JP2009259656A - Sealer - Google Patents

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JP2009259656A
JP2009259656A JP2008108403A JP2008108403A JP2009259656A JP 2009259656 A JP2009259656 A JP 2009259656A JP 2008108403 A JP2008108403 A JP 2008108403A JP 2008108403 A JP2008108403 A JP 2008108403A JP 2009259656 A JP2009259656 A JP 2009259656A
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sealing agent
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JP2008108403A
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Jiro Chisaka
二郎 千阪
Yasumasa Toba
泰正 鳥羽
Maki Sugano
真樹 菅野
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Toyo Ink Mfg Co Ltd
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Toyo Ink Mfg Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sealer which has transparency that does not obstruct light emission and reception of an electronic device and damp-proofness necessary for achieving a long life of the electronic device, a cured object of the sealer, and an electronic device having a long life sealed by the sealer, in particular, the electronic device of the long life superior in light emission and reception. <P>SOLUTION: The sealer contains a solid drying agent particle and a curing resin and the average particle size of the solid drying agent particle is 100 nm or less. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、電子デバイスを外部環境から保護するための封止に用いる封止剤、封止剤硬化物の製造方法、および該封止剤で封止された電子デバイスの製造方法に関する。本発明の封止剤は、ダイオード、トランジスタ、IC等の半導体の電子部品や、液晶パネル、プラズマディスプレイパネル、エレクトロルミネッセンス(以下、EL)素子等の表示素子、光磁気ディスク等の高密度記録媒体、太陽電池、光導波路等の封止に用いることができる。   The present invention relates to a sealant used for sealing for protecting an electronic device from an external environment, a method for manufacturing a cured sealant, and a method for manufacturing an electronic device sealed with the sealant. The sealing agent of the present invention includes semiconductor electronic components such as diodes, transistors, and ICs, liquid crystal panels, plasma display panels, display elements such as electroluminescence (hereinafter, EL) elements, and high-density recording media such as magneto-optical disks. It can be used for sealing solar cells, optical waveguides and the like.

電子デバイスは周囲の温度変化や湿度変化などによって大きく影響を受けるため、液状樹脂等で封止された状態で使用されることは良く知られている。   Since electronic devices are greatly affected by ambient temperature changes and humidity changes, it is well known that they are used in a state of being sealed with a liquid resin or the like.

例えば、発光ダイオードを樹脂により封止する提案が数多くなされている。なかでも白
色発光ダイオードは、大幅な省エネルギーを実現し得る照明用光源として注目されている。そのため、発光ダイオード素子(LEDチップ)からの放出光を、いかに効率よく取り出すかが重要であり、LEDチップの封止剤には、無着色、高透明性のものが求められている。
For example, many proposals have been made to seal a light emitting diode with a resin. In particular, white light emitting diodes are attracting attention as illumination light sources that can achieve significant energy savings. Therefore, it is important how efficiently the emitted light from the light-emitting diode element (LED chip) is extracted, and the LED chip sealant is required to be non-colored and highly transparent.

一方、有機エレクトロルミネッセンス素子(有機EL素子)は、互いに対向する一対の電極間に有機発光材料層が挟持された積層体構造を有し、この有機発光材料層に一方の電極から電子が注入されるとともに他方の電極から正孔が注入されることにより有機発光材料層内で電子と正孔とが結合して発光する。このように有機EL素子は自己発光を行うことから、バックライトを必要とする液晶表示素子等と比較して視認性がよく、薄型化が可能であり、しかも直流低電圧駆動が可能であるという利点を有しており、次世代ディスプレイとして着目されている。   On the other hand, an organic electroluminescence element (organic EL element) has a laminated structure in which an organic light emitting material layer is sandwiched between a pair of electrodes facing each other, and electrons are injected into the organic light emitting material layer from one electrode. In addition, when holes are injected from the other electrode, electrons and holes are combined in the organic light emitting material layer to emit light. As described above, since the organic EL element performs self-emission, it has better visibility than a liquid crystal display element that requires a backlight, can be reduced in thickness, and can be driven by a DC low voltage. It has advantages and is attracting attention as a next-generation display.

また、有機EL素子は、積層体を構成する有機発光材料や電極が水分等による酸化し特性が劣化しやすく、大気中で駆動させると発光特性が急激に劣化する問題がある。そこで、一般的な有機EL素子では積層体の上に乾燥剤が設置されたガラス又は金属からなる蓋を被せ、その周辺を封止剤で封止することにより水分の侵入を遮断する構造が採られている。この方式では、積層体から発せられた光は蓋の反対側、即ち、有機EL素子の底部側から取り出されることからボトムエミッション方式とも呼ばれている(特許文献1)。   In addition, the organic EL element has a problem in that the organic light emitting material and the electrodes constituting the laminate are easily oxidized due to moisture and the like, so that the characteristics are easily deteriorated. Therefore, a general organic EL element has a structure in which moisture is prevented from entering by covering a laminated body with a lid made of glass or metal on which a desiccant is placed and sealing the periphery with a sealant. It has been. In this method, light emitted from the laminated body is taken out from the opposite side of the lid, that is, from the bottom side of the organic EL element, so that it is also called a bottom emission method (Patent Document 1).

一方、近年、従来のボトムエミッション方式の有機EL素子に代って、積層体から発せられた光を上面側から取り出すトップエミッション方式の有機EL素子が注目されている。この方式は、開口率が高く、低電圧駆動となることから、長寿命化に有利であるという利点がある。このようなトップエミッション方式の有機EL素子では、通常、積層体を2枚のガラス等の透明材料からなる防湿性基材により挟み込み、該防湿性基材間を封止剤で充填することにより封止している(特許文献2)。   On the other hand, in recent years, attention has been paid to a top emission type organic EL element that takes out light emitted from a laminate from the upper surface side, instead of a conventional bottom emission type organic EL element. This method has an advantage that it has a high aperture ratio and is driven at a low voltage, which is advantageous for extending the life. In such a top emission type organic EL device, usually, the laminate is sandwiched between two moisture-proof substrates made of a transparent material such as glass, and the space between the moisture-proof substrates is filled with a sealant. (Patent Document 2).

上述のボトムエミッション方式およびトップエミッション方式の有機EL素子では、これまで、光硬化性樹脂組成物や熱硬化性樹脂組成物等の硬化性樹脂組成物からなる封止剤を用いて充填する方法等が検討されていた。しかしながら、樹脂組成物からなる封止剤は防湿性が十分ではなく、外部から進入した水分が封止剤中を拡散し素子内部に進入し、有機EL素子を劣化させる問題があった。   In the above-mentioned bottom emission type and top emission type organic EL devices, a method of filling with a sealant made of a curable resin composition such as a photocurable resin composition or a thermosetting resin composition, etc. Was being considered. However, the sealing agent made of the resin composition is not sufficiently moisture-proof, and there has been a problem that moisture entering from the outside diffuses into the sealing agent and enters the element, thereby deteriorating the organic EL element.

そこで、例えば、基板上に形成された有機EL素子を保護膜で覆い、さらに封止剤(光硬化性樹脂組成物や熱硬化性樹脂組成物等の硬化性樹脂組成物からなる)を介して封止基板を貼り合わせることにより、封止剤中に有機電界発光素子を封止した完全固体封止構造が提案されている。このような構造では、有機電界発光素子が狭持された基板間に水分などの侵入の原因となる隙間が残らないため、上述した素子の劣化を防止する効果が高い。   Therefore, for example, the organic EL element formed on the substrate is covered with a protective film, and further through a sealing agent (consisting of a curable resin composition such as a photocurable resin composition or a thermosetting resin composition). A completely solid sealing structure in which an organic electroluminescent element is sealed in a sealing agent by bonding a sealing substrate has been proposed. In such a structure, a gap that causes intrusion of moisture or the like does not remain between the substrates on which the organic electroluminescent elements are sandwiched, so that the effect of preventing the above-described deterioration of the elements is high.

しかし、上述の保護膜は、基板上の異物や基板と保護膜の熱膨張係数の違いなどが原因となって、保護膜に局所的に薄い箇所ができたり、ピンホールやクラックなどの欠陥を生じたりすることがある。結果、それらを介して水分などが有機EL素子内部へと進入して有機EL素子を劣化させるという問題がある。   However, the above-mentioned protective film is caused by a foreign matter on the substrate or a difference in thermal expansion coefficient between the substrate and the protective film. May occur. As a result, there is a problem that moisture or the like enters the organic EL element through them to deteriorate the organic EL element.

また、保護膜は透明性の高い材質(酸化珪素、窒化珪素などの金属酸化物、ポリマーなどの有機材料、または、これらの混合体および積層体)が用いられている。特に、その防湿性の高さから、窒化珪素、または、窒化珪素を含む混合体および積層体が一般に用いられるが、窒化珪素は完全に透明ではなく、保護膜の透過率を十分なものとするには保護膜を薄くする必要がある。しかし、保護膜を薄くすると水分などの進入を防止する能力が低下し、結果、水分などが有機EL素子内部へと進入して有機EL素子を劣化させるという問題がある。   The protective film is made of a highly transparent material (metal oxide such as silicon oxide or silicon nitride, organic material such as polymer, or a mixture or laminate thereof). In particular, silicon nitride or a mixture and laminate containing silicon nitride are generally used because of its high moisture resistance, but silicon nitride is not completely transparent, and the transmittance of the protective film is sufficient. It is necessary to make the protective film thin. However, when the protective film is thinned, the ability to prevent the entry of moisture and the like is lowered, and as a result, there is a problem that moisture and the like enter the organic EL element to deteriorate the organic EL element.

以上に述べたように、封止剤や保護膜が水分などの進入を防ぐ効果は十分とは言えず、封止剤が水分などの進入を防ぐ効果をより一層高めることが望まれている。   As described above, it cannot be said that the sealant and the protective film are sufficiently effective in preventing the entry of moisture and the like, and it is desired that the sealant further enhance the effect of preventing the entry of moisture and the like.

封止剤が水分の進入を防ぐ効果を高める手段の一つとして、封止剤に固体の乾燥剤を分散させることや、吸水性の高いポリマーを混ぜることが検討されている。   As one of means for enhancing the effect of the sealing agent to prevent moisture from entering, it has been studied to disperse a solid desiccant in the sealing agent and to mix a polymer having high water absorption.

しかし、吸水性の高いポリマーを混ぜる方法は十分な防湿性を達成することが困難であり、固体の乾燥剤粒子を分散させた場合、固体の乾燥剤粒子が光を吸収あるいは散乱し、封止剤の透明性が損なわれるため、トップエミッション方式の完全固体封止では光取り出し効率を損なうという問題がある。   However, it is difficult to achieve sufficient moisture resistance by mixing a polymer with high water absorption. When solid desiccant particles are dispersed, the solid desiccant particles absorb or scatter light and seal. Since the transparency of the agent is impaired, there is a problem that the light extraction efficiency is impaired in the complete solid sealing of the top emission method.

特開平9−148066号公報Japanese Patent Laid-Open No. 9-148066 特開2001−375973号公報JP 2001-375773 A

本発明の目的は、電子デバイスの発光および受光を妨げない透明性と、電子デバイスの長寿命化を達成するために必要な防湿性とを合わせ持つ封止剤を提供することである。さらには、その封止剤の硬化物、および、その封止剤で封止された長寿命の電子デバイス、特に、発光および受光に優れた長寿命の電子デバイスを提供することである。   An object of the present invention is to provide a sealant that has both transparency that does not hinder light emission and light reception of an electronic device and moisture resistance necessary to achieve a long life of the electronic device. Furthermore, it is providing the hardened | cured material of the sealing agent, and the long-life electronic device sealed with the sealing agent, especially the long-life electronic device excellent in light emission and light reception.

本発明者らは、前記諸問題を解決するために、鋭意研究を重ねた結果、本発明に至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have arrived at the present invention.

すなわち本発明は、固体の乾燥剤粒子と硬化性樹脂とを含む封止剤であり、前記固体の乾燥剤粒子の平均粒径が100nm以下であることを特徴とする封止剤に関する。   That is, the present invention relates to a sealant containing solid desiccant particles and a curable resin, wherein the solid desiccant particles have an average particle size of 100 nm or less.

また、本発明は、固体の乾燥剤粒子が粒径100nmより大きい粒子を含有しないことを特徴とする上記の封止剤に関する。   The present invention also relates to the above-mentioned sealant, wherein the solid desiccant particles do not contain particles larger than 100 nm.

また、本発明は、固体の乾燥剤粒子が、酸化バリウム、酸化ストロンチウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、硫酸カルシウム、塩化カルシウム、塩化リチウム、臭化カルシウム、炭酸カリウム、硫酸銅、硫酸ナトリウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、塩化コバルト、五酸化二リン、シリカゲル、酸化アルミニウム、および、ゼオライトのうち少なくとも1つを含むことを特徴とする、上記の封止剤に関する。   In the present invention, the solid desiccant particles are barium oxide, strontium oxide, calcium oxide, magnesium oxide, calcium sulfate, calcium chloride, lithium chloride, calcium bromide, potassium carbonate, copper sulfate, sodium sulfate, zinc chloride, The present invention relates to the above-mentioned sealant characterized by containing at least one of zinc bromide, cobalt chloride, diphosphorus pentoxide, silica gel, aluminum oxide, and zeolite.

また、本発明は、硬化性樹脂が光カチオン重合開始剤とカチオン重合性化合物とを含む硬化性樹脂であることを特徴とする上記の封止剤に関する。   The present invention also relates to the above-mentioned sealing agent, wherein the curable resin is a curable resin containing a photocationic polymerization initiator and a cationically polymerizable compound.

また、本発明は、光カチオン重合開始剤がボレートアニオンを含んでなる上記の封止剤に関する。   Moreover, this invention relates to said sealing agent in which a photocationic polymerization initiator contains a borate anion.

また、本発明は、ボレートアニオンが下記一般式(1)であらわされる上記の封止剤に関する。   The present invention also relates to the above-described sealant in which the borate anion is represented by the following general formula (1).

一般式(1)

Figure 2009259656
General formula (1)
Figure 2009259656

(ただし、Yはフッ素または塩素原子、Zは、フッ素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基の中から選ばれる基で2つ以上置換されたフェニル基、mは0から3の整数、nは1から4の整数を表し、m+n=4である。) Wherein Y is a fluorine or chlorine atom, Z is a phenyl group substituted with two or more groups selected from fluorine atom, cyano group, nitro group and trifluoromethyl group, m is an integer of 0 to 3, n represents an integer of 1 to 4, and m + n = 4.)

また、本発明は、光カチオン重合開始剤がスルホニウムカチオンを含んでなる請上記の封止剤に関する。   The present invention also relates to the above-described sealing agent, wherein the cationic photopolymerization initiator comprises a sulfonium cation.

また、本発明は、スルホニウムカチオンが下記一般式(2)で表される上記の封止剤に関する。   Moreover, this invention relates to said sealing agent with a sulfonium cation represented by following General formula (2).

一般式(2)

Figure 2009259656
General formula (2)
Figure 2009259656

(ただし、R1は、置換されたベンジル基、置換されたフェナシル基、置換されたアリル基、置換されたアルコキシル基、置換されたアリールオキシ基より選ばれる基を、R2およびR3はそれぞれ独立に、置換基を有してもよいベンジル基、置換基を有してもよいフェナシル基、置換基を有してもよいアリル基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、または、置換基を有してもよいアルケニル基より選ばれる基を、R4は酸素原子もしくは孤立電子対を示す。また、R1、R2およびR3はその2個以上の基が結合して環状構造となってもよい。) (Wherein R 1 is a group selected from a substituted benzyl group, a substituted phenacyl group, a substituted allyl group, a substituted alkoxyl group, and a substituted aryloxy group; R 2 and R 3 are each Independently, a benzyl group which may have a substituent, a phenacyl group which may have a substituent, an allyl group which may have a substituent, an alkoxyl group which may have a substituent, a substituent A group selected from an aryloxy group that may have, an alkyl group that may have a substituent, an aryl group that may have a substituent, or an alkenyl group that may have a substituent; 4 represents an oxygen atom or a lone pair, and R 1 , R 2, and R 3 may be combined with two or more groups to form a cyclic structure.

