Literature 2 etc.). However, the cured product layers obtained from the resin compositions described therein do not have sufficient moisture resistance, and it is difficult to say that the occurrence of defects due to moisture in the organic EL element can be sufficiently suppressed. In addition, since the organic EL element is not only susceptible to moisture but also susceptible to thermal degradation, in order to obtain a highly reliable sealing structure with a thermosetting resin composition mainly composed of an epoxy resin, the permeation resistance of the cured product is required. In addition to high wettability, it is necessary that the melt exhibits good fluidity and that curing proceeds rapidly in a low temperature range to form a cured layer with high adhesive strength. Satisfactory epoxy resin compositions have not been proposed.

特開平5−182759号公報JP-A-5-182759 特開2006−70221号公報JP 2006-70221 A

本発明の課題は、適度な溶融粘度と、優れた低温硬化性を兼ね備え、しかも、耐透湿性に優れた高接着強度の硬化物層を形成することができる有機EL素子封止用樹脂組成物を提供することである。   An object of the present invention is to provide a resin composition for encapsulating an organic EL device, which has an appropriate melt viscosity and excellent low-temperature curability, and can form a cured product layer having high adhesion strength and excellent moisture resistance. Is to provide.

本発明者等は、上記の課題を解決するために鋭意研究をした結果、特定平均粒径の吸湿性金属酸化物を含有するエポキシ樹脂組成物を用いることにより本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies in order to solve the above problems, the present inventors have completed the present invention by using an epoxy resin composition containing a hygroscopic metal oxide having a specific average particle diameter.

すなわち、本発明は以下の内容を含むものである。
(1)エポキシ樹脂と、硬化剤と、平均粒径が10μm以下の吸湿性金属酸化物とを含有することを特徴とする、有機EL素子封止用樹脂組成物。
(2)吸湿性金属酸化物が表面処理吸湿性金属酸化物である、上記(1)に記載の樹脂組成物。
(3)硬化剤がイオン液体である、上記(1)又は(2)に記載の樹脂組成物。
(4)イオン液体が、アンモニウム系カチオン又はホスホニウム系カチオンと、N−アシルアミノ酸イオン又はカルボン酸系アニオンとから構成されることを特徴とする、上記(3)記載の樹脂組成物。
(5)更に、無機充填材を含有することを特徴とする、上記(1)〜(4)のいずれかに記載の樹脂組成物。
(6)上記(1)〜(5)のいずれかに記載の樹脂組成物の層が支持体上に形成されてなる、有機EL素子封止用樹脂組成物シート。
(7)上記(6)に記載の有機EL素子封止用樹脂組成物シートを用いて成ることを特徴とする、有機ELデバイス。
That is, the present invention includes the following contents.
(1) An organic EL element sealing resin composition comprising an epoxy resin, a curing agent, and a hygroscopic metal oxide having an average particle diameter of 10 μm or less.
(2) The resin composition according to (1) above, wherein the hygroscopic metal oxide is a surface-treated hygroscopic metal oxide.
(3) The resin composition according to the above (1) or (2), wherein the curing agent is an ionic liquid.
(4) The resin composition as described in (3) above, wherein the ionic liquid comprises an ammonium cation or a phosphonium cation and an N-acylamino acid ion or a carboxylic acid anion.
(5) The resin composition according to any one of (1) to (4), further comprising an inorganic filler.
(6) A resin composition sheet for encapsulating an organic EL device, wherein the layer of the resin composition according to any one of (1) to (5) is formed on a support.
(7) An organic EL device comprising the resin composition sheet for sealing an organic EL element according to (6) above.

本発明の樹脂組成物によれば、全面封止の積層工程に要求される適度な粘度の溶融物に溶融し、かつ低温で硬化して高い密着強度(接着強度)の硬化物層を形成し得ることから、有機EL素子が高温下に長時間置かれることなく封止され、しかも、硬化物層は高い耐透湿性を有することから、有機EL素子の熱劣化を十分に抑制しつつ、高信頼性の封止構造を形成することができる。   According to the resin composition of the present invention, it is melted into a melt having an appropriate viscosity required for the laminating process of the entire sealing, and cured at a low temperature to form a cured product layer having high adhesion strength (adhesive strength). Therefore, the organic EL element is sealed without being left at a high temperature for a long time, and the cured product layer has high moisture permeability resistance. A reliable sealing structure can be formed.

図1は有機EL素子の全面封止構造の模式断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a whole surface sealing structure of an organic EL element. 図2は実施例及び比較例の評価試験で使用した試験片の作製工程の模式図である。FIG. 2 is a schematic view of a production process of a test piece used in the evaluation test of Examples and Comparative Examples. 図3は実施例及び比較例の評価試験での引張り試験に供した試料(2枚の試験片の貼合物)の模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram of a sample (bonded product of two test pieces) subjected to a tensile test in an evaluation test of Examples and Comparative Examples. 図4は有機EL素子の缶封止構造の模式断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a can sealing structure of an organic EL element.

以下、本発明をその好適な実施形態に即して説明する。
本発明の有機EL素子封止用樹脂組成物(以下、単に「樹脂組成物」とも略称する。)は、エポキシ樹脂と、硬化剤と、平均粒子径が10μm以下の吸湿性金属酸化物とを含有することを特徴とする。
Hereinafter, the present invention will be described with reference to preferred embodiments thereof.
The resin composition for sealing an organic EL element of the present invention (hereinafter also simply referred to as “resin composition”) comprises an epoxy resin, a curing agent, and a hygroscopic metal oxide having an average particle size of 10 μm or less. It is characterized by containing.

[エポキシ樹脂]
本発明で使用するエポキシ樹脂は、平均して1分子当り2個以上のエポキシ基を有するものであればよい。例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、リン含有エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、芳香族グリシジルアミン型エポキシ樹脂(例えば、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジル−p−アミノフェノール、ジグリシジルトルイジン、ジグリシジルアニリン等)、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族鎖状エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、ブタジエン構造を有するエポキシ樹脂、ビスフェノールのジグリシジルエーテル化物、ナフタレンジオールのジグリシジルエーテル化物、フェノール類のグリシジルエーテル化物、及びアルコール類のジグリシジルエーテル化物、並びにこれらのエポキシ樹脂のアルキル置換体、ハロゲン化物及び水素添加物等が挙げられる。かかるエポキシ樹脂はいずれか1種を使用するか2種以上を混合して用いることができる。
[Epoxy resin]
The epoxy resin used in the present invention only needs to have an average of two or more epoxy groups per molecule. For example, bisphenol A type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, biphenyl aralkyl type epoxy resin, naphthol type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phosphorus-containing epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, aromatic glycidylamine Type epoxy resin (for example, tetraglycidyl diaminodiphenylmethane, triglycidyl-p-aminophenol, diglycidyl toluidine, diglycidyl aniline, etc.), alicyclic epoxy resin, aliphatic chain epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac Type epoxy resin, bisphenol A novolac type epoxy resin, epoxy resin having butadiene structure, diglycidyl etherified product of bisphenol, naphthalenediol Diglycidyl ethers of Le, glycidyl ethers of phenols, and diglycidyl ethers of alcohols, and alkyl substituted derivatives of these epoxy resins, halides and hydrogenated products or the like. Any one of these epoxy resins can be used or a mixture of two or more can be used.

エポキシ樹脂は、これらの中でも、本発明の樹脂組成物の高い耐熱性及び低い透湿性を保つ等の観点から、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、芳香族グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン構造を有するエポキシ樹脂等が好ましい。エポキシ樹脂は2種以上を混合して用いてもよい。   Among these, the epoxy resin is a bisphenol A type epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin, a phenol novolac type epoxy resin, a biphenyl aralkyl type from the viewpoint of maintaining the high heat resistance and low moisture permeability of the resin composition of the present invention. Epoxy resins, phenol aralkyl type epoxy resins, aromatic glycidyl amine type epoxy resins, epoxy resins having a dicyclopentadiene structure, and the like are preferable. Two or more epoxy resins may be mixed and used.

また、エポキシ樹脂は、液状であっても、固形状であっても、液状と固形状の両方を用いてもよい。ここで、「液状」及び「固形状」とは、常温(25℃)でのエポキシ樹脂の状態である。塗工性、加工性、接着性の観点から、使用するエポキシ樹脂全体の少なくとも10重量%以上が液状であるのが好ましい。   The epoxy resin may be liquid, solid, or both liquid and solid. Here, “liquid” and “solid” are states of the epoxy resin at normal temperature (25 ° C.). From the viewpoint of coatability, workability, and adhesiveness, it is preferable that at least 10% by weight or more of the entire epoxy resin to be used is liquid.

なお、本発明において、エポキシ樹脂は反応性の観点から、エポキシ当量が100〜1000の範囲のものが好ましく、より好ましくは120〜1000の範囲のものである。ここでエポキシ当量とは1グラム当量のエポキシ基を含む樹脂のグラム数(g/eq)であり、JIS K 7236に規定された方法に従って測定されるものである。   In the present invention, the epoxy resin preferably has an epoxy equivalent in the range of 100 to 1000, more preferably in the range of 120 to 1000, from the viewpoint of reactivity. Here, the epoxy equivalent is the number of grams (g / eq) of a resin containing 1 gram equivalent of an epoxy group, and is measured according to the method defined in JIS K 7236.

[硬化剤]
本発明の樹脂組成物に使用される硬化剤としては、エポキシ樹脂を硬化する機能を有するものであれば特に限定されないが、樹脂組成物の硬化処理時における有機EL素子の熱劣化を抑制する観点から、140℃以下(好ましくは120℃以下)の温度下でエポキシ樹脂を硬化し得るものが好ましい。
[Curing agent]
Although it will not specifically limit as a hardening | curing agent used for the resin composition of this invention if it has a function which hardens | cures an epoxy resin, The viewpoint which suppresses the thermal deterioration of the organic EL element at the time of the hardening process of a resin composition. Therefore, those capable of curing the epoxy resin at a temperature of 140 ° C. or lower (preferably 120 ° C. or lower) are preferable.

例えば、一級アミン、二級アミン、三級アミン系硬化剤、ポリアミノアミド系硬化剤、ジシアンジアミド、有機酸ジヒドラジド等が挙げられるが、中でも、速硬化性の点から、アミンアダクト系化合物(アミキュアPN−23、アミキュアMY−24、アミキュアPN−D、アミキュアMY−D、アミキュアPN−H、アミキュアMY−H、アミキュアPN−31、アミキュアPN−40、アミキュアPN−40J等(いずれも味の素ファインテクノ株式会社製))、有機酸ジヒドラジド(アミキュアVDH−J、アミキュアUDH、アミキュアLDH等(いずれも味の素ファインテクノ株式会社製))等が特に好ましい。   Examples include primary amines, secondary amines, tertiary amine type curing agents, polyaminoamide type curing agents, dicyandiamide, organic acid dihydrazide, etc. Among them, amine adduct type compounds (Amure PN- 23, Amicure MY-24, Amicure PN-D, Amicure MY-D, Amicure PN-H, Amicure MY-H, Amicure PN-31, Amicure PN-40, Amicure PN-40J, etc. (all of which are Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.) )), Organic acid dihydrazide (Amicure VDH-J, Amicure UDH, Amicure LDH, etc. (all manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.)) and the like are particularly preferable.

また、140℃以下(好ましくは120℃以下)の温度下でエポキシ樹脂を硬化し得るイオン液体、すなわち、140℃以下(好ましくは120℃以下)の温度領域で融解しうる塩であって、エポキシ樹脂の硬化作用を有する塩も特に好適に使用することができる。本発明の樹脂組成物においては、エポキシ樹脂に当該イオン液体を均一に溶解している状態で使用されるのが望ましく、また、イオン液体は樹脂硬化物の耐透湿性向上に有利に作用する。   An ionic liquid that can cure the epoxy resin at a temperature of 140 ° C. or lower (preferably 120 ° C. or lower), that is, a salt that can melt in a temperature range of 140 ° C. or lower (preferably 120 ° C. or lower), A salt having a curing action of the resin can also be particularly preferably used. In the resin composition of the present invention, it is desirable to use the ionic liquid in a state in which the ionic liquid is uniformly dissolved in the epoxy resin, and the ionic liquid advantageously works to improve the moisture resistance of the cured resin.

かかるイオン液体を構成するカチオンとしては、イミダゾリウムイオン、ピペリジニウムイオン、ピロリジニウムイオン、ピラゾニウムイオン、グアニジニウムイオン、ピリジニウムイオン等のアンモニウム系カチオン;テトラアルキルホスホニウムカチオン(例えば、テトラブチルホスホニウムイオン、トリブチルヘキシルホスホニウムイオン等)等のホスホニウム系カチオン;トリエチルスルホニウムイオン等のスルホニウム系カチオン等が挙げられる。   Examples of cations constituting such an ionic liquid include imidazolium ions, piperidinium ions, pyrrolidinium ions, pyrazonium ions, guanidinium ions, pyridinium ions, and other ammonium cations; tetraalkylphosphonium cations (for example, tetrabutylphosphonium ions, Phosphonium cations such as tributylhexyl phosphonium ion; and sulfonium cations such as triethylsulfonium ion.

