JP2014522982A - 位相およびピッチ調整を伴う格子ベースのスキャナ - Google Patents

位相およびピッチ調整を伴う格子ベースのスキャナ Download PDF

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Abstract

物体の表面上で物体点の3次元座標を決定する方法は、光ビームを回折格子へ送るステップと、第1の回折ビームおよび第2の回折ビームを対物レンズへ送って少なくとも2つの光点を形成し、少なくとも2つの光点を板の透明領域に通して、物体の表面上に第1のフリンジパターンを生成するステップと、第1のフリンジパターンによって照射された物体点を感光アレイ上へ撮像して、第1の電気データ値を得るステップと、板を第2の位置へ動かすステップと、板を通して点を送り、物体の表面上に第2のフリンジパターンを生成するステップと、点をアレイ点上へ撮像して、第2の電気データ値を得るステップと、第1の物体点の3次元座標を計算するステップとを含む。

Description

本開示は、座標測定デバイスに関する。1組の座標測定デバイスは、光のパターンを物体に投影し、カメラを用いてそのパターンを記録することによって、点の3次元(3D)座標を測定する一種の計器に属する。
関連出願の相互参照
本願は、その内容を全体として本願に引用して援用する、2011年7月14日出願の米国仮特許出願第61/507,771号の利益を主張するものである。
特定のタイプの座標測定デバイスは、アコーディオンフリンジ干渉計と呼ばれることもあり、近接して離隔された2つの小さい光点によって放出される発散波面の光の干渉によって光の投影パターンを形成する。物体上へ投影される、結果として得られたフリンジパターンが分析され、カメラ内の別個の各画素に対する表面点の3D座標が求められる。
アコーディオンフリンジ干渉計の一実装形態は、圧電アクチュエータ、容量性帰還センサ、屈曲ステージ、複数のレーザ源、および複数の対物レンズを使用して回折格子を動かすものである。このタイプのアコーディオンフリンジ干渉計は、製造するのに比較的コストがかかり、測定を実行するのが比較的遅い。3D座標を求めるための改善された方法が必要とされている。
物体の表面上で第1の点の3次元座標を決定する方法は、第1の光源、投影器、およびカメラを用意するステップを含み、投影器は、第1の回折格子、対物レンズ、および第1の板を含み、カメラは、カメラレンズおよび感光アレイを含み、第1の光源は、第1の光源ビームを生成し、第1の板は、第1の透明領域、第2の透明領域、および少なくとも1つの不透明領域を含み、投影器は、投影器の投影中心を有し、カメラは、カメラの投影中心を有し、投影器投影中心とカメラ投影中心との間の線分が基準線であり、基準線は、基準線長さを有する。この方法はまた、第1の光源ビームを第1の回折格子へ送るステップと、第1の回折格子を用いて、少なくとも第1の回折光ビームおよび第2の回折光ビームを形成するステップと、第1の回折光ビームおよび第2の回折光ビームを対物レンズへ送るステップと、対物レンズを用いて、少なくとも第1の光点および第2の光点を形成するステップであって、第1の光点が第1の回折光ビームから生じ、第2の光点が第2の回折光ビームから生じる、形成するステップと、第1の光点および第2の光点付近の第1の位置に第1の板を配置するステップとを含む。この方法は、第1の光点からの第1の光を第1の透明領域内のガラスの第1の厚さに通し、第2の光点からの第2の光を第2の透明領域内のガラスの第2の厚さに通し、一方、他の光が第1の板を通るのを防ぐステップであって、第1の厚さと第2の厚さとの差が第1の厚差に等しい、防ぐステップと、第1の光と第2の光とを組み合わせて、物体の表面上に第1のフリンジパターンを生成するステップと、第1のフリンジパターンによって照射された第1の物体点を感光アレイ上のアレイ点上へ撮像して、感光アレイから第1の電気データ値を得るステップと、第1の板を第2の位置へ動かすステップと、第1の光点からの第3の光を第1の透明領域内のガラスの第3の厚さに通し、第2の光点からの第4の光を第2の透明領域内のガラスの第4の厚さに通し、一方、他の光が第1の板を通るのを防ぐステップであって、第3の厚さおよび第4の厚さの差が第2の厚差に等しく、第2の厚差が第1の厚差に等しくない、ステップと、物体の表面上で第3の光と第4の光とを組み合わせて、物体の表面上に第2のフリンジパターンを生成するステップであって、第1のフリンジパターンおよび第2のフリンジパターンが、第1の物体点に第1のフリンジピッチを有する、生成するステップと、第2のフリンジパターンによって照射された第1の物体点をアレイ点上へ撮像して、感光アレイから第2の電気データ値を得るステップと、第1の電気データ値、第2の電気データ値、および基準線長さに少なくとも部分的に基づいて、第1の物体点の3次元座標を計算するステップと、第1の物体点の3次元座標を記憶するステップとをさらに含む。
