JP2015011161A - 光学部材及び撮像装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 低反射率特性と防塵特性に優れた光学部材及び撮像装置を提供する。
【解決手段】 基材10の上に配置された屈折率が基材10の屈折率以下であり、100nm以上200nm以下である複数の第1粒子21と、第1粒子21と基材10とで構成される空間に配置された屈折率が基材10の屈折率以下である充填材22と、を含み、第1粒子21が基材10の上に1層のみで構成されている下地層20と、下地層20の上に、屈折率が第1粒子21の屈折率以下であり、10nm以上50nm以下である複数の第2粒子30を含む粒子層と、を有する光学部材である。
【選択図】 図1
【解決手段】 基材10の上に配置された屈折率が基材10の屈折率以下であり、100nm以上200nm以下である複数の第1粒子21と、第1粒子21と基材10とで構成される空間に配置された屈折率が基材10の屈折率以下である充填材22と、を含み、第1粒子21が基材10の上に1層のみで構成されている下地層20と、下地層20の上に、屈折率が第1粒子21の屈折率以下であり、10nm以上50nm以下である複数の第2粒子30を含む粒子層と、を有する光学部材である。
【選択図】 図1
Description
本発明は、基材上に低屈折率層を備える光学部材及びその光学部材を備えた撮像装置に関する。
デジタルカメラ等の撮像装置では、撮影光束をCCDやC−MOS等の撮像素子で受光し、その撮像素子から出力される光電変換信号を画像データに変換して、メモリカード等の記録媒体に記録する。このような撮像装置では、撮像素子の被写体側に、ローパスフィルタや赤外線カットフィルタなどの光学フィルタが配置されている。
デジタルカメラではシャッタ等の機械的な作動部が光学フィルタ近傍に配置されており、それらの作動部から発生した塵埃等の異物が、光学フィルタに付着することがある。また、レンズ交換時に、デジタルカメラの外部の塵埃等が、レンズマウントの開口からデジタルカメラ本体内に入り込み、光学フィルタに付着することもある。光学フィルタに塵埃が付着すると、その付着部分が黒い点となって撮影画像に写り込んでしまい、撮影画像の品質を低下させてしまうことがある。
特許文献1には、塵埃の付着を抑制するために、光学フィルタの表面にフッ素を含む材料から構成された異物付着防止膜を形成することが開示されている。また、特許文献2には、光透過性部材の上に花弁状アルミナ膜からなる微細凹凸構造を有する防塵膜を形成することが開示されている。
しかし、特許文献1に記載された異物付着防止膜では、防塵特性は改善されるが、表面の反射率が大きくなってしまう。特許文献2に記載された防塵膜では、機械強度が弱く、簡単に凹凸構造が壊れるため、安定した反射率特性や防塵特性が得られない。
本発明の目的は、低反射率特性と防塵特性に優れた光学部材及び撮像装置を提供することである。
本発明の光学部材は、基材と、前記基材の上に配置された屈折率が前記基材の屈折率以下であり、100nm以上200nm以下である複数の第1粒子と、前記第1粒子と前記基材とで構成される空間に配置された屈折率が前記基材の屈折率以下である充填材と、を含み、前記第1粒子が前記基材の上に1層のみで構成されている下地層と、前記下地層の上に、屈折率が前記第1粒子の屈折率以下であり、10nm以上50nm以下である複数の第2粒子を含む粒子層と、を有することを特徴とする。
本発明によれば、低反射率特性と防塵特性に優れた光学部材及び撮像装置を提供することができる。
以下、本発明の実施の形態を示して、本発明を詳細に説明する。本明細書で特に図示または記載されない部分に関しては、当該技術分野の周知または公知技術を適用する。
図1は、本発明の光学部材の断面図を示している。本発明の光学部材は、基材10と、基材10の上に配置された複数の第1粒子21を含む下地層20と、粒径が第1粒子21の粒径よりも小さく、屈折率が第1粒子21の屈折率以下である複数の第2粒子30と、を有している。
また、下地層20の第1粒子21は、基材10の上に1層のみで構成されている。下地層20は、複数の第1粒子21の他に、第1粒子21と基材10とで構成される空間に配置された、屈折率が基材10の屈折率以下である充填材22をさらに含んでいる。ただし充填材22は、第1粒子21を完全に覆うのではなく、少なくとも第1粒子21の表面が露出するように形成されている。なお、第1粒子21の屈折率は、基材10の屈折率以下である。このため、下地層20の屈折率は、基材10の屈折率よりも低い屈折率を有している。
そして、複数の第2粒子30を含む粒子層は、下地層20の上に、下地層20の表面の形状にならって形成される。この結果、光学部材の表面には、図1で示すように凹凸構造が形成される。
上記の構成により、本発明の光学部材は、基材10から表面に向かって実質的に屈折率が小さくなるように構成されるため、基材10のみからなる構成に対して反射率を低減することができる。
また、光学部材の表面は、凹凸構造を有することにより、光学部材の防塵特性を高めることができる。
防塵特性の向上のメカニズムを本発明者らは以下のように推測している。一般に、表面に凹凸がない場合、表面全体に塵埃を吸引する力(付着力)が発生する。一方、本発明の光学部材では、その表面の凸部にのみ付着力が発生する。
図2は、液架橋による付着力を模式的に示したものである。物体71(もしくは81)と塵埃72間に液体73があると、物体71(もしくは81)と塵埃72間に液架橋が形成され、その液架橋の空気界面の内側(液側)と外側(空気側)で圧力が異なり、液側の圧力の方が低い。空気側の圧力が大気圧に等しく、液側の圧力が大気圧より低い負圧となる。この負圧Pは、式1で表わされる。また、付着力Fは式2で表わされ、負圧Pに塵埃72との接触面積Sをかけた値となる。ここで、R1は、物体71(もしくは81)と塵埃72の間に形成される液体73の空気界面の曲率半径であり、R2は物体71(もしくは81)と液体73の接触領域の半径である。また、接触面積Sは、物体71(もしくは81)の表面積S0と表面における凸部の比率βとの積で表される。σは定数である。
