JP2015005322A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】複数のメモリブロックを効率よくレイアウトする。【解決手段】複数のメモリバンクbank0〜bank7を備える。各メモリバンクは、ロウアドレスに基づいてメインワード線を選択するロウデコーダ12と、カラムアドレスに基づいてカラム選択線を選択するカラムデコーダ13と、複数のメモリセルからなるメモリセルアレイ11とをそれぞれ含みる。メモリバンクbank0に含まれるメモリセルアレイ11は、2のべき乗とは異なる複数のメモリブロックMBに分割されている。本発明によれば、メモリセルアレイ11をよりフレキシブルにレイアウトすることができる。これにより、大きな空きスペースを設けることなく、チップ形状を正方形に近い形状とすることが可能となる。【選択図】図12
Description
本発明は半導体装置に関し、特に、各メモリバンクが複数のメモリブロックに分割されてなる半導体装置に関する。
DRAM(Dynamic Random Access Memory)に代表される半導体メモリデバイスは、メモリセルアレイ領域が複数のメモリバンクに分割されていることが一般的である。メモリバンクとはコマンドの発行単位であり、異なるメモリバンクに対しては非排他的なアクセスが可能である。このため、メモリセルアレイ領域を複数のメモリバンクに分割すれば、アクセス効率を高めることが可能となる。
各メモリバンクの形状はその記憶容量によって制約され、多くの場合、正方形に近い形状、或いは、長辺と短辺の比が約2:1である長方形となる。一例として、8バンク構成を有する2ギガビットのDRAMの場合、1バンク当たりの記憶容量が256メガビットとなることから、ワード線方向に16k個、ビット線方向に16k個のメモリセルを配列することによって1バンクを構成することができる。この場合、各メモリバンクの形状は、正方形に近い形状となる。これに対し、8バンク構成を有する4ギガビットのDRAMの場合、1バンク当たりの記憶容量が512メガビットとなることから、ワード線方向に32k個、ビット線方向に16k個のメモリセルを配列することによって1バンクを構成することができる。この場合、各メモリバンクの形状は、長辺と短辺の比が約2:1である長方形となる。
他方、近年においては、エッジパッド型と呼ばれるDRAMが広く用いられている。エッジパッド型のDRAMは、対向する2つのチップエッジに沿ってパッド電極を配列するタイプのDRAMであり、2つのチップを互いに90°回転させた状態で積層することができる。
エッジパッド型のDRAMを積層するためには、チップ形状が正方形に近い長方形であり、且つ、短辺に沿ってパッド電極を配列することが求められる。ここで、正方形に近い長方形であることが求められるのは、長辺と短辺の長さの差が大きすぎると、90°回転させた状態で積層した場合に、上層に位置するチップに撓みが発生しやすくなるからである。一方、短辺に沿ってパッド電極を配列する必要があるのは、90°回転させた状態で積層した場合に、下層に位置するチップのパッド電極を露出させるためである。
しかしながら、チップの記憶容量やバンク構成によっては、チップ形状を正方形に近い形状とすることが困難であることがあった。例えば、8バンク構成のチップにおいて各メモリバンクの形状が約2:1の長方形である場合、8つのメモリバンクを2列×4行にレイアウトすれば、チップ形状は正方形に近い形状となる。これに対し、8バンク構成のチップにおいて各メモリバンクの形状が正方形に近い場合、チップ形状を正方形に近い形状とするためには大きな空きスペースが発生することある。特許文献1に示す例では、8つのメモリバンクを3列×3行にレイアウトし、中央領域を空きスペースとしている。
空きスペースにはメモリセルアレイを制御するための周辺回路を配置することができるが、1つのメモリバンクと同じサイズを有しているため、ほとんどの場合、無駄なスペースが発生してしまう。
本発明の第1の側面による半導体装置は、非排他的にアクセス可能な第1のメモリバンクを含む複数のメモリバンクを備え、前記複数のメモリバンクは、ロウアドレスに基づいて複数のメインワード線のいずれかを選択するロウデコーダと、カラムアドレスに基づいて複数のカラム選択線のいずれかを選択するカラムデコーダと、前記複数のメインワード線及び前記複数のカラム選択線によって選択される複数のメモリセルからなるメモリセルアレイとをそれぞれ含み、前記第1のメモリバンクに含まれるメモリセルアレイは、互いに交差する前記複数のメインワード線のいずれか及び前記複数のカラム選択線のいずれかの延在範囲によって定義される、2のべき乗とは異なる複数のメモリブロックに分割されていることを特徴とする。
本発明の第2の側面による半導体装置は、非排他的にアクセス可能な第1のメモリバンクを含む複数のメモリバンクを備え、前記複数のメモリバンクは、ロウアドレスに基づいて複数のメインワード線のいずれかを選択するロウデコーダと、カラムアドレスに基づいて複数のカラム選択線のいずれかを選択するカラムデコーダと、前記複数のメインワード線及び前記複数のカラム選択線によって選択される複数のメモリセルからなるメモリセルアレイとをそれぞれ含み、前記第1のメモリバンクに含まれるメモリセルアレイは、互いに交差する前記複数のメインワード線のいずれか及び前記複数のカラム選択線のいずれかの延在範囲によって定義され、少なくとも第1及び第2のメモリブロックを含む複数のメモリブロックに分割されており、前記複数のメモリブロックは、いずれも前記複数のメインワード線によってそれぞれ選択される複数のメモリマットを含み、前記第1のメモリブロックに含まれる前記複数のメモリマットの数は、前記第2のメモリブロックに含まれる前記複数のメモリマットの数と相違することを特徴とする。
本発明の第3の側面による半導体装置は、第1乃至第3のメモリブロックを含む第1のメモリバンクと、第4乃至第6のメモリブロックを含む第2のメモリバンクと、前記第1のメモリブロックと前記第3のメモリブロックに対して共通に割り当てられた第1のリードアンプと、前記第2のメモリブロックと前記第5のメモリブロックに対して共通に割り当てられた第2のリードアンプと、前記第4のメモリブロックと前記第6のメモリブロックに対して共通に割り当てられた第3のリードアンプと、を備えることを特徴とする。
本発明の第1の側面による半導体装置によれば、メモリバンクが2のべき乗とは異なる複数のメモリブロックに分割されていることから、メモリセルアレイをよりフレキシブルにレイアウトすることができる。これにより、大きな空きスペースを設けることなく、チップ形状を正方形に近い形状とすることが可能となる。
本発明の第2の側面による半導体装置によれば、メモリバンクがメモリマット数の異なる複数のメモリブロックに分割されていることから、メモリセルアレイをよりフレキシブルにレイアウトすることができる。これにより、大きな空きスペースを設けることなく、チップ形状を正方形に近い形状とすることが可能となる。
本発明の第3の側面による半導体装置によれば、異なるメモリバンク間で共有するリードアンプと異なるメモリバンク間で共有しないリードアンプを混在させていることから、メモリセルアレイをよりフレキシブルにレイアウトすることができる。これにより、大きな空きスペースを設けることなく、チップ形状を正方形に近い形状とすることが可能となる。
以下、添付図面を参照しながら、本発明の好ましい実施の形態について詳細に説明する。
図1は、本発明の好ましい実施形態による半導体装置10の外観を示す略平面図である。本実施形態による半導体装置10はDRAMであるが、本発明の適用対象がこれに限定されるものではない。
図1に示すように、本実施形態による半導体装置10の平面形状は、正方形に近い長方形であり、Y方向に沿った長辺側のエッジ10a,10bとX方向に沿った短辺側のエッジ10c,10dを有している。長辺側のエッジ10a,10bの長さをWy、短辺側のエッジ10c,10dの長さをWxとした場合、