また、かかるイオン液体を構成するアニオンとしては、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン等のハロゲン化物系アニオン;メタンスルホン酸イオン等のアルキル硫酸系アニオン;トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ヘキサフルオロホスホン酸イオン、トリフルオロトリス(ペンタフルオロエチル)ホスホン酸イオン、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドイオン、トリフルオロ酢酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン等の含フッ素化合物系アニオン;フェノールイオン、2−メトキシフェノールイオン、2,6−ジ−tert−ブチルフェノールイオン等のフェノール系アニオン;アスパラギン酸イオン、グルタミン酸イオン等の酸性アミノ酸イオン;グリシンイオン、アラニンイオン、フェニルアラニンイオン等の中性アミノ酸イオン;N−ベンゾイルアラニンイオン、N−アセチルフェニルアラニンイオン、N−アセチルグリシンイオン等の下記一般式(1)で示されるN−アシルアミノ酸イオン;ギ酸イオン、酢酸イオン、デカン酸イオン、2−ピロリドン−5−カルボン酸イオン、α−リポ酸イオン、乳酸イオン、酒石酸イオン、馬尿酸イオン、N−メチル馬尿酸イオン、安息香酸イオン等のカルボン酸系アニオンが挙げられる。   Examples of the anion constituting the ionic liquid include halide anions such as fluoride ion, chloride ion, bromide ion and iodide ion; alkyl sulfate anions such as methanesulfonate ion; trifluoromethanesulfonate ion, Fluorine-containing compound anions such as hexafluorophosphonate ion, trifluorotris (pentafluoroethyl) phosphonate ion, bis (trifluoromethanesulfonyl) imide ion, trifluoroacetate ion, tetrafluoroborate ion; phenol ion, 2-methoxy Phenolic anions such as phenol ion and 2,6-di-tert-butylphenol ion; acidic amino acid ions such as aspartate ion and glutamate ion; glycine ion, alanine ion and phenyl Neutral amino acid ion such as lanine ion; N-acyl amino acid ion represented by the following general formula (1) such as N-benzoylalanine ion, N-acetylphenylalanine ion, N-acetylglycine ion; formate ion, acetate ion, decanoic acid Carboxylic acid anions such as ions, 2-pyrrolidone-5-carboxylic acid ions, α-lipoic acid ions, lactic acid ions, tartrate ions, hippuric acid ions, N-methyl hippuric acid ions, benzoic acid ions, and the like.

(但し、R−CO−は炭素数1〜5の直鎖または分岐鎖の脂肪酸より誘導されるアシル基、或いは、置換または無置換ベンゾイル基であり、−NH−CHX−COはアスパラギン酸、グルタミン酸等の酸性アミノ酸イオン、或いはグリシン、アラニン、フェニルアラニン等の中性アミノ酸イオンである。) (However, R—CO— is an acyl group derived from a linear or branched fatty acid having 1 to 5 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted benzoyl group, —NH—CHX—CO 2 is aspartic acid, Acidic amino acid ions such as glutamic acid or neutral amino acid ions such as glycine, alanine and phenylalanine.)

上述の中でも、カチオンは、アンモニウム系カチオン、ホスホニウム系カチオンが好ましく、イミダゾリウムイオン、ホスホニウムイオンがより好ましい。イミダゾリウムイオンは、より詳細には、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムイオン、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムイオン、1−プロピル−3−メチルイミダゾリウムイオン等である。   Among the above, the cation is preferably an ammonium cation or a phosphonium cation, and more preferably an imidazolium ion or a phosphonium ion. More specifically, the imidazolium ion is 1-ethyl-3-methylimidazolium ion, 1-butyl-3-methylimidazolium ion, 1-propyl-3-methylimidazolium ion, or the like.

また、アニオンは、フェノール系アニオン、一般式(1)で示されるN−アシルアミノ酸イオン又はカルボン酸系アニオンが好ましく、N−アシルアミノ酸イオン又はカルボン酸系アニオンがより好ましい。   The anion is preferably a phenolic anion, an N-acylamino acid ion or a carboxylic acid anion represented by the general formula (1), and more preferably an N-acylamino acid ion or a carboxylic acid anion.

フェノール系アニオンの具体例としては、2,6−ジ−tert−ブチルフェノールイオンが挙げられる。また、カルボン酸系アニオンの具体例としては、酢酸イオン、デカン酸イオン、2−ピロリドン−5−カルボン酸イオン、ギ酸イオン、α−リポ酸イオン、乳酸イオン、酒石酸イオン、馬尿酸イオン、N−メチル馬尿酸イオン等が挙げられ、中でも、酢酸イオン、2−ピロリドン−5−カルボン酸イオン、ギ酸イオン、乳酸イオン、酒石酸イオン、馬尿酸イオン、N−メチル馬尿酸イオンが好ましく、酢酸イオン、N−メチル馬尿酸イオン、ギ酸イオンが殊更好ましい。また、一般式(1)で示されるN−アシルアミノ酸イオンの具体例としては、N−ベンゾイルアラニンイオン、N−アセチルフェニルアラニンイオン、アスパラギン酸イオン、グリシンイオン、N−アセチルグリシンイオン等が挙げられ、中でも、N−ベンゾイルアラニンイオン、N−アセチルフェニルアラニンイオン、N−アセチルグリシンイオンが好ましく、N−アセチルグリシンイオンが殊更好ましい。   Specific examples of the phenolic anion include 2,6-di-tert-butylphenol ion. Specific examples of the carboxylic acid anion include acetate ion, decanoate ion, 2-pyrrolidone-5-carboxylate ion, formate ion, α-lipoic acid ion, lactate ion, tartrate ion, hippurate ion, N- Methyl hippurate ion, and the like. Among them, acetate ion, 2-pyrrolidone-5-carboxylate ion, formate ion, lactate ion, tartrate ion, hippurate ion, and N-methylhippurate ion are preferable, acetate ion, N -Methyl hippurate ion and formate ion are particularly preferred. Specific examples of the N-acylamino acid ion represented by the general formula (1) include N-benzoylalanine ion, N-acetylphenylalanine ion, aspartate ion, glycine ion, N-acetylglycine ion, and the like. Among these, N-benzoylalanine ion, N-acetylphenylalanine ion, and N-acetylglycine ion are preferable, and N-acetylglycine ion is particularly preferable.

具体的なイオン液体としては、例えば、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムラクテート、テトラブチルホスホニウム−2−ピロリドン−5−カルボキシレート、テトラブチルホスホニウムアセテート、テトラブチルホスホニウムデカノエート、テトラブチルホスホニウムトリフルオロアセテート、テトラブチルホスホニウムα−リポエート、ギ酸テトラブチルホスホニウム塩、テトラブチルホスホニウムラクテート、酒石酸ビス(テトラブチルホスホニウム)塩、馬尿酸テトラブチルホスホニウム塩、N−メチル馬尿酸テトラブチルホスホニウム塩、ベンゾイル−DL−アラニンテトラブチルホスホニウム塩、N−アセチルフェニルアラニンテトラブチルホスホニウム塩、2,6−ジ−tert−ブチルフェノールテトラブチルホスホニウム塩、L−アスパラギン酸モノテトラブチルホスホニウム塩、グリシンテトラブチルホスホニウム塩、N−アセチルグリシンテトラブチルホスホニウム塩、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムラクテート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムアセテート、ギ酸1−エチル−3−メチルイミダゾリウム塩、馬尿酸1−エチル−3−メチルイミダゾリウム塩、N−メチル馬尿酸1−エチル−3−メチルイミダゾリウム塩、酒石酸ビス(1−エチル−3−メチルイミダゾリウム)塩、N−アセチルグリシン1−エチル−3−メチルイミダゾリウム塩が好ましく、N−アセチルグリシンテトラブチルホスホニウム塩、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムアセテート、ギ酸1−エチル−3−メチルイミダゾリウム塩、馬尿酸1−エチル−3−メチルイミダゾリウム塩、N−メチル馬尿酸1−エチル−3−メチルイミダゾリウム塩が殊更好ましい。   Specific ionic liquids include, for example, 1-butyl-3-methylimidazolium lactate, tetrabutylphosphonium-2-pyrrolidone-5-carboxylate, tetrabutylphosphonium acetate, tetrabutylphosphonium decanoate, tetrabutylphosphonium tri Fluoroacetate, tetrabutylphosphonium α-lipoate, tetrabutylphosphonium formate, tetrabutylphosphonium lactate, bis (tetrabutylphosphonium) tartrate, tetrabutylphosphonium hippurate, tetrabutylphosphonium N-methylhippurate, benzoyl-DL -Alanine tetrabutylphosphonium salt, N-acetylphenylalanine tetrabutylphosphonium salt, 2,6-di-tert-butylphenoltetrabutylphosphonium Salt, L-aspartic acid monotetrabutylphosphonium salt, glycine tetrabutylphosphonium salt, N-acetylglycine tetrabutylphosphonium salt, 1-ethyl-3-methylimidazolium lactate, 1-ethyl-3-methylimidazolium acetate, 1-ethyl-3-methylimidazolium formate, 1-ethyl-3-methylimidazolium hippurate, 1-ethyl-3-methylimidazolium N-methylhippurate, bis (1-ethyl-3-tartrate) Methyl imidazolium) salt and N-acetylglycine 1-ethyl-3-methylimidazolium salt are preferred, N-acetylglycine tetrabutylphosphonium salt, 1-ethyl-3-methylimidazolium acetate, 1-ethyl-3-formate Methylimidazolium salt, 1-ethyl-3 hippurate -Methylimidazolium salt, N-methylhippuric acid 1-ethyl-3-methylimidazolium salt is particularly preferred.

上記イオン液体の合成法としては、アルキルイミダゾリウム、アルキルピリジニウム、アルキルアンモニウム及びアルキルスルホニウムイオン等のカチオン部位と、ハロゲンを含むアニオン部位から構成される前駆体に、NaBF、NaPF、CFSONaやLiN(SOCF等を反応させるアニオン交換法、アミン系物質と酸エステルとを反応させてアルキル基を導入しつつ、有機酸残基が対アニオンになるような酸エステル法、及びアミン類を有機酸で中和して塩を得る中和法等があるがこれらに限定されない。アニオンとカチオンと溶媒による中和法では、アニオンとカチオンとを等量使用し、得られた反応液中の溶媒を留去して、そのまま用いることも可能であるし、更に有機溶媒(メタノール、トルエン、酢酸エチル、アセトン等)を差し液濃縮しても構わない。 As a method for synthesizing the ionic liquid, a precursor composed of a cation moiety such as an alkylimidazolium, alkylpyridinium, alkylammonium and alkylsulfonium ions and an anion moiety containing a halogen is added to NaBF 4 , NaPF 6 , CF 3 SO 3 Anion exchange method in which Na, LiN (SO 2 CF 3 ) 2 or the like is reacted, an acid ester in which an organic acid residue becomes a counter anion while introducing an alkyl group by reacting an amine substance with an acid ester Methods, and neutralization methods in which amines are neutralized with an organic acid to obtain a salt, but are not limited thereto. In the neutralization method using an anion, a cation, and a solvent, it is possible to use an anion and a cation in equal amounts, distill off the solvent in the obtained reaction solution, and use it as it is. Furthermore, an organic solvent (methanol, (Toluene, ethyl acetate, acetone, etc.) may be added and concentrated.

本発明の樹脂組成物において、硬化剤の含有量は、樹脂組成物中に含まれるエポキシ樹脂の総量(不揮発分)に対し、0.1〜50重量%の範囲で使用されるのが好ましい。この範囲よりも少ないと十分な硬化性が得られない恐れがあり、50重量%より多いと、樹脂組成物の保存安定性が損なわれることがある。なお、イオン液体を使用する場合、樹脂組成物の硬化物の耐透湿性等の点からは、エポキシ樹脂の総量(不揮発分)に対し0.1〜10重量%が好ましい。   In the resin composition of the present invention, the content of the curing agent is preferably used in the range of 0.1 to 50% by weight with respect to the total amount (nonvolatile content) of the epoxy resin contained in the resin composition. If the amount is less than this range, sufficient curability may not be obtained. If the amount is more than 50% by weight, the storage stability of the resin composition may be impaired. In addition, when using an ionic liquid, 0.1-10 weight% is preferable with respect to the total amount (nonvolatile content) of an epoxy resin from points, such as the moisture permeability of the hardened | cured material of a resin composition.

[吸湿性金属酸化物]
本発明の樹脂組成物には吸湿性金属酸化物が配合される。ここで、「吸湿性金属酸化物」とは、水分を吸収する能力をもち、吸湿した水分と化学反応して水酸化物になる金属酸化物を意味する。具体的には、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム等が挙げられ、中でも、酸化カルシウムが好ましい。このような吸湿性金属酸化物は種々の分野において吸湿材として公知であるが、本発明では、平均粒子径が10μm以下(好ましくは5μm以下)の微小サイズのものを使用する。かかる微小サイズの吸湿性金属酸化物を使用することにより、本発明の樹脂組成物を硬化して得られる硬化物層に高度の耐透湿性を付与するだけでなく、硬化物層の接着性を高めることができる。
[Hygroscopic metal oxides]
The resin composition of the present invention contains a hygroscopic metal oxide. Here, the “hygroscopic metal oxide” means a metal oxide that has a capability of absorbing moisture and chemically reacts with moisture that has been absorbed to become a hydroxide. Specific examples include calcium oxide, magnesium oxide, strontium oxide, barium oxide, and the like, among which calcium oxide is preferable. Such a hygroscopic metal oxide is known as a hygroscopic material in various fields, but in the present invention, a hygroscopic metal oxide having an average particle size of 10 μm or less (preferably 5 μm or less) is used. By using such a microscopic hygroscopic metal oxide, not only a high moisture permeation resistance is imparted to the cured layer obtained by curing the resin composition of the present invention, but also the adhesion of the cured layer is improved. Can be increased.