また、本発明は、上記の封止剤に活性エネルギー線の照射をすること、または、加熱すること、あるいはその両方を行うことによって得られる封止剤硬化物の製造方法に関する。   Moreover, this invention relates to the manufacturing method of the sealing agent hardened | cured material obtained by irradiating active energy ray to said sealing agent, heating, or performing both.

また、本発明は、活性エネルギー線が紫外光または可視光あるいはその両方を含む光であることを特徴とする上記の封止剤硬化物の製造方法に関する。   The present invention also relates to a method for producing the cured encapsulant described above, wherein the active energy ray is light including ultraviolet light, visible light, or both.

また、本発明は、上記の製造方法で得られる封止剤硬化物に関する。   Moreover, this invention relates to the sealing agent hardened | cured material obtained by said manufacturing method.

また、本発明は、上記の封止剤を用いて電子デバイスを封止することを特徴とする封止された電子デバイスの製造方法に関する。   Moreover, this invention relates to the manufacturing method of the sealed electronic device characterized by sealing an electronic device using said sealing agent.

また、本発明は、上記の製造方法で製造された、封止された電子デバイスに関する。   The present invention also relates to a sealed electronic device manufactured by the above manufacturing method.

本発明の有効な点は、平均粒径が100nm以下の乾燥剤粒子を硬化性樹脂中に分散させることにより、透明性を維持したまま封止剤に水分吸着性を持たせている点、また、その水分吸着性が、乾燥剤粒子の表面積が広いことにより特に優れている点である。   The effective point of the present invention is that the desiccant particles having an average particle diameter of 100 nm or less are dispersed in the curable resin, thereby allowing the sealant to have moisture adsorbability while maintaining transparency. The water adsorbability is particularly excellent due to the large surface area of the desiccant particles.

これによって、電子デバイスを外部の水分から効果的に防止することができ、封止された電子デバイスの品質を長期にわたって維持できる。さらに、トップエミッション方式の有機EL素子や発光ダイオード素子の光取り出し効率を損なうことなく、素子への水分の進入を効果的に防止することができ、高効率かつ長寿命の素子を得ることができる。   Thereby, the electronic device can be effectively prevented from external moisture, and the quality of the sealed electronic device can be maintained over a long period of time. Furthermore, it is possible to effectively prevent moisture from entering the element without impairing the light extraction efficiency of the top emission type organic EL element or light emitting diode element, and to obtain a highly efficient and long-lasting element. .

以下、詳細にわたって本発明を説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明で用いる固体の乾燥剤粒子とは、球状、針状、その他定まった形の無い不定形などあらゆる形状を含む。   The solid desiccant particles used in the present invention include all shapes such as a spherical shape, a needle shape, and other irregular shapes having no fixed shape.

本発明で用いる固体の乾燥剤粒子の平均粒径について説明する。透過型電子顕微鏡(TEM)を用い、少なくとも3つ以上の異なる観察点を観察することで合計50個以上の1次粒子を観察し、観察した1次粒子から無作為に20個選び、それぞれの1次粒子の外形の最も離れた2点間の距離を観察画像上のミクロンマーカーの長さをもとに測定し、平均した値である。   The average particle diameter of the solid desiccant particles used in the present invention will be described. Using a transmission electron microscope (TEM), a total of 50 or more primary particles were observed by observing at least 3 or more different observation points, and 20 randomly selected from the observed primary particles. The distance between the two most distant points of the outer shape of the primary particle is measured based on the length of the micron marker on the observation image, and is an average value.

本発明で好適に用いる固体の乾燥剤粒子としては、酸化バリウム、酸化ストロンチウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、硫酸カルシウム、塩化カルシウム、塩化リチウム、臭化カルシウム、炭酸カリウム、硫酸銅、硫酸ナトリウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、塩化コバルト、五酸化二リン、シリカゲル、酸化アルミニウム、および、ゼオライトが挙げられ、さらに、これらの混合物からなる粒子、これらの混合によって形成される固溶体からなる粒子が挙げられるが、これらに限定されるもではない。また、これらの粒子は単体で用いても良いし、2種類以上を併用してもよい。また、硬化性樹脂への分散性向上する目的で、固体の乾燥剤粒子の粒子表面を化学的あるいは物理的に修飾しても良い。   Solid desiccant particles preferably used in the present invention include barium oxide, strontium oxide, calcium oxide, magnesium oxide, calcium sulfate, calcium chloride, lithium chloride, calcium bromide, potassium carbonate, copper sulfate, sodium sulfate, and zinc chloride. , Zinc bromide, cobalt chloride, diphosphorus pentoxide, silica gel, aluminum oxide, and zeolite, and further, particles made of a mixture thereof, particles made of a solid solution formed by mixing these, It is not limited to these. These particles may be used alone or in combination of two or more. Further, for the purpose of improving the dispersibility in the curable resin, the particle surface of the solid desiccant particles may be chemically or physically modified.

なお、ゼオライトとは、アルミノシリケートの含水金属塩の総称であり、天然の鉱物として産出するものや人工的に合成されるものがある。具体的には、珪素(Si)とアルミニウム(Al)が酸素(O)を介して結合した構造をしており、骨格構造中のアルミニウム(+3価)と珪素(+4価)が酸素(−2価)を互いに共有している。したがって、珪素の周りは電気的に中性となり、アルミニウムの周りは−1価となり、この負電荷を補償するために、骨格中に陽イオン(例えばLi+、Na+、K+、Na+、Ca2+、など)が組み込まれている。このゼオライトの結晶がもつ結晶水を加熱脱離除去すると、結晶水の取り除かれた跡に微細孔が残り、微細孔内に水分子を吸着するようになる。 Zeolite is a general term for the hydrous metal salts of aluminosilicates, and some are produced as natural minerals and others are artificially synthesized. Specifically, silicon (Si) and aluminum (Al) are bonded via oxygen (O), and aluminum (+ trivalent) and silicon (+ tetravalent) in the skeleton structure are oxygen (−2). Value). Therefore, silicon is electrically neutral and aluminum is −1, and in order to compensate for this negative charge, cations (for example, Li + , Na + , K + , Na + , Ca 2+ , etc.) are incorporated. When the water of crystallization of the zeolite crystals is removed by heating, micropores remain in the traces of the water of crystallization, and water molecules are adsorbed in the micropores.

本発明で用いる固体の乾燥剤粒子は、化学物質の固有の性質(化学反応や潮解)を利用する化学的乾燥剤、多孔質表面に水分子が吸着しやすい性質を利用する物理的乾燥剤があり、全ての乾燥剤が同一のメカニズムで機能するわけではない。また、同一質量での水分吸収量には材質によりそれぞれ差異が有る。しかし、いずれの固体の乾燥剤粒子も、硬化した封止剤中を進入する水分を補足することができる。   The solid desiccant particles used in the present invention are a chemical desiccant that utilizes the intrinsic properties of chemical substances (chemical reaction and deliquescence), and a physical desiccant that utilizes the property that water molecules are easily adsorbed on the porous surface. Yes, not all desiccants work with the same mechanism. In addition, the amount of moisture absorbed at the same mass varies depending on the material. However, any solid desiccant particles can supplement the moisture that enters the cured sealant.

本発明で用いる平均粒径100nm以下の固体の乾燥剤粒子を製造する方法としては、以下のようなものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
気相法:ガス化等により気相状態とした原料を反応、凝集、結晶化により粒子化する方法。例えば、CVD法などがある。
液相法:溶解等により液相状態とした原料を反応、分散、固化により粒子化する方法。例えば、噴霧法、アルコキシド法、ミセル法などがある。
固相法:固体状態の原料から反応による核生成、または粉砕などにより粒子化する方法。例えば、ジェットミル湿式粉砕、ビーズミルによる粉砕などの方法がある。
(平成17年度特許流通支援チャート一般18ナノ粒子製造技術)
有機高分子などのマトリックス中に1nmから100nm程度の大きさの粒子が分散している系はナノコンポジットと呼ばれ、μm程度の大きさの粒子が分散した系では見られない様々な機能が発現することから注目されている。
Examples of the method for producing solid desiccant particles having an average particle size of 100 nm or less used in the present invention include the following, but are not limited thereto.
Vapor phase method: A method in which a raw material in a gas phase state by gasification or the like is converted into particles by reaction, aggregation, and crystallization. For example, there is a CVD method.
Liquid phase method: A method in which a raw material in a liquid phase state by dissolution or the like is converted into particles by reaction, dispersion, and solidification. For example, there are a spray method, an alkoxide method, a micelle method and the like.
Solid phase method: A method of forming particles from raw materials in a solid state by nucleation by reaction or pulverization. For example, there are methods such as jet mill wet grinding and bead mill grinding.
(2005 Patent Distribution Support Chart General 18 Nanoparticle Manufacturing Technology)
A system in which particles with a size of about 1 nm to 100 nm are dispersed in a matrix such as an organic polymer is called a nanocomposite, and various functions that cannot be seen in a system in which particles with a size of about μm are dispersed are expressed. It has been attracting attention.

具体的には以下のようなものが機能の発現としてあげられる。
1.引張強さの向上や、曲げ強さの向上、衝撃強さの向上、といった機械的性質の向上。
2.マトリックス中に固形分が分散した系であるにもかかわらず、可視光の透過性がほぼ不変である。
3.微細な粒子がマトリックス中に分散することによる、水蒸気、酸素などに対するバリア性の向上。
4.マトリックス中に分散した粒子が微細であることにより、粒子の表面積が拡大することによる、粒子の持つ機能の向上。
Specifically, the following can be cited as expression of the function.
1. Improvement of mechanical properties such as improvement of tensile strength, improvement of bending strength, and improvement of impact strength.
2. Despite the system in which the solid content is dispersed in the matrix, the transmittance of visible light is almost unchanged.
3. Improves barrier properties against water vapor, oxygen, etc. by dispersing fine particles in the matrix.
4). Improvement of the function of the particles by increasing the surface area of the particles because the particles dispersed in the matrix are fine.

上述のもの以外にも様々な機能の発現が知られている。   Various functions other than those described above are known.

本発明で用いる固体の乾燥剤粒子の平均粒径は、封止剤の硬化物の透明性や吸湿性の点で、100nm以下が好ましく、50nm以下がさらに好ましい。   The average particle size of the solid desiccant particles used in the present invention is preferably 100 nm or less, and more preferably 50 nm or less, from the viewpoint of transparency and hygroscopicity of the cured product of the sealant.

本発明で用いることができる硬化性樹脂としては、光硬化樹脂や電子線硬化樹脂や熱硬化樹脂、あるいは、これらの混合物を用いることができるが、これらに限定されるものではない。封止対象物に熱によるダメージを与えにくいことから、光硬化樹脂は好適に用いることができる。   As the curable resin that can be used in the present invention, a photocurable resin, an electron beam curable resin, a thermosetting resin, or a mixture thereof can be used, but is not limited thereto. Since it is difficult to damage the sealing object due to heat, a photo-curing resin can be preferably used.

熱硬化樹脂としては、封止対象物に熱によるダメージを与えにくいことから、100℃以下で硬化するものが好ましく、例えば、エポキシ樹脂を主体とする接着剤樹脂、ウレタン樹脂を主体とする硬化性樹脂、アクリル樹脂を主体とした硬化性樹脂、オキセタン化合物を主体とした硬化性樹脂等が挙げられる。   As the thermosetting resin, those which are hard to be damaged by heat to the object to be sealed are preferable, and those cured at 100 ° C. or less are preferable, for example, an adhesive resin mainly composed of an epoxy resin, and a curability mainly composed of a urethane resin. Examples thereof include a resin, a curable resin mainly composed of an acrylic resin, and a curable resin mainly composed of an oxetane compound.

熱硬化樹脂には、硬化剤、及び、硬化促進剤又は硬化触媒が含有されていてよい。例えば、エポキシ樹脂を主体とする室温硬化樹脂にあっては、アミン系硬化剤や、イミダゾール系硬化促進剤、アミンアダクト型硬化促進剤、リン系硬化促進剤、有機金属錯体、ポリアミンの尿素化物(ウレア変性ポリアミン)等の硬化促進剤等が使用可能である。   The thermosetting resin may contain a curing agent and a curing accelerator or a curing catalyst. For example, in room temperature curing resins mainly composed of epoxy resins, amine curing agents, imidazole curing accelerators, amine adduct type curing accelerators, phosphorus curing accelerators, organometallic complexes, polyamine ureates ( Curing accelerators such as urea-modified polyamines) can be used.

光硬化樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂を主体とする硬化性樹脂、アクリル樹脂を主体とする硬化性樹脂、エポキシ樹脂とアクリル樹脂の混合物を主体とする硬化性樹脂、オキセタン化合物を主体とした硬化性樹脂、エポキシ樹脂とオキセタン化合物の混合物を主体とする硬化性樹脂、アクリル樹脂とオキセタン化合物の混合物を主体とする硬化性樹脂等が挙げられる。   Examples of the photocurable resin include a curable resin mainly composed of an epoxy resin, a curable resin mainly composed of an acrylic resin, a curable resin mainly composed of a mixture of an epoxy resin and an acrylic resin, and a curing mainly composed of an oxetane compound. Curable resins mainly composed of a mixture of an epoxy resin and an oxetane compound, and curable resins mainly composed of a mixture of an acrylic resin and an oxetane compound.

光硬化樹脂としては、硬化収縮が小さいことから光カチオン重合開始剤とカチオン重合性化合物とを含む光硬化樹脂が特に好ましい。   As the photo-curing resin, a photo-curing resin containing a photo-cationic polymerization initiator and a cationically polymerizable compound is particularly preferable since the curing shrinkage is small.

カチオン重合性化合物は、単独で用いられてもよく、2種以上併用されてもよい。上記カチオン重合性化合物としては、好ましくは、エポキシ基、オキセタン基、ビニルエーテル基を有する化合物が用いられる。特に好ましくは、エポキシ基、オキセタニル基を有する化合物が用いられる。これらの官能基の重合は比較的反応性が高く、かつ硬化時間が短いため、封止工程の短縮を図ることができる。   A cationically polymerizable compound may be used independently and may be used together 2 or more types. As the cationic polymerizable compound, a compound having an epoxy group, an oxetane group, or a vinyl ether group is preferably used. Particularly preferably, a compound having an epoxy group or an oxetanyl group is used. Since the polymerization of these functional groups is relatively highly reactive and the curing time is short, the sealing process can be shortened.

エポキシ基を有する化合物としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、異節環状型エポキシ樹脂、多官能性エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂などのアルコール型エポキシ樹脂、臭素化エポキシ樹脂などのハロゲン化エポキシ樹脂、ゴム変成エポキシ樹脂、ウレタン変成エポキシ樹脂、エポキシ化ポリブタジエン、エポキシ化スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、エポキシ基含有ポリエステル樹脂、エポキシ基含有ポリウレタン樹脂、エポキシ基含有アクリル樹脂等を挙げることができる。これらのエポキシ樹脂は常温で液体であっても良いし、固体であっても良い。また、エポキシ基含有オリゴマーも好適に用いることができ、例えば、ビスフェノールA型エポキシオリゴマー(例えば、油化シェルエポキシ社製、エピコート1001、1002等)を挙げることができる。さらに、上記エポキシ基含有モノマーやオリゴマーの付加重合体を用いてもよく、例えば、グリシジル化ポリエステル、グリシジル化ポリウレタン、グリシジル化アクリルなどを挙げることができる。   Examples of the compound having an epoxy group include bisphenol A type epoxy resin, glycidyl ether type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, glycidyl amine type epoxy resin, Alcohols such as naphthalene type epoxy resin, aliphatic epoxy resin, alicyclic epoxy resin, heterocyclic epoxy resin, polyfunctional epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, hydrogenated bisphenol A type epoxy resin Epoxy resin, halogenated epoxy resin such as brominated epoxy resin, rubber modified epoxy resin, urethane modified epoxy resin, epoxidized polybutadiene, epoxidized styrene-butadiene-styrene Block copolymer, epoxy group-containing polyester resin, epoxy group-containing polyurethane resins, and epoxy group-containing acrylic resin. These epoxy resins may be liquid at room temperature or solid. Epoxy group-containing oligomers can also be preferably used, and examples thereof include bisphenol A type epoxy oligomers (for example, Epicoat 1001, 1002 manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.). Furthermore, addition polymers of the above epoxy group-containing monomers and oligomers may be used, and examples thereof include glycidylated polyester, glycidylated polyurethane, and glycidylated acrylic.