Wx<Wy
である。そして、本実施形態による半導体装置10は、短辺側のエッジ10c,10dに沿って配列された複数のパッド電極Pを備えている。
Wx<Wy
である。そして、本実施形態による半導体装置10は、短辺側のエッジ10c,10dに沿って配列された複数のパッド電極Pを備えている。
このような構成を有する半導体装置10は単独でパッケージングしても構わないが、2つの半導体装置10を積層した状態でパッケージングすることが可能である。この場合、図2に示すように、2つの半導体装置10A,10Bを互いに90°回転させた状態で積層する。これにより、下層の半導体装置10Aに設けられたパッド電極Pが露出した状態となることから、パッド電極PにボンディングワイヤBWを接続することが可能となる。下層の半導体装置10Aにおける露出幅をWとした場合、
Wx+2W=Wy
であり、露出幅Wは、パッド電極Pに対してワイヤボンディング可能な最小幅W0以上である必要がある。
Wx+2W=Wy
であり、露出幅Wは、パッド電極Pに対してワイヤボンディング可能な最小幅W0以上である必要がある。
しかしながら、Wxに対してWyが大きすぎると、上層の半導体装置10Bの短辺(エッジ10c,10d)が下層の半導体装置10Aの長辺(エッジ10a,10b)から大きく飛び出した状態となるため、上層の半導体装置10Bに反りが生じやすくなる。このような反りは信頼性低下の原因となることから、できる限り抑制する必要がある。反りを抑制するためには、W>W0を満たす範囲でWxとWyの差(=2W)をできる限り小さくする、つまり、正方形に近い形状とすることが望まれる。
半導体装置10の平面形状を正方形に近い形状とするためには、内部回路、特にメモリセルアレイのレイアウトを最適化する必要がある。
図3は、半導体装置10の内部回路を示すブロック図である。
図3に示すように、本実施形態による半導体装置10はメモリセルアレイ11を備えている。メモリセルアレイ11には、互いに交差する複数のワード線WLと複数のビット線BLが設けられており、その交点にメモリセルMCが配置されている。ワード線WLの選択はロウデコーダ12によって行われ、ビット線BLの選択はカラムデコーダ13によって行われる。ビット線BLは、センス回路14内の対応するセンスアンプSAにそれぞれ接続されており、カラムデコーダ13により選択されたビット線BLは、センスアンプSAを介してアンプ回路15に接続される。
ロウデコーダ12、カラムデコーダ13、センス回路14及びアンプ回路15の動作は、アクセス制御回路20によって制御される。アクセス制御回路20には、複数のコマンドアドレス端子21を介して外部からアドレス信号ADD及びコマンド信号CMDが供給される。アクセス制御回路20は、これらアドレス信号ADD及びコマンド信号CMDを受け、これらに基づいてロウデコーダ12、カラムデコーダ13、センス回路14及びアンプ回路15を制御する。
具体的には、コマンド信号CMDが半導体装置10のアクティブ動作を示している場合、アドレス信号ADDはロウデコーダ12に供給される。これに応答して、ロウデコーダ12はアドレス信号ADDが示すワード線WLを選択し、これにより対応するメモリセルMCがそれぞれビット線BLに接続される。その後、アクセス制御回路20は、所定のタイミングでセンス回路14を活性化させる。
一方、コマンド信号CMDが半導体装置10のリード動作又はライト動作を示している場合、アドレス信号ADDはカラムデコーダ13に供給される。これに応答して、カラムデコーダ13はアドレス信号ADDが示すビット線BLをアンプ回路15に接続する。これにより、リード動作時においては、センスアンプSAを介してメモリセルアレイ11から読み出されたリードデータDQがアンプ回路15及びデータ入出力回路30を介してデータ端子31から外部に出力される。また、ライト動作時においては、データ端子31及びデータ入出力回路30を介して外部から供給されたライトデータDQが、アンプ回路15及びセンスアンプSAを介してメモリセルMCに書き込まれる。
これら各回路ブロックは、それぞれ所定の内部電圧を動作電源として使用する。これら内部電源は、図3に示す電源回路40によって生成される。電源回路40は、電源端子41,42を介してそれぞれ供給される外部電位VDD及び接地電位VSSを受け、これらに基づいて内部電圧VPP,VPERI,VARYなどを生成する。内部電位VPPは外部電位VDDを昇圧することによって生成され、内部電位VPERI,VARYは外部電位VDDを降圧することによって生成される。
内部電圧VPPは、主にロウデコーダ12において用いられる電圧である。ロウデコーダ12は、アドレス信号ADDに基づき選択したワード線WLをVPPレベルに駆動し、これによりメモリセルMCに含まれるセルトランジスタを導通させる。内部電圧VARYは、主にセンス回路14において用いられる電圧である。センス回路14が活性化すると、ビット線対の一方をVARYレベル、他方をVSSレベルに駆動することにより、読み出されたリードデータの増幅を行う。内部電圧VPERIは、アクセス制御回路20などの大部分の周辺回路の動作電圧として用いられる。これら周辺回路の動作電圧として外部電圧VDDよりも電圧の低い内部電圧VPERIを用いることにより、半導体装置10の低消費電力化が図られている。
図4は、半導体装置10の大まかなレイアウトを説明するための略平面図である。
図4に示すように、半導体装置10は、短辺側のエッジ10cに沿って設けられた周辺回路領域PSと、短辺側のエッジ10dに沿って設けられた周辺回路領域FSを備え、これらに挟まれるようにメモリセルアレイ領域ARYが配置されている。周辺回路領域PSには、コマンドアドレス端子21や電源端子41,42の一部を構成するパッド電極Pが配列されるとともに、アクセス制御回路20が配置される。一方、周辺回路領域FSには、データ端子31や電源端子41,42の残りの一部を構成するパッド電極Pが配列されるとともに、データ入出力回路30が配置される。そして、これらに挟まれたメモリセルアレイ領域ARYには、メモリセルアレイ11、ロウデコーダ12、カラムデコーダ13、センス回路14、アンプ回路15が配置される。
メモリセルアレイ11は複数のメモリバンクに分割されており、ロウデコーダ12やカラムデコーダ13などもメモリバンクごとに設けられる。図5は、1つのメモリバンクのレイアウトの一例を示す平面図であり、図5に示す例では、矩形状のメモリセルアレイ11と、メモリセルアレイ11の辺Laに沿って配置されたロウデコーダ12と、メモリセルアレイ11の辺Lbに沿って配置されたカラムデコーダ13及びアンプ回路15を備えている。センス回路14は、メモリセルアレイ11の内部に埋め込まれている。
しかしながら、メモリバンクの記憶容量によっては、図5に示すレイアウトを採ることは困難であり、1つのメモリバンクがいくつかのメモリブロックに分割されることがある。これは、メモリバンクの記憶容量が大きくなると、ロウデコーダ12からメモリセルアレイ11に延在するメインワード線MWLの負荷容量が大きくなり、或いは、カラムデコーダ13からメモリセルアレイ11に延在するカラム選択線YSの負荷容量が大きくなるからである。ここで、「メモリブロック」とは、互いに交差するメインワード線MWL及びカラム選択線YSの延在範囲によって定義される領域である。
現在の技術では、256メガビット(=16kワード×16kビット)がメモリブロックの現実的な最大サイズであり、1つのメモリバンクの容量がこれを超える場合には、1つのメモリバンクを複数のメモリブロックに分割する必要が生じる。
図6は、メモリブロックの構成を説明するための略平面図である。
図6に示すように、メモリブロックMBは、16列×33行にマトリクス状にレイアウトされたメモリマットMATを備えており、メモリブロックMBの辺Lcに沿ってロウデコーダ12が配置され、メモリブロックMBの辺Ldに沿ってカラムデコーダ13及びアンプ回路15が配置されている。