なお、吸湿性金属酸化物は平均粒子径が小さ過ぎると、粒子同士の凝集が起きやすくなるため、組成物中での分散不良によって硬化物に十分に高い耐透湿性と良好な接着性を付与することが困難になる恐れがある。したがって、吸湿性金属酸化物は平均粒子径は0.001μm以上であるのが好ましく、0.01μm以上がより好ましい。   Note that if the average particle size of the hygroscopic metal oxide is too small, the particles tend to agglomerate with each other. Therefore, a sufficiently high moisture permeability and good adhesion are imparted to the cured product due to poor dispersion in the composition. It can be difficult to do. Therefore, the hygroscopic metal oxide preferably has an average particle size of 0.001 μm or more, more preferably 0.01 μm or more.

また、吸湿性金属酸化物は平均粒子径が上記の好適範囲内にあって、粒子径が20μm以上の粗大粒子を含まないものが特に好ましい。このような粗大粒子を含まないことで、封止工程でEL素子に損傷を与えにくいという点で有利に作用する。   Further, it is particularly preferable that the hygroscopic metal oxide has an average particle diameter in the above-mentioned preferable range and does not contain coarse particles having a particle diameter of 20 μm or more. By not including such coarse particles, it is advantageous in that the EL element is hardly damaged in the sealing process.

吸湿性金属酸化物の平均粒子径はミー(Mie)散乱理論に基づくレーザー回折・散乱法により測定することができる。具体的にはレーザー回折式粒度分布測定装置により、無機充填材の粒度分布を体積基準で作成し、そのメディアン径を平均粒径とすることで測定することができる。測定サンプルは、吸湿性金属酸化物を超音波により水中に分散させたものを好ましく使用することができる。レーザー回折式粒度分布測定装置としては、株式会社堀場製作所製 LA−500を使用することができる。   The average particle diameter of the hygroscopic metal oxide can be measured by a laser diffraction / scattering method based on the Mie scattering theory. Specifically, the particle size distribution of the inorganic filler can be created on a volume basis by a laser diffraction particle size distribution measuring device, and the median diameter can be measured as the average particle diameter. As the measurement sample, a hygroscopic metal oxide dispersed in water by ultrasonic waves can be preferably used. As a laser diffraction type particle size distribution measuring apparatus, LA-500 manufactured by Horiba, Ltd. can be used.

吸湿性金属酸化物は、表面処理剤で表面処理したものを用いることができる。このような表面処理吸湿性金属酸化物を使用することで、樹脂組成物の保存安定性をより高めることができ、硬化前の段階で、樹脂中の水分と吸湿性金属酸化物が反応してしまうことや組成物の経時に於ける増粘を防止できる。   As the hygroscopic metal oxide, a surface treated with a surface treatment agent can be used. By using such a surface-treated hygroscopic metal oxide, the storage stability of the resin composition can be further increased, and the moisture in the resin reacts with the hygroscopic metal oxide before curing. And thickening of the composition over time can be prevented.

表面処理に使用する表面処理剤としては、例えば、高級脂肪酸、アルキルシラン類、シランカップリング剤等を使用することができ、中でも、高級脂肪酸又はアルキルシラン類が好適である。   As the surface treatment agent used for the surface treatment, for example, higher fatty acids, alkylsilanes, silane coupling agents and the like can be used, and among these, higher fatty acids or alkylsilanes are preferable.

高級脂肪酸は、例えば、ステアリン酸、モンタン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸などの炭素数18以上の高級脂肪酸が好ましい。これらは1種又は2種以上を選択して使用できる。中でも、ステアリン酸が好ましい。   The higher fatty acid is preferably a higher fatty acid having 18 or more carbon atoms such as stearic acid, montanic acid, myristic acid and palmitic acid. These can be used by selecting one or more. Of these, stearic acid is preferred.

アルキルシラン類としては、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、n−オクタデシルジメチル(3−(トリメトキシシリル)プロピル)アンモニウムクロライド等が挙げられ、これらは1種又は2種以上を選択して使用できる。   Alkylsilanes include methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, octyltrimethoxysilane, decyltrimethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, octyltriethoxysilane, n-octadecyldimethyl ( 3- (trimethoxysilyl) propyl) ammonium chloride and the like can be mentioned, and these can be used alone or in combination of two or more.

シランカップリング剤としては、例えば、3−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシジルオキシプロピル(ジメトキシ)メチルシランおよび2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランなどのエポキシ系シランカップリング剤;3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン及び11−メルカプトウンデシルトリメトキシシランなどのメルカプト系シランカップリング剤;3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルジメトキシメチルシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−メチルアミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランおよびN−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルジメトキシメチルシランなどのアミノ系シランカップリング剤;3−ウレイドプロピルトリエトキシシランなどのウレイド系シランカップリング剤、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシランおよびビニルメチルジエトキシシランなどのビニル系シランカップリング剤;p−スチリルトリメトキシシランなどのスチリル系シランカップリング剤;3−アクリルオキシプロピルトリメトキシシランおよび3−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシランなどのアクリレート系シランカップリング剤;3−イソシアネートプロピルトリメトキシシランなどのイソシアネート系シランカップリング剤、ビス(トリエトキシシリルプロピル)ジスルフィド、ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィドなどのスルフィド系シランカップリング剤;フェニルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、イミダゾールシラン、トリアジンシラン等を挙げることができる。これらは1種又は2種以上を選択して使用できる。   Examples of the silane coupling agent include 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidyloxypropyltriethoxysilane, 3-glycidyloxypropyl (dimethoxy) methylsilane, and 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxy. Epoxy silane coupling agents such as silane; mercapto silane coupling agents such as 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane and 11-mercaptoundecyltrimethoxysilane 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyldimethoxymethylsilane, N-phenyl-3-aminopropyltrime Amino silane cups such as xylsilane, N-methylaminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane and N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyldimethoxymethylsilane Ring agent; Ureido silane coupling agent such as 3-ureidopropyltriethoxysilane, vinyl silane coupling agent such as vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane and vinylmethyldiethoxysilane; p-styryltrimethoxysilane Styryl-based silane coupling agents; acrylate-based silane coupling agents such as 3-acryloxypropyltrimethoxysilane and 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane; 3-isocyanatopropyltrimethoxy Isocyanate-based silane coupling agents such as silane, sulfide-based silane coupling agents such as bis (triethoxysilylpropyl) disulfide and bis (triethoxysilylpropyl) tetrasulfide; phenyltrimethoxysilane, methacryloxypropyltrimethoxysilane, imidazole Examples thereof include silane and triazine silane. These can be used by selecting one or more.

表面処理は、例えば、未処理の吸湿性金属酸化物を混合機で常温にて攪拌分散させながら、表面処理剤(高級脂肪酸、アルキルシラン類又はシランカップリング剤)を添加噴霧して5〜60分間攪拌することによって行なうことができる。混合機としては、公知の混合機を使用することができ、例えば、Vブレンダー、リボンブレンダー、バブルコーンブレンダー等のブレンダー、ヘンシェルミキサー及びコンクリートミキサー等のミキサー、ボールミル、カッターミル等が挙げられる。又、ボールミルなどで吸湿材を粉砕する際に、前記の高級脂肪酸、アルキルシラン類又はシランカップリング剤を混合し、表面処理する方法も可能である。表面処理剤(高級脂肪酸、アルキルシラン類又はシランカップリング剤)の処理量は吸湿性金属酸化物の種類又は表面処理剤の種類等によっても異なるが、吸湿性金属酸化物に対して1〜10重量%が好ましく、1〜5重量%がより好ましい。   For example, the surface treatment may be performed by adding and spraying a surface treatment agent (higher fatty acid, alkylsilane, or silane coupling agent) while stirring and dispersing untreated hygroscopic metal oxide at room temperature using a mixer. This can be done by stirring for a minute. As a mixer, a well-known mixer can be used, For example, blenders, such as V blender, a ribbon blender, and a bubble cone blender, mixers, such as a Henschel mixer and a concrete mixer, a ball mill, a cutter mill, etc. are mentioned. Further, when the hygroscopic material is pulverized with a ball mill or the like, a method of surface treatment by mixing the higher fatty acid, alkylsilanes or silane coupling agent is also possible. The treatment amount of the surface treatment agent (higher fatty acid, alkylsilanes or silane coupling agent) varies depending on the type of the hygroscopic metal oxide or the type of the surface treatment agent, but 1 to 10 with respect to the hygroscopic metal oxide. % By weight is preferred, and 1 to 5% by weight is more preferred.

本発明の樹脂組成物において、吸湿性金属酸化物の含有量は樹脂組成物中の不揮発分100重量%に対して1〜40重量%の範囲が好ましく、1〜30重量%の範囲がより好ましく、5〜20重量%の範囲が更に好ましく、7〜18重量%が更に一層好ましく、9〜16重量%が殊更好ましい。含有量が少なすぎると、吸湿性金属酸化物を配合することの効果が十分に得られず、含有量が多すぎると、組成物の粘度が上昇する傾向や、硬化物の強度が低下して脆くなる傾向となる。   In the resin composition of the present invention, the content of the hygroscopic metal oxide is preferably in the range of 1 to 40% by weight, more preferably in the range of 1 to 30% by weight with respect to 100% by weight of the nonvolatile content in the resin composition. The range of 5 to 20% by weight is more preferable, 7 to 18% by weight is still more preferable, and 9 to 16% by weight is even more preferable. If the content is too small, the effect of blending the hygroscopic metal oxide is not sufficiently obtained. If the content is too large, the viscosity of the composition tends to increase and the strength of the cured product decreases. It tends to be brittle.

[無機充填材]
本発明の樹脂組成物には、硬化物の耐透湿性、フィルム加工時のはじき防止等の点から、無機充填材を含有させることができる。無機充填材としては、例えば、シリカ、アルミナ、硫酸バリウム、タルク、クレー、マイカ、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、窒化ホウ素、ホウ酸アルミニウム、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、チタン酸マグネシウム、チタン酸ビスマス、酸化チタン、ジルコン酸バリウム、ジルコン酸カルシウムなどが挙げられる。これらの中でも、樹脂硬化物の低い透湿性と高い密着性を維持する観点から、タルク、マイカが好ましく、タルクが特に好ましい。無機充填材は1種又は2種以上を組み合わせて使用してもよい。
[Inorganic filler]
The resin composition of the present invention can contain an inorganic filler from the viewpoints of moisture permeability of the cured product and prevention of repelling during film processing. Examples of the inorganic filler include silica, alumina, barium sulfate, talc, clay, mica, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, boron nitride, aluminum borate, barium titanate, strontium titanate, Examples include calcium titanate, magnesium titanate, bismuth titanate, titanium oxide, barium zirconate, and calcium zirconate. Among these, talc and mica are preferable, and talc is particularly preferable from the viewpoint of maintaining low moisture permeability and high adhesion of the cured resin. The inorganic filler may be used alone or in combination of two or more.

本発明の樹脂組成物において、無機充填材を使用する場合、無機充填材の含有量は、樹脂組成物中の不揮発分100重量%に対し、1〜50重量%の範囲であるのが好ましく、1〜40重量%の範囲であるのがより好ましく、5〜30重量%が更に好ましく、10〜20重量%が更に一層好ましい。含有量が少なすぎると、無機充填材を配合することの効果、基材との密着性が十分に得られない傾向となり、含有量が多すぎると、組成物の粘度が上昇する傾向や、硬化物の強度が低下して脆くなる傾向となる。   In the resin composition of the present invention, when an inorganic filler is used, the content of the inorganic filler is preferably in the range of 1 to 50% by weight with respect to 100% by weight of the nonvolatile content in the resin composition. The range is preferably 1 to 40% by weight, more preferably 5 to 30% by weight, and still more preferably 10 to 20% by weight. If the content is too small, the effect of blending the inorganic filler and the adhesion to the substrate tend not to be sufficiently obtained. If the content is too large, the viscosity of the composition tends to increase and curing The strength of the object tends to decrease and become brittle.

本発明において使用される無機充填材の平均粒径の上限値は、取り扱い性の観点から、10μm以下が好ましく、5μmがより好ましく、2.5μmが更に好ましく、1.5μmが更に一層好ましい。一方、無機充填材の平均粒径の下限値は、樹脂の粘度が高くなるのを防止するという観点から、0.5μmが好ましい。   The upper limit of the average particle size of the inorganic filler used in the present invention is preferably 10 μm or less, more preferably 5 μm, even more preferably 2.5 μm, and even more preferably 1.5 μm from the viewpoint of handleability. On the other hand, the lower limit value of the average particle diameter of the inorganic filler is preferably 0.5 μm from the viewpoint of preventing the viscosity of the resin from increasing.

無機充填材の平均粒径はミー(Mie)散乱理論に基づくレーザー回折・散乱法により測定することができる。具体的にはレーザー回折式粒度分布測定装置により、無機充填材の粒度分布を体積基準で作成し、そのメディアン径を平均粒径とすることで測定することができる。測定サンプルは、無機充填材を超音波により水中に分散させたものを好ましく使用することができる。レーザー回折式粒度分布測定装置としては、株式会社堀場製作所製LA−500等を使用することができる。   The average particle diameter of the inorganic filler can be measured by a laser diffraction / scattering method based on Mie scattering theory. Specifically, the particle size distribution of the inorganic filler can be created on a volume basis by a laser diffraction particle size distribution measuring device, and the median diameter can be measured as the average particle diameter. As the measurement sample, an inorganic filler dispersed in water by ultrasonic waves can be preferably used. As a laser diffraction type particle size distribution measuring apparatus, LA-500 manufactured by Horiba, Ltd. can be used.