なかでも、光カチオン重合性がより高く、少ない光量でもより効率的に光硬化が進行す
ることから、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等が好適に用いられる。これらのエポキシ基を有する化合物は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。
Among them, photocationic polymerization is higher, and photocuring proceeds more efficiently even with a small amount of light. Therefore, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, fat A group epoxy resin or the like is preferably used. These compounds having an epoxy group may be used alone or in combination of two or more.

上記脂環式エポキシ樹脂の具体例としては、例えば、1,2:8,9−ジエポキシリモネン、4−ビニルシクロヘキセンモノエポキサイド、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、メチル化ビニルシクロヘキセンジオキサイド、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル−3,4−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、ビス−(3,4−エポキシシクロヘキシル)アジペート、ノルボルネンモノエポキサイド、リモネンモノエポキサイド、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサノン−メタ−ジオキサン、ビス−(3,4−エポキシシクロヘキシルメチレン)アジペート、ビス−(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテル、(2,3−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、ジシクロペンタジエンジオキサイド、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、2,2−ビス[4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロヘキシル]ヘキサフルオロプロパン、BHPE−3150(ダイセル化学工業(株)製、脂環式エポキシ樹脂(軟化点71℃)等があげられるが、これらに限定されるものではない。   Specific examples of the alicyclic epoxy resin include, for example, 1,2: 8,9-diepoxy limonene, 4-vinylcyclohexene monoepoxide, vinylcyclohexene dioxide, methylated vinylcyclohexene dioxide, (3,4- Epoxycyclohexyl) methyl-3,4-epoxycyclohexylcarboxylate, bis- (3,4-epoxycyclohexyl) adipate, norbornene monoepoxide, limonene monoepoxide, 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro- 3,4-epoxy) cyclohexanone-meta-dioxane, bis- (3,4-epoxycyclohexylmethylene) adipate, bis- (2,3-epoxycyclopentyl) ether, (2,3-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) ) Adipate, dicyclopentadiene dioxide, 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexane-meta-dioxane, 2,2-bis [4- (2,3- Epoxypropoxy) cyclohexyl] hexafluoropropane, BHPE-3150 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., alicyclic epoxy resin (softening point 71 ° C.), and the like, but are not limited thereto.

脂肪族エポキシ樹脂の具体例としては、例えば1,4−ブタンジオールジクリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、エチレングリコールモノグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールモノグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグルコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグルコールモノグリシジルエーテル、グリセロールジグリシジルエーテル、グルセロールトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンモノグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ジグリセロールトリグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテル等があげられるが、これらに限定されるものではない。   Specific examples of the aliphatic epoxy resin include 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, ethylene glycol monoglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, and propylene. Glycol monoglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol monoglycidyl ether, glycerol diglycidyl ether, glycerol triglycidyl ether, trimethylolpropane diglycidyl Ether, trimethylolpropane monoglycidyl ether, trimethylolpropane triglyceride Jill ether, diglycerol triglycidyl ether, sorbitol tetraglycidyl ether, allyl glycidyl ether, 2-but-ethylhexyl glycidyl ether and the like, but is not limited thereto.

オキセタニル基を有する化合物としては、例えば、フェノキシメチルオキセタン、3,3−ビス(メトキシメチル)オキセタン、3,3−ビス(フェノキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(フェノキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(2−エチルヘキシロキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−{[3−(トリエトキシシリル)プロポキシ]メチル}オキセタン、ジ[1−エチル(3−オキセタニル)]メチルエーテル、オキセタニルシルセスキオキサン、フェノールノボラックオキセタン、1,4−ビス{[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ]メチル}ベンゼン等があげられるが、これらに限定されるものではない。   Examples of the compound having an oxetanyl group include phenoxymethyl oxetane, 3,3-bis (methoxymethyl) oxetane, 3,3-bis (phenoxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3- (phenoxymethyl) oxetane, 3- Ethyl-3- (2-ethylhexyloxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3-{[3- (triethoxysilyl) propoxy] methyl} oxetane, di [1-ethyl (3-oxetanyl)] methyl ether, oxetanyl Silsesquioxane, phenol novolac oxetane, 1,4-bis {[(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxy] methyl} benzene and the like can be mentioned, but are not limited thereto.

光カチオン重合開始剤としては、例えば、オニウム塩、メタロセン化合物、ケイ素化合物/アルミニウム錯体、等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Examples of the cationic photopolymerization initiator include, but are not limited to, onium salts, metallocene compounds, silicon compounds / aluminum complexes, and the like.

光カチオン重合開始剤としては、その優れた硬化性からオニウム塩を好適に用いることができる。例えば、スルホニウム塩系、ヨードニウム塩系、ホスホニウム塩系、ジアゾニウム塩系、ピリジニウム塩系、ベンゾチアゾリウム塩系、スルホキソニウム塩系、フェロセン系の化合物が挙げられる。これらの構造は特に限定されず、ジカチオンなどの多価カチオン構造を有していてもよく、カウンターアニオンも公知のものを適宜、選択して使用することができる。また、オニウム塩以外の光カチオン重合開始剤としては、ニトロベンジルスルホナート類、アルキルまたはアリール−N−スルホニルオキシイミド類、ハロゲン化されていてもよいアルキルスルホン酸エステル類、1,2−ジスルホン類、オキシムスルホナート類、ベンゾイントシラート類、β−ケトスルホン類、β−スルホニルスルホン類、ビス(アルキルスルホニル)ジアゾメタン類、イミノスルホナート類、イミドスルホナート類、トリハロメチルトリアジン類などのトリハロアルキル基を有する化合物等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。これらの光カチオン重合開始剤は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。   As the cationic photopolymerization initiator, an onium salt can be suitably used because of its excellent curability. Examples thereof include sulfonium salt-based, iodonium salt-based, phosphonium salt-based, diazonium salt-based, pyridinium salt-based, benzothiazolium salt-based, sulfoxonium salt-based compounds, and ferrocene-based compounds. These structures are not particularly limited, and may have a polyvalent cation structure such as a dication, and known counter anions can be appropriately selected and used. In addition, photocationic polymerization initiators other than onium salts include nitrobenzyl sulfonates, alkyl or aryl-N-sulfonyloxyimides, optionally halogenated alkyl sulfonate esters, and 1,2-disulfones. , Oxime sulfonates, benzoin tosylates, β-ketosulfones, β-sulfonylsulfones, bis (alkylsulfonyl) diazomethanes, iminosulfonates, imidosulfonates, trihalomethyltriazines, etc. However, it is not limited to these. These cationic photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

また、特に硬化性に優れることから、オニウム塩としてはスルホニウムカチオンとカウンターアニオンとからなるオニウム塩、または、ボレートアニオンとカウンターカチオンとからなるオニウム塩が好ましく、硬化性と硬化物の透明性の両方に優れることから、スルホニウムカチオンとボレートアニオンとからなるオニウム塩が特に好ましい。   In addition, since it is particularly excellent in curability, the onium salt is preferably an onium salt composed of a sulfonium cation and a counter anion, or an onium salt composed of a borate anion and a counter cation. Both the curability and the transparency of the cured product are preferable. In particular, an onium salt composed of a sulfonium cation and a borate anion is particularly preferable.

本発明で用る光カチオン重合開始剤の使用量は、100重量部のカチオン重合性化合物に対して、0.01重量部〜20重量部の範囲内が好ましく、特に好ましくは、0.5重量部〜10重量部である。光カチオン重合開始剤の添加量が0.01重量部未満の場合、カチオン重合による重合または架橋が十分に進行しない場合がある。また、光カチオン重合開始剤の添加量が20重量部より多い場合、封止用組成物中の低分子成分が多すぎるため、十分な接着性が得られない場合があり、且つ、光カチオン重合開始剤由来の着色が原因となり硬化後の高透明性が得られない場合がある。   The amount of the photocationic polymerization initiator used in the present invention is preferably in the range of 0.01 to 20 parts by weight, particularly preferably 0.5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the cationically polymerizable compound. Parts to 10 parts by weight. When the addition amount of the photocationic polymerization initiator is less than 0.01 parts by weight, polymerization or crosslinking by cationic polymerization may not proceed sufficiently. Further, when the amount of the cationic photopolymerization initiator added is more than 20 parts by weight, there are too many low molecular components in the sealing composition, and sufficient adhesiveness may not be obtained. High transparency after curing may not be obtained due to coloring derived from the initiator.

硬化性および硬化物の透明性の点からボレートアニオンとしては、以下の一般式(1)で示されるものが好ましい。   In view of curability and transparency of the cured product, the borate anion is preferably one represented by the following general formula (1).

一般式(1)

Figure 2009259656
General formula (1)
Figure 2009259656

(ただし、Yはフッ素または塩素原子、Zは、フッ素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基の中から選ばれる基で2つ以上置換されたフェニル基、mは0から3の整数、nは1から4の整数を表し、m+n=4である。)一般式(1)における置換基Zとしては、3,5−ジフルオロフェニル基、2,4,6−トリフルオロフェニル基、2,3,4,6−テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、2,4−ビス(トリフルオロメチル)フェニル基、3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル基、2,4,6−トリフルオロ−3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル基、3,5−ジニトロフェニル基、2,4,6−トリフルオロ−3,5−ジニトロフェニル基、2,4−ジシアノフェニル基、4−シアノ−3,5−ジニトロフェニル基、4−シアノ−2,6−ビス(トリフルオロメチル)フェニル基等があげられるが、これらに限定されるものではない。 Wherein Y is a fluorine or chlorine atom, Z is a phenyl group substituted with two or more groups selected from fluorine atom, cyano group, nitro group and trifluoromethyl group, m is an integer of 0 to 3, n represents an integer of 1 to 4, and m + n = 4.) As the substituent Z in the general formula (1), 3,5-difluorophenyl group, 2,4,6-trifluorophenyl group, 2, 3,4,6-tetrafluorophenyl group, pentafluorophenyl group, 2,4-bis (trifluoromethyl) phenyl group, 3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl group, 2,4,6-trifluoro −3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl group, 3,5-dinitrophenyl group, 2,4,6-trifluoro-3,5-dinitrophenyl group, 2,4-dicyanophenyl group, 4-cyano 3,5-dinitrophenyl group, 4-cyano-2,6-bis although (trifluoromethyl) phenyl group and the like, but is not limited thereto.

したがって、一般式(1)で表記されるのボレートアニオンの構造として、具体的には、ペンタフルオロフェニルトリフルオロボレート、3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルトリフルオロボレート、ビス(ペンタフルオロフェニル)ジフルオロボレート、ビス[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル]ジフルオロボレート、トリス(ペンタフルオロフェニル)フルオロボレート、トリス[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル]フルオロボレート、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、テトラキス[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル]ボレート等があげられる。   Therefore, as the structure of the borate anion represented by the general formula (1), specifically, pentafluorophenyl trifluoroborate, 3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl trifluoroborate, bis (pentafluorophenyl) ) Difluoroborate, bis [3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl] difluoroborate, tris (pentafluorophenyl) fluoroborate, tris [3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl] fluoroborate, tetrakis (penta Fluorophenyl) borate, tetrakis [3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl] borate and the like.

この内、一般式(1)で表記されるアニオンとして特に好ましいものは、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、テトラキス[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル]ボレートである。その理由として、比較的容易に合成でき、発生する酸が非常に強く、高い溶解度と高い安全衛生性を有することが挙げられる。   Among these, tetrakis (pentafluorophenyl) borate and tetrakis [3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl] borate are particularly preferable as the anion represented by the general formula (1). The reason is that it can be synthesized relatively easily, the acid generated is very strong, has high solubility and high safety and health.

硬化性および硬化物の透明性の点から、特に好ましいスルホニウムカチオンの構造としては、一般式(2)で表されるスルホニウムカチオンをあげることができる。   From the viewpoint of curability and transparency of the cured product, a particularly preferred sulfonium cation structure is a sulfonium cation represented by the general formula (2).

一般式(2)

Figure 2009259656
General formula (2)
Figure 2009259656

(ただし、R1は、置換されたベンジル基、置換されたフェナシル基、置換されたアリル基、置換されたアルコキシル基、置換されたアリールオキシ基より選ばれる基を、R2およびR3はそれぞれ独立に、置換基を有してもよいベンジル基、置換基を有してもよいフェナシル基、置換基を有してもよいアリル基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、または、置換基を有してもよいアルケニル基より選ばれる基を、R4は酸素原子もしくは孤立電子対を示す。また、R1、R2およびR3はその2個以上の基が結合して環状構造となってもよい。) (Wherein R 1 is a group selected from a substituted benzyl group, a substituted phenacyl group, a substituted allyl group, a substituted alkoxyl group, and a substituted aryloxy group; R 2 and R 3 are each Independently, a benzyl group which may have a substituent, a phenacyl group which may have a substituent, an allyl group which may have a substituent, an alkoxyl group which may have a substituent, a substituent A group selected from an aryloxy group that may have, an alkyl group that may have a substituent, an aryl group that may have a substituent, or an alkenyl group that may have a substituent; 4 represents an oxygen atom or a lone pair, and R 1 , R 2, and R 3 may be combined with two or more groups to form a cyclic structure.

一般式(2)における置換基R1は、置換されたベンジル基、置換されたフェナシル基、置換されたアリル基、置換されたアルコキシル基、置換されたアリールオキシ基であり、具体的には一般式(3)〜一般式(6)から選ばれる構造である。 The substituent R 1 in the general formula (2) is a substituted benzyl group, a substituted phenacyl group, a substituted allyl group, a substituted alkoxyl group, or a substituted aryloxy group. It is a structure selected from Formula (3) to General Formula (6).