次に図面を参照して例示的な実施形態を示すが、これらの実施形態は、本開示の範囲全体に関して限定すると解釈されるべきではない。いくつかの図では、要素に同様の番号を付ける。
3D測定デバイスの動作の三角測量原理を示す概略図である。 本発明の一実施形態による例示的な投影器の要素を示すブロック図である。 本発明の一実施形態による例示的な投影器の主要な要素を示す概略図である。 移相器およびピンホール物体の正面図である。 移相器およびピンホール物体の第1の断面図である。 移相器およびピンホール物体の第2の断面図である。 本発明の一実施形態による位相/フリンジ調整器を動かすモータ駆動ステージの要素を示す概略図である。 傾斜したくさび形の窓を通過する光線の幾何形状を示す図である。 本発明の一実施形態による3つのくさび形の窓を含むアセンブリを通過する光線の幾何形状を示す図である。 本発明の一実施形態による3つのくさび形の窓を含むアセンブリを通過する光線の幾何形状を示す図である。 単一の要素を使用して位相およびフリンジピッチを変化させるアセンブリの要素を示す概略図である。 本発明の一実施形態による位相およびフリンジ調整器窓の前面図である。 本発明の一実施形態による位相およびフリンジ調整器窓の第1の断面図である。 本発明の一実施形態による位相およびフリンジ調整器窓の第2の断面図である。 本発明の一実施形態による位相およびフリンジ調整器窓の上面図である。 本発明の一実施形態による位相およびフリンジピッチを調整することが可能なアセンブリの前面図である。 本発明の一実施形態による位相およびフリンジピッチを調整することが可能なアセンブリの上面図である。
図1に、アコーディオンフリンジ干渉法の原理に従って動作する例示的な3D測定デバイス100を示す。投影器160が、電子ユニット150の制御を受けて、2つの小さい光点112、114を生成する。これらの光点は、加工物130の表面上にフリンジのパターンを生成する。特定の点124の照度は、点124における2つの光線120、122の干渉によって決まる。加工物130の表面上の様々な点で、光線120、122は、強め合うように、または弱め合うように干渉し、それによってフリンジパターンを生成する。カメラ140が、レンズ系142および感光アレイ146を含む。カメラ140は、加工物130上の光のパターンの像を感光アレイ146上に形成する。点124からの光は、レンズ系142の投影中心144を通過して感光アレイ上に像点128を形成すると考えることができる。感光アレイ146の特定の画素128が、加工物130の表面の小さい領域124から散乱した光を受け取る。投影中心144に対するこの小さい領域への方向を画定する2つの角度は、レンズ系142を含むカメラ140の幾何学的特性から分かる。
感光アレイ146に当たった光は、デジタル電気信号に変換され、処理のために電子ユニット150へ送られる。プロセッサを含む電子ユニット150は、投影中心144から加工物130の表面上の各点までの距離を計算する。この計算は、カメラ140から投影器160までの既知の距離164に少なくとも部分的に基づいて行われる。本明細書に上記で説明したように、カメラ140内の各画素に対して、2つの角度および計算された距離が分かる。すべての画素から得られる情報を組み合わせることによって、加工物表面の3次元マップが得られる。
図2は、一実施形態による例示的な投影器200の要素を示す。光源210が格子220へ光を送り、この光は格子220によって複数のビームに分割され、それぞれ異なる角度に進む。格子は、0、+3、−3、+5、−5の次数などの他の次数に関連して生成される+1および−1の次数の寸法を最大にするために、格子はブレーズ型とすることができる。2つ以上の光源および2つ以上の格子が使用される場合、2つ以上の格子から発する光をビームコンバイナ230内で組み合わせることができる。一実施形態では、ビームコンバイナ230はガラスのビームスプリッタである。これらの光ビームは対物レンズ240を通じて送られ、対物レンズ240は、この光を2つの小さい点270に集束させる。点270は現実でも仮想でもよく、対物レンズ系によって形成される現実の点は正のパワーを有し、対物レンズ系による仮想の点は負のパワーを有する。ピンホール板250が、+1および−1の次数の光の通過を可能にしながら他の次数を阻止する領域を有する。ピンホール板は、点270が集束される平面付近に配置される。任意選択の位相/フリンジ調整器260も、点270が集束される平面付近に配置される。一実施形態では、ピンホール板250とフリンジ/位相調整器260は1つの光学構成要素内に組み込まれる。重複領域275内で干渉が生じ、加工物表面上の点でフリンジとして観察される。