[ゴム粒子]
本発明の樹脂組成物には、硬化物の機械強度の向上や応力緩和等の目的からゴム粒子を含有させてもよい。当該ゴム粒子は、樹脂組成物を調製する際の有機溶媒にも溶解せず、エポキシ樹脂等の樹脂組成物中の成分とも相溶せず、樹脂組成物のワニス中では分散状態で存在するものが好ましい。このようなゴム粒子は、一般には、ゴム成分の分子量を有機溶剤や樹脂に溶解しないレベルまで大きくし、粒子状とすることで調製することができ、具体的には、コアシェル型ゴム粒子、架橋アクリルニトリルブタジエンゴム粒子、架橋スチレンブタジエンゴム粒子、アクリルゴム粒子等が挙げられる。コアシェル型ゴム粒子は、粒子がコア層とシェル層を有するゴム粒子であり、例えば、外層のシェル層がガラス状ポリマー、内層のコア層がゴム状ポリマーで構成される2層構造、または外層のシェル層がガラス状ポリマー、中間層がゴム状ポリマー、コア層がガラス状ポリマーで構成される3層構造のものなどが挙げられる。ガラス層は例えば、メタクリル酸メチルの重合物などで構成され、ゴム状ポリマー層は例えば、ブチルアクリレート重合物(ブチルゴム)などで構成される。コアシェル型ゴム粒子の具体例としては、スタフィロイドAC3832、AC3816N(以上、ガンツ化成(株)製)、メタブレンKW−4426(三菱レイヨン(株)製)、F351(日本ゼオン(株)製)等が挙げられる。アクリロニトリルブタジエンゴム(NBR)粒子の具体例としては、XER−91(JSR(株)製)などが挙げられる。スチレンブタジエンゴム(SBR)粒子の具体例としては、XSK−500(JSR(株)製)などが挙げられる。アクリルゴム粒子の具体例としては、メタブレンW300A、W450A(以上、三菱レイヨン(株)製)を挙げることができる。
[Rubber particles]
The resin composition of the present invention may contain rubber particles for the purpose of improving the mechanical strength of the cured product and relaxing the stress. The rubber particles are not dissolved in an organic solvent when preparing the resin composition, are not compatible with components in the resin composition such as an epoxy resin, and exist in a dispersed state in the varnish of the resin composition Is preferred. Such rubber particles can generally be prepared by increasing the molecular weight of the rubber component to a level that does not dissolve in an organic solvent or resin and making it into particles. Specifically, core-shell type rubber particles, Examples thereof include acrylonitrile butadiene rubber particles, crosslinked styrene butadiene rubber particles, and acrylic rubber particles. The core-shell type rubber particles are rubber particles having a core layer and a shell layer. For example, the outer shell layer is a glassy polymer and the inner core layer is a rubbery polymer. Examples include a three-layer structure in which the shell layer is a glassy polymer, the intermediate layer is a rubbery polymer, and the core layer is a glassy polymer. The glass layer is made of, for example, a polymer of methyl methacrylate, and the rubbery polymer layer is made of, for example, a butyl acrylate polymer (butyl rubber). Specific examples of the core-shell type rubber particles include Staphyloid AC3832, AC3816N (manufactured by Ganz Kasei Co., Ltd.), Metabrene KW-4426 (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), F351 (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), and the like. Can be mentioned. Specific examples of acrylonitrile butadiene rubber (NBR) particles include XER-91 (manufactured by JSR Corporation). Specific examples of styrene butadiene rubber (SBR) particles include XSK-500 (manufactured by JSR Corporation). Specific examples of the acrylic rubber particles include Methbrene W300A and W450A (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.).

ゴム粒子の平均粒子径は0.005〜1μmの範囲が好ましく、0.2〜0.6μmの範囲がより好ましい。かかるゴム粒子の平均粒子径は、動的光散乱法を用いて測定することが出来る。例えば、適当な有機溶剤にゴム粒子を超音波などにより均一に分散させ、FPRA−1000(大塚電子(株)製)を用いて、ゴム粒子の粒度分布を重量基準で作成し、そのメディアン径を平均粒子径とすることで測定される。   The average particle diameter of the rubber particles is preferably in the range of 0.005 to 1 μm, and more preferably in the range of 0.2 to 0.6 μm. The average particle diameter of such rubber particles can be measured using a dynamic light scattering method. For example, rubber particles are uniformly dispersed in an appropriate organic solvent by ultrasonic waves, etc., and using FPRA-1000 (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.), the particle size distribution of the rubber particles is created on a weight basis, and the median diameter is determined. The average particle diameter is measured.

本発明の樹脂組成物において、ゴム粒子を使用する場合、ゴム粒子の含有量は、樹脂組成物中の不揮発分100重量%に対して0.1〜20重量%が好ましく、0.1〜10重量%がより好ましい。0.1重量%よりも少ないとゴム粒子を配合することの効果が十分に得られず、20重量%より多いと、耐熱性、耐透湿性が低下する場合がある。   In the resin composition of the present invention, when rubber particles are used, the content of the rubber particles is preferably 0.1 to 20% by weight with respect to 100% by weight of the nonvolatile content in the resin composition, and 0.1 to 10%. Weight percent is more preferred. If the amount is less than 0.1% by weight, the effect of blending the rubber particles cannot be sufficiently obtained. If the amount is more than 20% by weight, the heat resistance and moisture permeability may be lowered.

[熱可塑性樹脂]
本発明の樹脂組成物には、硬化物への可撓性の付与、樹脂組成物をコーティングする際の良好な加工性を維持する等の観点から、熱可塑性樹脂を含有させることができる。熱可塑性樹脂としては、例えば、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂等を挙げることができる。これらの熱可塑性樹脂はいずれか1種を使用しても2種以上を混合して用いてもよい。熱可塑性樹脂は可撓性の付与、コーティング時のはじき防止の点から、重量平均分子量が30,000以上が好ましく、50,000以上がより好ましい。しかし、重量平均分子量が大きすぎると、エポキシ樹脂との相溶性が低下する等の傾向があることから、重量平均分子量は1,000,000以下であるのが好ましく、800,000以下がより好ましい。
[Thermoplastic resin]
The resin composition of the present invention can contain a thermoplastic resin from the viewpoints of imparting flexibility to the cured product and maintaining good processability when coating the resin composition. Examples of the thermoplastic resin include phenoxy resin, polyvinyl acetal resin, polyimide resin, polyamideimide resin, polyethersulfone resin, and polysulfone resin. Any one of these thermoplastic resins may be used, or two or more thereof may be mixed and used. The thermoplastic resin preferably has a weight average molecular weight of 30,000 or more, more preferably 50,000 or more, from the viewpoint of imparting flexibility and preventing repelling during coating. However, if the weight average molecular weight is too large, the compatibility with the epoxy resin tends to be reduced. Therefore, the weight average molecular weight is preferably 1,000,000 or less, more preferably 800,000 or less. .

なお、ここでいう「熱可塑性樹脂の重量平均分子量」は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法(ポリスチレンン換算)で測定される。GPC法による重量平均分子量は、具体的には、測定装置として(株)島津製作所製LC−9A/RID−6Aを、カラムとして昭和電工(株)製Shodex K−800P/K−804L/K−804Lを、移動相としてクロロホルム等を用いて、カラム温度40℃にて測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて算出することができる。   In addition, "the weight average molecular weight of a thermoplastic resin" here is measured by the gel permeation chromatography (GPC) method (polystyrene conversion). Specifically, the weight average molecular weight by the GPC method is LC-9A / RID-6A manufactured by Shimadzu Corporation as a measuring device, and Shodex K-800P / K-804L / K- manufactured by Showa Denko KK as a column. 804 L can be measured at a column temperature of 40 ° C. using chloroform or the like as a mobile phase, and can be calculated using a standard polystyrene calibration curve.

熱可塑性樹脂は上述した例示物の中でもフェノキシ樹脂が特に好ましい。フェノキシ樹脂は「エポキシ樹脂」との相溶性が良く、また、本発明の樹脂組成物の硬化物の接着性、耐透湿性への影響が少ないという点からも好ましい。   Of the above-mentioned examples, the phenoxy resin is particularly preferable as the thermoplastic resin. The phenoxy resin is preferable because it has good compatibility with the “epoxy resin” and has little influence on the adhesiveness and moisture permeability resistance of the cured product of the resin composition of the present invention.

フェノキシ樹脂としては、ビスフェノールA骨格、ビスフェノールF骨格、ビスフェノールS骨格、ビスフェノールアセトフェノン骨格、ノボラック骨格、ビフェニル骨格、フルオレン骨格、ジシクロペンタジエン骨格、ノルボルネン骨格、ナフタレン骨格、アントラセン骨格、アダマンタン骨格、テルペン骨格、トリメチルシクロヘキサン骨格から選択される1種以上の骨格を有するものが挙げられる。フェノキシ樹脂は2種以上を混合して用いてもよい。   Examples of the phenoxy resin include bisphenol A skeleton, bisphenol F skeleton, bisphenol S skeleton, bisphenol acetophenone skeleton, novolac skeleton, biphenyl skeleton, fluorene skeleton, dicyclopentadiene skeleton, norbornene skeleton, naphthalene skeleton, anthracene skeleton, adamantane skeleton, terpene skeleton, Examples thereof include those having one or more skeletons selected from a trimethylcyclohexane skeleton. Two or more phenoxy resins may be mixed and used.

フェノキシ樹脂の市販品としては、例えば、ジャパンエポキシレジン(株)製1256、4250(ビスフェノールA骨格含有フェノキシ樹脂)、ジャパンエポキシレジン(株)製YX8100(ビスフェノールS骨格含有フェノキシ樹脂)、ジャパンエポキシレジン(株)製YX6954(ビスフェノールアセトフェノン骨格含有フェノキシ樹脂)、ユニオンカーバイド社製PKHH(重量平均分子量(Mw)42600、数平均分子量(Mn)11200)等が好適であり、東都化成(株)製FX280、FX293、ジャパンエポキシレジン(株)製YL7553BH30、YL6794、YL7213、YL7290、YL7482等も挙げることができる。   Examples of commercially available phenoxy resins include 1256, 4250 (bisphenol A skeleton-containing phenoxy resin) manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., YX8100 (bisphenol S skeleton-containing phenoxy resin) manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., Japan Epoxy Resin ( YX6954 (bisphenol acetophenone skeleton-containing phenoxy resin), Union Carbide PKHH (weight average molecular weight (Mw) 42600, number average molecular weight (Mn) 11200) and the like are suitable, and FX280, FX293 manufactured by Toto Kasei Co., Ltd. YL7553BH30, YL6794, YL7213, YL7290, YL7482 etc. manufactured by Japan Epoxy Resins Co., Ltd. can also be mentioned.

本発明の樹脂組成物において、熱可塑性樹脂を使用する場合、熱可塑性樹脂の含有量は、樹脂組成物中の不揮発分100重量%に対し、1〜50重量%が好ましく、3〜25重量%がより好ましい。1重量%よりも少ないと熱可塑性樹脂を配合することの効果が十分に得られず、50重量%より多いと、硬化物の透湿性などが低下する傾向にある。   In the resin composition of the present invention, when a thermoplastic resin is used, the content of the thermoplastic resin is preferably 1 to 50% by weight, preferably 3 to 25% by weight with respect to 100% by weight of the nonvolatile content in the resin composition. Is more preferable. If the amount is less than 1% by weight, the effect of blending the thermoplastic resin cannot be sufficiently obtained. If the amount is more than 50% by weight, the moisture permeability of the cured product tends to be lowered.

[カップリング剤]
本発明の樹脂組成物には、被着体との密着性、硬化物の耐透湿性等の点からカップリング剤を含有させることができる。かかるカップリング剤としては、例えば、チタン系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、シランカップリング剤等を挙げることができる。中でも、シランカップリング剤が好ましい。また、カップリング剤は1種又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
[Coupling agent]
The resin composition of the present invention can contain a coupling agent from the viewpoints of adhesion to the adherend, moisture permeability of the cured product, and the like. Examples of such coupling agents include titanium coupling agents, aluminum coupling agents, silane coupling agents, and the like. Among these, a silane coupling agent is preferable. Moreover, a coupling agent can be used 1 type or in combination of 2 or more types.

シランカップリング剤としては、例えば、3−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシジルオキシプロピル(ジメトキシ)メチルシランおよび2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランなどのエポキシ系シランカップリング剤;3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン及び11−メルカプトウンデシルトリメトキシシランなどのメルカプト系シランカップリング剤;3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルジメトキシメチルシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−メチルアミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランおよびN−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルジメトキシメチルシランなどのアミノ系シランカップリング剤;3−ウレイドプロピルトリエトキシシランなどのウレイド系シランカップリング剤、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシランおよびビニルメチルジエトキシシランなどのビニル系シランカップリング剤;p−スチリルトリメトキシシランなどのスチリル系シランカップリング剤;3−アクリルオキシプロピルトリメトキシシランおよび3−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシランなどのアクリレート系シランカップリング剤;3−イソシアネートプロピルトリメトキシシランなどのイソシアネート系シランカップリング剤、ビス(トリエトキシシリルプロピル)ジスルフィド、ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィドなどのスルフィド系シランカップリング剤;フェニルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、イミダゾールシラン、トリアジンシラン等を挙げることができる。これらの中でも、エポキシ系シランカップリング剤が特に好適である。   Examples of the silane coupling agent include 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidyloxypropyltriethoxysilane, 3-glycidyloxypropyl (dimethoxy) methylsilane, and 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxy. Epoxy silane coupling agents such as silane; mercapto silane coupling agents such as 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane and 11-mercaptoundecyltrimethoxysilane 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyldimethoxymethylsilane, N-phenyl-3-aminopropyltrime Amino silane cups such as xylsilane, N-methylaminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane and N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyldimethoxymethylsilane Ring agent; Ureido silane coupling agent such as 3-ureidopropyltriethoxysilane, vinyl silane coupling agent such as vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane and vinylmethyldiethoxysilane; p-styryltrimethoxysilane Styryl-based silane coupling agents; acrylate-based silane coupling agents such as 3-acryloxypropyltrimethoxysilane and 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane; 3-isocyanatopropyltrimethoxy Isocyanate-based silane coupling agents such as silane, sulfide-based silane coupling agents such as bis (triethoxysilylpropyl) disulfide and bis (triethoxysilylpropyl) tetrasulfide; phenyltrimethoxysilane, methacryloxypropyltrimethoxysilane, imidazole Examples thereof include silane and triazine silane. Among these, an epoxy-based silane coupling agent is particularly suitable.