図7は、メモリマットMATの構成を説明するための略平面図である。
図7に示すように、メモリマットMATは、複数のサブワード線SWLと複数のビット線BLを備え、これらの交点にメモリセルMCが配置された構成を有している。サブワード線SWLの駆動は、サブワードドライバSWDによって行われる。サブワードドライバSWDの選択は、ロウデコーダ12による制御のもと、図5に示したメインワード線MWLを介して行われる。また、ビット線BLはそれぞれ対応するセンスアンプSAに接続されており、図5に示したカラム選択線YSによって選択されると、図示しないローカルI/O線及びメインI/O線を介して、アンプ回路15に接続される。
図8は、メモリマットMATのアドレスマッピングを説明するための模式図である。
図8に示すように、列方向(Y方向)におけるメモリマットMATの選択は、ロウアドレスの上位ビットX13〜X9に基づき、メインワード線MWLによって行われる。ここで、列方向の端部に位置するメモリマットMAT0とメモリマットMAT32は、他のメモリマットMAT1〜MAT31の半分の記憶容量を有しており、これら2つのメモリマットMAT0,MAT32を合わせて1つのメモリマットMATとして取り扱う。このためメモリマットMAT0,MAT32には同じロウアドレス(X13〜X9=00000b)がマッピングされている。以下の説明においても、列方向の端部に位置する2つのメモリマットMATについては、便宜上、1つのメモリマットMATと見なすことがある。
メモリマット内におけるサブワード線SWLの選択は、図7に示すようにロウアドレスの下位ビットX8〜X0を用いて行われる。したがって、1つのメモリマットMATには512本(=29)のサブワード線SWLが含まれることになる。実際には、不良のあるサブワード線SWLを置換するための冗長ワード線も存在するため、1つのメモリマットMATに512本を超える数のサブワード線SWLが含まれることがあるが、ここではレギュラーなサブワード線SWLにのみ着目している。
一方、メモリマット内におけるビット線BLの選択は、図7に示すようにカラムアドレスの上位ビットY9〜Y3を用いて行われる。また、1つのメモリマットMATには同時に選択される8DQ分(DQ0〜DQ7又はDQ8〜DQ15)のビット線BLが含まれる。したがって、1つのメモリマットMATには1024本(=27×8)のビット線BLが含まれることになる。実際には、不良のあるビット線BLを置換するための冗長ビット線も存在するため、1つのメモリマットMATに1024本を超える数のビット線BLが含まれることがあるが、ここでもレギュラーなビット線BLにのみ着目している。
尚、カラムアドレスの下位ビットY2〜Y0は、行方向(X方向)におけるメモリマットMATのマッピングに用いられる。下位ビットY2〜Y0のマッピングが異なる8つのメモリマットMATは常に同時に選択され、これら8つのメモリマットMATから読み出されたデータは、図2に示したデータ入出力回路30にプリフェッチされ、データ端子31からバースト出力される。
そして、このようなメモリマットMATが16列×33行にマトリクス状にレイアウトされて1つのメモリブロックMBが構成される。このため、1つのメモリブロックMBは、行方向に16k本(厳密には512本×33マット)、列方向に16k本のビット線BLからなり、これらの各交点にメモリセルMCが配置された構成を有している。このため、図6に示すように、X方向のサイズWx0とY方向のサイズWy0はほぼ等しくなる。
図9は、半導体装置10が8バンク構成を有する4ギガビットDRAMである場合のレイアウトの一例を示す略平面図である。
8バンク構成を有する4ギガビットDRAMにおいては、1バンク当たりの記憶容量が512メガビットとなることから、図6に示したメモリブロックMBを2個用いて1つのメモリバンクを構成する必要がある。この場合、必要なメモリブロック数は全部で16個であることから、図9に示すように、メモリブロックMBを4列×4行にマトリクス状にレイアウトすることができる。この場合、メモリセルアレイ領域ARYの形状はほぼ正方形となるため、これを挟むように周辺回路領域PS,FSを配置すれば、チップ形状を正方形に近い長方形とすることが可能となる。
図10は、半導体装置10が8バンク構成を有する8ギガビットDRAMである場合のレイアウトの第1例を示す略平面図である。
8バンク構成を有する8ギガビットDRAMにおいては、1バンク当たりの記憶容量が1ギガビットとなることから、図6に示したメモリブロックMBを4個用いて1つのメモリバンクを構成する必要がある。この場合、必要なメモリブロック数は全部で32個であることから、図10に示すように、メモリブロックMBを8列×4行にマトリクス状にレイアウトすることができる。しかしながら、この場合、メモリセルアレイ領域ARYの形状は2:1の長方形となることから、チップ形状を正方形に近い長方形とすることはできない。したがって、このようなレイアウトでは、図2を用いて説明したように2つの半導体装置10A,10Bを重ねることはできなくなってしまう。
図11は、半導体装置10が8バンク構成を有する8ギガビットDRAMである場合のレイアウトの第2例を示す略平面図である。
図11においては、メモリブロックMBを2列×2行にマトリクス状にレイアウトすることによって1つのメモリバンクを構成し、且つ、メモリバンクを3列×3行にマトリクス状にレイアウトしている。この場合、メモリセルアレイ領域ARYの形状はほぼ正方形となるため、これを挟むように周辺回路領域PS,FSを配置すれば、チップ形状を正方形に近い長方形とすることが可能となる。しかしながら、この場合、メモリセルアレイ領域ARYにメモリバンク1個分の空きスペースZが発生し、チップ面積が増大してしまう。
これに対し、以下に説明するレイアウトは、空きスペースZをほとんど発生させることなく、チップ形状を正方形に近い長方形とすることを可能としている。
図12は、半導体装置10が8バンク構成を有する8ギガビットDRAMである場合のレイアウトの第3例を示す略平面図であり、本発明の第1の実施形態に相当する。
図12に示すように、第1の実施形態においては、1つのメモリバンクが6つのメモリブロックMBに分割されている。これら6つのメモリブロックMBはL字状にレイアウトされ、空きスペースが生じないように、2つのメモリバンクを構成する合計12個のメモリブロックMBを組み合わせている。
ここで、メモリバンクbank0に着目してより詳細に説明すると、メモリバンクbank0を構成する6個のメモリブロックMB0〜MB5のうち、X方向に隣接する2つのメモリブロックMB0,MB1はセグメントSEG0を構成し、X方向に隣接する2つのメモリブロックMB2,MB3はセグメントSEG1を構成し、X方向に隣接する2つのメモリブロックMB4,MB5はセグメントSEG2を構成する。セグメントSEG0とセグメントSEG1はX方向に隣接して配置され、セグメントSEG0とセグメントSEG2はY方向に隣接して配置されている。また、各セグメントを構成する2つのメモリブロック間には、ロウデコーダ12が配置される。
本実施形態においては、セグメントSEG0,SEG2を構成するメモリブロックMBについてはそれぞれY方向に22個分のメモリマットMATを有し、セグメントSEG1を構成するメモリブロックMBについてはそれぞれY方向に20個分のメモリマットMATを有している。これにより合計でY方向に64個分のメモリマットMATが存在することになる。但し、既に説明したように、Y方向の端部に位置するメモリマットMATは記憶容量が半分であるため、各メモリブロックMBとも上記のメモリマット数よりも、実際にはメモリマットMATが1個多い。