P=σ(1/R1−1/R2) ・・・式1
F=PS=PS0β ・・・式2
図2(a)は、物体71の表面が平滑な面である場合を示し、R2は塵埃72の半径Rとなる。図2(b)は物体81が表面に複数の凸部を有する場合を示し、この場合R2は凸部の幅の半分R´となる。この凸部が、図1の下地層20の表面の凹凸形状にならって形成された粒子層の表面での凸部に対応する。
P=σ(1/R1−1/R2) ・・・式1
F=PS=PS0β ・・・式2
図2(a)は、物体71の表面が平滑な面である場合を示し、R2は塵埃72の半径Rとなる。図2(b)は物体81が表面に複数の凸部を有する場合を示し、この場合R2は凸部の幅の半分R´となる。この凸部が、図1の下地層20の表面の凹凸形状にならって形成された粒子層の表面での凸部に対応する。
付着力を小さくするためには、式1で示すように、R2をR1の値に近づけること、つまり、物体71(もしくは81)と液体73の接触面積を小さくすればよいことがわかる。
一方、式2で示すように、表面における凸部の比率βを小さくしても付着力を小さくすることができる。βを小さくするためには、凸部の幅Lを小さくする他、凸部の間の距離Sを大きくすることでも達成することができる。
さらに、本発明の光学部材では、下地層20の表面の形状にならった凹凸構造の中にも、第2粒子30によって小さい凹凸形状が形成されるため、より接触面積を小さくすることができる。このため、本発明の光学部材は、より防塵効果が高くなる。
基材10としては、目的に応じて任意の材料を使用することができる。基材10の材料としては、例えば石英ガラス、水晶、赤外線カットガラスなどが透明性、耐熱性、強度の観点から好ましい。また、基材10は異なる材料からなる層が積層された構成でもかまわない。
基材10は透明であることが好ましい。基材10の透過率は可視光領域(450nm以上650nm以下の波長領域)で50%以上であることが好ましく、さらに好ましくは60%以上がよい。透過率が50%よりも小さい場合は光学部材として使用する際に問題が発生する場合がある。また、基材10のヘイズ値は0.10%以下のものが好ましい。また、基材10がローパスフィルタや赤外線カットフィルタ、レンズの材料であってもよい。
下地層20は、上述したように、複数の第1粒子21と、充填材22と、を有している。下地層20の膜厚は、第1粒子21の粒径と同じである。また、下地層20の屈折率は、基材10の屈折率以下である。下地層20の表面自体には、第1粒子21の形状にならって凹凸構造が形成される。
第1粒子21は、基材10の上に1層のみで構成され、その屈折率は基材10の屈折率以下である。また、第1粒子21の屈折率は、第2粒子30の屈折率以上とすることが、より反射防止機能を高める点で好ましい。第1粒子21の粒径は、100nm以上200nm以下であることが好ましい。この粒径が100nmより小さいと、光学部材の表面の実質的な屈折率の変化が急峻になってしまい、反射防止効果が低減する。また、粒径が100nm以上であると、最表面の凹凸構造のピッチが大きくなり、塵埃との接触点(接触面積)が小さくなるため、防塵性能が向上する。また、粒径が200nmより大きいと、光学部材の散乱の大きくなり、ヘイズ値が10%程度になってしまうため、光学部材としては適さない。
第1粒子21は屈折率と粒子粒径が上記の範囲であれば、材質は特に限定されるものではない。第1粒子21は、好適には、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化イットリウムの粒子あるいは前記酸化物を二種類以上複合した粒子が用いられる。そのほかに、第1粒子21としては、ポリスチレン、シリコーン、ナイロン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタラート、スチレンアクリル、ポリイミド、ポリ乳酸の粒子などが用いられる。第1粒子21は屈折率を低くするために、粒子の内部に空洞あるいは、表面に孔を有していてもよい。具体的には1nm以上10nmの孔を有する構造や中空状の粒子(中空粒子)を使用してもよい。
基材10上に第1粒子21を1層で積層する方法としては、スピンコート法、ディップコーティング法、キャピラリーコート法などが好適に用いられる。より具体的には、単分散で安定な第1粒子21のコロイド液を調製し、上記の方法を用いて基材10上にそのコロイド液を塗布する。塗布したコロイド液中の第1粒子21は、溶媒の揮発とともに密に凝集されて、基材10上に1層のみの単層を形成する。コロイド液の濃度や粘度は、上記の各方法に対応して調製する。
また、コロイド液中に第1粒子21を安定に分散させる為に、第1粒子21の表面を修飾して、表面の化学状態を変化させてもよい。具体的には無機酸化物粒子の表面にシランカップリング剤等を用いて有機修飾させてもよい。
また、ラングミミュアーブロジェット法も第1粒子21を1層のみで基材10の上に積層する方法として好適に用いることができる。展開槽と呼ばれる液相にコロイド液を滴下し、展開槽の液相と気相の界面に第1粒子21の単層を形成する。更に、基材10を展開槽に浸漬して第1粒子21の単層を基材10に写し取ることにより、基材10上に第1粒子21の単層を形成することができる。
充填材22は、複数の第1粒子21と基材10との間に形成される空間を少なくとも充填している。この空間が充填されているため、光学部材の散乱が抑制される。具体的には、充填材22は、基材10から第1粒子21の半径分の高さまで充填されていればよい。また、それ以上の高さまで充填材22が形成されていてもよいが、高い防塵特性を得るには、第1粒子21の表面が露出して、下地層20の表面に凹凸構造が形成されている必要がある。
充填材22の屈折率は、基材10の屈折率以下である。また、光学部材の表面から基材10にかけて徐々に屈折率が大きくして反射防止効果がより高まるため、充填材22の屈折率は、第2粒子30の屈折率以上、さらには第1粒子21の屈折率以上であることがより好ましい。