Figure 2009259656
Figure 2009259656

(式中、R5は、一般式(3)〜一般式(6)に共通して、ヘテロ原子を含んでよい炭素数4から24の単環または縮合多環アリール基、置換されたヘテロ原子を含んでよい炭素数4から24の単環または縮合多環アリール基、アルキル基(一般式(6)の場合)、置換されたアルキル基(一般式(6)の場合)を表す。R6およびR7は一般式(3)〜一般式(5)に共通して、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、置換されたアルキル基、アリール基、置換されたアリール基、アルコキシル基、置換されたアルコキシル基、アリールオキシ基、置換されたアリールオキシ基、アルケニル基または置換されたアルケニル基を表す。
ただし、R5、R6およびR7は一体となって、環を形成してもよい。)
(In the formula, R 5 is a monocyclic or condensed polycyclic aryl group having 4 to 24 carbon atoms which may contain a hetero atom, and a substituted hetero atom, which is common to the general formulas (3) to (6). the which may include monocyclic or condensed polycyclic aryl group having a carbon number of 4 to 24, represents an alkyl group (for general formula (6)), (for the general formula (6)) an alkyl group substituted .R 6 And R 7 are common to the general formula (3) to the general formula (5), and each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, an alkoxyl group, a substituted group. Represents an alkoxyl group, an aryloxy group, a substituted aryloxy group, an alkenyl group or a substituted alkenyl group.
However, R 5 , R 6 and R 7 may be combined to form a ring. )

以下に一般式(2)で表されるスルホニウムカチオン中の置換基について説明する。まず、一般式(2)で表されるスルホニウムカチオンを構成する一般式(3)〜一般式(6)で表されるスルホニウムカチオンにおける置換基R5において、 The substituent in the sulfonium cation represented by the general formula (2) will be described below. First, in the substituent R 5 in the sulfonium cation represented by the general formula (3) to the general formula (6) constituting the sulfonium cation represented by the general formula (2),

ヘテロ原子を含んでよい炭素数4から24の単環または縮合多環アリール基としては、フェニル基、1ーナフチル基、2−ナフチル基、1−アンスリル基、9−アンスリル基、2−フェナントリル基、3−フェナントリル基、9−フェナントリル基、1−インデニル基、2−フルオレニル基、9−フルオレニル基、3−ペリレニル基、2−フリル基、2−チエニル基、2−インドリル基、3−インドリル基、2−ベンゾフリル基、2−ベンゾチエニル基、2−アクリジニル基、2−チアンスレニル基、2−カルバゾリル基、3−カルバゾリル基、4−キノリニル基、4−イソキノリル基、3−フェノチアジニル基、2−フェノキサチイニル基、3−フェニキサジニル基、3−チアントレニル基、3−クマリニル基等が挙げることができるが、これらに限定されるものではなく、また、これらのアリール基は上記以外の置換位置で炭素原子と結合していてもよく、それらも本発明のR5で表記される置換基の範疇に含まれる。 Examples of the monocyclic or condensed polycyclic aryl group having 4 to 24 carbon atoms that may contain a hetero atom include a phenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, a 1-anthryl group, a 9-anthryl group, a 2-phenanthryl group, 3-phenanthryl group, 9-phenanthryl group, 1-indenyl group, 2-fluorenyl group, 9-fluorenyl group, 3-perylenyl group, 2-furyl group, 2-thienyl group, 2-indolyl group, 3-indolyl group, 2-benzofuryl group, 2-benzothienyl group, 2-acridinyl group, 2-thianthrenyl group, 2-carbazolyl group, 3-carbazolyl group, 4-quinolinyl group, 4-isoquinolyl group, 3-phenothiazinyl group, 2-phenoxy group Satiynyl group, 3-phenixazinyl group, 3-thianthenyl group, 3-coumarinyl group and the like can be mentioned, Not limited to these, also, these aryl groups may be bonded to the carbon atom at the substitution position other than the above, they also included in the scope of the substituents denoted by R 5 of the present invention It is.

この内、一般式(2)で表されるスルホニウムカチオンを構成する一般式(3)〜一般式(6)で表されるスルホニウムカチオンにおける置換基R5において、より好ましいヘテロ原子を含んでよい炭素数4から24の単環または縮合多環アリール基としては、一般式(7)〜一般式(10)から選ばれる構造をあげることができる。 Among these, carbon which may contain a more preferred hetero atom in the substituent R 5 in the sulfonium cation represented by the general formula (3) to the general formula (6) constituting the sulfonium cation represented by the general formula (2) Examples of the monocyclic or condensed polycyclic aryl group of Formula 4 to 24 include structures selected from General Formula (7) to General Formula (10).

Figure 2009259656
Figure 2009259656

(式中、R8は、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、アルコキシル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子を表す。R9は、アルキル基、アリール基、アシル基またはアルケニル基を表す。R10は、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシル基、アリールオキシ基、ハロゲン原子を表す。R(Rj、Rk、Rl、Rp)は、一般式(8)〜一般式(10)に共通して、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アシル基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルオキシ基、ハロゲン原子を表す。j、k、l、pは置換基Rが置換されている個数を表し、jは1〜5の整数を表す。kは、一般式(8)〜一般式(10)に共通して、0〜4の整数を表す。lは0〜3の整数を表す。pは0〜3の整数を表す。ただし、k+lは必ず1以上である。さらに、隣接した、R同士、R8同士、もしくは、RとR9、RとR10は、互いに共有結合によって環構造を形成していてもよい。なお、一般式(8)〜一般式(10)において、上記以外の置換位置で一般式(3)〜一般式(5)の炭素原子または、一般式(6)の酸素原子と結合していても良い。) (In the formula, each R 8 independently represents an alkyl group, an aryl group, an alkylthio group, an arylthio group, an acyl group, an alkoxyl group, an aryloxy group, or a halogen atom. R 9 represents an alkyl group, an aryl group, or an acyl group. R 10 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxyl group, an aryloxy group, or a halogen atom, and R (R j , R k , R l , R p ) is represented by the general formula In common with (8) to general formula (10), each independently represents an alkyl group, aryl group, alkenyl group, acyl group, alkoxyl group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, acyloxy group, or halogen atom. J, k, l and p represent the number of substituents R substituted, and j represents an integer of 1 to 5. k is common to the general formulas (8) to (10). And represents an integer of 0 to 3. l represents an integer of 0 to 3. p represents an integer of 0 to 3. However, k + l is always 1 or more. 8 or R and R 9 , or R and R 10 may form a ring structure by a covalent bond to each other, and in the general formulas (8) to (10), substitution positions other than those described above. And may be bonded to a carbon atom of general formula (3) to general formula (5) or an oxygen atom of general formula (6).

また、一般式(2)で表されるスルホニウムカチオンの、硬化性を高めるため導入する置換基として、好ましいものとしては、アリール基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アシル基が挙げられる。   Moreover, as a substituent introduce | transduced in order to improve curability of the sulfonium cation represented by General formula (2), an aryl group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkoxyl group, an aryloxy group, and an acyl group are preferable. Can be mentioned.

一般式(2)で表されるスルホニウムカチオンにおける置換基R2とR3、一般式(3)〜一般式(5)における置換基R6とR7、一般式(7)における置換基R8、一般式(9)における置換基R9、一般式(10)における置換基R10、一般式(7)〜一般式(10)における置換基Rにおけるアルキル基としては、炭素数1から18の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルキル基が挙げられ、具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、sec−ペンチル基、t−ペンチル基、t−オクチル基、ネオペンチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、ボロニル基、4−デシルシクロヘキシル基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。 Substituents R 2 and R 3 in the sulfonium cation represented by formula (2), substituents R 6 and R 7 in formulas (3) to (5), substituent R 8 in formula (7) , the substituents R 9 in the general formula (9), the substituents R 10 in the general formula (10), the alkyl group in the substituents R in the general formula (7) to the general formula (10), 1 to 18 carbon atoms Examples include linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic alkyl groups. Specific examples include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, and nonyl. Group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, isopropyl group, isobutyl group, isopentyl group, sec-butyl group, t-butyl group, sec-pentyl group, t-pentyl group, t-octyl group, neopentyl group , Cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, adamantyl group, norbornyl group, bornyl group, 4-decyl cyclohexyl group and the like, but is not limited thereto.

一般式(2)で表されるスルホニウムカチオンにおける置換基R2とR3、一般式(2)で表されるスルホニウムカチオンを構成する一般式(3)〜一般式(5)における置換基R6とR7、一般式(7)における置換基R8、一般式(9)における置換基R9、一般式(10)における置換基R10、一般式(7)〜一般式(10)における置換基Rにおけるアリール基としては、置換基R5でアリール基として例示したものと同一の置換基を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。また、一般式(9)における置換基R9において、これらのアリール基は上記以外の置換位置で窒素原子と結合していてもよく、それらも本発明のR9で表記される置換基の範疇に含まれる。 Substituents R 2 and R 3 in the sulfonium cation represented by the general formula (2), the substituent R 6 in the general formula (3) to the general formula (5) constituting the sulfonium cation represented by the general formula (2) substituted in R 7, the substituents R 8 in the general formula (7), the substituent R 9 in the general formula (9), the substituents R 10 in the general formula (10), the general formula (7) to the general formula (10) and Examples of the aryl group in the group R include the same substituents as those exemplified as the aryl group in the substituent R 5 , but are not limited thereto. In the substituent R 9 in the general formula (9), these aryl groups may be bonded to a nitrogen atom at a substitution position other than those described above, and they are also included in the category of the substituent represented by R 9 in the present invention. include.

一般式(2)で表されるスルホニウムカチオンを構成する置換基R2とR3、一般式(3)〜一般式(5)における置換基R6とR7、一般式(7)〜一般式(10)における置換基Rにおけるアルケニル基としては、炭素数1から18の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルケニル基が挙げられ、それらは構造中に複数の炭素−炭素二重結合を有していてもよく、具体例としては、ビニル基、1−プロペニル基、アリル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、イソプロペニル基、イソブテニル基、1−ペンテニル基、2−ペンテニル基、3−ペンテニル基、4−ペンテニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、3−ヘキセニル基、4−ヘキセニル基、5−ヘキセニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、1,3−ブタジエニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロペンタジエニル基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。 Substituents R 2 and R 3 constituting the sulfonium cation represented by general formula (2), substituents R 6 and R 7 in general formula (3) to general formula (5), general formula (7) to general formula Examples of the alkenyl group in the substituent R in (10) include linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic alkenyl groups having 1 to 18 carbon atoms, and these include a plurality of carbon-carbon dicarbon groups in the structure. Specific examples include a vinyl group, 1-propenyl group, allyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, isopropenyl group, isobutenyl group, 1-pentenyl group, 2- Pentenyl group, 3-pentenyl group, 4-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 3-hexenyl group, 4-hexenyl group, 5-hexenyl group, cyclopentenyl group, cyclohexenyl group, 1,3- A butadienyl group, a cyclohexadienyl group, a cyclopentadienyl group, and the like can be given, but the invention is not limited thereto.

一般式(2)で表されるスルホニウムカチオンを構成する置換基R2とR3、一般式(3)〜一般式(5)における置換基R6とR7、一般式(7)における置換基R8、一般式(10)における置換基R10、一般式(7)〜一般式(10)における置換基Rにおけるアルコキシル基としては、炭素数1から18の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルコキシル基があげられ、具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、イソプロポキシ基、イソブトキシ基、イソペンチルオキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基、sec−ペンチルオキシ基、t−ペンチルオキシ基、t−オクチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、アダマンチルオキシ基、ノルボルニルオキシ基、ボロニルオキシ基、4−デシルシクロヘキシルオキシ基、2−テトラヒドロフラニルオキシ基、2−テトラヒドロピラニルオキシ基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。 Substituents R 2 and R 3 constituting the sulfonium cation represented by formula (2), substituents R 6 and R 7 in formulas (3) to (5), and substituents in formula (7) Examples of R 8 , substituent R 10 in general formula (10), and alkoxyl group in substituent R in general formula (7) to general formula (10) include straight chain, branched chain, Examples thereof include cyclic or condensed polycyclic alkoxyl groups, and specific examples include methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group, nonyloxy group, decyloxy group, Dodecyloxy group, octadecyloxy group, isopropoxy group, isobutoxy group, isopentyloxy group, sec-butoxy group, t-butoxy group, sec-pentyl Xyl group, t-pentyloxy group, t-octyloxy group, neopentyloxy group, cyclopropyloxy group, cyclobutyloxy group, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group, adamantyloxy group, norbornyloxy group, boronyloxy group , 4-decylcyclohexyloxy group, 2-tetrahydrofuranyloxy group, 2-tetrahydropyranyloxy group, and the like, but are not limited thereto.

一般式(2)で表されるスルホニウムカチオンを構成する置換基R2とR3、一般式(3)〜一般式(5)における置換基R6とR7、一般式(7)における置換基R8、一般式(10)における置換基R10、一般式(7)〜一般式(10)における置換基Rにおけるアリールオキシ基としては、ヘテロ原子を含んでよい炭素数4〜18の単環または縮合多環アリールオキシ基が挙げられ、具体例としては、フェノキシ基、1ーナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、9−アンスリルオキシ基、9−フェナントリルオキシ基、1−ピレニルオキシ基、5−ナフタセニルオキシ基、1−インデニルオキシ基、2−アズレニルオキシ基、1−アセナフチルオキシ基、9−フルオレニルオキシ基、2−フラニルオキシ基、2−チエニルオキシ基、2−インドリルオキシ基、3−インドリルオキシ基、2−ベンゾフリルオキシ基、2−ベンゾチエニルオキシ基、2−カルバゾリルオキシ基、3−カルバゾリルオキシ基、4−カルバゾリルオキシ基、9−アクリジニルオキシ基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 Substituents R 2 and R 3 constituting the sulfonium cation represented by formula (2), substituents R 6 and R 7 in formulas (3) to (5), and substituents in formula (7) R 8 , the substituent R 10 in the general formula (10), and the aryloxy group in the substituent R in the general formula (7) to the general formula (10) are monocyclic rings having 4 to 18 carbon atoms that may contain a hetero atom. Or a condensed polycyclic aryloxy group is mentioned, As a specific example, a phenoxy group, 1-naphthyloxy group, 2-naphthyloxy group, 9-anthryloxy group, 9-phenanthryloxy group, 1-pyrenyloxy group, 5 -Naphthenyloxy group, 1-indenyloxy group, 2-azurenyloxy group, 1-acenaphthyloxy group, 9-fluorenyloxy group, 2-furanyloxy group, 2-thienyloxy group 2-indolyloxy group, 3-indolyloxy group, 2-benzofuryloxy group, 2-benzothienyloxy group, 2-carbazolyloxy group, 3-carbazolyloxy group, 4-carbazolyloxy group Group, 9-acridinyloxy group and the like, but are not limited thereto.

一般式(2)で表されるスルホニウムカチオンを構成する一般式(7)における置換基R8、一般式(9)における置換基R9、一般式(7)〜一般式(10)における置換基Rにおけるアシル基としては、水素原子または炭素数1から18の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状の脂肪族基が結合したカルボニル基、あるいは、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数4から18の単環状あるいは縮合多環状芳香族が結合したカルボニル基が挙げられ、それらは構造中に不飽和結合を有していてもよく、具体例としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、ラウロイル基、ミリストイル基、パルミトイル基、ステアロイル基、シクロペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、クロトノイル基、イソクロトノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、1−ナフトイル基、2−ナフトイル基、シンナモイル基、3−フロイル基、2−テノイル基、ニコチノイル基、イソニコチノイル基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。 Substituent R 8 in general formula (7) constituting the sulfonium cation represented by general formula (2), substituent R 9 in general formula (9), substituents in general formula (7) to general formula (10) The acyl group in R may contain a hydrogen atom, a carbonyl group to which a linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms is bonded, or a hetero atom. Examples thereof include a carbonyl group to which a monocyclic or condensed polycyclic aromatic group having 4 to 18 carbon atoms is bonded, which may have an unsaturated bond in the structure. Specific examples thereof include a formyl group, an acetyl group, Propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, isovaleryl, pivaloyl, lauroyl, myristoyl, palmitoyl, stearoyl, cyclopentylcarbo Group, cyclohexylcarbonyl group, acryloyl group, methacryloyl group, crotonoyl group, isocrotonoyl group, oleoyl group, benzoyl group, 1-naphthoyl group, 2-naphthoyl group, cinnamoyl group, 3-furoyl group, 2-thenoyl group, nicotinoyl Group, isonicotinoyl group and the like, but are not limited thereto.

一般式(2)で表されるスルホニウムカチオンを構成する一般式(7)における置換基R8、一般式(7)〜一般式(10)における置換基Rにおけるアルキルチオ基としては、炭素数1から18の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルキルチオ基が挙げられ、具体例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、デシルチオ基、ドデシルチオ基、オクタデシルチオ基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。 The substituent R 8 in the general formula (7) constituting the sulfonium cation represented by the general formula (2) and the alkylthio group in the substituent R in the general formula (7) to the general formula (10) 18 linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic alkylthio groups, and specific examples include methylthio group, ethylthio group, propylthio group, butylthio group, pentylthio group, hexylthio group, octylthio group, decylthio group , Dodecylthio group, octadecylthio group and the like, but are not limited thereto.