ここで、メモリバンクbank0,bank4の拡大図である図13を用いてより詳細に説明すると、各セグメントを構成する2つのメモリブロック間には、それぞれのメモリブロックMBに割り当てられたロウデコーダ12が配置される。また、セグメントSEG0とセグメントSEG2との間には、それぞれのメモリブロックMBに割り当てられたカラムデコーダ13が配置され、カラムデコーダ13間にはアンプ回路15が配置される。ここで、アンプ回路15に含まれる一部の回路(後述するデータアンプ)は、上下のセグメントにて共有される。メモリバンクbank0のセグメントSEG1とメモリバンクbank4のセグメントSEG1の間に配置されたアンプ回路15についても、一部の回路(後述するデータアンプ)が上下のセグメントにて共有される。つまり、第1の実施形態による半導体装置10では、一部のデータアンプについては同一バンク内の異なるセグメントにて共有され、他のデータアンプについては異なるバンクに属するセグメントにて共有されることになる。
かかる構成により、図12に示すように、メモリセルアレイ領域ARYに大きな空きスペースを作ることなく、各メモリブロックMBをレイアウトすることができる。但し、セグメントSEG1を構成するメモリブロックMB2,MB3は、セグメントSEG0,SEG2を構成するメモリブロックMB0,MB1,MB4,MB5よりも少ない数のメモリマットMATによって構成されていることから、セグメントSEG1のY方向における高さは、セグメントSEG0,SEG2のY方向における高さよりも低くなる。本実施形態では、このようなセグメントSEG1をX方向の中央に配置し、セグメントSEG1のY方向の高さが低い分、周辺回路領域PS,FSのX方向における中央領域をY方向に突出させている。
このようなレイアウトにより、第1の実施形態による半導体装置10は、正方形に近い長方形のチップ形状を得ることが可能となる。しかも、各メモリバンクとも、メモリブロックMBの構成が互いに等しいことから、メモリバンクごとにアクセス条件に差が生じることもない。
但し、1つのメモリバンクを2のべき乗とは異なる数(本実施形態では6)のメモリブロックMBに分割していることから、各メモリブロックMBに含まれるメモリマットMATの数が2のべき乗ではない数となっている。具体的には、メモリブロックMB0,MB1,MB4,MB5についてはY方向に22個のメモリマットMATで構成され、メモリブロックMB2,MB3についてはY方向に20個のメモリマットMATで構成される(端部のメモリマットMATについては、2個合わせて1個のメモリマットMATとカウントしている)。X方向については、いずれのメモリブロックMBも16個のメモリマットMATからなる。
このため、本実施形態では、ロウアドレスの上位ビットを用いて、図14に示すセグメント選択信号S0〜S2を生成し、これを用いてカラムデコーダ13及びアンプ回路15の選択を行っている。
図15はセグメントのアドレスマッピングを説明するための表であり、(a)はセグメントSEG0に対するアドレスマッピングを示し、(b)はセグメントSEG1に対するアドレスマッピングを示し、(c)はセグメントSEG2に対するアドレスマッピングを示している。図15に示すように、セグメントSEG0〜SEG2の選択は、ロウアドレスの上位ビットX14〜X9が用いられる。具体的には、図16に示すデコーダ回路を用いてセグメント選択信号S0〜S2を生成することができる。尚、図16に示すイネーブル信号ENは、カラムアクセス時にカラムデコーダ13及びアンプ回路15を活性化させるための信号である。
図17に示すように、本実施形態においては、同一バンクのセグメントSEG0,SEG2に挟まれたタイプ(A)のアンプ回路15と、異なるバンクのセグメントSEG1に挟まれたタイプ(B)のアンプ回路15が存在する。タイプ(A)のアンプ回路15は、当該メモリバンクのセグメントSEG0又はSEG2が選択された場合に活性化されるのに対し、タイプ(B)のアンプ回路15は、上下に位置する2つのメモリバンクのセグメントSEG1が選択された場合に活性化される必要がある。
図18は、アクセス制御回路20の主要部を示す回路図である。
図18に示すように、アクセス制御回路20には、コマンドアドレス入力回路22、アドレスラッチ回路23及びコマンドデコード回路24が含まれている。コマンドアドレス入力回路22は、コマンドアドレス端子21を介してアドレス信号ADD及びコマンド信号CMDが入力される回路であり、これらのうちアドレス信号ADDについてはアドレスラッチ回路23に供給され、コマンド信号CMDについてはコマンドデコード回路24に供給される。
アドレスラッチ回路23にラッチされたアドレス信号ADDのうち、カラムアドレスYADDについてはカラムアドレス制御回路25に供給される。カラムアドレス制御回路25はセグメントごとに設けられたプリデコード回路であり、図18には、メモリバンクbank0のセグメントSEG0,SEG1,SEG2にそれぞれ割り当てられたカラムアドレス制御回路25−00,25−10,25−20と、メモリバンクbank4のセグメントSEG1に割り当てられたカラムアドレス制御回路25−14が示されている。これらカラムアドレス制御回路25−00,25−10,25−20,25−14は、それぞれ対応するカラムクロック信号YCLK00,YCLK10,YCLK20,YCLK14により活性化され、カラムアドレスYADDをプリデコードすることによってプリデコード信号YP0〜YP2を生成する。
コマンドデコード回路24は、コマンド信号CMDをデコードすることによって各種内部コマンドを生成する回路である。コマンドデコード回路24によって生成される内部コマンドのうち、図18にはカラム信号CCMD0,CCMD4とライトイネーブル信号WRTENが示されている。カラム信号CCMD0は、メモリバンクbank0を指定してリードコマンド又はライトコマンドが発行された場合に活性化される信号である。同様に、カラム信号CCMD4は、メモリバンクbank4を指定してリードコマンド又はライトコマンドが発行された場合に活性化される信号である。一方、ライトイネーブル信号WRTENは、ライトコマンドが発行された場合に活性化される信号である。
図18に示すように、カラム信号CCMD0及びライトイネーブル信号WRTENは、タイミング信号生成回路26−0に供給される。タイミング信号生成回路26−0はメモリバンクbank0に割り当てられた回路であり、メモリバンクbank0用のカラムクロック信号YCLK0,ライトクロック信号WCLK0、リードクロック信号RCLK0及びデータアンプクロック信号DACLK0を生成する。同様に、タイミング信号生成回路26−4はメモリバンクbank4に割り当てられた回路であり、カラム信号CCMD4及びライトイネーブル信号WRTENに基づき、メモリバンクbank4用のカラムクロック信号YCLK4,ライトクロック信号WCLK4、リードクロック信号RCLK4及びデータアンプクロック信号DACLK4を生成する。
このうち、カラムクロック信号YCLK0は、それぞれセグメント選択信号S00,S10,S20を受けるANDゲート回路G00,G10,G20に供給され、これによりカラムクロック信号YCLK00,YCLK10,YCLK20が生成される。セグメント選択信号S00,S10,S20は、それぞれメモリバンクbank0のセグメントSEG0〜SEG2が選択された場合に活性化される信号であり、図16に示した回路によって生成される。同様に、カラムクロック信号YCLK4は、セグメント選択信号S14を受けるANDゲート回路G14に供給され、これによりカラムクロック信号YCLK14が生成される。かかる構成により、あるメモリバンクのあるセグメントが選択されると、これに対応するカラムアドレス制御回路25が活性化される。そして、活性化されたカラムアドレス制御回路25からはプリデコード信号YP0〜YP2が出力され、対応するカラムデコーダ13に供給される。カラムデコーダ13の回路構成については後述する。
一方、ライトクロック信号WCLK0,WCLK4、リードクロック信号RCLK0,RCLK4、データアンプクロック信号DACLK0,DACLK4は、論理ゲート回路群GA,GBに供給される。論理ゲート回路群GAはタイプ(A)のアンプ回路15に各種制御信号を供給する回路であり、論理ゲート回路群GBはタイプ(B)のアンプ回路15に各種制御信号を供給する回路である。