充填材22の材質は、屈折率が上記の範囲であれば特に限定されるものではない。例えば、充填材22の材質は、単量体、二量体、三量体以上の有機高分子、ゾル−ゲル法で得られる無機高分子などを用いることができる。有機高分子としては、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル及びその誘導体、エポキシ樹脂からなる群などが挙げられる。また充填材22としては、ゾル−ゲル法により作製した無機材料でもかまわない。具体的な例としては、酸化ケイ素が挙げられる。そのほかに、上記の無機材料としては、酸化アルミ、酸化チタン、酸化ジルコニウムなどの高屈折率材料と酸化ケイ素やフッ化マグネシウムなどの低屈折率材料を組合せた材料でも構わない。また、充填材22は、より充填しやすく、充填率の制御が行いやすいものとして、重合度の低い高分子も好適に用いるこができる。
充填材22の材料を、第1粒子21と基材10との間の空間に浸入させる方法として、例えばディップコート法、スピンコート法、スプレー法ならびにこれらの併用等、既知の充填手段を適宜採用することができる。また、その他の方法として、充填材22を蒸着させる方法も採用することができる。なお、第1粒子21と基材10との間の空間に充填材22を浸入させやすくするため、充填材22に粘度や表面張力を調製する溶剤を加えてもよい。また、第1粒子21と基材10との間の空間に充填材22を強制的に浸入させるため、密閉容器中で脱気しながら充填してもよい。充填材22が有機材料を含有する場合には、基材10への付着性を上げるために、充填材22にシランカップリング剤を加えてもよい。
また、充填材22の屈折率を調整するために、充填材22としては屈折率の異なる複数の材料を組み合わせて用いてもよい。さらに、充填材22が複数の機能を備えるように、多種の材料を充填材22として組み合わせてもよい。
充填材22は、第1粒子21と基材10との間の空間を充填した後、固定するために硬化させることが好ましい。充填材22を硬化させる方法として、充填材22の材料が熱硬化性であれば熱で硬化させ、光硬化性物質であれば光重合開始剤を添加して光照射により硬化させる。
第2粒子30を含む粒子層は、下地層20の第1粒子21によって形成された凹凸構造にならって、下地層20(第1粒子21)の上に形成されている。第2粒子30の屈折率は、第1粒子の屈折率以下である。第2粒子30の粒径は、第1粒子21の粒径よりも小さければよいが、より防塵特性を高めるという観点で10nm以上50nm以下であることが好ましい。なお、第2粒子30は1つの第1粒子21の上に複数個積層されていることが好ましく、下地層20の面積の60%以上を覆っていれば、屈折率の実質的な傾斜構造が形成されて低い反射率が得られ、かつ防塵性能を高めることができるために好ましい。
第2粒子30は屈折率と粒子粒径が上記の範囲であれば、材質は特に限定されるものではない。第2粒子30は、好適には、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化イットリウムの粒子あるいは前記酸化物を二種類以上複合した粒子が用いられる。そのほかに、第1粒子21としては、ポリスチレン、シリコーン、ナイロン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタラート、スチレンアクリル、ポリイミド、ポリ乳酸の粒子などが用いられる。第2粒子30は屈折率を低くするために、粒子の内部に空洞あるいは、表面に孔を有していてもよい。具体的には1nm以上10nmの孔を有する構造や中空粒子を使用してもよい。
下地層20の上に複数の第2粒子30を含む粒子層を積層する方法としては、スピンコート法、ディップコーティング法、キャピラリーコート法などが好適に用いられる。より具体的には、単分散で安定な第2粒子30のコロイド液を調製し、上記の方法を用いて基材10上にそのコロイド液を塗布する。塗布したコロイド液中の第2粒子30は、溶媒の揮発とともに密に凝集されて、下地層20の上に第2粒子30を含む粒子層を形成する。コロイド液の濃度や粘度は、上記の各方法に対応して調製する。
また、コロイド液中に第2粒子30を安定に分散させる為に、第2粒子30の表面を修飾して、表面の化学状態を変化させてもよい。具体的には無機酸化物粒子の表面にシランカップリング剤等を用いて有機修飾させてもよい。
また、この粒子層は、第1粒子21によって形成された凹凸構造が反映されるならば、第2粒子30の単層であってもよいし、第2粒子30が積層された構成であってもよい。
また、光学部材の物理強度を補強する目的で、第1粒子21と第2粒子30の界面、または第2粒子30どうしの界面の密着性をあげる補強材を、第2粒子30を形成する際に溶液(コロイド液)に添付してもよい。具体的には、補強材としては、シランカップリング剤や、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル及びその誘導体、エポキシ樹脂からなる群などが挙げられる。また、これらの補強材を第2粒子30の塗布後に、ディップコート法、スピンコート法、スプレー法などにより塗布してもよいし、補強材を気体状態にして蒸着させてもよい。また、第2粒子30の塗布後に、所定の温度の熱をかけて第2粒子30の表面を溶融し、隣接する第2粒子30どうしを結着させてもよい。
本発明の光学部材は、以上説明した部材、構成の他に、各種機能を付与するための層を更に有することができる。例えば、撥水性を付与するためにフルオロアルキルシランやアルキルシランなどの撥水性層が、光学部材の最表面に設けられていてもよい。ただし、光学部材の最表面に下地層20、第2粒子30の形状が反映されるように、上記撥水性層やその他の機能層が設けられている必要がある。
