JP2014534143A5 - - Google Patents

Claims (15)

1. ガラス又はガラスセラミックシートを含む材料であって、該シートがその面のうちの一方の少なくとも一部に、燃焼化学気相堆積法によって堆積されたシリカ系副層上に堆積された酸化チタン系の光触媒被膜を備えており、該シリカ系副層の粗さＲａは４〜３０ｎｍ（限界値を含む）である、材料。
2. 該光触媒被膜は、酸化チタン、特にアナターゼ形態で結晶化された酸化チタンから形成されている、請求項１に記載の材料。
3. 該シリカ系副層はシリカから形成されている、請求項１又は２に記載の材料。
4. 該副層は、該基板と接触した状態で堆積されている、請求項１から３までのいずれか１項に記載の材料。
5. 該副層の粗さＲａは５〜２５ｎｍ（限界値を含む）である、請求項１から４までのいずれか１項に記載の材料。
6. 該シリカ系副層の厚さが１０〜１００ｎｍ、特に１０〜８０ｎｍ（両方とも限界値を含む）である、請求項１から５までのいずれか１項に記載の材料。
7. 該光触媒被膜は、該ガラス又はガラスセラミックシート上に堆積されたスタックの最後の層である、請求項１から６までのいずれか１項に記載の材料。
8. 該光触媒被膜の厚さは１〜２０ｎｍ（限界値を含む）である、請求項１から７までのいずれか１項に記載の材料。
9. ＩＳＯ ９０５０：２００３基準の意味での光透過率が少なくとも８０％、特に少なくとも９０％、そしてＩＳＯ ９０５０：２００３基準の意味での光反射率が最大で１０％、特に最大で９％である、請求項１から８までのいずれか１項に記載の材料。
10. 請求項１から９までのいずれか１項に記載の少なくとも１種の材料を含むグレージングユニット又は光起電力セル。
11. 請求項１から９までのいずれか１項に記載の材料を得る方法であって、下記工程、すなわち：
    − ガラス又はガラスセラミックシート上に、燃焼化学気相堆積法を用いて、シリカ系副層を堆積させ、次いで、
    − 前記シリカ系副層上に酸化チタン系の光触媒被膜を堆積させ、前記光触媒被膜の堆積前に、且つ／又は前記光触媒被膜の堆積中に、前記副層に少なくとも３００℃の温度を施す、
    工程を含む、前記材料を得る方法。
12. 該光触媒被膜の堆積が化学気相堆積法によって行われる、請求項１１に記載の方法。
13. 該光触媒被膜は、該ガラス又はガラスセラミックシート上に堆積されたスタックの最後の層である、請求項１１又は１２に記載の方法。
14. 該副層の堆積と、該光触媒被膜の堆積とが、フロート法によるガラスの製造のためのライン上で連続して行われる、請求項１１から１３までのいずれか１項に記載の方法。
15. 該副層の堆積と、該光触媒被膜の堆積とが、フロート室の出口と徐冷炉(lehr)の入口との間で連続して行われる、請求項１１から１４までのいずれか１項に記載の方法。