論理ゲート回路群GAはセグメント選択信号S00又はS20によって活性化され、ライトクロック信号WCLK00,WCLK20、リードクロック信号RCLK00,RCLK20、データアンプクロック信号DACLKAを生成する。このうち、ライトクロック信号WCLK00及びリードクロック信号RCLK00は、セグメント選択信号S00が活性化していることを条件として、ライトクロック信号WCLK0及びリードクロック信号RCLK0に基づいて活性化される。同様に、ライトクロック信号WCLK20及びリードクロック信号RCLK20は、セグメント選択信号S20が活性化していることを条件として、ライトクロック信号WCLK0及びリードクロック信号RCLK0に基づいて活性化される。これに対し、データアンプクロック信号DACLKAは、セグメント選択信号S00又はS20が活性化していることを条件として、データアンプクロック信号DACLK0に基づいて活性化される。
論理ゲート回路群GBはセグメント選択信号S10又はS14によって活性化され、ライトクロック信号WCLK10,WCLK14、リードクロック信号RCLK10,RCLK14、データアンプクロック信号DACLKBを生成する。このうち、ライトクロック信号WCLK10及びリードクロック信号RCLK10は、セグメント選択信号S10が活性化していることを条件として、ライトクロック信号WCLK0及びリードクロック信号RCLK0に基づいて活性化される。同様に、ライトクロック信号WCLK14及びリードクロック信号RCLK14は、セグメント選択信号S14が活性化していることを条件として、ライトクロック信号WCLK4及びリードクロック信号RCLK4に基づいて活性化される。これに対し、データアンプクロック信号DACLKBは、セグメント選択信号S10が活性化している場合にはデータアンプクロック信号DACLK0に基づいて活性化され、セグメント選択信号S14が活性化している場合にはデータアンプクロック信号DACLK4に基づいて活性化される。
このように、タイプ(A)のアンプ回路15を制御するデータアンプクロック信号DACLKAは、メモリバンクbank0のセグメントSEG0又はSEG2が選択された場合に活性化する。これに対し、タイプ(B)のアンプ回路15を制御するデータアンプクロック信号DACLKBは、メモリバンクbank0のセグメントSEG1が選択された場合、又は、メモリバンクbank4のセグメントSEG1が選択された場合に活性化する。
図19は、図18に示した回路の動作を説明するためのタイミング図である。
図19に示す例では、時刻t1にメモリバンクbank0を指定したライトコマンド(WRT0)が発行され、時刻t2にメモリバンクbank4を指定したライトコマンド(WRT4)が発行され、時刻t3にメモリバンクbank0を指定したリードコマンド(READ0)が発行され、時刻t4にメモリバンクbank4を指定したリードコマンド(READ4)が発行されている。図19には示されていないが、時刻t1以前に発行されたアクティブコマンドによって、メモリバンクbank0,bank4ともに、セグメントSEG1に属するサブワード線SWLが活性されている。このため、セグメント選択信号S10,S14が活性化された状態となっている。
まず、時刻t1にライトコマンドWRT0が発行されると、カラム信号CCMD0が活性化し、これに応答してカラムクロック信号YCLK0及びライトクロック信号WCLK0が順次活性化する。この時、セグメント選択信号S10が活性化された状態であることから、カラムアドレス制御回路25−10によってプリデコード信号YP0−10,YP1−10,YP2−10が生成されるとともに、論理ゲート回路群GBによってライトクロック信号WCLK10が生成される。これにより、タイプ(B)のアンプ回路15を介して、メモリバンクbank0のセグメントSEG1に対してライトデータの書き込みが行われる。
次に、時刻t2にライトコマンドWRT4が発行されると、カラム信号CCMD4が活性化し、これに応答してカラムクロック信号YCLK4及びライトクロック信号WCLK4が順次活性化する。この時、セグメント選択信号S14が活性化された状態であることから、カラムアドレス制御回路25−14によってプリデコード信号YP0−14,YP1−14,YP2−14が生成されるとともに、論理ゲート回路群GBによってライトクロック信号WCLK14が生成される。これにより、タイプ(B)のアンプ回路15を介して、メモリバンクbank4のセグメントSEG1に対してライトデータの書き込みが行われる。
さらに、時刻t3にリードコマンドREAD0が発行されると、カラム信号CCMD0が活性化し、これに応答してカラムクロック信号YCLK0、リードクロック信号RCLK0及びデータアンプクロック信号DACLK0が順次活性化する。この時、セグメント選択信号S10が活性化された状態であることから、カラムアドレス制御回路25−10によってプリデコード信号YP0−10,YP1−10,YP2−10が生成されるとともに、論理ゲート回路群GBによってリードクロック信号RCLK10及びデータアンプクロック信号DACLKBが生成される。これにより、タイプ(B)のアンプ回路15を介して、メモリバンクbank0のセグメントSEG1からリードデータの読み出しが行われる。
そして、時刻t4にリードコマンドREAD4が発行されると、カラム信号CCMD4が活性化し、これに応答してカラムクロック信号YCLK4、リードクロック信号RCLK4及びデータアンプクロック信号DACLK4が順次活性化する。この時、セグメント選択信号S14が活性化された状態であることから、カラムアドレス制御回路25−14によってプリデコード信号YP0−14,YP1−14,YP2−14が生成されるとともに、論理ゲート回路群GBによってリードクロック信号RCLK14及びデータアンプクロック信号DACLKBが生成される。これにより、タイプ(B)のアンプ回路15を介して、メモリバンクbank4のセグメントSEG1からリードデータの読み出しが行われる。
図20は、カラムデコーダ13の回路図である。
図20には、メモリバンクbank0のセグメントSEG1に割り当てられたカラムデコーダ13−10の一部と、メモリバンクbank4のセグメントSEG1に割り当てられたカラムデコーダ13−14の一部が示されている。カラムデコーダ13−10は、複数のカラム選択線YS10のいずれかを活性化させる回路であり、図20にはカラム選択線YS10<0>〜YS10<3>を駆動するドライバブロック51と、カラム選択線YS10<4>〜YS10<7>を駆動するドライバブロック52が示されている。同様に、カラムデコーダ13−14は、複数のカラム選択線YS14のいずれかを活性化させる回路であり、図20にはカラム選択線YS14<0>〜YS14<3>を駆動するドライバブロック53と、カラム選択線YS14<4>〜YS14<7>を駆動するドライバブロック54が示されている。
ドライバブロック51〜54は互いに同じ回路構成を有しており、互いに異なるプリデコード信号YP0〜YP2が入力される。例えば、ドライバブロック51には、プリデコード信号YP0−10<0>〜YP0−10<3>,YP1−10<0>,YP2−10<0>が入力され、プリデコード信号YP1−10<0>,YP2−10<0>がいずれもハイレベルに活性化していることを条件として、プリデコード信号YP0−10<0>〜YP0−10<3>に基づいてカラム選択線YS10<0>〜YS10<3>を駆動する。
図21は、アンプ回路15の回路図である。