また、基材10と下地層20との密着性を向上させるために接着剤層やプライマー層が設けられていてもよい。そのほか、基材10と下地層20との間に、基材10の屈折率と下地層20の屈折率との間の屈折率を有する中間層を設けてもよい。この中間層は、単層でもよく2層以上積層されていてもよい。中間層の屈折率は、基材10から下地層20に向かって徐々に小さくなる構成が、反射防止性能を向上させる上で好ましい。この中間層の膜厚は1nm以上100nm以下であることが望ましい。
本発明の光学部材は、具体的にはテレビやコンピュータなどの各種ディスプレイ、液晶表示装置に用いる偏光板、カメラ用ファインダーレンズ、プリズム、フライアイレンズ、トーリックレンズなどの光学部材、さらにはそれらを用いた撮影光学系、双眼鏡などの観察光学系、液晶プロジェクターなどに用いる投射光学系、レーザービームプリンターなどに用いる走査光学系などの各種レンズなどが挙げられる。
本発明の光学部材は、デジタルカメラやデジタルビデオカメラのような撮像装置にも搭載されてもよい。特に、本発明の光学部材は、ローパスフィルタなどの撮像装置で効果的に使用することができる。ローパスフィルタなどの光学フィルタは最表面の一枚に防塵特性を付与することが重要であるため複数枚で使用することがなく、各光学部材に求められる散乱のマージンが大きい。また、そのような光学フィルタは曲率を有さない形状が多いため、斜入射による散乱が問題となりにくい。したがって、凸部は、高い防塵性を備える範囲の大きさで形成しても、散乱が問題にならない。このため、本発明の光学部材を備えた撮像装置は、低散乱で高い防塵特性を備えることができる。
図3は、本発明の光学部材を用いたカメラ(撮像装置)、具体的には、レンズからの被写体像を、光学フィルタを通して撮像素子上に結像させるための撮像装置示す断面模式図である。
撮像装置300は、本体310と、取り外し可能なレンズ320と、を備えている。デジタル一眼レフカメラ等の撮像装置では、撮影に使用する撮影レンズを焦点距離の異なるレンズに交換することにより、様々な画角の撮影画面を得ることができる。本体310は、撮像素子311と、赤外線カットフィルタ312と、ローパスフィルタ313と、本発明の光学部材203と、を有している。なお、光学部材203は、図1で示したように基材10と、下地層20、粒子層と、を備えている。
また、光学部材203とローパスフィルタ313は一体で形成されていてもよいし別体であってもよい。また、光学部材203がローパスフィルタを兼ねる構成であってもよい。つまり、光学部材203の基材がローパスフィルタであってもよい。
撮像素子311は、パッケージ(不図示)に収納されており、このパッケージはカバーガラス(不図示)にて撮像素子311を密閉状態で保持している。また、ローパスフィルタ313や赤外線カットフィルタ312等の光学フィルタと、カバーガラスとの間は、両面テープ等の密封部材にて密封構造となっている(不図示)。なお、光学フィルタとして、ローパスフィルタ313および赤外線カットフィルタ312を両方備える例について記載するが、いずれか一方であってもよい。
本発明の光学部材203の表面付近は凹凸構造を有しているので、ゴミ付着抑制などの防塵性能に優れている。
よって、光学部材203が光学フィルタの撮像素子311とは反対側に位置するように配置されている。そして、下地層20、粒子層が基材10よりも撮像素子311から遠くなるように光学部材が配置されている。言い換えれば、撮像素子311側から基材10、下地層20、粒子層の順に位置するように光学部材203が配置されるのが好ましい。また、光学部材203と撮像素子311とが、光学部材203を透過した像を撮像素子311が撮像できるように互いに配置されている。
また、本発明の撮像装置300は、振動等を与えて塵埃を除去するための塵埃除去装置(不図示)を設けてもよい。塵埃除去装置は、振動部材、圧電素子などを有する構成である。
塵埃除去装置は、撮像素子311と、光学部材203との間であればどの位置に配置されていてもよい。例えば、光学部材203に振動部材が接触するように設けられていてもよいし、ローパスフィルタ313に振動部材が接触するように設けられていてもよいし、赤外線カットフィルタ312に振動部材が接触するように設けられていてもよい。特に、光学部材203に接触して設けられる場合には、本発明の光学部材203は塵埃が付着しづらいので、より効率的に塵埃を除去することができる。
なお、塵埃除去装置の振動部材が光学部材203やローパスフィルタ313、赤外線カットフィルタ312などの光学フィルタと一体形成されていてもよい。また、振動部材が光学部材203で構成されていてもよいし、ローパスフィルタ313、赤外線カットフィルタ312などの機能を有していてもよい。
以下に実施例について説明するが、本発明は実施例によって制限されるものではない。
<塗工液1>
平均粒子径200nmの酸化ケイ素粒子を含有する2−プロパノール(以下IPAと略す)分散液(商品名:クォートロンPL−20−IPA、扶桑化学工業社製)を50wt%、IPAを50wt%を混合して塗工液1を得た。
平均粒子径200nmの酸化ケイ素粒子を含有する2−プロパノール(以下IPAと略す)分散液(商品名:クォートロンPL−20−IPA、扶桑化学工業社製)を50wt%、IPAを50wt%を混合して塗工液1を得た。
<塗工液2>
平均粒子径100nmの酸化ケイ素を含有するIPA分散液(商品名:IPA−ST−ZL、日産化学工業社製)を5wt%、ポリビニルアルコール重合度500(以下PVAと略す)を5wt%、純水を90%混合して塗工液2を得た。
平均粒子径100nmの酸化ケイ素を含有するIPA分散液(商品名:IPA−ST−ZL、日産化学工業社製)を5wt%、ポリビニルアルコール重合度500(以下PVAと略す)を5wt%、純水を90%混合して塗工液2を得た。
<塗工液3>
平均粒子径300nmの酸化ケイ素粒子分散液(日産化学工業社製)を50wt%、純水を50wt%混合して塗工液3を得た。
平均粒子径300nmの酸化ケイ素粒子分散液(日産化学工業社製)を50wt%、純水を50wt%混合して塗工液3を得た。
<塗工液4>
平均粒子径50nmの酸化ケイ素粒子分散液(日産化学工業社製)を12.5wt%、純水を87.5wt%混合して塗工液4を得た。