本発明の樹脂組成物において、カップリング剤を使用する場合、カップリング剤の含有量は、樹脂組成物中の不揮発分100重量%に対して0.5〜10重量%が好ましく、0.5〜5重量%がより好ましい。この範囲外で含有した場合、カップリング剤添加による密着性の改善効果を得ることができない。   In the resin composition of the present invention, when a coupling agent is used, the content of the coupling agent is preferably 0.5 to 10% by weight with respect to 100% by weight of the nonvolatile content in the resin composition. More preferred is ˜5% by weight. When it contains outside this range, the adhesive improvement effect by coupling agent addition cannot be acquired.

本発明の樹脂組成物は、本発明の効果が発揮される範囲で、上述した成分以外の各種樹脂添加剤を任意で含有させても良い。このような樹脂添加剤としては、例えば、シリコンパウダー、ナイロンパウダー、フッ素パウダー等の有機充填剤、オルベン、ベントン等の増粘剤、シリコーン系、フッ素系、高分子系の消泡剤又はレベリング剤、トリアゾール化合物、チアゾール化合物、トリアジン化合物、ポルフィリン化合物等の密着性付与剤等を挙げることができる   The resin composition of the present invention may optionally contain various resin additives other than the components described above as long as the effects of the present invention are exhibited. Examples of such resin additives include organic fillers such as silicon powder, nylon powder, and fluorine powder, thickeners such as olben and benton, silicone-based, fluorine-based, and polymer-based antifoaming agents or leveling agents. , Adhesion-imparting agents such as triazole compounds, thiazole compounds, triazine compounds, porphyrin compounds, etc.

[有機EL素子封止用樹脂組成物シート]
本発明の樹脂組成物は、直接、有機EL素子が形成された基板(以下、「有機EL素子形成基板」とも略称する。)に塗布して有機EL素子を被覆する樹脂組成物層を形成することができるが、支持体上に本発明の樹脂組成物の層を形成した有機EL素子封止用樹脂組成物シートを作製し、有機EL素子封止用樹脂組成物シートを有機EL素子形成基板にラミネートしてその樹脂組成物層を有機EL素子形成基板上に転写することで、有機EL素子を樹脂組成物層で被覆するようにしてもよい。工業的には、かかる有機EL素子封止用樹脂組成物シートを用いる方法が好適である。
[Resin composition sheet for sealing organic EL elements]
The resin composition of the present invention is directly applied to a substrate on which an organic EL element is formed (hereinafter also abbreviated as “organic EL element forming substrate”) to form a resin composition layer that covers the organic EL element. An organic EL element sealing resin composition sheet in which a layer of the resin composition of the present invention is formed on a support is prepared, and the organic EL element sealing resin composition sheet is used as an organic EL element forming substrate. The organic EL element may be covered with the resin composition layer by laminating and transferring the resin composition layer onto the organic EL element forming substrate. Industrially, a method using such a resin composition sheet for sealing an organic EL element is suitable.

有機EL素子封止用樹脂組成物シートは、当業者に公知の方法、例えば、有機溶剤に樹脂組成物を溶解したワニスを調製し、支持体上に、ワニスを塗布し、更に加熱、あるいは熱風吹きつけ等によって有機溶剤を乾燥させて樹脂組成物層を形成させることによって製造することができる。   The organic EL element sealing resin composition sheet is prepared by a method known to those skilled in the art, for example, by preparing a varnish in which the resin composition is dissolved in an organic solvent, applying the varnish on the support, and further heating or hot air. The organic solvent can be dried by spraying or the like to form a resin composition layer.

有機溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン(以下、「MEK」とも略称する)、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、カルビトールアセテート等の酢酸エステル類、セロソルブ、ブチルカルビトール等のカルビトール類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等を挙げることができる。かかる有機溶剤はいずれか1種を単独で使用しても2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Examples of the organic solvent include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone (hereinafter abbreviated as “MEK”), cyclohexanone, and acetates such as ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and carbitol acetate. Carbitols such as cellosolve and butyl carbitol, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and the like. One of these organic solvents may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.

乾燥条件は特に制限はないが、50〜100℃で3〜15分が好適である。   There are no particular restrictions on the drying conditions, but 3 to 15 minutes at 50 to 100 ° C. are preferred.

乾燥後に形成される樹脂組成物層の厚みは、3μm〜200μmが好ましく、より好ましくは5μm〜100μm、更に好ましくは5μm〜50μmの範囲である。   The thickness of the resin composition layer formed after drying is preferably 3 μm to 200 μm, more preferably 5 μm to 100 μm, and still more preferably 5 μm to 50 μm.

なお、後述のように、樹脂組成物層(硬化層)上に封止基材が積層される封止構造(図1参照)では、水分の浸入は樹脂組成物層側面からのみとなるため、樹脂組成物層は層厚を薄くするのが、外気との接触面積が少なくなり、水分を遮断する上で望ましい。また、層厚が小さすぎると、有機EL素子形成基板上に転写後、塗膜の厚みの均一性が低下したり、封止基材を貼り合わせる場合の作業性が低下する傾向にある。   As will be described later, in the sealing structure in which the sealing substrate is laminated on the resin composition layer (cured layer) (see FIG. 1), the intrusion of moisture is only from the side of the resin composition layer. It is desirable to reduce the thickness of the resin composition layer in order to reduce the contact area with the outside air and to block moisture. On the other hand, when the layer thickness is too small, the uniformity of the thickness of the coating film is lowered after transfer onto the organic EL element forming substrate, or the workability when the sealing substrate is bonded is liable to be lowered.

樹脂組成物層は、保護フィルムで保護されていてもよく、保護フィルムで保護することにより、樹脂組成物層表面へのゴミ等の付着やキズを防止することができる。
有機EL素子封止用樹脂組成物シートに使用する支持体としては、防湿性を有する支持体を用いるのが好ましく、かかる防湿性を有する支持体はそのまま封止基材として使用する。このような防湿性を有する支持体(=封止基材)としては、防湿性を有するプラスチックフィルム、または、銅箔、アルムニウム箔などの金属箔等が挙げられる。防湿性を有するプラスチックフィルムとしては、表面に酸化ケイ素(シリカ)、窒化ケイ素、SiCN、アモルファスシリコン等の無機物を蒸着させたプラスチックフィルム等が挙げられる。ここで、「プラスチックフィルム」は、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート(以下「PET」と略称することがある。)、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド等のプラスチックフィルムが使用でき、なかでも、PETが好ましい。市販されている防湿性を有するプラスチックフィルムの例としては、テックバリアHX、AX、LX、Lシリーズ(三菱樹脂社製)や更に防湿効果を高めたX−BARRIER(三菱樹脂社製)等が挙げられる。封止基材は2層以上の複層構造を有するものを使用しても良い。
The resin composition layer may be protected with a protective film. By protecting the resin composition layer with the protective film, it is possible to prevent adhesion or scratches of dust or the like to the surface of the resin composition layer.
As the support used for the resin composition sheet for sealing an organic EL element, it is preferable to use a support having moisture resistance, and the support having moisture resistance is used as it is as a sealing substrate. Examples of such a moisture-proof support (= sealing substrate) include a moisture-proof plastic film, or a metal foil such as a copper foil or an aluminum foil. Examples of the moisture-proof plastic film include a plastic film in which an inorganic substance such as silicon oxide (silica), silicon nitride, SiCN, or amorphous silicon is deposited on the surface. Here, the “plastic film” is, for example, a polyolefin such as polyethylene, polypropylene, or polyvinyl chloride, a polyethylene terephthalate (hereinafter sometimes abbreviated as “PET”), a polyester such as polyethylene naphthalate, a polycarbonate, a polyimide, or the like. A plastic film can be used, and among them, PET is preferable. Examples of commercially available moisture-proof plastic films include Tech Barrier HX, AX, LX, L series (Mitsubishi Resin Co., Ltd.) and X-BARRIER (Mitsubishi Resin Co., Ltd.) with a further improved moisture-proof effect. It is done. A sealing substrate having a multilayer structure of two or more layers may be used.

なお、防湿性を有してないプラスチックフィルム(例えば、上記の無機物の蒸着を行なっていないプラスチックフィルム)を支持体として用いることもできるが、その場合、有機EL素子が形成された基板上に有機EL素子封止用樹脂組成物シートにより樹脂組成物層を形成した後、支持体を剥離し、その後、樹脂組成物層上に、別途、封止基材を積層するのが好ましい。   Note that a plastic film having no moisture resistance (for example, a plastic film on which the above-described inorganic material is not deposited) can be used as a support. In that case, an organic EL element is formed on the substrate on which the organic EL element is formed. After forming the resin composition layer with the EL element sealing resin composition sheet, it is preferable to peel the support, and then separately laminate a sealing substrate on the resin composition layer.

有機EL素子封止用樹脂組成物シートにおける保護フィルムとしては、上記で例示したプラスチックフィルムを用いることができる。支持体及び保護フィルムはマット処理、コロナ処理の他、離型処理を施してあってもよい。離型処理としては、例えば、シリコーン樹脂系離型剤、アルキッド樹脂系離型剤、フッ素樹脂系離型剤等の離型剤による離型処理が挙げられる。   As the protective film in the resin composition sheet for sealing an organic EL element, the plastic film exemplified above can be used. The support and the protective film may be subjected to a release treatment in addition to the mat treatment and the corona treatment. Examples of the release treatment include a release treatment with a release agent such as a silicone resin release agent, an alkyd resin release agent, and a fluororesin release agent.

支持体の厚さは特に限定されないが、有機EL素子封止用樹脂組成物シートの取り扱い性等の観点から、10〜150μmの範囲が好ましく、より好ましくは20〜100μmの範囲で用いられる。また保護フィルムの厚さも特に制限されないが、1〜40μmの範囲が好ましく、より好ましくは10〜30μmの範囲で用いられる。   Although the thickness of a support body is not specifically limited, From viewpoints, such as the handleability of the resin composition sheet for organic electroluminescent element sealing, the range of 10-150 micrometers is preferable, More preferably, it is used in the range of 20-100 micrometers. The thickness of the protective film is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 to 40 μm, and more preferably in the range of 10 to 30 μm.

[有機EL素子の封止]
本発明の有機EL素子封止用樹脂組成物又は有機EL素子封止用樹脂組成物シートを用いた有機EL素子の封止は、例えば、次のようにして行うことができる。先ず、有機EL素子形成基板に有機EL素子を被覆するように樹脂組成物層を形成する。
[Sealing of organic EL elements]
The sealing of the organic EL element using the resin composition for sealing an organic EL element or the resin composition sheet for sealing an organic EL element of the present invention can be performed, for example, as follows. First, a resin composition layer is formed so as to cover the organic EL element on the organic EL element forming substrate.

樹脂組成物を直接使用する場合は、それを塗布して樹脂組成物層を形成する。樹脂組成物は、エポキシ樹脂及びイオン液体、並びに、必要に応じて配合されるその他の材料を混合したワニスの状態で使用されるのが好ましい。有機EL素子に影響のない程度に上述した溶媒等を必要に応じて添加してよい。溶媒を使用した場合は、塗布後に乾燥を行い、樹脂組成物層を形成する。樹脂組成物層の厚みは、上述の有機EL素子封止用樹脂組成物シートにおける樹脂組成物層の厚みと同様である。   When the resin composition is used directly, it is applied to form a resin composition layer. The resin composition is preferably used in a varnish state in which an epoxy resin, an ionic liquid, and other materials blended as necessary are mixed. The above-described solvents and the like may be added as necessary to the extent that they do not affect the organic EL element. When a solvent is used, drying is performed after coating to form a resin composition layer. The thickness of the resin composition layer is the same as the thickness of the resin composition layer in the above-mentioned organic EL element sealing resin composition sheet.

有機EL素子封止用樹脂組成物シートを使用する場合は、有機EL素子封止用樹脂組成物シートの樹脂組成物層が保護フィルムで保護されている場合はこれを剥離した後、樹脂組成物層が有機EL素子形成基板に直接接するように、有機EL素子封止用樹脂組成物シートを有機EL素子形成基板にラミネートする。ラミネートの方法はバッチ式であってもロールでの連続式であってもよい。なお、有機EL素子封止用樹脂組成物シートの支持体として封止基材を使用した場合は、有機EL素子封止用樹脂組成物シートを有機EL素子形成基板にラミネートした後、支持体を剥離せず、そのまま後述の樹脂組成物層の熱硬化作業を行なうことができる(これによって、有機EL素子の封止が完了する)。樹脂組成物層の熱硬化後、図1に示されるような好ましい封止構造を形成することができる。   When using the resin composition sheet for sealing an organic EL element, if the resin composition layer of the resin composition sheet for sealing an organic EL element is protected with a protective film, the resin composition sheet is peeled off and then the resin composition The organic EL element sealing resin composition sheet is laminated to the organic EL element forming substrate so that the layer is in direct contact with the organic EL element forming substrate. The laminating method may be a batch method or a continuous method using a roll. In addition, when a sealing base material is used as the support for the resin composition sheet for sealing an organic EL element, the support is used after laminating the resin composition sheet for sealing an organic EL element on the organic EL element forming substrate. Without being peeled off, the thermosetting operation of the resin composition layer described later can be performed as it is (this completes the sealing of the organic EL element). A preferable sealing structure as shown in FIG. 1 can be formed after thermosetting the resin composition layer.