一般式(2)で表されるスルホニウムカチオンを構成する一般式(7)における置換基R8、一般式(7)〜一般式(10)における置換基Rにおけるアリールチオ基としては、ヘテロ原子を含んでよい炭素数4〜18の単環または縮合多環アリールチオ基が挙げられ、具体例としては、フェニルチオ基、1−ナフチルチオ基、2−ナフチルチオ基、9−アンスリルチオ基、9−フェナントリルチオ基、2−フリルチオ基、2−チエニルチオ基、2−ピロリルチオ基、6−インドリルチオ基、2−ベンゾフリルチオ基、2−ベンゾチエニルチオ基、2−カルバゾリルチオ基、3−カルバゾリルチオ基、4−カルバゾリルチオ基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。 The substituent R 8 in the general formula (7) constituting the sulfonium cation represented by the general formula (2) and the arylthio group in the substituent R in the general formula (7) to the general formula (10) include a hetero atom. And a monocyclic or condensed polycyclic arylthio group having 4 to 18 carbon atoms, and specific examples include phenylthio group, 1-naphthylthio group, 2-naphthylthio group, 9-anthrylthio group, 9-phenanthrylthio group, 2-furylthio group, 2-thienylthio group, 2-pyrrolylthio group, 6-indolylthio group, 2-benzofurylthio group, 2-benzothienylthio group, 2-carbazolylthio group, 3-carbazolylthio group, 4-carbazolylthio group, etc. However, it is not limited to these.

一般式(2)で表されるスルホニウムカチオンを構成する一般式(7)〜一般式(10)における置換基Rにおけるアシルオキシ基としては、水素原子または炭素数1から18の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状の脂肪族基が結合したカルボニルオキシ基、あるいは、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数4から18の単環状あるいは縮合多環状芳香族が結合したカルボニルオキシ基が挙げられ、具体例としては、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、バレリルオキシ基、イソバレリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ラウロイルオキシ基、ミリストイルオキシ基、パルミトイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、シクロペンチルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、クロトノイルオキシ基、イソクロトノイルオキシ基、オレオイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、1−ナフトイルオキシ基、2−ナフトイルオキシ基、シンナモイルオキシ基、3−フロイルオキシ基、2−テノイルオキシ基、ニコチノイルオキシ基、イソニコチノイルオキシ基、9−アンスロイルオキシ基、5−ナフタセノイルオキシ基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。   The acyloxy group in the substituent R in the general formula (7) to the general formula (10) constituting the sulfonium cation represented by the general formula (2) is a hydrogen atom or a linear or branched chain having 1 to 18 carbon atoms. A carbonyloxy group to which a monocyclic or condensed polycyclic aliphatic group is bonded, or a carbonyloxy group to which a monocyclic or condensed polycyclic aromatic group having 4 to 18 carbon atoms which may contain a hetero atom is bonded. Specific examples include acetoxy group, propionyloxy group, butyryloxy group, isobutyryloxy group, valeryloxy group, isovaleryloxy group, pivaloyloxy group, lauroyloxy group, myristoyloxy group, palmitoyloxy group, stearoyloxy group Group, cyclopentylcarbonyloxy group, cyclohexylcarbonyloxy group Group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, crotonoyloxy group, isocrotonoyloxy group, oleoyloxy group, benzoyloxy group, 1-naphthoyloxy group, 2-naphthoyloxy group, cinnamoyloxy group, 3 -Furoyloxy group, 2-thenoyloxy group, nicotinoyloxy group, isonicotinoyloxy group, 9-anthroyloxy group, 5-naphthathenoyloxy group, etc. can be mentioned, but are not limited thereto. .

一般式(2)で表されるスルホニウムカチオンを構成する一般式(10)における置換基R10、一般式(7)〜一般式(10)における置換基Rにおけるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げることができる。 The substituent R 10 in the general formula (10) constituting the sulfonium cation represented by the general formula (2), and the halogen atom in the substituent R in the general formula (7) to the general formula (10) include fluorine, chlorine, Bromine and iodine can be mentioned.

一般式(2)で表されるスルホニウムカチオンを構成する置換基R2とR3、一般式(3)〜一般式(5)における置換基R6とR7、一般式(7)における置換基R8、一般式(9)における置換基R9、一般式(10)における置換基R10、一般式(7)〜一般式(10)における置換基Rにおけるアルキル基、一般式(3)〜一般式(6)における置換基R5、一般式(3)〜一般式(5)における置換基R6とR7、一般式(7)における置換基R8、一般式(9)における置換基R9、一般式(10)における置換基R10、一般式(7)〜一般式(10)における置換基Rにおけるアリール基、一般式(2)における置換基R2とR3、一般式(3)〜一般式(5)における置換基R6とR7、一般式(7)〜一般式(10)における置換基Rにおけるアルケニル基、一般式(2)における置換基R2とR3、一般式(3)〜一般式(5)における置換基R6とR7、一般式(7)における置換基R8、一般式(10)における置換基R10、一般式(7)〜一般式(10)における置換基Rにおけるアルコキシル基、一般式(2)における置換基R2とR3、一般式(3)〜一般式(5)における置換基R6とR7、一般式(7)における置換基R8、一般式(10)における置換基R10、一般式(7)〜一般式(10)における置換基Rにおけるアリールオキシ基、一般式(7)における置換基R8、一般式(9)における置換基R9、一般式(7)〜一般式(10)における置換基Rにおけるアシル基、一般式(7)における置換基R8、一般式(7)〜一般式(10)における置換基Rにおけるアルキルチオ基、一般式(7)における置換基R8、一般式(7)〜一般式(10)における置換基Rにおけるアリールチオ基、一般式(7)〜一般式(10)における置換基Rにおけるアシルオキシ基は、さらに他の置換基で置換されていてもよく、そのような他の置換基としては、ヒドロキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシル基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基等を挙げることができる。 Substituents R 2 and R 3 constituting the sulfonium cation represented by formula (2), substituents R 6 and R 7 in formulas (3) to (5), and substituents in formula (7) R 8, an alkyl group in the substituents R in the substituents R 9 in the general formula (9), the substituents R 10 in the general formula (10), the general formula (7) to the general formula (10), the general formula (3) - Substituent R 5 in General Formula (6), Substituents R 6 and R 7 in General Formula (3) to General Formula (5), Substituent R 8 in General Formula (7), Substituent in General Formula (9) R 9 , substituent R 10 in general formula (10), aryl group in substituent R in general formula (7) to general formula (10), substituents R 2 and R 3 in general formula (2), general formula ( 3) substitutions in ~ the general formula (5) groups R 6 and R 7, put the general formula (7) to the general formula (10) Alkenyl group in the substituents R, the general formula the substituents R 2 in (2) and R 3, the general formula (3) substitutions in ~ the general formula (5) groups R 6 and R 7, the substituents in the general formula (7) R 8 , substituent R 10 in general formula (10), alkoxyl group in substituent R in general formula (7) to general formula (10), substituents R 2 and R 3 in general formula (2), general formula (3 ) - formula (5) substituents R 6 and R 7 in, in the substituent R 8 in the general formula (7), the substituent R 10 in the general formula (10), the general formula (7) to the general formula (10) Aryloxy group in substituent R, substituent R 8 in general formula (7), substituent R 9 in general formula (9), acyl group in substituent R in general formula (7) to general formula (10), general wherein the substituents R 8 in (7), the general formula (7) to the general formula (10) An alkylthio group in definitive substituent R, in the substituent R 8 in the general formula (7), the general formula (7) an arylthio group in the substituents R in ~ the general formula (10), the general formula (7) to the general formula (10) The acyloxy group in the substituent R may be further substituted with other substituents. Examples of such other substituents include a hydroxyl group, a mercapto group, a cyano group, a nitro group, a halogen atom, an alkyl group, and an aryl group. Groups, acyl groups, alkoxyl groups, aryloxy groups, acyloxy groups, alkylthio groups, arylthio groups and the like.

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。   Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

アルキル基としては炭素数1から18の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルキル基が挙げられ、具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、sec−ペンチル基、t−ペンチル基、t−オクチル基、ネオペンチル基、シクロプロピル基、シクロブチル、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、ボロニル基、4−デシルシクロヘキシル基などが挙げられる。   Examples of the alkyl group include linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms. Specific examples include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, Hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, dodecyl, octadecyl, isopropyl, isobutyl, isopentyl, sec-butyl, t-butyl, sec-pentyl, t-pentyl, Examples include t-octyl group, neopentyl group, cyclopropyl group, cyclobutyl, cyclopentyl group, cyclohexyl group, adamantyl group, norbornyl group, boronyl group, 4-decylcyclohexyl group and the like.

アリール基としては、ヘテロ原子を含んでよい炭素数4〜18の単環または縮合多環アリール基が挙げられ、具体例としては、フェニル基、1ーナフチル基、2−ナフチル基、9−アンスリル基、9−フェナントリル基、1−ピレニル基、5−ナフタセニル基、1−インデニル基、2−アズレニル基、1−アセナフチル基、9−フルオレニル基、2−フラニル基、2−チエニル基、2−インドリル基、3−インドリル基、2−ベンゾフリル基、2−ベンゾチエニル基、2−カルバゾリル基、3−カルバゾリル基、4−カルバゾリル基、9−アクリジニル基等が挙げられる。   Examples of the aryl group include a monocyclic or condensed polycyclic aryl group having 4 to 18 carbon atoms which may contain a hetero atom, and specific examples include a phenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, and a 9-anthryl group. , 9-phenanthryl group, 1-pyrenyl group, 5-naphthacenyl group, 1-indenyl group, 2-azurenyl group, 1-acenaphthyl group, 9-fluorenyl group, 2-furanyl group, 2-thienyl group, 2-indolyl group , 3-indolyl group, 2-benzofuryl group, 2-benzothienyl group, 2-carbazolyl group, 3-carbazolyl group, 4-carbazolyl group, 9-acridinyl group and the like.

アシル基としては、水素原子または炭素数1から18の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状の脂肪族が結合したカルボニル基、あるいは、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数4から18の単環状あるいは縮合多環状芳香族が結合したカルボニル基が挙げられ、それらは構造中に不飽和結合を有していてもよく、具体例としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、ラウロイル基、ミリストイル基、パルミトイル基、ステアロイル基、シクロペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、クロトノイル基、イソクロトノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、2−メチルベンゾイル基、4−メトキシベンゾイル基、1−ナフトイル基、2−ナフトイル基、シンナモイル基、3−フロイル基、2−テノイル基、ニコチノイル基、イソニコチノイル基、9−アンスロイル基、5−ナフタセノイル基などを挙げられる。   As the acyl group, a hydrogen atom, a carbonyl group to which a linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms is bonded, or a carbon atom which may contain a hetero atom is 4 carbon atoms. To 18 monocyclic or condensed polycyclic aromatic carbonyl groups, which may have an unsaturated bond in the structure. Specific examples thereof include formyl group, acetyl group, propionyl group, Butyryl group, isobutyryl group, valeryl group, isovaleryl group, pivaloyl group, lauroyl group, myristoyl group, palmitoyl group, stearoyl group, cyclopentylcarbonyl group, cyclohexylcarbonyl group, acryloyl group, methacryloyl group, crotonoyl group, isocrotonoyl group, oleoyl group , Benzoyl group, 2-methylbenzoyl group, 4-methoxy Nzoiru group, 1-naphthoyl group, 2-naphthoyl group, cinnamoyl group, 3-furoyl, 2-thenoyl group, nicotinoyl group, isonicotinoyl group, 9-Ansuroiru group, and the like 5 Nafutasenoiru group.

アルコキシル基としては、炭素数1から18の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルコキシル基があげられ、具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、イソプロポキシ基、イソブトキシ基、イソペンチルオキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基、sec−ペンチルオキシ基、t−ペンチルオキシ基、t−オクチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、アダマンチルオキシ基、ノルボルニルオキシ基、ボロニルオキシ基、4−デシルシクロヘキシルオキシ基、2−テトラヒドロフラニルオキシ基、2−テトラヒドロフラニルオキシ基、等を挙げることができる。   Examples of the alkoxyl group include linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic alkoxyl groups having 1 to 18 carbon atoms, and specific examples include methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, pentyloxy. Group, hexyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group, nonyloxy group, decyloxy group, dodecyloxy group, octadecyloxy group, isopropoxy group, isobutoxy group, isopentyloxy group, sec-butoxy group, t-butoxy group, sec-pentyloxy group, t-pentyloxy group, t-octyloxy group, neopentyloxy group, cyclopropyloxy group, cyclobutyloxy group, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group, adamantyloxy group, norbornyloxy group , Boronyloxy group, 4-decyl Cyclohexyloxy group, 2-tetrahydrofuranyl group, 2-tetrahydrofuranyl group, and the like.

アリールオキシ基としては、ヘテロ原子を含んでよい炭素数4〜18の単環または縮合多環アリールオキシ基が挙げられ、具体例としては、フェノキシ基、1ーナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、9−アンスリルオキシ基、9−フェナントリルオキシ基、1−ピレニルオキシ基、5−ナフタセニルオキシ基、1−インデニルオキシ基、2−アズレニルオキシ基、1−アセナフチルオキシ基、9−フルオレニルオキシ基、2−フラニルオキシ基、2−チエニルオキシ基、2−インドリルオキシ基、3−インドリルオキシ基、2−ベンゾフリルオキシ基、2−ベンゾチエニルオキシ基、2−カルバゾリルオキシ基、3−カルバゾリルオキシ基、4−カルバゾリルオキシ基、9−アクリジニルオキシ基等が挙げられる。   Examples of the aryloxy group include a monocyclic or condensed polycyclic aryloxy group having 4 to 18 carbon atoms which may contain a hetero atom. Specific examples thereof include a phenoxy group, a 1-naphthyloxy group, a 2-naphthyloxy group, 9 -Anthryloxy group, 9-phenanthryloxy group, 1-pyrenyloxy group, 5-naphthacenyloxy group, 1-indenyloxy group, 2-azurenyloxy group, 1-acenaphthyloxy group, 9-fluore Nyloxy group, 2-furanyloxy group, 2-thienyloxy group, 2-indolyloxy group, 3-indolyloxy group, 2-benzofuryloxy group, 2-benzothienyloxy group, 2-carbazolyloxy group , 3-carbazolyloxy group, 4-carbazolyloxy group, 9-acridinyloxy group and the like.

アシルオキシ基としては、水素原子または炭素数1から18の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状の脂肪族が結合したカルボニルオキシ基、あるいは、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数4から18の単環状あるいは縮合多環状芳香族が結合したカルボニルオキシ基が挙げられ、具体例としては、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、バレリルオキシ基、イソバレリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ラウロイルオキシ基、ミリストイルオキシ基、パルミトイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、シクロペンチルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、クロトノイルオキシ基、イソクロトノイルオキシ基、オレオイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、1−ナフトイルオキシ基、2−ナフトイルオキシ基、シンナモイルオキシ基、3−フロイルオキシ基、2−テノイルオキシ基、ニコチノイルオキシ基、イソニコチノイルオキシ基、9−アンスロイルオキシ基、5−ナフタセノイルオキシ基などを挙げることができる。   The acyloxy group is a hydrogen atom or a carbonyloxy group to which a linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms is bonded, or a carbon number which may contain a hetero atom. Examples include a carbonyloxy group having 4 to 18 monocyclic or condensed polycyclic aromatics bonded thereto, and specific examples include an acetoxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group, an isobutyryloxy group, a valeryloxy group, and an isovaleryloxy group. Group, pivaloyloxy group, lauroyloxy group, myristoyloxy group, palmitoyloxy group, stearoyloxy group, cyclopentylcarbonyloxy group, cyclohexylcarbonyloxy group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, crotonoyloxy group, isocrotonoyloxy group, Oreo Ruoxy group, benzoyloxy group, 1-naphthoyloxy group, 2-naphthoyloxy group, cinnamoyloxy group, 3-furoyloxy group, 2-thenoyloxy group, nicotinoyloxy group, isonicotinoyloxy group, 9-anth A royloxy group, a 5-naphthacenoyloxy group, etc. can be mentioned.