平均粒子径50nmの酸化ケイ素粒子分散液(日産化学工業社製)を12.5wt%、純水を87.5wt%混合して塗工液4を得た。
<充填材塗工液>
パーヒドロポリシラザン(以下PHPSと略す)ジブチルエーテル溶液(商品名:アクアミカNN−320−20、Azエレクトロニクス社製)をジブチルエーテル溶媒で15倍に希釈して充填材塗工液を得た。
パーヒドロポリシラザン(以下PHPSと略す)ジブチルエーテル溶液(商品名:アクアミカNN−320−20、Azエレクトロニクス社製)をジブチルエーテル溶媒で15倍に希釈して充填材塗工液を得た。
<塗工液A>
平均粒子径20nmの酸化ケイ素粒子を含有するIPA分散液(商品名:IPA−ST−ZL、日産化学工業社製)を5wt%、PVAを5wt%、純水を90%混合して塗工液Aを得た。
平均粒子径20nmの酸化ケイ素粒子を含有するIPA分散液(商品名:IPA−ST−ZL、日産化学工業社製)を5wt%、PVAを5wt%、純水を90%混合して塗工液Aを得た。
<塗工液B>
トリエタノールアミン0.42g、セチルトリメチルアンモニウムブロミド2.00gを純水240g中に溶解させ溶液を得た。この溶液を80℃まで加熱し、溶液にテトラメチルオルソシリケート8.37gを少しずつ滴下し、2時間よく攪拌を行った。得られた液をナンバー5Bの濾紙で濾過を行い、塗工液Bを得た。塗工液B中の粒子の平均粒子径を動的光散乱法(粒度分布測定装置名:ゼータサイザーナノS、マルバーン社製)で計測すると、約20nmであった。
トリエタノールアミン0.42g、セチルトリメチルアンモニウムブロミド2.00gを純水240g中に溶解させ溶液を得た。この溶液を80℃まで加熱し、溶液にテトラメチルオルソシリケート8.37gを少しずつ滴下し、2時間よく攪拌を行った。得られた液をナンバー5Bの濾紙で濾過を行い、塗工液Bを得た。塗工液B中の粒子の平均粒子径を動的光散乱法(粒度分布測定装置名:ゼータサイザーナノS、マルバーン社製)で計測すると、約20nmであった。
<塗工液C>
平均粒子径50nmの中空シリカ粒子(商品名:スルーリア1110、日揮触媒化成社製)4wt%をエチルセロソルブ溶媒96wt%中に分散させ塗工液Cを調製した。
平均粒子径50nmの中空シリカ粒子(商品名:スルーリア1110、日揮触媒化成社製)4wt%をエチルセロソルブ溶媒96wt%中に分散させ塗工液Cを調製した。
<塗工液D>
17.2gのアルミニウムイソプロポキシドと、4.56gの3−オキソブタン酸エチルエステルと、4−メチル−2−ペンタノールとを均一になるまで混合攪拌した。1.26gの0.01M希塩酸を4−メチル−2−ペンタノール/1−エトキシ−2−プロパノールの混合溶媒に溶解してから、先程のアルミニウムイソプロポキシドの溶液にゆっくり加え、暫く攪拌した。溶媒は最終的に53.2gの4−メチル−2−ペンタノールと22.8gの1−エトキシ−2−プロパノールの混合溶媒になるように調製した。さらに120℃のオイルバス中で3時間以上攪拌することによって塗工液Dを得た。塗工液D中の微粒子の平均粒子径を動的光散乱法で計測すると、約5nmであった。
17.2gのアルミニウムイソプロポキシドと、4.56gの3−オキソブタン酸エチルエステルと、4−メチル−2−ペンタノールとを均一になるまで混合攪拌した。1.26gの0.01M希塩酸を4−メチル−2−ペンタノール/1−エトキシ−2−プロパノールの混合溶媒に溶解してから、先程のアルミニウムイソプロポキシドの溶液にゆっくり加え、暫く攪拌した。溶媒は最終的に53.2gの4−メチル−2−ペンタノールと22.8gの1−エトキシ−2−プロパノールの混合溶媒になるように調製した。さらに120℃のオイルバス中で3時間以上攪拌することによって塗工液Dを得た。塗工液D中の微粒子の平均粒子径を動的光散乱法で計測すると、約5nmであった。
<塗工液E>
平均粒子径50nmの酸化ケイ素IPA分散液を5wt%、テトラエチルオルソシリケートを5.0wt%、28wt%アンモニア水溶液を0.1wt%混合して塗工液Eを調製した。塗工液E中の微粒子の平均粒子径を動的光散乱法で計測すると、約60nmであった。
平均粒子径50nmの酸化ケイ素IPA分散液を5wt%、テトラエチルオルソシリケートを5.0wt%、28wt%アンモニア水溶液を0.1wt%混合して塗工液Eを調製した。塗工液E中の微粒子の平均粒子径を動的光散乱法で計測すると、約60nmであった。
<実施例1>
塗工液1を石英ガラス基材の上に滴下し、5000rpmで20秒スピンコートを行った。その後、150℃のホットプレートにて20分乾燥した。
その石英ガラス基材の上に、上記充填材塗工液を滴下し3000rpmで20秒スピンコートを行った。その後、紫外線照射装置にて試料に紫外線を10分間照射し、PHPSをシリカ転化させた。そして、充填材塗工液とシリカ転化の作業を3回繰り返して行うことにより、基材の上に下地層を得た。
その次に、下地層の上に塗工液Aを滴下し、3000rpmで30秒スピンコートした。その後、400℃のホットプレートにて1時間焼成し、残存する溶媒とPVAを除去してサンプルを得た。
このサンプルをSEMで観察したところ、平均粒子径200nmの酸化ケイ素粒子が単層で石英ガラス基材の上に積層されていた。平均粒子径20nmの酸化ケイ素粒子が、平均粒子径200nmの酸化ケイ素粒子の表面に積層されていた。また、平均粒子径200nmの酸化ケイ素粒子と石英ガラス基材との間には、PHPSが充填されていた。
塗工液1を石英ガラス基材の上に滴下し、5000rpmで20秒スピンコートを行った。その後、150℃のホットプレートにて20分乾燥した。
その石英ガラス基材の上に、上記充填材塗工液を滴下し3000rpmで20秒スピンコートを行った。その後、紫外線照射装置にて試料に紫外線を10分間照射し、PHPSをシリカ転化させた。そして、充填材塗工液とシリカ転化の作業を3回繰り返して行うことにより、基材の上に下地層を得た。
その次に、下地層の上に塗工液Aを滴下し、3000rpmで30秒スピンコートした。その後、400℃のホットプレートにて1時間焼成し、残存する溶媒とPVAを除去してサンプルを得た。