一方、防湿性を有しない支持体を使用した場合は、支持体を剥離し、露出した樹脂組成物層に封止基材を圧着し、後述の樹脂組成物層の熱硬化作業を行なうのが好ましい。この場合、封止基材としては、前述の防湿性を有するプラスチックフィルムや銅箔、アルミニウム箔などの金属箔の他、樹脂組成物シートの支持体として使用するには不向きなガラス板、金属板等の可とう性を有しない基材を用いることもできる。封止基材の圧着時の圧力は0.5〜10kgf/cm程度が好適であり、加熱下に圧着する場合、その温度は50〜130℃程度である。また、封止基材の厚みは有機ELデバイス自体を薄くかつ軽くするという観点から5mm以下が好ましく、より好ましくは1mm以下、特に好ましくは100μm以下であり、水分透過を防ぐ観点から、5μm以上が好ましく、より好ましくは10μm以上、特に好ましくは20μm以上である。封止基材は2枚またはそれ以上を貼り合わせて使用しても良い。 On the other hand, when a support that does not have moisture resistance is used, the support is peeled off, the sealing substrate is pressure-bonded to the exposed resin composition layer, and a thermosetting operation of the resin composition layer described below is performed. preferable. In this case, as the sealing substrate, in addition to the above-mentioned moisture-proof plastic film, copper foil, aluminum foil or other metal foil, a glass plate or metal plate that is unsuitable for use as a support for a resin composition sheet The base material which does not have flexibility, such as, can also be used. The pressure at the time of press-bonding the sealing substrate is preferably about 0.5 to 10 kgf / cm 2 , and the temperature is about 50 to 130 ° C. when the pressure is applied under heating. The thickness of the sealing substrate is preferably 5 mm or less from the viewpoint of making the organic EL device itself thin and light, more preferably 1 mm or less, particularly preferably 100 μm or less, and 5 μm or more from the viewpoint of preventing moisture permeation. More preferably, it is 10 μm or more, and particularly preferably 20 μm or more. Two or more sealing substrates may be bonded together.

図1のように、ガラス基板1上に有機EL素子2が形成されている場合、ガラス基板1側をディスプレイの表示面や照明器具の発光面にすれば、封止基材7には必ずしも透明材料を使用する必要はなく、金属板、金属箔、不透明のプラスチックフィルム(または板)等を使用することができる。これとは逆に有機EL素子が不透明または透明性の低い材料からなる基板上に形成されている場合、封止基材側をディスプレイの表示面や照明器具の発光面にする必要から、通常、封止基材にはガラス板や透明プラスチックフィルム(または板)等が使用される。   As shown in FIG. 1, when the organic EL element 2 is formed on the glass substrate 1, the sealing substrate 7 is not necessarily transparent if the glass substrate 1 side is used as a display surface of a display or a light emitting surface of a lighting fixture. It is not necessary to use a material, and a metal plate, a metal foil, an opaque plastic film (or plate), or the like can be used. On the contrary, when the organic EL element is formed on a substrate made of an opaque or low-transparency material, since the sealing substrate side needs to be the display surface of the display or the light emitting surface of the lighting fixture, As the sealing substrate, a glass plate, a transparent plastic film (or plate), or the like is used.

樹脂組成物層を熱硬化する方法は特に制限はなく、種々のものを使用できる。例えば、熱風循環式オーブン、赤外線ヒーター、ヒートガン、高周波誘導加熱装置、ヒートツールの圧着による加熱などが挙げられる。本発明の樹脂組成物は極めて良好な低温硬化性を有しており、140℃以下、好適には120℃以下、さらに好適には110℃以下という低温域で、概ね120分以下、好適には90分以下、さらに好適には60分以下の短時間で硬化し得る。従って、有機EL素子の熱による劣化を極めて少なくすることができる。なお、硬化温度及び硬化時間のそれぞれの下限値は、十分に満足できる硬化物の接着性(密着性)を確保する観点から、硬化温度においては、50℃以上が好ましく、55℃以上がより好ましく、硬化時間においては20分以上が好ましく、30分以上がより好ましい。   There is no restriction | limiting in particular in the method of thermosetting a resin composition layer, A various thing can be used. For example, a hot air circulation oven, an infrared heater, a heat gun, a high frequency induction heating device, heating by pressure bonding of a heat tool, and the like can be mentioned. The resin composition of the present invention has extremely good low-temperature curability, and is generally not more than 120 minutes, preferably in a low temperature range of 140 ° C. or less, preferably 120 ° C. or less, more preferably 110 ° C. or less. It can be cured in a short time of 90 minutes or less, more preferably 60 minutes or less. Therefore, the deterioration of the organic EL element due to heat can be extremely reduced. The lower limit of each of the curing temperature and the curing time is preferably 50 ° C. or higher, more preferably 55 ° C. or higher, from the viewpoint of ensuring sufficiently satisfactory adhesiveness (adhesiveness) of the cured product. The curing time is preferably 20 minutes or longer, and more preferably 30 minutes or longer.

以下、実施例及び比較例を示して本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例によって何ら限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated more concretely, this invention is not limited at all by the following examples.

実施例及び比較例で用いた材料(原料)は以下の通りである。
(A)エポキシ樹脂
・828EL(ジャパンエポキシレジン社製):液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂、エポキ当量(185g/eq)、低塩素型エポキシ樹脂。
・NC3000(日本化薬社製):ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、エポキシ当量(275g/eq)、70wt%固形分のMEK溶液に調製して使用。
・GOT(日本化薬社製):オルソトルイジンジグリシジルアミン、エポキシ当量(135g/eq)。
・エピクロンEXA−835LV(DIC社製):ビスフェノールA型及びF型混合エポキシ樹脂低塩素型、エポキシ当量(165g/eq)。
・エピコート828(ジャパンエポキシレジン社製):ビスフェノールA型エポキシ樹脂低塩素型。
・エピコート1001(ジャパンエポキシレジン社製):ビスフェノールA型エポキシ樹脂。
・ゴム微粒子分散液状エポキシ樹脂(日本触媒社製「BPA328」:一次粒子径が0.3μmの2層構造のアクリル樹脂粒子がエポキシ当量185のビスフェノールA型エポキシ樹脂に17重量%含有してなる組成物。エポキシ当量230g/eq))
・固形エポキシ樹脂(DIC社製「HP7200H」:ジシクロペンタジエン型固形エポキシ樹脂、エポキシ当量(278g/eq))
The materials (raw materials) used in Examples and Comparative Examples are as follows.
(A) Epoxy resin 828EL (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.): Liquid bisphenol A type epoxy resin, epoxy equivalent (185 g / eq), low chlorine type epoxy resin.
NC3000 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): Biphenylaralkyl type epoxy resin, epoxy equivalent (275 g / eq), prepared in MEK solution with 70 wt% solid content.
GOT (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): orthotoluidine diglycidylamine, epoxy equivalent (135 g / eq).
Epicron EXA-835LV (manufactured by DIC): Bisphenol A type and F type mixed epoxy resin low chlorine type, epoxy equivalent (165 g / eq).
Epicoat 828 (manufactured by Japan Epoxy Resin): Bisphenol A type epoxy resin low chlorine type.
Epicote 1001 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co.): Bisphenol A type epoxy resin.
・ Rubber fine particle-dispersed liquid epoxy resin (“BPA328” manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.): A composition comprising 17% by weight of bisphenol A type epoxy resin having an epoxy equivalent of 185 and two-layer acrylic resin particles having a primary particle size of 0.3 μm Epoxy equivalent 230g / eq))
Solid epoxy resin (“HP7200H” manufactured by DIC: dicyclopentadiene type solid epoxy resin, epoxy equivalent (278 g / eq))

(B)硬化剤(イオン液体)
・N−アセチルグリシンテトラブチルホスホニウム塩
(固体分散型硬化剤)
・アミキュアPN40−J(味の素ファインテクノ社製、平均粒子径2.5μm)
・VDH−J(味の素ファインテクノ社製)・アミキュアMY−24(味の素ファインテクノ社製、平均粒子径10μm)
・2PZ−CNS−PW(四国化成社製):1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテイトの粉砕品、平均粒子径10μm
・U−CAT3502T(サンアプロ社製):潜在性硬化剤
(酸無水物型硬化剤)
・リカシッドMH−700(新日本理化社製):メチルヘキサヒドロ無水フタル酸
(液状硬化剤)
・2E4MZ(四国化成社製):2−エチル−4−メチルイミダゾール
・1B2MZ(四国化成社製):1−ベンジル−2−メチルイミダゾール
(B) Curing agent (ionic liquid)
・ N-acetylglycine tetrabutylphosphonium salt (solid dispersion type curing agent)
・ Amicure PN40-J (Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd., average particle size 2.5 μm)
・ VDH-J (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co.) ・ Amicure MY-24 (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., average particle size 10 μm)
2PZ-CNS-PW (manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.): ground product of 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, average particle size 10 μm
U-CAT3502T (manufactured by San Apro): latent curing agent (acid anhydride type curing agent)
・ Licacid MH-700 (manufactured by Nippon Nippon Chemical Co., Ltd.): Methylhexahydrophthalic anhydride (liquid curing agent)
2E4MZ (manufactured by Shikoku Chemicals): 2-ethyl-4-methylimidazole 1B2MZ (manufactured by Shikoku Chemicals): 1-benzyl-2-methylimidazole

(C)フェノキシ樹脂
・YX6954(ジャパンエポキシレジン社製):高耐熱型フェノキシ樹脂、重量平均分子量(40,000)、35wt%固形分のMEK溶液に調製して使用。
・YL7213(ジャパンエポキシレジン社製):高耐熱型フェノキシ樹脂、重量平均分子量(35,000)、35wt%固形分のMEK溶液に調製して使用。
・PKHH(InChem社製):高耐熱型フェノキシ樹脂、重量平均分子量(42,600)、20wt%固形分のMEK溶液に調製して使用。
(C) Phenoxy resin YX6954 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.): A heat-resistant phenoxy resin, a weight average molecular weight (40,000), and a 35 wt% solid MEK solution.
YL7213 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.): A high heat-resistant phenoxy resin, a weight average molecular weight (35,000), and a 35 wt% solid MEK solution prepared for use.
PKHH (manufactured by InChem): A heat-resistant phenoxy resin, a weight average molecular weight (42,600), and a 20 wt% solid MEK solution prepared for use.

(D)ゴム粒子
F351(日本ゼオン社製):アクリル系コアシェル樹脂粒子、平均粒径(0.3μm)。
(D) Rubber particles F351 (manufactured by Zeon Corporation): acrylic core-shell resin particles, average particle size (0.3 μm).

(E)吸湿性金属酸化物
・モイストップ#10(三共製粉社製):酸化カルシウム、平均粒子径(4μm)、最大粒子径(15μm)。
・焼成ドロマイト:吉澤石灰社製「軽焼ドロマイト」を湿式粉砕したもののMEKスラリー(固形分として40wt%、平均粒径:0.87μm)。
(E) Hygroscopic metal oxide Moistop # 10 (manufactured by Sankyo Flour Mills): calcium oxide, average particle size (4 μm), maximum particle size (15 μm).
Firing dolomite: MEK slurry (40 wt% as solid content, average particle size: 0.87 μm) of wet pulverized “light calcined dolomite” manufactured by Yoshizawa Lime Company.

(F)無機充填材
・SG95S(日本タルク社製):タルク、平均粒径(1.4μm)。
・D−600(日本タルク社製):湿式粉砕したもののMEKスラリー(固形分として30wt%)、平均粒径(0.72μm)。
(F) Inorganic filler SG95S (manufactured by Nippon Talc): Talc, average particle size (1.4 μm).
D-600 (manufactured by Nippon Talc Co., Ltd.): MEK slurry (30 wt% as solid content) of wet pulverized, average particle size (0.72 μm).

(G)表面処理剤
・KBM3103(信越シリコーン社製):デシルトリメトキシシラン
・ステアリン酸
(G) Surface treatment agent KBM3103 (manufactured by Shin-Etsu Silicone): Decyltrimethoxysilane Stearic acid

(H)カップリング剤
KBM−403(信越シリコーン社製):3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
(H) Coupling agent KBM-403 (manufactured by Shin-Etsu Silicone): 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane

次に示す手順にて実施例及び比較例の各組成物を調整した。配合は表1、2に示す重量部の量で行った。   Each composition of an Example and a comparative example was adjusted with the procedure shown next. The blending was carried out in the amounts by weight shown in Tables 1 and 2.