図21には、タイプ(B)のアンプ回路15のうち、リードライトバスRWBUS1に割り当てられたアンプブロック60が示されている。アンプブロック60は、メモリバンクbank0のセグメントSEG1に割り当てられたメインI/O線対MIOT10,MIOB10と、メモリバンクbank4のセグメントSEG1に割り当てられたメインI/O線対MIOT14,MIOB14に接続されており、リード動作時においては、メインI/O線対MIOT10,MIOB10又はメインI/O線対MIOT14,MIOB14を介して読み出されたリードデータをリードライトバスRWBUS1に出力する。また、ライト動作時においては、リードライトバスRWBUS1を介して供給されるライトデータをメインI/O線対MIOT10,MIOB10又はメインI/O線対MIOT14,MIOB14に出力する。
アンプブロック60は、プリチャージ回路PRE10,PRE14と、ライトドライバWDRV10,WDRV14と、データアンプDAMPと、リードドライバRDRVとを含んでいる。
プリチャージ回路PRE10,PRE14は、それぞれメモリバンクbank0,bank4に割り当てられており、それぞれプリチャージ信号PIOB10,PIOB14がローレベルに活性化した場合に、メインI/O線対MIOT10,MIOB10及びメインI/O線対MIOT14,MIOB14のプリチャージを行う。プリチャージ信号PIOB10は、リードクロック信号RCLK10とライトクロック信号WCLK10の論理和信号であり、したがって、リードクロック信号RCLK10及びライトクロック信号WCLK10の両方が非活性状態である期間にメインI/O線対MIOT10,MIOB10を同電位にプリチャージする。同様に、プリチャージ信号PIOB14は、リードクロック信号RCLK14とライトクロック信号WCLK14の論理和信号であり、したがって、リードクロック信号RCLK14及びライトクロック信号WCLK14の両方が非活性状態である期間にメインI/O線対MIOT14,MIOB14を同電位にプリチャージする。
ライトドライバWDRV10,WDRV14は、それぞれメモリバンクbank0,bank4に割り当てられており、それぞれライトクロック信号WCLK10,WCLK14がハイレベルに活性化した場合に、リードライトバスRWBUS1を介して供給されるライトデータに基づいて、それぞれメインI/O線対MIOT10,MIOB10及びメインI/O線対MIOT14,MIOB14を駆動する。
データアンプDAMPは、メモリバンクbank0,bank4に対して共通に割り当てられており、データアンプクロック信号DACLKBと同一波形のイネーブル信号DAEによって活性化される。データアンプDAMPは、I/OスイッチSW10を介してメインI/O線対MIOT10,MIOB10に接続されるとともに、I/OスイッチSW14を介してメインI/O線対MIOT14,MIOB14に接続される。I/OスイッチSW10はスイッチ信号IOSWB10によって制御され、I/OスイッチSW14はスイッチ信号IOSWB14によって制御される。スイッチ信号IOSWB10は、リードクロック信号RCLK10がハイレベルであり、データアンプクロック信号DACLKBがローレベルである場合に活性化し、I/OスイッチSW10を導通させる。同様に、スイッチ信号IOSWB14は、リードクロック信号RCLK14がハイレベルであり、データアンプクロック信号DACLKBがローレベルである場合に活性化し、I/OスイッチSW14を導通させる。そして、リードクロック信号RCLK10,RCLK14及びデータアンプクロック信号DACLKBがいずれもローレベルである場合は、プリチャージ信号PDABが活性化し、データアンプDAMPのセンスノードDAT,DABが同電位にプリチャージされる。
リードドライバRDRVは、データアンプDAMPのセンスノードDAT,DABに接続されており、データアンプクロック信号DACLKBがハイレベルに活性化したことに応答して、データアンプDAMPによって増幅されたリードデータをリードライトバスRWBUS1に出力する。
このように、本実施形態においては、アンプブロック60を構成する回路のうち、データアンプDAMP及びリードドライバRDRVについては、異なるメモリバンクのセグメントSEG1において共有される。ここで、異なるメモリバンクのセグメントSEG1が同時に選択されることはないことから、データアンプDAMP及びリードドライバRDRVをメモリバンク間で共有しても、動作が干渉することはない。
また、同じメモリバンクのセグメントSEG0,SEG2に割り当てられたタイプ(A)のアンプ回路15についても、それぞれ対応する制御信号が用いられる他は、図21に示した回路と同じ回路を用いることができる。したがって、データアンプDAMP及びリードドライバRDRVについては、同じメモリバンクの異なるセグメントSEG0,SEG2において共有される。ここで、同じメモリバンクのセグメントSEG0とセグメントSEG2が同時に選択されることはないことから、データアンプDAMP及びリードドライバRDRVをセグメント間で共有しても、動作が干渉することはない。
図22は、図20及び図21に示した回路の動作を説明するためのタイミング図であり、図19と同じタイミングにおける動作を示している。尚、図22には、図19に示した一部の波形が重複して示されている。重複する波形については、その説明を一部省略することがある。
まず、時刻t1にライトコマンドWRT0が発行されると、プリデコード信号YP0−10,YP1−10,YP2−10に基づいてカラム選択線YS10のいずれかが活性化される。これにより、メモリバンクbank0のセグメントSEG1に含まれるいずれかのカラムスイッチが導通状態となるため、対応するセンスアンプSAがメインI/O線対MIOT10,MIOB10に接続される。そして、ライトクロック信号WCLK10の活性化により、リードライトバスRWBUS1上のライトデータに基づいてメインI/O線対MIOT10,MIOB10が駆動される。これにより、メモリバンクbank0のセグメントSEG1に対してライトデータの書き込みが行われる。
次に、時刻t2にライトコマンドWRT4が発行されると、プリデコード信号YP0−14,YP1−14,YP2−14に基づいてカラム選択線YS14のいずれかが活性化される。これにより、メモリバンクbank4のセグメントSEG1に含まれるいずれかのカラムスイッチが導通状態となるため、対応するセンスアンプSAがメインI/O線対MIOT14,MIOB14に接続される。そして、ライトクロック信号WCLK14の活性化により、リードライトバスRWBUS1上のライトデータに基づいてメインI/O線対MIOT14,MIOB14が駆動される。これにより、メモリバンクbank4のセグメントSEG1に対してライトデータの書き込みが行われる。
さらに、時刻t3にリードコマンドREAD0が発行されると、プリデコード信号YP0−10,YP1−10,YP2−10に基づいてカラム選択線YS10のいずれかが活性化される。これにより、メモリバンクbank0のセグメントSEG1に含まれるいずれかのカラムスイッチが導通状態となるため、対応するセンスアンプSAがメインI/O線対MIOT10,MIOB10に接続される。その結果、メインI/O線対MIOT10,MIOB10の電位は、センスアンプSAを介して読み出されたリードデータに基づいて変化する。また、リードクロック信号RCLK10の活性化によりI/OスイッチSW10が導通するため、メインI/O線対MIOT10,MIOB10の電位は、データアンプDAMPのセンスノードDAT,DABに供給される。そして、データアンプクロック信号DACLKBが活性化すると、データアンプDAMPによる増幅動作及びリードドライバRDRVによるリードライトバスRWBUS1の駆動が開始される。これにより、メモリバンクbank0のセグメントSEG1から読み出されたリードデータがリードライトバスRWBUS1に出力される。