このサンプルをSEMで観察したところ、平均粒子径200nmの酸化ケイ素粒子が単層で石英ガラス基材の上に積層されていた。平均粒子径20nmの酸化ケイ素粒子が、平均粒子径200nmの酸化ケイ素粒子の表面に積層されていた。また、平均粒子径200nmの酸化ケイ素粒子と石英ガラス基材との間には、PHPSが充填されていた。
<実施例2>
本実施例は、塗工液Aをスピンコートさせる際の回転数を5000rpmとした点が実施例1と異なり、その他は同じ方法でサンプルを得た。
本実施例は、塗工液Aをスピンコートさせる際の回転数を5000rpmとした点が実施例1と異なり、その他は同じ方法でサンプルを得た。
<実施例3>
本実施例は、実施例1と下地層を形成するまでは同じ方法を用いた。
その次に、下地層の上に塗工液Bを滴下し、1000rpmで30秒スピンコートした。その後、400℃のホットプレートにて1時間焼成し、残存する溶媒と鋳型に用いていたセチルトリメチルアンモニウムブロミドを除去してサンプルを得た。
本実施例は、実施例1と下地層を形成するまでは同じ方法を用いた。
その次に、下地層の上に塗工液Bを滴下し、1000rpmで30秒スピンコートした。その後、400℃のホットプレートにて1時間焼成し、残存する溶媒と鋳型に用いていたセチルトリメチルアンモニウムブロミドを除去してサンプルを得た。
<実施例4>
本実施例は、実施例1と下地層を形成するまでは同じ方法を用いた。
その次に、下地層の上に塗工液Cを滴下し、5000rpmで30秒スピンコートした。その後、400℃のホットプレートにて1時間焼成し、残存する溶媒を除去してサンプルを得た。
本実施例は、実施例1と下地層を形成するまでは同じ方法を用いた。
その次に、下地層の上に塗工液Cを滴下し、5000rpmで30秒スピンコートした。その後、400℃のホットプレートにて1時間焼成し、残存する溶媒を除去してサンプルを得た。
<実施例5>
塗工液2を石英ガラス基材の上に滴下し、3000rpmで30秒スピンコートを行った。その後、400℃のホットプレートにて1時間焼成した。
その石英ガラス基材の上に、上記充填材塗工液を滴下し3000rpmで20秒スピンコートを行った。その後、紫外線照射装置にて試料に紫外線を10分間照射し、PHPSをシリカ転化させた。そして、充填材塗工液とシリカ転化の作業を2回繰り返して行うことにより、基材の上に下地層を得た。
その次に、下地層の上に塗工液Aを滴下し、5000rpmで30秒スピンコートした。その後、400℃のホットプレートにて1時間焼成し、残存する溶媒とPVAを除去してサンプルを得た。
塗工液2を石英ガラス基材の上に滴下し、3000rpmで30秒スピンコートを行った。その後、400℃のホットプレートにて1時間焼成した。
その石英ガラス基材の上に、上記充填材塗工液を滴下し3000rpmで20秒スピンコートを行った。その後、紫外線照射装置にて試料に紫外線を10分間照射し、PHPSをシリカ転化させた。そして、充填材塗工液とシリカ転化の作業を2回繰り返して行うことにより、基材の上に下地層を得た。
その次に、下地層の上に塗工液Aを滴下し、5000rpmで30秒スピンコートした。その後、400℃のホットプレートにて1時間焼成し、残存する溶媒とPVAを除去してサンプルを得た。
<実施例6>
本実施例は、実施例5と下地層を形成するまでは同じ方法を用いた。
その次に、下地層の上に塗工液Bを滴下し、1000rpmで30秒スピンコートした。その後、400℃のホットプレートにて1時間焼成し、残存する溶媒と鋳型に用いていたセチルトリメチルアンモニウムブロミドを除去してサンプルを得た。
本実施例は、実施例5と下地層を形成するまでは同じ方法を用いた。
その次に、下地層の上に塗工液Bを滴下し、1000rpmで30秒スピンコートした。その後、400℃のホットプレートにて1時間焼成し、残存する溶媒と鋳型に用いていたセチルトリメチルアンモニウムブロミドを除去してサンプルを得た。
<実施例7>
本実施例は、実施例5と下地層を形成するまでは同じ方法を用いた。
その次に、下地層の上に塗工液Cを滴下し、5000rpmで30秒スピンコートした。その後、400℃のホットプレートにて1時間焼成し、残存する溶媒を除去してサンプルを得た。
本実施例は、実施例5と下地層を形成するまでは同じ方法を用いた。
その次に、下地層の上に塗工液Cを滴下し、5000rpmで30秒スピンコートした。その後、400℃のホットプレートにて1時間焼成し、残存する溶媒を除去してサンプルを得た。
<比較例1>
本比較例は、実施例1において、下地層まで形成させ、サンプルとした。
本比較例は、実施例1において、下地層まで形成させ、サンプルとした。
<比較例2>
本比較施例は、実施例1と下地層を形成するまでは同じ方法を用いた。その次に、下地層の上に塗工液Dを滴下し、5000rpmで30秒スピンコートした。その後、200℃のホットプレートにて1時間焼成し、残存する溶媒を除去してサンプルを得た。
本比較施例は、実施例1と下地層を形成するまでは同じ方法を用いた。その次に、下地層の上に塗工液Dを滴下し、5000rpmで30秒スピンコートした。その後、200℃のホットプレートにて1時間焼成し、残存する溶媒を除去してサンプルを得た。
<比較例3>
本比較例は、塗工液Dの代わりに塗工液Eを用いた点以外は比較例2と同じ方法でサンプルを得た。
本比較例は、塗工液Dの代わりに塗工液Eを用いた点以外は比較例2と同じ方法でサンプルを得た。
<比較例4>
本比較例は、実施例5において、下地層まで形成させ、サンプルとした。
本比較例は、実施例5において、下地層まで形成させ、サンプルとした。
<比較例5>
本比較施例は、実施例5と下地層を形成するまでは同じ方法を用いた。
その次に、下地層の上に塗工液Dを滴下し、5000rpmで30秒スピンコートした。その後、200℃のホットプレートにて1時間焼成し、残存する溶媒を除去してサンプル11を得た。
本比較施例は、実施例5と下地層を形成するまでは同じ方法を用いた。