アルキルチオ基としては、炭素数1から18の直鎖状、分岐鎖状、単環状または縮合多環状アルキルチオ基が挙げられ、具体例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、デシルチオ基、ドデシルチオ基、オクタデシルチオ基等が挙げられる。アリールチオ基としては、ヘテロ原子を含んでよい炭素数4〜18の単環または縮合多環アリールチオ基が挙げられ、具体例としては、フェニルチオ基、1−ナフチルチオ基、2−ナフチルチオ基、9−アンスリルチオ基、9−フェナントリルチオ基、2−フリルチオ基、2−チエニルチオ基、2−ピロリルチオ基、6−インドリルチオ基、2−ベンゾフリルチオ基、2−ベンゾチエニルチオ基、2−カルバゾリルチオ基、3−カルバゾリルチオ基、4−カルバゾリルチオ基等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。   Examples of the alkylthio group include a linear, branched, monocyclic or condensed polycyclic alkylthio group having 1 to 18 carbon atoms, and specific examples include a methylthio group, an ethylthio group, a propylthio group, a butylthio group, and a pentylthio group. Hexylthio group, octylthio group, decylthio group, dodecylthio group, octadecylthio group and the like. Examples of the arylthio group include a monocyclic or condensed polycyclic arylthio group having 4 to 18 carbon atoms which may contain a hetero atom, and specific examples include a phenylthio group, a 1-naphthylthio group, a 2-naphthylthio group, and a 9-anthrylthio group. Group, 9-phenanthrylthio group, 2-furylthio group, 2-thienylthio group, 2-pyrrolylthio group, 6-indolylthio group, 2-benzofurylthio group, 2-benzothienylthio group, 2-carbazolylthio group, 3 -A carbazolylthio group, a 4-carbazolylthio group, etc. can be mentioned, However, It is not limited to these.

置換基R2は2価の連結基を介してR6、R7、R8、R9、R10、およびRのいずれかと互いに結合し、環構造を形成していてもよい。また、置換基R6、R7は2価の連結基を介してR8、R9、R10、およびRのいずれかと結合し、環構造を形成してもよい。ここでいう2価の連結基とは、炭素数1〜4の置換基を有してもよいアルキレン基、置換を有しても良いアリーレン基、アリールアルキレン基、もしくは−C=C−、−O−、−S−、−NH−、−SO2−、−CO−、−COO−、−OCOO−、−CONH−、−SO2−O−及びこれらの結合を一部に有するような置換基を有しても良いアルキレン基を意味する。 The substituent R 2 may be bonded to any one of R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , and R via a divalent linking group to form a ring structure. The substituents R 6 and R 7 may be bonded to any of R 8 , R 9 , R 10 , and R via a divalent linking group to form a ring structure. The divalent linking group here is an alkylene group which may have a substituent having 1 to 4 carbon atoms, an arylene group which may have a substituent, an arylalkylene group, or -C = C-,- O—, —S—, —NH—, —SO 2 —, —CO—, —COO—, —OCOO—, —CONH—, —SO 2 —O—, and substitutions having these bonds in part An alkylene group which may have a group is meant.

スルホニウムカチオンとボレートアニオンとからなるオニウム塩として、具体例を以下に挙げるがそれらに限定されるものではない。   Specific examples of the onium salt composed of a sulfonium cation and a borate anion are shown below, but are not limited thereto.

Figure 2009259656
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ただし、上記構造式中のX-は、以下に示した構造から選ばれるアニオンいずれであっ
てもよい。
However, X in the above structural formula may be any anion selected from the structures shown below.

Figure 2009259656
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本発明の封止剤は、耐熱性、密着性、硬度などの特性を向上する目的で無機充填剤を配合してもよい。具体的には、溶融シリカ粉末、結晶シリカ粉末、アルミナ、ジルコン、ケイ酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭化珪素、窒化アルミ、窒化ホウ素、ベリリウム、ジルコニア、タルク、クレー、水酸化アルミニウム、等の粉体、またはこれらを球形化したビーズ、チタン酸カリウム、炭化珪素、窒化ケイ素、アルミナ等の単結晶繊維、ガラス繊維等を1種類以上配合して用いることができる。これら無機充填剤の中で、線膨張係数低減の観点からは溶融シリカが、高熱伝導性の観点からはアルミナが好ましい。その使用量は、封止剤100重量部に対して0.1〜2000重量部が好ましい。また、無機充填剤は予め充分混合しておくことが好ましい。また、封止剤の硬化物の透明性を保つために、無機充填剤は透過性の高い材質であること、無機充填剤の屈折率が封止剤の硬化物の屈折率の差が0.2以内であること、無機充填剤は粒子状であり平均粒子径が100nm以下であること、といった無機充填剤を選択することが好ましい。   The sealing agent of this invention may mix | blend an inorganic filler in order to improve characteristics, such as heat resistance, adhesiveness, and hardness. Specifically, powders such as fused silica powder, crystalline silica powder, alumina, zircon, calcium silicate, calcium carbonate, silicon carbide, aluminum nitride, boron nitride, beryllium, zirconia, talc, clay, aluminum hydroxide, Alternatively, one or more kinds of spherical beads, potassium titanate, silicon carbide, silicon nitride, alumina and other single crystal fibers, glass fibers, and the like can be blended and used. Among these inorganic fillers, fused silica is preferable from the viewpoint of reducing the linear expansion coefficient, and alumina is preferable from the viewpoint of high thermal conductivity. The amount used is preferably 0.1 to 2000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the sealant. In addition, it is preferable to mix the inorganic filler in advance. In addition, in order to maintain the transparency of the cured product of the sealant, the inorganic filler must be a highly transmissive material, and the refractive index of the inorganic filler must be within 0.2 of the refractive index difference of the cured product of the sealant. It is preferable to select an inorganic filler such that the inorganic filler is particulate and the average particle size is 100 nm or less.

さらに必要に応じて、接着性をより向上させるためのシランカップリング剤などの接着性付与剤、粘度を調整するための粘度調整剤、チキソトロープ性(揺変性)を付与するためのチキソトロープ剤(揺変性付与剤)、引張り特性等を改善されるための物性調整剤、熱安定剤、難燃剤、帯電防止剤、等を加えても良い。   Furthermore, if necessary, an adhesion-imparting agent such as a silane coupling agent for further improving the adhesiveness, a viscosity adjusting agent for adjusting the viscosity, a thixotropic agent (thickening) for imparting thixotropic properties (thixotropic properties). Modification modifiers), physical property modifiers for improving tensile properties, etc., heat stabilizers, flame retardants, antistatic agents, etc. may be added.

本発明の封止剤には、カップリング剤として、シランカップリング剤またはチタネートカップリング剤を用いることもできる。これらを用いることで、本発明の封止剤による硬化物と基材との接着性を高めることができる。   In the sealant of the present invention, a silane coupling agent or a titanate coupling agent can also be used as a coupling agent. By using these, the adhesiveness of the hardened | cured material and base material by the sealing agent of this invention can be improved.

シランカップリング剤としては、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のエポキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン等のアミノシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプトシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のビニルシラン、さらに、エポキシ系、アミノ系、ビニル系の高分子タイプのシラン等を用いることができるが、これらに限定されるものではない。特に、エポキシシラン、アミノシラン、メルカプトシランが好ましい。   Examples of silane coupling agents include epoxy silanes such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, and γ-aminopropyl. Triethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane, etc. Aminosilane, mercaptosilane such as 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, vinyltrichlorosilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, γ- Taku Lilo trimethoxy silane vinylsilane, further, epoxy, amino-based, can be used silane polymer type vinyl, but is not limited thereto. In particular, epoxy silane, aminosilane, and mercaptosilane are preferable.

一方、チタネートカップリング剤としては、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリ(N−アミノエチル・アミノエチル)チタネート、ジイソプロピルビス(ジオクチルホスフェート)チタネート、テトライソプロピルビス(ジオクチルホスファイト)チタネート、テトラオクチルビス(ジトリデシルホスファイト)チタネート、テトラ(2,2−ジアリルオキシメチル−1−ブチル)ビス(ジトリデシル)ホスファイトチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)オキシアセテートチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)エチレンチタネート等を用いることができるが、これらに限定されるものではない。   On the other hand, titanate coupling agents include isopropyl triisostearoyl titanate, isopropyl tri (N-aminoethyl aminoethyl) titanate, diisopropyl bis (dioctyl phosphate) titanate, tetraisopropyl bis (dioctyl phosphite) titanate, tetraoctyl bis ( Ditridecyl phosphite) titanate, tetra (2,2-diallyloxymethyl-1-butyl) bis (ditridecyl) phosphite titanate, bis (dioctyl pyrophosphate) oxyacetate titanate, bis (dioctyl pyrophosphate) ethylene titanate, etc. are used. However, it is not limited to these.

これらのカップリング剤は、単独で使用しても良いし、2種類以上を混合して使用する
こともできる。このときカップリング剤の使用量は、硬化性樹脂全量部100に対して0.1〜1重量部の範囲が好ましい。
These coupling agents may be used alone or in combination of two or more. At this time, the amount of the coupling agent used is preferably in the range of 0.1 to 1 part by weight with respect to 100 parts by weight of the curable resin.

本発明の封止剤は、各種原材料を均一に分散混合できるのであれば、いかなる手法を用いても調製することが可能である。一般的な手法として、所定の配合量の原材料をミキサー等によって充分に混合した後、ミキシングロール、ニーダ、押出機等によって混練を行い、次いで冷却し、粉砕する方法を挙げることができる。溶融混練は、複数の装置を用いて複数回行っても良いし、原材料の一部をミキシングロール等で混練後、ニーダや押出機等で原材料全体を再度混練する等の手法を採っても良い。   The sealing agent of the present invention can be prepared by any method as long as various raw materials can be uniformly dispersed and mixed. As a general method, there can be mentioned a method in which raw materials having a predetermined blending amount are sufficiently mixed with a mixer or the like, then kneaded with a mixing roll, a kneader, an extruder or the like, then cooled and pulverized. Melt kneading may be performed a plurality of times using a plurality of apparatuses, or after kneading a part of the raw material with a mixing roll or the like, the whole raw material may be kneaded again with a kneader or an extruder. .

本発明の封止剤を調製するにあたっては、固体の乾燥剤粒子の吸湿性を維持するために、各種原材料を均一に分散混合する工程を真空中あるいは不活性ガス雰囲気中で行うことが好ましい。   In preparing the sealant of the present invention, it is preferable to carry out the step of uniformly dispersing and mixing various raw materials in a vacuum or in an inert gas atmosphere in order to maintain the hygroscopicity of the solid desiccant particles.

本発明の封止剤の調製にあたって、固体の乾燥剤粒子を封止剤中に均一に分散させるために、あらかじめ分散媒としての溶媒、硬化性樹脂、硬化性樹脂と相溶性を有する樹脂、あるいは、それらの混合物に均一に分散させるなどの方法で固体の乾燥剤粒子の分散液を作り、それを封止剤の各種原材料と混合し封止剤を調製しても良い。   In preparing the sealant of the present invention, in order to uniformly disperse solid desiccant particles in the sealant, a solvent as a dispersion medium, a curable resin, a resin having compatibility with the curable resin, or Alternatively, a dispersion of solid desiccant particles may be made by a method such as uniformly dispersing in the mixture, and then mixed with various raw materials of the sealant to prepare the sealant.

固体の乾燥剤粒子の分散液を得る方法としては、二次粒子の形成が少なく均一に分散できる手段ならどのような手段を用いてもかまわない。例えば、ゾル−ゲル法により溶媒中に直接固体の乾燥剤粒子を形成して分散液を得る方法、あるいは、分散剤を利用して固体の乾燥剤粒子を分散媒としての分散媒としての溶媒、硬化性樹脂、硬化性樹脂と相溶性を有する樹脂、あるいは、それらの混合物に均一に分散させる方法が挙げられる。   As a method for obtaining a dispersion liquid of solid desiccant particles, any means may be used as long as it is a means capable of uniformly dispersing with little formation of secondary particles. For example, a method in which a solid desiccant particle is directly formed in a solvent by a sol-gel method to obtain a dispersion, or a solvent as a dispersion medium using a solid desiccant particle as a dispersion medium using a dispersant, Examples thereof include a method of uniformly dispersing in a curable resin, a resin having compatibility with the curable resin, or a mixture thereof.

固体の乾燥剤粒子の分散液を得る方法の一例を以下に示す。固体の乾燥剤粒子を分散剤、溶剤と混合した後、分散処理を行う。分散剤としては、シリコンカップリング剤等の各種カップリング剤、各種高分子分散剤、アニオン系・ノニオン系・カチオン系等の各種界面活性剤が挙げられる。これら分散剤は、用いる導電性酸化物微粒子の種類や分散処理方法に応じて適宜選定することができる。また、分散剤を全く用いなくても、適用する固体の乾燥剤粒子と溶剤の組合せ、及び分散方法の如何によっては、良好な分散状態を得ることができる場合がある。分散剤の使用は、本発明の封止剤における透明性、防湿性、および安定性を悪化させる可能性があるので、分散剤を用いないで固体の乾燥剤粒子を分散させることが最も好ましい。分散処理としては、超音波処理、ホモジナイザー、ペイントシェーカー、ビーズミル等の汎用の方法を適用することができる。得られた分散液は、加熱等による濃縮や溶剤等を添加することによる希釈によって、固体の乾燥剤粒子濃度、溶剤濃度等の成分調整を行っても良い。   An example of a method for obtaining a dispersion of solid desiccant particles is shown below. After mixing the solid desiccant particles with a dispersant and a solvent, a dispersion treatment is performed. Examples of the dispersant include various coupling agents such as a silicon coupling agent, various polymer dispersants, and various surfactants such as anionic, nonionic, and cationic types. These dispersants can be appropriately selected according to the type of conductive oxide fine particles used and the dispersion treatment method. Even if no dispersant is used, a good dispersion state may be obtained depending on the combination of the solid desiccant particles and the solvent to be applied and the dispersion method. Since the use of a dispersant may deteriorate the transparency, moisture resistance, and stability of the sealant of the present invention, it is most preferable to disperse solid desiccant particles without using a dispersant. As the dispersion treatment, general-purpose methods such as ultrasonic treatment, homogenizer, paint shaker, and bead mill can be applied. The obtained dispersion liquid may be subjected to component adjustment such as solid desiccant particle concentration and solvent concentration by concentration by heating or dilution by adding a solvent or the like.

上記の分散液を得る方法は、固体の乾燥剤粒子の吸湿性を維持するために、真空中あるいは不活性ガス雰囲気中で行うことが好ましい。   The method for obtaining the above dispersion is preferably performed in a vacuum or in an inert gas atmosphere in order to maintain the hygroscopicity of the solid desiccant particles.

硬化性樹脂、硬化性樹脂の原料(光カチオン重合開始剤、カチオン重合性化合物)、固体の乾燥剤粒子、シランカップリング剤、無機充填材、その他各種添加材などの本発明の封止剤の原料を、封止剤の調整に用いる前に、真空中あるいは不活性雰囲気で加熱処理をすること、乾燥剤を添加し混練した後に濾過などにより乾燥剤を除去することなどのの処理によって、水分をあらかじめ排除した後に用いても良い。   The sealing agent of the present invention such as a curable resin, a curable resin raw material (photo cationic polymerization initiator, cationic polymerizable compound), solid desiccant particles, silane coupling agent, inorganic filler, and other various additives. Before using the raw material for the preparation of the sealant, heat treatment is performed in a vacuum or in an inert atmosphere, and after adding the desiccant and kneading it, the desiccant is removed by filtration, etc. It is also possible to use after removing in advance.

本発明の封止剤は、基本的に電子デバイスまたは電子デバイスを含む基材上で硬化することで、基材を外部環境から保護するために用いられる。本発明の封止用組成物を塗布もしくは充填する対象物は特に限定されず、平面状のもの、立体状のもの、凹凸のあるものなどあらゆるものに塗布して使用することが可能である。   The sealing agent of this invention is used in order to protect a base material from an external environment by hardening on the base material containing an electronic device or an electronic device fundamentally. The object to which the sealing composition of the present invention is applied or filled is not particularly limited, and can be used by applying to any one of a planar shape, a three-dimensional shape, and an uneven shape.

本発明の封止剤の硬化方法としては、活性エネルギー線を照射することまたは加熱することによって硬化させる方法、または、その両方によって硬化させる方法が挙げられる。また、硬化方法は封止剤に含まれる硬化性樹脂に合わせて選ぶことが好ましい。   Examples of the method for curing the sealant of the present invention include a method of curing by irradiating active energy rays or heating, or a method of curing by both. The curing method is preferably selected according to the curable resin contained in the sealant.