そして、時刻t4にリードコマンドREAD4が発行されると、プリデコード信号YP0−14,YP1−14,YP2−14に基づいてカラム選択線YS14のいずれかが活性化される。これにより、メモリバンクbank4のセグメントSEG1に含まれるいずれかのカラムスイッチが導通状態となるため、対応するセンスアンプSAがメインI/O線対MIOT14,MIOB14に接続される。その結果、メインI/O線対MIOT14,MIOB14の電位は、センスアンプSAを介して読み出されたリードデータに基づいて変化する。また、リードクロック信号RCLK14の活性化によりI/OスイッチSW14が導通するため、メインI/O線対MIOT14,MIOB14の電位は、データアンプDAMPのセンスノードDAT,DABに供給される。そして、データアンプクロック信号DACLKBが活性化すると、データアンプDAMPによる増幅動作及びリードドライバRDRVによるリードライトバスRWBUS1の駆動が開始される。これにより、メモリバンクbank4のセグメントSEG1から読み出されたリードデータがリードライトバスRWBUS1に出力される。
このように、本実施形態においては、各メモリバンクが3つのセグメントSEG0〜SEG2(6つのメモリブロックMB0〜MB5)に分割されているため、一部のセグメントSEG1については異なるメモリバンクでアンプ回路15を共有することになる。しかしながら、上述の通りリードデータやライトデータの競合が生じることはなく、メモリバンク間における非排他的なアクセスを確保することが可能となる。
そして、本実施形態においては、図12に示したレイアウトにより、正方形に近い長方形のチップ形状を得ることが可能となる。このため、図2を用いて説明したように、2つの半導体装置10A,10Bを重ねた場合に良好な特性を得ることが可能となる。
尚、本発明において1つのセグメントSEGを2つのメモリブロックMBによって構成し、これらメモリブロックMB間にロウデコーダ12を配置することは必須でない。例えば、図23に示すように、セグメントSEGのX方向における端部にロウデコーダ12を配置し、メインワード線MWLを中継するリピータREPをメモリブロックMB間に配置する構成であっても構わない。
以下、本発明の他の実施形態について説明する。
図24は、半導体装置10が8バンク構成を有する8ギガビットDRAMである場合のレイアウトの第4例を示す略平面図であり、本発明の第2の実施形態に相当する。
第2の実施形態においても、1つのメモリバンクが6つのメモリブロックMBに分割されているが、これら6つのメモリブロックMBはX方向に一列に配列されている。かかるレイアウトの場合、全てのアンプ回路15は異なるメモリバンク間において共有されることになる。このような構成であっても、第1の実施形態と同様の効果を得ることが可能となる。
図25は、半導体装置10が8バンク構成を有する8ギガビットDRAMである場合のレイアウトの第5例を示す略平面図であり、本発明の第3の実施形態に相当する。
第3の実施形態においては、メモリバンクbank0,bank4については6つのメモリブロックMBにより構成し、他のメモリバンクにいては4つのメモリブロックMBにより構成している。4つのメモリブロックMBからなるメモリバンクの構成は、図10及び図11に示した構成と同じであり、メモリブロックMBを2列×2行にマトリクス状にレイアウトすることによって1つのメモリバンクを構成している。かかる構成によれば、第1及び第2の実施形態と比べて、周辺回路領域PS,FSをより整形された形状とすることができる。
図26は、半導体装置10が8バンク構成を有する8ギガビットDRAMである場合のレイアウトの第6例を示す略平面図であり、本発明の第4の実施形態に相当する。
第4の実施形態においても、メモリバンクbank0,bank4については6つのメモリブロックMBにより構成され、他のメモリバンクにいては4つのメモリブロックMBにより構成されている点において第3の実施形態と同じであるが、メモリバンクbank0,bank4を構成する6つのメモリブロックMBがX方向に一列に配列されている点において相違する。このような構成であっても、第3の実施形態と同様の効果を得ることが可能となる。
図27は、半導体装置10が8バンク構成を有する8ギガビットDRAMである場合のレイアウトの第7例を示す略平面図であり、本発明の第5の実施形態に相当する。
第5の実施形態においても、メモリバンクbank0,bank4については6つのメモリブロックMBにより構成され、他のメモリバンクにいては4つのメモリブロックMBにより構成されている点において第3の実施形態と同じであるが、メモリバンクbank0,bank4のセグメントSEG0,SEG1を構成するメモリブロックMBについてはそれぞれY方向に16個分のメモリマットMATを有し、セグメントSEG2を構成するメモリブロックMBについてはそれぞれY方向に32個分のメモリマットMATを有している点において相違する。このような構成によれば、メモリバンクbank0,bank4についても、各メモリブロックMBに含まれるメモリブロック数が2のべき乗となることから(端部のメモリマットMATについては、2個合わせて1個のメモリマットMATとカウントしている)、アドレス信号ADDのデコードが容易となる。
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は、上記の実施形態に限定されることなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。
10,10A,10B 半導体装置
10a〜10d エッジ
11 メモリセルアレイ
12 ロウデコーダ
13 カラムデコーダ
14 センス回路
15 アンプ回路
20 アクセス制御回路
21 コマンドアドレス端子
22 コマンドアドレス入力回路
23 アドレスラッチ回路
24 コマンドデコード回路
25 カラムアドレス制御回路
26 タイミング信号生成回路
30 データ入出力回路
31 データ端子
40 電源回路
41,42 電源端子
51〜54 ドライバブロック
60 アンプブロック
ARY メモリセルアレイ領域
BL ビット線
BW ボンディングワイヤ
DAMP データアンプ
DAT,DAB センスノード
FS,PS 周辺回路領域
MAT メモリマット
MB メモリブロック
MC メモリセル
MIOT,MIOB メインI/O線対
MWL メインワード線
P パッド電極
PRE10,PRE14 プリチャージ回路
RDRV リードドライバ
REP リピータ
RWBUS1 リードライトバス
SA センスアンプ
SEG セグメント
SW10,SW14 スイッチ
SWD サブワードドライバ
SWL サブワード線
WDRV10,WDRV14 ライトドライバ
WL ワード線
YS カラム選択線
Z 空きスペース
bank メモリバンク
10a〜10d エッジ
11 メモリセルアレイ
12 ロウデコーダ
13 カラムデコーダ
14 センス回路
15 アンプ回路
20 アクセス制御回路
21 コマンドアドレス端子
22 コマンドアドレス入力回路
23 アドレスラッチ回路
24 コマンドデコード回路
25 カラムアドレス制御回路
26 タイミング信号生成回路
30 データ入出力回路
31 データ端子
40 電源回路
41,42 電源端子
51〜54 ドライバブロック
60 アンプブロック
ARY メモリセルアレイ領域
BL ビット線
BW ボンディングワイヤ
DAMP データアンプ
DAT,DAB センスノード
FS,PS 周辺回路領域
MAT メモリマット
MB メモリブロック
MC メモリセル
MIOT,MIOB メインI/O線対
MWL メインワード線
P パッド電極
PRE10,PRE14 プリチャージ回路
RDRV リードドライバ
REP リピータ
RWBUS1 リードライトバス
SA センスアンプ
SEG セグメント
SW10,SW14 スイッチ
SWD サブワードドライバ
SWL サブワード線
WDRV10,WDRV14 ライトドライバ
WL ワード線
YS カラム選択線
Z 空きスペース
bank メモリバンク
Claims (20)