(実施例1)
液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製「828EL」)と、オルソトルイジンジグリシジルアミン(日本化薬社製「GOT」)とに、アクリル系コアシェル樹脂(日本ゼオン社製「F351」)、固体分散型硬化剤(味の素ファインテクノ社製「VDH−J」、味の素ファインテクノ社製「PN40−J」)をロール分散させた混合物(混合物G)、表面処理剤(信越シリコーン社製「KBM−3103」)と共に攪拌式表面処理装置を用いて表面処理を行った酸化カルシウム(三共製粉社製「モイストップ#10」)、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂(日本化薬社製「NC3000」)の70wt%固形分のMEK溶液、フェノキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製「YX6954」)の35wt%MEK溶液、タルク粉末(日本タルク社製「SG95S」)、カップリング剤(信越シリコーン社製「KBM−403」)を配合し、アジホモミキサーロボミックス型混合攪拌機(プライミクス社製)にて混合した(混合物H)。混合物Hと、イオン液体硬化剤(N−アセチルグリシンテトラブチルホスホニウム塩)と、溶剤(MEK、アセトン)とを混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、ワニス状の樹脂組成物を得た。該樹脂組成物ワニスをアルキッド系離型剤で処理されたPETフィルム(厚さ38μm)の離型処理面上に、乾燥後の熱硬化性樹脂組成物層の厚さが40μmになるよう、ダイコーターにて均一に塗布し、60〜80℃で6分間乾燥させることにより、樹脂組成物シートを得た。
Example 1
Liquid bisphenol A type epoxy resin (“828EL” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) and orthotoluidine diglycidylamine (“GOT” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), acrylic core shell resin (“F351” manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), A solid dispersion type curing agent (“VDH-J” manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd., “PN40-J” manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.) and a surface treatment agent (“KBM-” manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) 3103 ") and 70 wt% of calcium oxide (" Moystop # 10 "manufactured by Sankyo Flour Mills Co., Ltd.) and biphenyl aralkyl type epoxy resin (" NC3000 "manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) subjected to surface treatment using a stirring surface treatment apparatus. Solid content MEK solution, 35 wt% of phenoxy resin ("YX6954" manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) EK solution, talc powder (“SG95S” manufactured by Nippon Talc Co., Ltd.) and a coupling agent (“KBM-403” manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) were blended and mixed with an Ajihomo mixer Robomix type mixing stirrer (manufactured by Primix). (Mixture H). Mixture H, an ionic liquid curing agent (N-acetylglycine tetrabutylphosphonium salt), and a solvent (MEK, acetone) were mixed and dispersed uniformly with a high-speed rotary mixer to obtain a varnish-like resin composition. . The resin composition varnish is formed on a release film treated surface of a PET film (thickness 38 μm) treated with an alkyd mold release agent so that the thickness of the dried thermosetting resin composition layer is 40 μm. The resin composition sheet | seat was obtained by apply | coating uniformly with a tar and drying at 60-80 degreeC for 6 minute (s).

(実施例2)
モイストップ#10の表面処理を行わなかったこと以外は実施例1と同様の方法にてワニス状の樹脂組成物を調製し、樹脂組成物シートを作製した。
(Example 2)
A varnish-like resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the surface treatment of Moistop # 10 was not performed, and a resin composition sheet was prepared.

(実施例3)
液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製「828EL」)と、オルソトルイジンジグリシジルアミン(日本化薬社製「GOT」)とに、アクリル系コアシェル樹脂(日本ゼオン社製「F351」)をロール分散させた混合物(混合物G´)、表面処理剤(信越シリコーン社製「KBM−3103」)と共に攪拌式表面処理装置を用いて表面処理を行った酸化カルシウム(三共製粉社製「モイストップ#10」)、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂(日本化薬社製「NC3000」)の70wt%固形分のMEK溶液、フェノキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製「YX6954」)の35wt%固形分のMEK溶液、タルク粉末(日本タルク社製「SG95S」)、カップリング剤(信越シリコーン社製「KBM−403」)を配合し、アジホモミキサーロボミックス型混合攪拌機(プライミクス社製)にて混合した(混合物H´)。そして、この混合物(混合物H´)、イオン液体硬化剤(N−アセチルグリシンテトラブチルホスホニウム塩)および有機溶剤(MEK、アセトン)を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、ワニス状の樹脂組成物を得た。次に、このワニス状の樹脂組成物をアルキッド系離型剤で処理されたPETフィルム(厚さ38μm)の離型処理面上に、乾燥後の樹脂組成物層の厚さが40μmになるよう、ダイコーターにて均一に塗布し、60〜80℃で6分間乾燥させることにより、樹脂組成物シートを得た。
Example 3
Liquid core bisphenol A type epoxy resin (Japan Epoxy Resin “828EL”) and orthotoluidine diglycidylamine (Nippon Kayaku Co., Ltd. “GOT”) and acrylic core shell resin (Nippon Zeon Corporation “F351”) Calcium oxide ("Moystop #" manufactured by Sankyo Flour Mills Co., Ltd.) which was surface-treated with a roll-dispersed mixture (mixture G ') and a surface treatment agent ("KBM-3103" manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) using a stirring type surface treatment apparatus 10 "), a 70 wt% solid MEK solution of biphenyl aralkyl type epoxy resin (Nippon Kayaku" NC3000 "), a 35 wt% solid MEK solution of phenoxy resin (Japan Epoxy Resin" YX6954 "), talc Powder (“SG95S” manufactured by Nippon Talc Co., Ltd.), coupling agent (“Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.“ BM-403 ") were blended and mixed at azide homomixer ROBOMIX type mixing stirrer (manufactured by PRIMIX Corporation) (mixture H '). And this mixture (mixture H '), an ionic liquid hardening | curing agent (N-acetylglycine tetrabutylphosphonium salt), and an organic solvent (MEK, acetone) are mixed, and it disperse | distributes uniformly with a high-speed rotary mixer, and it is varnish-like resin A composition was obtained. Next, the thickness of the resin composition layer after drying is 40 μm on the release treatment surface of a PET film (thickness 38 μm) obtained by treating this varnish-like resin composition with an alkyd mold release agent. The resin composition sheet was obtained by uniformly applying with a die coater and drying at 60 to 80 ° C. for 6 minutes.

(実施例4)
モイストップ#10の表面処理を行わなかったこと以外は実施例3と同様の方法にてワニス状の樹脂組成物を調製し、樹脂組成物シートを作製した。
Example 4
A varnish-like resin composition was prepared in the same manner as in Example 3 except that the surface treatment of Moistop # 10 was not performed, and a resin composition sheet was prepared.

(参考例1)
酸化カルシウム(三共製粉社製「モイストップ#10」)を使用せず、その他は実施例4と同様にしてワニス状の樹脂組成物を調製し、樹脂組成物シートを作製した。
(Reference Example 1)
A varnish-like resin composition was prepared in the same manner as in Example 4 without using calcium oxide (“Moystop # 10” manufactured by Sankyo Flour Mills), and a resin composition sheet was prepared.

(比較例1)
ビスフェノールA型及びF型混合エポキシ樹脂低塩素型(DIC社製「EXA−835LV」)と、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製「エピコート1001」)とに、固体分散硬化剤(1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテイトの粉砕品、四国化成社製「2PZ−CNS−PW」)を均一に分散した混合物、フェノキシ樹脂(InChem社製「PKHH」)の20wt%固形分のMEK溶液、シランカップリング剤(3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン:信越シリコーン社製「KBM403」)を所定量で配合して樹脂組成物を得た。この樹脂組成物を用いて、実施例1に記載の方法と同様の方法にて樹脂組成物シートを作製した。
(Comparative Example 1)
Bisphenol A type and F type mixed epoxy resin low chlorine type (“EXA-835LV” manufactured by DIC) and bisphenol A type epoxy resin (“Epicoat 1001” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) MEK of 20 wt% solid content of pulverized cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, “2PZ-CNS-PW” manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd., and phenoxy resin (“PKHH” manufactured by InChem) A solution and a silane coupling agent (3-glycidoxypropyltrimethoxysilane: “KBM403” manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) were blended in a predetermined amount to obtain a resin composition. Using this resin composition, a resin composition sheet was produced in the same manner as described in Example 1.

(比較例2)
ビスフェノールA型及びF型混合エポキシ樹脂低塩素型(DIC社製「EXA−835LV」)、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸(新日本理化社製「リカシッドMH−700」)、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール(四国化成社製「1B2MZ」)を所定量混合して樹脂組成物を得た。この樹脂組成物から金型を用いて厚み40μmのシート状硬化物を得た。
(Comparative Example 2)
Bisphenol A-type and F-type mixed epoxy resin low chlorine type (“EXA-835LV” manufactured by DIC), methylhexahydrophthalic anhydride (“Ricacid MH-700” manufactured by Shin Nippon Chemical Co., Ltd.), 1-benzyl-2-methyl A predetermined amount of imidazole (“1B2MZ” manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.) was mixed to obtain a resin composition. A sheet-like cured product having a thickness of 40 μm was obtained from this resin composition using a mold.

(比較例3)
ビスフェノールA型エポキシ樹脂低塩素型(ジャパンエポキシレジン社製「エピコート828」)、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸(新日本理化社製「リカシッドMH−700」)、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール(四国化成社製「1B2MZ」)を所定量混合して樹脂組成物を得た。この樹脂組成物から金型を用いて厚み40μmのシート状硬化物を得た。
なお、比較例2、3は特許文献2(特開2006−70221号公報)の実施例1、2に相当する。
(Comparative Example 3)
Bisphenol A type epoxy resin low chlorine type (“Epicoat 828” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), methylhexahydrophthalic anhydride (“Ricacid MH-700” manufactured by Shin Nippon Chemical Co., Ltd.), 1-benzyl-2-methylimidazole (Shikoku) A predetermined amount of “1B2MZ” manufactured by Kasei Co., Ltd.) was mixed to obtain a resin composition. A sheet-like cured product having a thickness of 40 μm was obtained from this resin composition using a mold.
Comparative Examples 2 and 3 correspond to Examples 1 and 2 of Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 2006-70221).

(実施例5)
固形エポキシ樹脂(DIC社製「HP7200H」)をフェノキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製「YL7213」、35wt%固形分のMEK溶液)に溶解させた混合物Aを作成した。一方、焼成ドロマイト(吉澤石灰社製を湿式粉砕したもの)のMEKスラリー(固形分として40wt%)にステアリン酸を添加分散し混合物Bを作成した。混合物A、混合物B、タルク(日本タルク社製「D−600」を湿式粉砕したもので、固形分30wt%のMEKスラリー)、ゴム微粒子分散液状エポキシ樹脂(日本触媒社製「BPA328」)と、エポキシ樹脂用潜在性硬化促進剤(サンアプロ社製「U−CAT3502T」)、液状エポキシ樹脂(日本化薬社製「GOT」)、シランカップリング剤(信越化学社製「KBM−403」)を配合し、アジホモミキサーロボミックス型混合攪拌機(プライミクス社製)にて混合した。これにイオン液体硬化物(N−アセチルグリシンテトラブチルホスホニウム塩)を添加して高速回転ミキサーで均一に分散して、ワニス状の樹脂組成物を得た。この樹脂組成物を用いて、実施例1に記載の方法と同様の方法にて樹脂組成物シートを作製した。
(Example 5)
A mixture A in which a solid epoxy resin (“HP7200H” manufactured by DIC) was dissolved in a phenoxy resin (“YL7213” manufactured by Japan Epoxy Resin, 35 wt% solid MEK solution) was prepared. On the other hand, a mixture B was prepared by adding and dispersing stearic acid to a MEK slurry (40 wt% as solid content) of calcined dolomite (made by wet grinding from Yoshizawa Lime Company). Mixture A, Mixture B, Talc (“D-600” manufactured by Nippon Talc Co., Ltd., wet pulverized, MEK slurry having a solid content of 30 wt%), rubber fine particle dispersed liquid epoxy resin (“BPA328” manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.), Contains a latent curing accelerator for epoxy resins ("U-CAT3502T" manufactured by Sun Apro), liquid epoxy resin ("GOT" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), and silane coupling agent ("KBM-403" manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Then, the mixture was mixed with an Ajihomo mixer Robomix type mixing stirrer (manufactured by Primics). An ionic liquid cured product (N-acetylglycine tetrabutylphosphonium salt) was added thereto and dispersed uniformly with a high-speed rotary mixer to obtain a varnish-like resin composition. Using this resin composition, a resin composition sheet was produced in the same manner as described in Example 1.

(実施例6)
実施例5と同様の方法により、下記表3の配合表に従い、ワニス状の樹脂組成物を調製した。この樹脂組成物を用いて、実施例1に記載の方法と同様の方法にて樹脂組成物シートを作製した。
(Example 6)
A varnish-like resin composition was prepared in the same manner as in Example 5 according to the formulation table in Table 3 below. Using this resin composition, a resin composition sheet was produced in the same manner as described in Example 1.

(実施例7)
実施例5と同様の方法により、下記表3の配合表に従い、ワニス状の樹脂組成物を調製した。この樹脂組成物を用いて、実施例1に記載の方法と同様の方法にて樹脂組成物シートを作製した。
(Example 7)
A varnish-like resin composition was prepared in the same manner as in Example 5 according to the formulation table in Table 3 below. Using this resin composition, a resin composition sheet was produced in the same manner as described in Example 1.

各種測定方法・評価方法について説明する。
1.低温硬化性の測定及び評価
実施例及び比較例で得られた樹脂組成物シートについて、その樹脂組成物層を120℃、90分の条件で加熱硬化したときの軟鋼板に対する引張り剪断接着強さにて評価した。
Various measurement methods and evaluation methods will be described.
1. Measurement and evaluation of low-temperature curability About the resin composition sheets obtained in Examples and Comparative Examples, the tensile shear bond strength to mild steel sheet when the resin composition layer is heat-cured at 120 ° C. for 90 minutes. And evaluated.

先ず、表面をエンドレスベルト(JIS#120)で研磨した平面形状が矩形の軟鋼板(JISG3141、SPCCD、第1幅:100mm×第2幅:25mm×厚み:1.6mm)を用意し、図2に示すように、この軟鋼板11の片面11Aの長手方向の片末端部分に、平面形状が矩形の樹脂組成物シート(第1幅:12.5mm×第2幅:25mm)12の樹脂組成物層12Aを重ね合わせて、真空ラミネーターにより、温度80℃、圧力1kgf/cm(9.8×104Pa)の条件でラミネートして試験片13を作製した。なお、該試験片13は同様のものを2枚作製した。 First, a mild steel plate (JIS G3141, SPCD, first width: 100 mm × second width: 25 mm × thickness: 1.6 mm) whose surface is polished with an endless belt (JIS # 120) is prepared as shown in FIG. As shown in FIG. 1, the resin composition sheet 12 (first width: 12.5 mm × second width: 25 mm) 12 having a rectangular planar shape is formed on one end portion in the longitudinal direction of one side 11A of the mild steel plate 11. The layer 12A was superposed and laminated by a vacuum laminator under conditions of a temperature of 80 ° C. and a pressure of 1 kgf / cm 2 (9.8 × 104 Pa) to produce a test piece 13. Note that two similar test pieces 13 were produced.