ここで、本発明の基材について説明する。本発明の封止剤を塗布もしくは充填するために使用する基材は特に限定されず、公知の材料はいかなるものも使用可能である。例えば、PETフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ポリイミドに代表される合成樹脂フィルム、各種紙類、布、不織布、アルミ箔に代表される金属箔、アクリル版等の樹脂板、金属板、木材、発泡体、ガラス、ガラスエポキシ基板などの回路基板材料などが挙げられる。   Here, the base material of the present invention will be described. The base material used for applying or filling the sealant of the present invention is not particularly limited, and any known material can be used. For example, PET film, polypropylene film, cellophane, synthetic resin film represented by polyimide, various papers, cloth, non-woven fabric, metal foil represented by aluminum foil, resin plate such as acrylic plate, metal plate, wood, foam And circuit board materials such as glass and glass epoxy substrates.

本発明の電子デバイスとしては、ダイオード、トランジスタ、IC等の半導体の電子部品や、液晶パネル、プラズマディスプレイパネル、有機ELパネル等の表示素子、光磁気ディスク等の高密度記録媒体、太陽電池、光導波路等が挙げられる。   The electronic device of the present invention includes semiconductor electronic components such as diodes, transistors, and ICs, display elements such as liquid crystal panels, plasma display panels, and organic EL panels, high-density recording media such as magneto-optical disks, solar cells, and light guides. Examples include a waveguide.

また、本発明の電子デバイスを含む基材とは上記記載の基材上に電子デバイスおよび電子デバイスに付帯する回路が積載または形成されたものを指す。また、基材上に積載または形成された電子デバイスは、保護層によって被覆されていても良い。保護層の材質は、防湿性に優れたものならばどのようなものでも良いが、トップエミッション型の有機EL素子の場合は、透明性と防湿性に優れた、酸化珪素、窒素化珪素などの金属酸化物、ポリマーなどの有機材料、または、これらの混合体および積層体で形成されていることが好ましい。   Moreover, the base material containing the electronic device of the present invention refers to a substrate in which the electronic device and a circuit incidental to the electronic device are stacked or formed on the base material described above. Moreover, the electronic device stacked or formed on the base material may be covered with a protective layer. The material of the protective layer may be any material as long as it has excellent moisture resistance. However, in the case of a top emission type organic EL element, such as silicon oxide, silicon nitride, etc. that are excellent in transparency and moisture resistance. It is preferable to form with organic materials, such as a metal oxide and a polymer, or these mixtures and laminated bodies.

半導体素子等を封止する場合、本発明の封止剤を用いた最も一般的な封止方法としては、低圧トランスファー方式があるが、射出成形、圧縮成形、注型等による封止も可能である。封止用組成物で封止後、硬化させることで、半導体素子の封止を行う。   When sealing semiconductor elements, etc., the most common sealing method using the sealant of the present invention is a low-pressure transfer method, but it can also be sealed by injection molding, compression molding, casting, etc. is there. After sealing with the sealing composition, the semiconductor element is sealed by curing.

より詳しく説明すると、例えばガラス、セラミック、プラスチック、シリコーンゴム等の活性エネルギー線の通過しやすい材質からなる型に、本発明の封止用組成物を入れ、半導体素子を浸漬しそのまま硬化させた後、脱型する方法である。   More specifically, for example, after the sealing composition of the present invention is placed in a mold made of a material easy to pass active energy rays such as glass, ceramic, plastic, and silicone rubber, the semiconductor element is immersed and cured as it is. It is a method of demolding.

また、液晶パネルや有機ELパネルの場合は、基本的に2つの基材を接着させる方法で封止を行う。本発明の封止用組成物が2つの基材に接触する順番は、特に限定はない。基材の上に塗布する場合には剥離加工された基材上に塗布した後に、ロールやラミネーターを使用して別の基材に転写した後に剥離加工された基材を剥離し、実質的に本発明の封止剤1層のみからなる接着シートとして存在することが可能である。   In the case of a liquid crystal panel or an organic EL panel, sealing is basically performed by a method of bonding two substrates. The order in which the sealing composition of the present invention contacts the two substrates is not particularly limited. In the case of coating on a base material, after coating on a peeled substrate, it is transferred to another base material using a roll or laminator, and then the peeled base material is peeled off. It can exist as an adhesive sheet consisting of only one layer of the sealant of the present invention.

有機ELパネルの封止方法について、より詳しく説明する。   The method for sealing the organic EL panel will be described in more detail.

有機ELパネルを構成する有機EL素子が形成されたガラス等の透明材料からなる基材上に、有機EL素子を覆うように、乾燥剤が設置されたガラス又は金属からなる蓋を被せ、その周辺を本発明の封止剤で封止する。   Cover the substrate made of a transparent material such as glass on which the organic EL element constituting the organic EL panel is formed with a lid made of glass or metal on which a desiccant is placed so as to cover the organic EL element, and its surroundings Is sealed with the sealant of the present invention.

そのほかに、トップエミッション方式の有機EL素子を用いた有機ELパネルでは、有機ELパネルを構成する有機EL素子が形成された基材ともう一方に基材で有機EL素子を挟み込み、両基材間を本発明の封止剤で充填することにより封止する。このとき、有機EL素子は、酸化珪素や窒化珪素等からなる保護層で被服されていている場合もある。   In addition, in the organic EL panel using the organic EL element of the top emission method, the organic EL element is sandwiched between the base material on which the organic EL element constituting the organic EL panel is formed and the base material between the two base materials. Is sealed with the sealant of the present invention. At this time, the organic EL element may be covered with a protective layer made of silicon oxide, silicon nitride, or the like.

液晶パネルの封止方法について、より詳しく説明すると、ディスペンサー等を用いて本発明の封止剤を、ガラス基板の平面外周に開口部1つを残して塗布し、塗布したガラス基板と同じ大きさのガラス基板を、封止剤層がガラス基板間になるように重ね合わせた後、封止剤を硬化させ、開口部から液晶を注入し、開口部を封口する。   The sealing method of the liquid crystal panel will be described in more detail. The sealant of the present invention is applied using a dispenser or the like, leaving one opening on the outer periphery of the flat surface of the glass substrate, and the same size as the applied glass substrate. After the glass substrates are overlapped so that the sealant layer is between the glass substrates, the sealant is cured, liquid crystal is injected from the openings, and the openings are sealed.

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。実施例においては、特に断りのない限り、混合比は全て重量比を示す。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited to the following Example. In the examples, all mixing ratios are weight ratios unless otherwise specified.

製造例1
酸化カルシウム(平均粒径1μm)を、平均粒子径が100μmのビーズを使用して、乾式でビーズミル粉砕することによって、平均粒径50nmに調製した。
Production Example 1
Calcium oxide (average particle size of 1 μm) was prepared to an average particle size of 50 nm by using a bead mill with a dry method using beads having an average particle size of 100 μm.

製造例2
酸化カルシウム(平均粒径1μm)を、平均粒子径が300μmのビーズを使用して、乾式でビーズミル粉砕することによって、平均粒径96nmに調製した。
Production Example 2
Calcium oxide (average particle size: 1 μm) was prepared to be an average particle size of 96 nm by dry-bead milling using beads having an average particle size of 300 μm.

製造例3
シリカゲル(平均粒径1.8μm)を、平均粒子径が100μmのビーズを使用して、乾式でビーズミル粉砕することによって、平均粒径75nmに調製した。
Production Example 3
Silica gel (average particle size 1.8 μm) was prepared to an average particle size of 75 nm by dry-bead milling using beads having an average particle size of 100 μm.

製造例1〜3の粉砕処理後の平均粒径はいずれも透過型電子顕微鏡(走査透過電子顕微鏡 HD−2700 日立ハイテク社製)の観察結果より見積もられた値である。   The average particle diameters after the pulverization treatment in Production Examples 1 to 3 are all values estimated from observation results of a transmission electron microscope (scanning transmission electron microscope HD-2700, manufactured by Hitachi High-Tech).

実施例1〜6、比較例1〜3
以下、各実施例及び各比較例で使用した各種原材料を示す。
Examples 1-6, Comparative Examples 1-3
Hereinafter, various raw materials used in each example and each comparative example are shown.

(A)カチオン重合性化合物
A1成分:ビスフェノールF型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、商品名「エピコート806」)。ただし、80℃に加熱した減圧オーブン中で5時間保持したものを用いた。
(A) Cationic polymerizable compound A1 component: Bisphenol F-type epoxy resin (trade name “Epicoat 806” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.). However, what was hold | maintained for 5 hours in the vacuum oven heated at 80 degreeC was used.

(B)光カチオン重合開始剤
B1成分:下記構造式であらわされる化合物(東洋インキ製造社製)
(B) Photocationic polymerization initiator B1 component: Compound represented by the following structural formula (manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.)

Figure 2009259656
Figure 2009259656

B2成分:UVI−6976(ザ・ダウ・ケミカル・カンパニー社製)   B2 component: UVI-6976 (manufactured by The Dow Chemical Company)

(C)固体の乾燥剤粒子
C1成分:平均粒径50nmの酸化カルシウム。(製造例1)
C2成分:平均粒径96nmの酸化カルシウム。(製造例2)
C3成分:平均粒径1μm、の酸化カルシウム。
C4成分:平均粒径75nmのシリカゲル。(製造例3)
C5成分:平均粒径1.8μmのシリカゲル。
(C) Solid desiccant particle C1 component: calcium oxide having an average particle diameter of 50 nm. (Production Example 1)
C2 component: Calcium oxide having an average particle size of 96 nm. (Production Example 2)
C3 component: Calcium oxide having an average particle size of 1 μm.
C4 component: silica gel having an average particle size of 75 nm. (Production Example 3)
C5 component: silica gel having an average particle size of 1.8 μm.

上述の各種原材料をそれぞれ表1に示す重量部で配合および混練を行い、実施例1〜6及び比較例1〜3に該当する封止剤をそれぞれ調製した。なお、配合および混練は窒素置換したグローブボックス内(水分、酸素濃度1ppm以下)で行った。   The above-mentioned various raw materials were blended and kneaded in parts by weight shown in Table 1 to prepare sealants corresponding to Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3, respectively. The blending and kneading were performed in a nitrogen-substituted glove box (water content and oxygen concentration of 1 ppm or less).

このとき、(C)固体の乾燥剤粒子のうち、C1成分、C2成分、およびC3成分は電気炉により1000℃で5時間加熱した後、速やかにグローブボックス内へ搬入して用いた。また、(C)固体の乾燥剤粒子のうち、C4成分、およびC5成分は、200℃に加熱した減圧乾燥機内で5時間保持した後、速やかにグローブボックス内へ搬入して用いた。   At this time, among the solid desiccant particles (C), the C1, C2, and C3 components were heated in an electric furnace at 1000 ° C. for 5 hours, and then quickly carried into the glove box for use. In addition, among the solid desiccant particles (C), the C4 component and the C5 component were held in a vacuum dryer heated to 200 ° C. for 5 hours, and then quickly carried into the glove box for use.

表1

Figure 2009259656
Table 1
Figure 2009259656

実施例7
実施例1で調整した封止剤を用いて、以下の手順で封止剤硬化物の薄膜を2×2cmの溶融石英基板上に形成した。
Example 7
Using the sealant prepared in Example 1, a cured sealant thin film was formed on a 2 × 2 cm fused quartz substrate by the following procedure.

まず、封止剤をスピンコーターで膜厚15μmとなるように石英基板上へ塗布した。その後、ウシオ電気株式会社製の水銀−キセノンランプUXM−200YAの光を6000mJ/cm2照射して封止剤を硬化させた。 First, a sealant was applied onto a quartz substrate with a spin coater so as to have a film thickness of 15 μm. Thereafter, the sealing agent was cured by irradiating light of 6000 mJ / cm 2 with a mercury-xenon lamp UXM-200YA manufactured by Ushio Electric Co., Ltd.

得られた封止剤硬化物の薄膜に関して透過率スペクトルを測定し、可視域の光に対する平均透過率を測定した(400nm〜780nmの範囲の透過率を1nmの分解能で測定して全380測定点の透過率の平均値を算出)。測定結果を表2に示す。   The transmittance spectrum was measured for the thin film of the obtained encapsulant cured product, and the average transmittance with respect to light in the visible range was measured (the transmittance in the range of 400 nm to 780 nm was measured with a resolution of 1 nm and all 380 measurement points were measured. The average value of the transmittance is calculated). The measurement results are shown in Table 2.

実施例8〜12、比較例4〜6
実施例7で用いた封止剤を表2に示した封止剤に置き換えた他は、実施例7と同一の所作で封止剤硬化物の薄膜を形成し、可視域の光に対する平均透過率を測定した。得られた平均透過率を表2に示した。
Examples 8-12, Comparative Examples 4-6
Except that the sealant used in Example 7 was replaced with the sealant shown in Table 2, a thin film of the cured sealant was formed in the same manner as in Example 7, and the average transmission with respect to visible light The rate was measured. The average transmittance obtained is shown in Table 2.

表2

Figure 2009259656
Table 2
Figure 2009259656

表2から明らかなように、実施例7〜12の平均粒径が100nm以下の固体の乾燥剤粒子を用いた場合は、固体の乾燥剤粒子を含まない場合である比較例6と比較して、同等の平均透過率を示した。それに対して100nmより大きい固体の乾燥剤粒子を用いた場合である比較例4および比較例5とは、いずれも平均透過率が劣る結果となった。また、実施例1〜3では封止剤硬化物は硬化による着色を示さなかったが、実施例4〜6では封止剤硬化物は硬化による着色を示した。   As is apparent from Table 2, when solid desiccant particles having an average particle size of 100 nm or less in Examples 7 to 12 were used, compared with Comparative Example 6 in which solid desiccant particles were not included. The same average transmittance was shown. In contrast, Comparative Example 4 and Comparative Example 5 in which solid desiccant particles larger than 100 nm were used resulted in poor average transmittance. Moreover, in Examples 1-3, the sealing agent hardened | cured material did not show coloring by hardening, but in Examples 4-6, the sealing agent hardened | cured material showed coloring by hardening.

実施例7〜12、比較例4および5で得られた封止剤の硬化物を透過型電子顕微鏡で観察した結果、いずれの場合も固体の乾燥剤粒子は、凝集することなく封止剤の硬化物中に分散した状態で観察された。   As a result of observing the hardened | cured material of the sealing agent obtained in Examples 7-12 and Comparative Examples 4 and 5 with a transmission electron microscope, in any case, solid desiccant particles were not aggregated without aggregation. It was observed in a state dispersed in the cured product.

実施例13
ガラス基板上に、反射金属としてAlを蒸着法にて成膜し、その上にITO(Indium Tin Oxide)をスパッタ成膜した。成膜の後に、この基板を研磨し、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングを行いAl/ITOからなる反射電極を形成した。AlおよびITOのエッチング液として、王水を用いた。
Example 13
On the glass substrate, Al was formed as a reflective metal by a vapor deposition method, and ITO (Indium Tin Oxide) was formed thereon by sputtering. After the film formation, the substrate was polished and patterned using a photolithography method to form a reflective electrode made of Al / ITO. Aqua regia was used as an etching solution for Al and ITO.