- 非排他的にアクセス可能な第1のメモリバンクを含む複数のメモリバンクを備え、
前記複数のメモリバンクは、ロウアドレスに基づいて複数のメインワード線のいずれかを選択するロウデコーダと、カラムアドレスに基づいて複数のカラム選択線のいずれかを選択するカラムデコーダと、前記複数のメインワード線及び前記複数のカラム選択線によって選択される複数のメモリセルからなるメモリセルアレイとをそれぞれ含み、
前記第1のメモリバンクに含まれるメモリセルアレイは、互いに交差する前記複数のメインワード線のいずれか及び前記複数のカラム選択線のいずれかの延在範囲によって定義される、2のべき乗とは異なる複数のメモリブロックに分割されていることを特徴とする半導体装置。 - 前記複数のメモリブロックは第1乃至第3のメモリブロックを含み、
前記第1乃至第3のメモリブロックは、いずれも前記複数のメインワード線によってそれぞれ選択される複数のメモリマットを含み、
前記第1のメモリブロックに含まれる前記複数のメモリマットの数は、前記第2のメモリブロックに含まれる前記複数のメモリマットの数と相違することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 - 前記第1のメモリブロックに含まれる前記複数のメモリマットの数は、前記第3のメモリブロックに含まれる前記複数のメモリマットの数と等しいことを特徴とする請求項2に記載の半導体装置。
- 前記第1乃至第3のメモリブロックに含まれる前記複数のメモリマットの数は、いずれも2のべき乗とは異なる数であることを特徴とする請求項2又は3に記載の半導体装置。
- 前記第1乃至第3のメモリブロックに含まれる前記複数のメモリマットの数は、いずれも2のべき乗であることを特徴とする請求項2又は3に記載の半導体装置。
- 前記複数のメモリバンクは第2のメモリバンクをさらに含み、
前記第2のメモリバンクに含まれるメモリセルアレイは、2のべき乗とは異なる複数のメモリブロックに分割されており、
前記第2のメモリバンクに含まれる前記複数のメモリブロックは、第4乃至第6のメモリブロックを含み、
前記第1のメモリブロックと前記第3及び第4のメモリブロックの一方は第1の方向に隣接して配置され、
前記第2のメモリブロックと前記第5のメモリブロックは前記第1の方向に隣接して配置され、
前記第3及び第4のメモリブロックの他方と前記第6のメモリブロックは前記第1の方向に隣接して配置されることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の半導体装置。 - 前記第2のメモリブロックと前記第5のメモリブロックとの間に配置され、前記第2のメモリブロックと前記第5のメモリブロックに対して共通に割り当てられたデータアンプをさらに備えることを特徴とする請求項6に記載の半導体装置。
- 前記複数のメモリバンクは第3のメモリバンクをさらに含み、
前記第3のメモリバンクに含まれるメモリセルアレイは、2のべき乗のメモリブロックに分割されていることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の半導体装置。 - 非排他的にアクセス可能な第1のメモリバンクを含む複数のメモリバンクを備え、
前記複数のメモリバンクは、ロウアドレスに基づいて複数のメインワード線のいずれかを選択するロウデコーダと、カラムアドレスに基づいて複数のカラム選択線のいずれかを選択するカラムデコーダと、前記複数のメインワード線及び前記複数のカラム選択線によって選択される複数のメモリセルからなるメモリセルアレイとをそれぞれ含み、
前記第1のメモリバンクに含まれるメモリセルアレイは、互いに交差する前記複数のメインワード線のいずれか及び前記複数のカラム選択線のいずれかの延在範囲によって定義され、少なくとも第1及び第2のメモリブロックを含む複数のメモリブロックに分割されており、
前記複数のメモリブロックは、いずれも前記複数のメインワード線によってそれぞれ選択される複数のメモリマットを含み、
前記第1のメモリブロックに含まれる前記複数のメモリマットの数は、前記第2のメモリブロックに含まれる前記複数のメモリマットの数と相違することを特徴とする半導体装置。 - 前記複数のメモリブロックは第3のメモリブロックをさらに含み、
前記第1のメモリブロックに含まれる前記複数のメモリマットの数は、前記第3のメモリブロックに含まれる前記複数のメモリマットの数と等しいことを特徴とする請求項9に記載の半導体装置。 - 前記第1乃至第3のメモリブロックに含まれる前記複数のメモリマットの数は、いずれも2のべき乗とは異なる数であることを特徴とする請求項10に記載の半導体装置。
- 前記複数のメモリバンクは第2のメモリバンクをさらに含み、
前記第2のメモリバンクに含まれるメモリセルアレイは、少なくとも第4及び第5のメモリブロックを含む複数のメモリブロックに分割されており、
前記第1のメモリブロックに含まれる前記複数のメモリマットの数は、前記第4及び第5のメモリブロックのいずれに含まれる前記複数のメモリマットの数とも相違し、
前記第2のメモリブロックに含まれる前記複数のメモリマットの数は、前記第4及び第5のメモリブロックのいずれに含まれる前記複数のメモリマットの数とも相違することを特徴とする請求項9乃至11のいずれか一項に記載の半導体装置。 - 前記第4のメモリブロックに含まれる前記複数のメモリマットの数は、前記第5のメモリブロックに含まれる前記複数のメモリマットの数と等しいことを特徴とする請求項12に記載の半導体装置。
- 前記第4及び第5のメモリブロックに含まれる前記複数のメモリマットの数は、いずれも2のべき乗であることを特徴とする請求項13に記載の半導体装置。
- 第1乃至第3のメモリブロックを含む第1のメモリバンクと、
第4乃至第6のメモリブロックを含む第2のメモリバンクと、
前記第1のメモリブロックと前記第3のメモリブロックに対して共通に割り当てられた第1のリードアンプと、
前記第2のメモリブロックと前記第5のメモリブロックに対して共通に割り当てられた第2のリードアンプと、
前記第4のメモリブロックと前記第6のメモリブロックに対して共通に割り当てられた第3のリードアンプと、を備えることを特徴とする半導体装置。 - 前記複数のメモリブロックはいずれも複数のメモリマットを含み、
前記第2のメモリブロックに含まれる前記複数のメモリマットの数は、前記第1及び第3の少なくとも一方のメモリブロックに含まれる前記複数のメモリマットの数と相違し、
前記第5のメモリブロックに含まれる前記複数のメモリマットの数は、前記第4及び第6の少なくとも一方のメモリブロックに含まれる前記複数のメモリマットの数と相違することを特徴とする請求項15に記載の半導体装置。 - 前記第1乃至第6のメモリブロックに含まれる前記複数のメモリマットの数は、いずれも2のべき乗とは異なる数であることを特徴とする請求項16に記載の半導体装置。
- 第7及び第8のメモリブロックを含む第3のメモリバンクをさらに備え、
前記第7のメモリブロックに含まれる前記複数のメモリマットの数は、前記第8のメモリブロックに含まれる前記複数のメモリマットの数と一致し、且つ、前記第1乃至第6のメモリブロックのいずれに含まれる前記複数のメモリマットの数とも異なることを特徴とする請求項17に記載の半導体装置。 - 前記第1のメモリバンクに含まれる前記メモリブロックの数は、前記第3のメモリバンクに含まれる前記メモリブロックの数と相違することを特徴とする請求項18に記載の半導体装置。
- 前記第1のメモリブロックに含まれる前記複数のメモリマットの数は、前記第2のメモリブロックに含まれる前記複数のメモリマットの2倍であり、
前記第4のメモリブロックに含まれる前記複数のメモリマットの数は、前記第5のメモリブロックに含まれる前記複数のメモリマットの2倍であることを特徴とする請求項16に記載の半導体装置。
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