次に、図3に示すように、2枚の試験片13の双方のPETフィルム12Bを剥離し、樹脂組成物層12A同士を対向させ、12mm幅でオーバーラップするように貼り合わせて、約300g/cmの圧力になるようにクリップで固定し、120℃/90分間加熱硬化した。そして、かかる2枚の試験片間の引張り剪断接着強さを、テンシロン万能試験機(東洋精機(株)製TENSILON UTM−5T)にて測定した。測定条件は、測定温度が25℃、引張り速度が1mm/minとなるようにした。引張り剪断接着強さが17MPaに満たない場合は、低温硬化性が不良(×)と判定し、17MPa以上の場合は良好(○)と判定した。 Next, as shown in FIG. 3, the two PET films 12B of the two test pieces 13 are peeled, the resin composition layers 12A are opposed to each other, and are bonded so as to overlap each other with a width of 12 mm. It was fixed with a clip so as to be a pressure of / cm 2 , and cured by heating at 120 ° C. for 90 minutes. The tensile shear bond strength between the two test pieces was measured with a Tensilon universal tester (TENSILON UTM-5T manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.). The measurement conditions were such that the measurement temperature was 25 ° C. and the tensile speed was 1 mm / min. When the tensile shear bond strength was less than 17 MPa, the low-temperature curability was judged as poor (x), and when it was 17 MPa or more, it was judged good (◯).

2.耐透湿性の測定及び評価
実施例及び比較例で得られた厚み40μmの樹脂組成物層を有する樹脂組成物シートを14枚用意し、それらを前項記載条件で順次ラミネートして14層の樹脂組成物層を積み重ねた総厚みが500μmの積層シート状物を得た。これを120℃/90分間熱硬化させた硬化物をJISZ0208に準拠する方法にて、温度85℃、湿度85%RH、24時間の条件にて、水蒸気透過量を測定し、1mあたりの水蒸気透過量を求めた。水蒸気透過量が200g/m・24hr以上の場合は耐透湿性は不良(×)と判定し、200g/m・24hr未満150g/m・24hr以上の場合は耐透湿性は許容(△)と判定し、150g/m・24hr未満100g/m・24hr以上の場合を良好(○)とし、100g/m・24hr未満の場合を極めて良好(◎)とした。
なお、測定試料に厚みが500μmの積層シート状物の硬化物を使用したのは、図1に示す有機EL素子の全面封止構造を想定し、積層シート状物の硬化物の厚み(500μm)を、図1中の硬化性樹脂組成物層(硬化層)6における有機EL素子2の側部に位置する外気と接触する部位の幅(図1中のW1)に見立てたことによる。
2. Measurement and Evaluation of Moisture Permeability Resistance 14 resin composition sheets having a resin composition layer having a thickness of 40 μm obtained in Examples and Comparative Examples were prepared, and these were sequentially laminated under the conditions described in the previous section, thereby forming a resin composition of 14 layers. A laminated sheet material having a total thickness of 500 μm obtained by stacking physical layers was obtained. A cured product obtained by thermally curing this at 120 ° C. for 90 minutes was measured by a method in accordance with JISZ0208 under the conditions of a temperature of 85 ° C., a humidity of 85% RH, and 24 hours, and water vapor per 1 m 2 was measured. The amount of permeation was determined. When the water vapor transmission amount is 200 g / m 2 · 24 hr or more, the moisture permeability is judged as poor (x), and when it is less than 200 g / m 2 · 24 hr and 150 g / m 2 · 24 hr or more, the moisture permeability is acceptable (Δ ), The case of less than 150 g / m 2 · 24 hr and 100 g / m 2 · 24 hr or more was evaluated as good (◯), and the case of less than 100 g / m 2 · 24 hr was determined as extremely good (◎).
In addition, the cured product of the laminated sheet material having a thickness of 500 μm was used as the measurement sample, assuming the entire sealing structure of the organic EL element shown in FIG. 1, and the thickness of the cured product of the laminated sheet material (500 μm). Is based on the width (W1 in FIG. 1) of the portion of the curable resin composition layer (cured layer) 6 in FIG. 1 that is in contact with the outside air located on the side of the organic EL element 2.

3.ラミネート加工性の評価
実施例および比較例で得られた樹脂組成物シートにおける樹脂組成物層の昇温測定時の最低溶融粘度の値でラミネート加工性を評価した。最低溶融粘度は、ユービーエム社製の型式Rheosol−G3000を用い、樹脂量は1g、直径18mmのパラレルプレートを使用し、測定開始温度60℃、昇温速度5℃/分、測定温度60℃〜200℃、振動数1Hz/degにて測定を行った。最低の粘度値(η)を最低溶融粘度とした。ラミネート加工性は、初期の最低溶融粘度が20000ポイズ未満を良好(○)、20000ポイズ以上を不良(×)とした。評価を行っていない場合は、「−」と示した。
更にフィルム作成後の初期の最低溶融粘度と25℃、24時間保管後の最低溶融粘度の2つの測定を行った。「25℃、24時間保管後の最低溶融粘度」/「初期の最低溶融粘度」を粘度保持率とした。粘度保持率が1.5を超える場合は、保存安定性は許容(△)と判定し、1.5以下の場合は良好(○)と判定した。
3. Evaluation of laminating workability The laminating workability was evaluated by the value of the minimum melt viscosity at the time of measuring the temperature rise of the resin composition layer in the resin composition sheets obtained in Examples and Comparative Examples. The minimum melt viscosity is a model Rheosol-G3000 manufactured by UBM, the amount of resin is 1 g, a parallel plate with a diameter of 18 mm is used, a measurement start temperature of 60 ° C., a temperature increase rate of 5 ° C./min, and a measurement temperature of 60 ° C. to Measurement was performed at 200 ° C. and a frequency of 1 Hz / deg. The lowest viscosity value (η) was taken as the lowest melt viscosity. Regarding the laminate processability, an initial minimum melt viscosity of less than 20000 poise was good (◯), and 20000 poise or more was poor (x). When evaluation was not performed, “−” was shown.
Further, two measurements were performed: an initial minimum melt viscosity after film formation and a minimum melt viscosity after storage at 25 ° C. for 24 hours. “Minimum melt viscosity after storage at 25 ° C. for 24 hours” / “initial minimum melt viscosity” was defined as the viscosity retention rate. When the viscosity retention ratio exceeded 1.5, the storage stability was judged as acceptable (Δ), and when it was 1.5 or less, it was judged good (◯).

4.基材との接着性の測定
アルミニウム箔(幅50mm、長さ50mm、厚み50μm)を2枚用意し、1枚目のアルミニウム箔の片面に、支持体上にある樹脂組成物層(幅40mm、長さ50mm)を重ね合わせて、真空ラミネーターにより、温度80℃、圧力1kgf/cm(9.8×104Pa)の条件でラミネートした。そして、支持体を剥離し、露出した樹脂組成物層上に2枚目のアルミニウム箔を重ねて同じ条件にてラミネートを行い、アルミニウム箔、樹脂組成物層、アルミニウム箔の3層構造の試験片を作成した。この試験片を110℃、30分の条件で加熱硬化後、幅10mm、長さ50mmの矩形の試験片にカットし、JIS K―6854のT型剥離試験方法に準拠して、試験片の長手方向の接着性を測定した。
4). Measurement of Adhesiveness with Substrate Two aluminum foils (width 50 mm, length 50 mm, thickness 50 μm) were prepared, and the resin composition layer (width 40 mm, width 40 mm, 50 mm in length) and laminated by a vacuum laminator under the conditions of a temperature of 80 ° C. and a pressure of 1 kgf / cm 2 (9.8 × 10 4 Pa). Then, the support is peeled off, and a second aluminum foil is laminated on the exposed resin composition layer and laminated under the same conditions, and a test piece having a three-layer structure of the aluminum foil, the resin composition layer, and the aluminum foil. It was created. The test piece was heat-cured at 110 ° C. for 30 minutes, then cut into a rectangular test piece having a width of 10 mm and a length of 50 mm, and the length of the test piece was measured in accordance with the T-type peel test method of JIS K-6854. Directional adhesion was measured.

以上の試験結果を表1、2、3に記載した。   The above test results are shown in Tables 1, 2, and 3.



実施例及び比較例により、本発明の樹脂組成物は120℃という低温で短時間で硬化して高接着強度の硬化物層を形成でき、しかも、硬化物は実用上十分に低い透湿性を有するものとなることが分かる。また、表面処理剤で表面処理した吸湿性金属酸化物を使用することで有機EL素子封止用樹脂組成物シートの保存安定性がさらに向上することが分かる。また、実施例5〜7から無機充填材を含有させることにより基材との密着性が向上することが分かる。これにより、有機EL素子の封止にとって更に有用となることがわかる。従って、本発明によれば、水分や熱による劣化を生じやすい有機EL素子に対し、有機EL素子の劣化を生じさせることなく高信頼性の封止構造を形成できる封止材となる樹脂組成物及び有機EL素子封止用樹脂組成物シートを得ることができ、信頼性の高い有機EL表示装置の提供を可能にすることが分かる。   According to the examples and comparative examples, the resin composition of the present invention can be cured at a low temperature of 120 ° C. in a short time to form a cured product layer with high adhesive strength, and the cured product has a sufficiently low moisture permeability for practical use. It turns out that it becomes a thing. Moreover, it turns out that the storage stability of the resin composition sheet | seat for organic EL element sealing improves further by using the hygroscopic metal oxide surface-treated with the surface treating agent. Moreover, it turns out that adhesiveness with a base material improves by containing an inorganic filler from Examples 5-7. Thereby, it turns out that it becomes further useful for sealing of an organic EL element. Therefore, according to the present invention, a resin composition serving as a sealing material capable of forming a highly reliable sealing structure without causing deterioration of the organic EL element, with respect to the organic EL element that is likely to be deteriorated by moisture or heat. It can be seen that a resin composition sheet for sealing an organic EL element can be obtained, and a highly reliable organic EL display device can be provided.

本発明の樹脂組成物は、低温で速やかに硬化し、優れた接着性と低い透湿性の硬化物を形成できることから、有機EL素子の封止用途以外に、例えば、フラットパネル用の封止樹脂、プリント回路板の防湿保護フィルム、リチウムイオン電池の防湿フィルム、包装用ラミネートフィルム等の用途にも適用できる。   Since the resin composition of the present invention can be cured quickly at low temperatures to form a cured product having excellent adhesion and low moisture permeability, for example, a sealing resin for a flat panel in addition to the sealing application of an organic EL element It can also be applied to uses such as moisture-proof protective films for printed circuit boards, moisture-proof films for lithium ion batteries, and laminate films for packaging.

1、4 ガラス板
2 有機EL素子
3 吸湿材
5 封止材
6 硬化性樹脂組成物層(硬化層)
7 封止基材
11 軟鋼板
12 樹脂組成物シート
12A 樹脂組成物層
12B PETフィルム
13 試験片
1, 4 Glass plate 2 Organic EL element 3 Hygroscopic material 5 Sealing material 6 Curable resin composition layer (cured layer)
7 Sealing base material 11 Mild steel sheet 12 Resin composition sheet 12A Resin composition layer 12B PET film 13 Test piece

本出願は日本で出願された特願2009−013702号を基礎としており、それらの内容は本明細書に全て包含される。   This application is based on Japanese Patent Application No. 2009-013702 filed in Japan, the contents of which are incorporated in full herein.

Claims (5)

エポキシ樹脂と、硬化剤と、平均粒径が10μm以下の吸湿性金属酸化物と、平均粒径が10μm以下の無機充填剤とを含有し、該無機充填剤が、シリカ、硫酸バリウム、タルク、クレー、マイカ、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、窒化ホウ素、ホウ酸アルミニウム、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、チタン酸マグネシウム、チタン酸ビスマス、酸化チタン、ジルコン酸バリウムおよびジルコン酸カルシウムから選択される1種または2種以上である、有機EL素子封止用樹脂組成物。   Containing an epoxy resin, a curing agent, a hygroscopic metal oxide having an average particle size of 10 μm or less, and an inorganic filler having an average particle size of 10 μm or less, the inorganic filler comprising silica, barium sulfate, talc, Clay, mica, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, boron nitride, aluminum borate, barium titanate, strontium titanate, calcium titanate, magnesium titanate, bismuth titanate, titanium oxide, zirconic acid A resin composition for sealing an organic EL element, which is one or more selected from barium and calcium zirconate. 無機充填材がタルクまたはマイカである、請求項1記載の樹脂組成物。   The resin composition according to claim 1, wherein the inorganic filler is talc or mica. 無機充填材がタルクである、請求項1記載の樹脂組成物。   The resin composition according to claim 1, wherein the inorganic filler is talc. 請求項1〜3のいずれか1項に記載の樹脂組成物の層が支持体上に形成されてなる、有機EL素子封止用樹脂組成物シート。   A resin composition sheet for sealing an organic EL element, wherein the layer of the resin composition according to any one of claims 1 to 3 is formed on a support. 請求項4に記載の有機EL素子封止用樹脂組成物シートを用いて成ることを特徴とする、有機ELデバイス。   An organic EL device comprising the resin composition sheet for sealing an organic EL element according to claim 4.
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