反射電極が形成された基板を洗浄し、酸素プラズマ室、有機膜蒸着室、金属蒸着室およびスパッタ室が連結された蒸着装置に設置した。最初に基板を酸素プラズマ室に入れ、Ar/O2=1:1の雰囲気中で100Wの電力を印加し、1分間にわたって洗浄した。次に基板を蒸着室(圧力5×10-5Pa、室温)に移動させ、成膜速度0.5nm/sで膜厚40nmのα−NPD(bis((N−(1−naphtyl−n−phenyl))benzidine)(正孔輸送層)、および成膜速度0.5nm/sで膜厚60nmのAlq3(tris−(8−hydroxyquinolin)alminium)(電子輸送性発光層)を堆積させた。次に、基板を金属蒸着室に移動させ、膜厚5nmのMgAg合金(Mg:Ag=9:1、電子注入層)を堆積させて、有機EL層を形成した。次に、基板をスパッタ室に移動させ、対向式ターゲットスパッタ法を用い、直流100Wの電力を用い成膜速度20nm/分で膜厚75nmのIZO(Indium Zinc Oxide)を堆積させ、透明電極を形成してトップエミッション型の有機EL素子を作製した。また、素子の発光面積は2mm×2mmとなるように有機EL素子を作製した。 The substrate on which the reflective electrode was formed was cleaned and placed in a vapor deposition apparatus in which an oxygen plasma chamber, an organic film vapor deposition chamber, a metal vapor deposition chamber, and a sputtering chamber were connected. First, the substrate was placed in an oxygen plasma chamber, and a power of 100 W was applied in an atmosphere of Ar / O 2 = 1: 1 for cleaning for 1 minute. Next, the substrate was moved to a vapor deposition chamber (pressure 5 × 10 −5 Pa, room temperature), and α-NPD (bis ((N- (1-naphthyl-n- phenyl)) benzidine) (hole transport layer), and Alq 3 (tris- (8-hydroxyquinolin) alminium) (electron transport light-emitting layer) having a film formation rate of 0.5 nm / s and a film thickness of 60 nm were deposited. Next, the substrate was moved to a metal vapor deposition chamber, and a 5 nm-thick MgAg alloy (Mg: Ag = 9: 1, electron injection layer) was deposited to form an organic EL layer. Then, using an opposed target sputtering method, IZO (Indium Zinc Oxide) having a film thickness of 75 nm is deposited at a film forming rate of 20 nm / min using a direct current of 100 W, and transparent To produce an organic EL element having a top emission type formed by a. Further, the light emitting area of the device to produce an organic EL element so as to be 2 mm × 2 mm.

得られた有機EL素子を、大気暴露することなくグローブボックス内(酸素・水分濃度1ppm以下)に移し、以下の手順で封止作業を行った。   The obtained organic EL element was transferred into the glove box (oxygen / water concentration 1 ppm or less) without being exposed to the atmosphere, and the sealing operation was performed according to the following procedure.

ガラス基板の素子側に、実施例1で調整した封止剤をスピンコーティング法で膜厚50μmとなるよう塗布し有機EL素子を被覆した。さらに、有機EL素子を被覆した封止剤の上から、厚さ0.5mmの溶融石英ガラス基板を張り合わせた。その後、ウシオ電気株式会社製の水銀−キセノンランプUXM−200YAの光を6000mJ/cm2照射して封止剤を硬化させ、封止された有機EL素子をえた。 On the element side of the glass substrate, the sealant prepared in Example 1 was applied by spin coating so as to have a film thickness of 50 μm to cover the organic EL element. Further, a fused quartz glass substrate having a thickness of 0.5 mm was laminated on the sealing agent covering the organic EL element. Then, the light of mercury-xenon lamp UXM-200YA manufactured by Ushio Electric Co., Ltd. was irradiated with 6000 mJ / cm 2 to cure the sealant, and a sealed organic EL device was obtained.

封止された有機EL素子を10mA/cm2の定電流密度駆動により発光させ、初期状態の電流効率、輝度半減寿命を測定した。また、輝度半減寿命測定開始後100時間経過時点で封止された有機EL素子の発光面内でのダークスポット発生の有無を確認した。なお、測定は25℃の大気中で行った。結果を表3に示す。 The sealed organic EL device was caused to emit light by driving at a constant current density of 10 mA / cm 2 , and the current efficiency and luminance half life in the initial state were measured. In addition, it was confirmed whether or not dark spots were generated in the light emitting surface of the sealed organic EL element when 100 hours had elapsed after the start of luminance half-life measurement. The measurement was performed in the atmosphere at 25 ° C. The results are shown in Table 3.

実施例14〜18、比較例7〜9
実施例13で用いた封止剤を表3に示した封止剤に置き換えた他は、実施例13と同一の所作で封止ざれた有機EL素子を作製し、得られた有機EL素子をこの素子を10mA/cm2の定電流密度駆動により発光させ、初期状態の電流効率、輝度半減寿命を測定した。また、輝度半減寿命測定開始後100時間経過時点で封止された有機EL素子の発光面内でのダークスポット発生の有無を確認した。測定結果を表3に示す。
Examples 14-18, Comparative Examples 7-9
Except that the sealant used in Example 13 was replaced with the sealant shown in Table 3, a sealed organic EL element was produced in the same manner as in Example 13, and the obtained organic EL element was The device was caused to emit light by driving at a constant current density of 10 mA / cm 2 , and the current efficiency and luminance half life in the initial state were measured. In addition, it was confirmed whether or not dark spots were generated in the light emitting surface of the sealed organic EL element when 100 hours had elapsed after the start of luminance half-life measurement. Table 3 shows the measurement results.

表3

Figure 2009259656
Table 3
Figure 2009259656

実施例19〜実施例34
粉砕処理により製造した平均粒径100nm以下の固体の乾燥剤粒子として、それぞれ、表4に示したものを用いた以外は、実施例1と同一の所作で封止剤を調製した。次に得られたそれぞれの封止剤を用いた以外は実施例13と同一の所作で封止された有機EL素子を作製した。得られた有機EL素子をこの素子を10mA/cm2の定電流密度駆動により発光させたところ、いずれの場合も、初期状態の電流効率は2.4(cd/A)以上、かつ、輝度半減寿命は5000時間以上であり、輝度半減寿命測定開始後100時間経過時点でダークスポットは観察されなかった。
Examples 19 to 34
A sealant was prepared in the same manner as in Example 1 except that the solid desiccant particles having an average particle diameter of 100 nm or less produced by the pulverization treatment were those shown in Table 4, respectively. Next, an organic EL device sealed with the same operation as in Example 13 was produced except that each obtained sealing agent was used. When the obtained organic EL device was made to emit light by driving the device at a constant current density of 10 mA / cm 2 , the current efficiency in the initial state was 2.4 (cd / A) or more in both cases, and the luminance was reduced by half. The lifetime was 5000 hours or more, and no dark spot was observed when 100 hours had elapsed after the start of luminance half-life measurement.

表4

Figure 2009259656


Table 4
Figure 2009259656


実施例35〜実施例71
(B)光カチオン重合開始剤として、それぞれ、表5に示す化合物(1)〜化合物(24)、および、表6に示す市販の光カチオン重合開始剤を用いて実施例1と同一の所作で封止剤を調製した。次に、得られたそれぞれの封止剤を用いた以外は実施例13と同一の所作で封止された有機EL素子を作製した。得られた有機EL素子をこの素子を10mA/cm2の定電流密度駆動により発光させた。実施例35〜57では、初期状態の電流効率は2.6〜2.5(cd/A)、かつ、輝度半減寿命は5000時間以上であり、輝度半減寿命測定開始後100時間経過時点でダークスポットは観察されなかった。実施例59〜71では、初期状態の電流効率は2.4〜2.2(cd/A)、かつ、輝度半減寿命は5000時間以上であり、輝度半減寿命測定開始後100時間経過時点でダークスポットは観察されなかった。実施例58では初期状態の電流効率は2.1(cd/A)、かつ、輝度半減寿命は5000時間以上であり、輝度半減寿命測定開始後100時間経過時点でダークスポットは観察されなかった。実施例35〜57で測定された電流効率と実施例58〜71で測定された電流効率の間の差の主な原因は、封止剤硬化物の着色の有無によると考えられる。
Example 35 to Example 71
(B) As a photocationic polymerization initiator, the same operation as Example 1 was carried out using the compounds (1) to (24) shown in Table 5 and the commercially available photocationic polymerization initiator shown in Table 6, respectively. A sealant was prepared. Next, an organic EL element sealed with the same operation as in Example 13 was produced except that each obtained sealing agent was used. The obtained organic EL device was made to emit light by driving the device at a constant current density of 10 mA / cm 2 . In Examples 35 to 57, the current efficiency in the initial state is 2.6 to 2.5 (cd / A), the luminance half-life is 5000 hours or more, and it is dark when 100 hours have elapsed after the luminance half-life measurement is started. No spots were observed. In Examples 59 to 71, the current efficiency in the initial state is 2.4 to 2.2 (cd / A), the luminance half-life is 5000 hours or more, and dark when 100 hours have elapsed after the luminance half-life measurement is started. No spots were observed. In Example 58, the current efficiency in the initial state was 2.1 (cd / A), the luminance half-life was 5000 hours or more, and no dark spot was observed when 100 hours had elapsed after the luminance half-life measurement was started. The main cause of the difference between the current efficiencies measured in Examples 35 to 57 and the current efficiencies measured in Examples 58 to 71 is considered to be due to the presence or absence of coloring of the cured sealant.

表5

Figure 2009259656
Table 5
Figure 2009259656

Figure 2009259656
Figure 2009259656

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Figure 2009259656
Figure 2009259656

表6

Figure 2009259656
Table 6
Figure 2009259656

上述の結果から明らかなように、本発明の実施例である平均粒径が100nm以下の固体の乾燥剤粒子を用いた場合は、固体の乾燥剤粒子を含まない比較例9と比較して、同等の電流効率を示した。これは、封止剤の透明性に起因すると考えられる。それに対して平均粒径が100nmより大きい固体の乾燥剤粒子を用いた場合である比較例7および比較例8は、いずれも電流効率が劣る結果となった。これは、封止剤の透過率が低いことに起因すると考えられる。また、本発明の平均粒径が100nm以下の固体の乾燥剤粒子を用いたばあいは、平均粒径が100nmより大きい固体封止剤を用いた場合である比較例7および比較例8と比べ、輝度半減寿命が長い結果となった。これは、固体の乾燥剤粒子の微細化により粒子の表面積が増加したことで、封止剤の樹脂中を拡散して進入する水分を吸着する効果が高まったことによると考えられる。   As is apparent from the above results, when solid desiccant particles having an average particle diameter of 100 nm or less, which is an example of the present invention, were used, compared with Comparative Example 9 that does not include solid desiccant particles, Equivalent current efficiency was shown. This is considered due to the transparency of the sealant. On the other hand, Comparative Example 7 and Comparative Example 8 in which solid desiccant particles having an average particle size larger than 100 nm were used resulted in poor current efficiency. This is considered due to the low transmittance of the sealant. Further, when solid desiccant particles having an average particle diameter of 100 nm or less according to the present invention are used, the solid sealing agent having an average particle diameter larger than 100 nm is used as compared with Comparative Example 7 and Comparative Example 8. As a result, the luminance half-life was long. This is thought to be due to the fact that the surface area of the particles increased due to the refinement of the solid desiccant particles, thereby increasing the effect of adsorbing moisture that diffuses and enters the encapsulant resin.

Claims (13)

固体の乾燥剤粒子と硬化性樹脂とを含む封止剤であり、前記固体の乾燥剤粒子の平均粒径が100nm以下であることを特徴とする封止剤。   An encapsulant comprising solid desiccant particles and a curable resin, wherein the mean particle size of the solid desiccant particles is 100 nm or less. 固体の乾燥剤粒子が粒径100nmより大きい粒子を含有しないことを特徴とする請求項1記載の封止剤。   2. The sealant according to claim 1, wherein the solid desiccant particles do not contain particles larger than 100 nm. 固体の乾燥剤粒子が、酸化バリウム、酸化ストロンチウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、硫酸カルシウム、塩化カルシウム、塩化リチウム、臭化カルシウム、炭酸カリウム、硫酸銅、硫酸ナトリウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、塩化コバルト、五酸化二リン、シリカゲル、酸化アルミニウム、および、ゼオライトのうち少なくとも1つを含むことを特徴とする、請求項1又は2記載の封止剤。   Solid desiccant particles are barium oxide, strontium oxide, calcium oxide, magnesium oxide, calcium sulfate, calcium chloride, lithium chloride, calcium bromide, potassium carbonate, copper sulfate, sodium sulfate, zinc chloride, zinc bromide, cobalt chloride 3. The sealant according to claim 1, comprising at least one of phosphorous pentoxide, silica gel, aluminum oxide, and zeolite. 硬化性樹脂が光カチオン重合開始剤とカチオン重合性化合物とを含む硬化性樹脂であることを特徴とする請求項1〜3いずれか記載の封止剤。   The sealing agent according to any one of claims 1 to 3, wherein the curable resin is a curable resin containing a cationic photopolymerization initiator and a cationically polymerizable compound. 光カチオン重合開始剤がボレートアニオンを含んでなる請求項4記載の封止剤。   The sealing agent according to claim 4, wherein the cationic photopolymerization initiator comprises a borate anion. ボレートアニオンが下記一般式(1)であらわされる請求項5記載の封止剤。
一般式(1)
Figure 2009259656


(ただし、Yはフッ素または塩素原子、Zは、フッ素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基の中から選ばれる基で2つ以上置換されたフェニル基、mは0から3の整数、nは1から4の整数を表し、m+n=4である。)
The sealant according to claim 5, wherein the borate anion is represented by the following general formula (1).
General formula (1)
Figure 2009259656


Wherein Y is a fluorine or chlorine atom, Z is a phenyl group substituted with two or more groups selected from fluorine atom, cyano group, nitro group and trifluoromethyl group, m is an integer of 0 to 3, n represents an integer of 1 to 4, and m + n = 4.)
光カチオン重合開始剤がスルホニウムカチオンを含んでなる請求項4〜6いずれか記載の封止剤。   The sealing agent according to any one of claims 4 to 6, wherein the cationic photopolymerization initiator comprises a sulfonium cation. スルホニウムカチオンが下記一般式(2)で表される請求項7記載の封止剤。
一般式(2)
Figure 2009259656


(ただし、R1は、置換されたベンジル基、置換されたフェナシル基、置換されたアリル基、置換されたアルコキシル基、置換されたアリールオキシ基より選ばれる基を、R2およびR3はそれぞれ独立に、置換基を有してもよいベンジル基、置換基を有してもよいフェナシル基、置換基を有してもよいアリル基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、または、置換基を有してもよいアルケニル基より選ばれる基を、R4は酸素原子もしくは孤立電子対を示す。また、R1、R2およびR3はその2個以上の基が結合して環状構造となってもよい。)
The sealing agent according to claim 7, wherein the sulfonium cation is represented by the following general formula (2).
General formula (2)
Figure 2009259656


(Wherein R 1 is a group selected from a substituted benzyl group, a substituted phenacyl group, a substituted allyl group, a substituted alkoxyl group, and a substituted aryloxy group; R 2 and R 3 are each Independently, a benzyl group which may have a substituent, a phenacyl group which may have a substituent, an allyl group which may have a substituent, an alkoxyl group which may have a substituent, a substituent A group selected from an aryloxy group that may have, an alkyl group that may have a substituent, an aryl group that may have a substituent, or an alkenyl group that may have a substituent; 4 represents an oxygen atom or a lone pair, and R 1 , R 2, and R 3 may be combined with two or more groups to form a cyclic structure.
請求項1〜8いずれか記載の封止剤に活性エネルギー線の照射をすること、または、加熱すること、あるいはその両方を行うことによって得られる封止剤硬化物の製造方法。   The manufacturing method of the sealing agent hardened | cured material obtained by irradiating active energy rays to the sealing agent in any one of Claims 1-8, or heating, or both. 活性エネルギー線が紫外光または可視光あるいはその両方を含む光であることを特徴とする請求項9記載の封止剤硬化物の製造方法。   The method for producing a cured sealant according to claim 9, wherein the active energy ray is light including ultraviolet light, visible light, or both. 請求項9又は10記載の製造方法で得られる封止剤硬化物。   A sealant cured product obtained by the production method according to claim 9 or 10. 請求項1〜8いずれか記載の封止剤を用いて電子デバイスを封止することを特徴とする封止された電子デバイスの製造方法。   The manufacturing method of the sealed electronic device characterized by sealing an electronic device using the sealing agent in any one of Claims 1-8. 請求項12記載の製造方法で製造された、封止された電子デバイス。   An encapsulated electronic device manufactured by the manufacturing method according to claim 12.
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