その次に、下地層の上に塗工液Dを滴下し、5000rpmで30秒スピンコートした。その後、200℃のホットプレートにて1時間焼成し、残存する溶媒を除去してサンプル11を得た。
<比較例6>
塗工液3を石英ガラス基材の上に滴下し、4500rpmで20秒スピンコートを行った。その後、150℃のホットプレートにて20分乾燥した。
その石英ガラス基材の上に、上記充填材塗工液を滴下し3000rpmで20秒スピンコートを行った。その後、紫外線照射装置にて試料に紫外線を10分間照射し、PHPSをシリカ転化させた。そして、充填材塗工液とシリカ転化の作業を2回繰り返して行うことにより、サンプルを得た。
塗工液3を石英ガラス基材の上に滴下し、4500rpmで20秒スピンコートを行った。その後、150℃のホットプレートにて20分乾燥した。
その石英ガラス基材の上に、上記充填材塗工液を滴下し3000rpmで20秒スピンコートを行った。その後、紫外線照射装置にて試料に紫外線を10分間照射し、PHPSをシリカ転化させた。そして、充填材塗工液とシリカ転化の作業を2回繰り返して行うことにより、サンプルを得た。
<比較例7>
比較例6で得られたサンプルの上に、塗工液Aを滴下し、5000rpmで30秒スピンコートを行った。その後、200℃のホットプレートにて1時間焼成し、残存する溶媒を除去してサンプルを得た。
比較例6で得られたサンプルの上に、塗工液Aを滴下し、5000rpmで30秒スピンコートを行った。その後、200℃のホットプレートにて1時間焼成し、残存する溶媒を除去してサンプルを得た。
<比較例8>
本比較例は、塗工液Aの代わりに塗工液Cを用いた以外は比較例7と同様にしてサンプルを得た。
本比較例は、塗工液Aの代わりに塗工液Cを用いた以外は比較例7と同様にしてサンプルを得た。
<比較例9>
塗工液4を石英ガラス基材の上に滴下し、5000rpmで20秒スピンコートを行った。その後、150℃のホットプレートにて20分乾燥した。
その石英ガラス基材の上に、上記充填材塗工液を滴下し3000rpmで20秒スピンコートを行った。その後、紫外線照射装置にて試料に紫外線を10分間照射し、PHPSをシリカ転化させて基材の上に下地層を得た。
その次に、下地層の上に塗工液Aを滴下し、5000rpmで30秒スピンコートした。その後、200℃のホットプレートにて1時間焼成し、残存する溶媒とPVAを除去してサンプルを得た。
塗工液4を石英ガラス基材の上に滴下し、5000rpmで20秒スピンコートを行った。その後、150℃のホットプレートにて20分乾燥した。
その石英ガラス基材の上に、上記充填材塗工液を滴下し3000rpmで20秒スピンコートを行った。その後、紫外線照射装置にて試料に紫外線を10分間照射し、PHPSをシリカ転化させて基材の上に下地層を得た。
その次に、下地層の上に塗工液Aを滴下し、5000rpmで30秒スピンコートした。その後、200℃のホットプレートにて1時間焼成し、残存する溶媒とPVAを除去してサンプルを得た。
<比較例10>
本比較例は、塗工液Aの代わりに塗工液Cを用いた以外は比較例9と同様にしてサンプルを得た。
本比較例は、塗工液Aの代わりに塗工液Cを用いた以外は比較例9と同様にしてサンプルを得た。
<比較例11>
本比較例は、塗工液Aの代わりに塗工液Dを用いた以外は比較例9と同様にしてサンプルを得た。
本比較例は、塗工液Aの代わりに塗工液Dを用いた以外は比較例9と同様にしてサンプルを得た。
次に、実施例1乃至3、比較例1乃至11の各サンプルについて下記の評価を行った。その結果を表1にまとめた。
<付着力の評価>
AFM(E−Sweep、SII社製)を用いて計測を行った。粒径6.1μmポリスチレン粒子を取りつけたカンチレバー(フォースモデルAFMプローブカンチレバー:FM、sQUBE社製)をAFMに取り付け計測した。カンチレバーと試料が接した点をゼロとして、サンプルを取りつけたスキャナを200nm押し上げてカンチレバーを試料に押しつけた。付着力はカンチレバーを試料から引き離す時に観察できるフォースカーブの形状の変化より求めた。一度の測定で20ヶ所計測し、その平均値を求め、試料とポリスチレン粒子間に起こる付着力とした。測定は25℃、45%の湿度条件下にて行った。
付着力は、ガラス基板をフッ素コートした標準試料を1.00とした時の相対値を付着力指数とし表し、比較検討した。標準試料のフッ素コートはキヤノンオプトロン社製の蒸着材料OF−SRを平滑なガラス基板に3nm乃至6nm程度蒸着することにより作製した。
AFM(E−Sweep、SII社製)を用いて計測を行った。粒径6.1μmポリスチレン粒子を取りつけたカンチレバー(フォースモデルAFMプローブカンチレバー:FM、sQUBE社製)をAFMに取り付け計測した。カンチレバーと試料が接した点をゼロとして、サンプルを取りつけたスキャナを200nm押し上げてカンチレバーを試料に押しつけた。付着力はカンチレバーを試料から引き離す時に観察できるフォースカーブの形状の変化より求めた。一度の測定で20ヶ所計測し、その平均値を求め、試料とポリスチレン粒子間に起こる付着力とした。測定は25℃、45%の湿度条件下にて行った。
付着力は、ガラス基板をフッ素コートした標準試料を1.00とした時の相対値を付着力指数とし表し、比較検討した。標準試料のフッ素コートはキヤノンオプトロン社製の蒸着材料OF−SRを平滑なガラス基板に3nm乃至6nm程度蒸着することにより作製した。
<反射率の評価>
レンズ反射率測定機(USPM−RU、オリンパス株式会社製)を用いて、波長領域400乃至700nmの範囲で入射角0°時の、実施例1乃至7、比較例1乃至11の各サンプル、上記の付着力測定で使用した標準試料の反射率を測定し、平均値を算出した。また、ヘイズ測定はスガ試験機ヘイズメーター(HZ−2)を用い測定した。
レンズ反射率測定機(USPM−RU、オリンパス株式会社製)を用いて、波長領域400乃至700nmの範囲で入射角0°時の、実施例1乃至7、比較例1乃至11の各サンプル、上記の付着力測定で使用した標準試料の反射率を測定し、平均値を算出した。また、ヘイズ測定はスガ試験機ヘイズメーター(HZ−2)を用い測定した。
なお、表1において標準試料の550nm付近の反射率は4.600であった。また、表中で550nmの反射率としたのは、550nmの光は、可視光域(450nm以上650nm以下の波長領域)の中心波長であり、550nm付近の光を人間は一番強く感受するため、反射率の比較に適しているためである。
表1から、各実施例のサンプルの反射率は1.000%未満であり、一方、比較例のそれは、比較例1以外は精度よく測定できたものでも1.000%以上であった。このため、実施例のサンプルは光学部材として適していることが分かり、比較例のサンプルは光学部材として適していないことが分かった。なお、比較例6乃至8のサンプルでは、白くもりが発生しており、反射率を精度よく測定することができず測定不能とした。
また、第2粒子を有さない比較例1と比較して、第2粒子を有する実施例1乃至4、比較例2及び3のサンプルは、相対付着力が小さくなっており防塵性能が向上した。なお、第2粒子の材料が、実施例1乃至4では、酸化ケイ素(屈折率約1.46)であったのに対して、比較例2では、アルミニウム粒子(屈折率約1.63)であったために、実質的な屈折率の傾斜構造が形成されなかったと考える。この結果、比較例2の反射率が高くなったものと考える。また、実施例1乃至4のサンプルが、比較例1のそれよりも低い反射率を得られたのは、第2粒子の存在により、実質的な屈折率の傾斜が緩やかになったためであると考える。また、比較例3のサンプルでは、実施例1乃至3のサンプルと同等の付着力を有するが、第2粒子の粒径が大きいために、反射率、ヘイズ値が実施例1乃至3よりも大きくなり光学部材としては適さなかった。
実施例5乃至7、比較例3及び4を比較すると、実施例5乃至7のサンプルの方が、比較例3及び4、標準試料に比べて、防塵特性が向上していた。なお、比較例5のサンプルの反射率が大きい理由は、比較例2と同じ理由である。
また、比較例6乃至8のサンプルは、第1粒子の直径が大きくヘイズが10%を超え、光学部材としては適さなかった。また、明らかに光学部材として適さないため、付着力の測定は行わなかった。
比較例9乃至11のサンプルは、付着力は小さいが、第1粒子の直径と第2の粒子の直径の差が小さく、屈折率の傾斜構造が十分に形成されず、反射率は大きくなっていた。
10 基材
20 下地層
21 第1粒子
22 充填材
30 第2粒子
20 下地層
21 第1粒子
22 充填材
30 第2粒子
Claims (5)
- 基材と、
前記基材の上に配置された屈折率が前記基材の屈折率以下であり、100nm以上200nm以下である複数の第1粒子と、前記第1粒子と前記基材とで構成される空間に配置された屈折率が前記基材の屈折率以下である充填材と、を含み、前記第1粒子が前記基材の上に1層のみで構成されている下地層と、
前記下地層の上に、屈折率が前記第1粒子の屈折率以下であり、10nm以上50nm以下である複数の第2粒子を含む粒子層と、を有することを特徴とする光学部材。 - 前記基材、前記第1粒子、前記第2粒子の順に屈折率が小さくなることを特徴とする請求項1に記載の光学部材。
- 前記充填材の屈折率が、前記第2粒子の屈折率以上でかつ前記基材の屈折率以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載の光学部材。
- 前記第1粒子が、酸化ケイ素を含むことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の光学部材。
- 請求項1乃至4のいずれか1項に記載の光学部材と、撮像素子と、を備えた撮像装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013136157A JP2015011161A (ja) | 2013-06-28 | 2013-06-28 | 光学部材及び撮像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013136157A JP2015011161A (ja) | 2013-06-28 | 2013-06-28 | 光学部材及び撮像装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015011161A true JP2015011161A (ja) | 2015-01-19 |
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ID=52304378
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JP2013136157A Pending JP2015011161A (ja) | 2013-06-28 | 2013-06-28 | 光学部材及び撮像装置 |
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JP (1) | JP2015011161A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017032781A (ja) * | 2015-07-31 | 2017-02-09 | 富士フイルム株式会社 | 反射防止フィルム、偏光板、カバーガラス、及び画像表示装置、並びに反射防止フィルムの製造方法 |
-
2013
- 2013-06-28 JP JP2013136157A patent/JP2015011161A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017032781A (ja) * | 2015-07-31 | 2017-02-09 | 富士フイルム株式会社 | 反射防止フィルム、偏光板、カバーガラス、及び画像表示装置、並びに反射防止フィルムの製造方法 |
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