図3は、図2の一般的な要素に対応する要素を含む例示的な投影器300の特有の要素を示す。光源310Aは、レーザ、超放射発光ダイオード、LED、または他の光源からの光を提供する。一実施形態では、光源310Aからの光は、光ファイバ312Aを通って、フェルール322Aおよびレンズ324Aを含むファイバ出射端320Aへ進む。別法として、光源310Aからの光は、自由空間を通って進み、レンズ324Aに到達することもできる。ファイバ出射端320Aを出た平行光380Aは格子330Aを通過し、格子は、異なる方向に進む光ビームを生成する。生成される光の次数は、0、±1、±3、および±5を含むことができる。光は、ビームスプリッタ340を通過する。一実施形態では、ビームスプリッタ340は、光の50%を伝送して光の50%を反射する非偏光ビームスプリッタであり、その結果、光パワーの2分の1が失われる。別の実施形態では、光ビーム380A、380Bは直交偏光され、ビームスプリッタ340は、光ビーム380Aのほぼ全体を伝送して光ビーム380Bのほぼ全体を反射するように構成された偏光ビームスプリッタである。光源310Bが光を提供し、一実施形態では、この光は、光ファイバ312Bを通って、フェルール322Bおよびレンズ324Bを含むファイバ出射端320Bへ進む。ファイバ出射端320Bを出た平行光380Bは格子330Bを通過し、格子は、異なる方向に進む光ビームを生成する。この光は、鏡335に反射し、ビームスプリッタ340に反射する。ビームスプリッタ340を通って伝送された光と、ビームスプリッタ340によって反射された光は、同じビーム経路390に沿って進む。光源322A、322Bには一度に1つずつ電源が投入され、その結果、光ビーム380A、380Bがビームスプリッタ340を出るとき、光ビーム380A、380B間に干渉は生じない。
ビーム経路390に沿って進む光ビームは対物レンズ350まで進み、対物レンズ350は、この光を2つの小さい点390に集束させる。2つの小さい点390付近に、光学要素360が配置される。一実施形態では、光学要素360は、位相調整器とピンホール板の組合せである。ピンホール板は、たとえば次数0、±3、および±5となりうるビームによって小さい点が生じるのを阻止する。位相調整器は、この位相を、たとえば0、120、および240度の位相値に調整する。重複領域395内で干渉が生じ、加工物表面上の点でフリンジとして観察される。
図1に示すシステム100によるアコーディオンフリンジ干渉法を使用して距離を計算する方法は、2つの点112、114の相対的な位相を偏移させることであり、これには加工物上のフリンジを動かす作用がある。カメラの各画素は、3つの移相のそれぞれについて等しい露出から得られる光のレベルを測定する。電子ユニット150内のプロセッサが、少なくとも3つの測定された光レベルを使用して、加工物の表面上の点までの距離を計算する。したがって、3D座標を計算するには、図1〜3に示すシステムは、それぞれ点112、114、点270、および点390の相対的な位相を偏移させる能力を必要とする。
スキャナによって測定される距離の範囲が比較的大きい場合、測定される距離のあいまいさを解消する能力も必要とする。フリンジピッチは比較的小さいため、カメラによって収集される像に基づくいくつかの可能な有効な距離の解決策があることが分かった。このあいまいさは、フリンジ間の間隔(ピッチ)を知られている量だけ変化させることによって除去することができる。図3の実施形態では、異なるピッチ値を有する2つの対応する格子330A、330Bを通過する2つの光源を使用することによって、2つの異なるフリンジ間隔が得られる。3D座標を計算するには、図1〜3に示すシステムは、大部分の場合、フリンジピッチを少なくとも2つの値に変化させる能力を必要とする。
一実施形態では、ピンホールと移相器の組合せ360は、図4に示す光学要素400である。光学要素400は、溶融石英などの高品質の材料から作られたガラス板405を含む。光が縞状の区域410および412を通過する際に3つの異なる相対的な移相を生成するパターンで、複数の領域がガラス内へエッチングされる。別法として、ガラス板405を覆うように異なる厚さの被覆を施すことによって、異なる厚さを生じさせることもできる。伝送されるパワーの差は計算される距離に誤りを引き起こす可能性があるため、被覆が使用される場合、それぞれの異なる層によって伝送される光の量の差を最小にするように注意が払われるべきである。図4に示す例示的な実施形態では、縞状の区域410は、断面A−Aに示す凹状の断面432を有し、縞状の区域412は、断面B−Bに示す凹状の断面444を有する。縞状の区域410および412を通過した光は、光が通過する光学要素400上の垂直方向の位置に従って、3つの異なる相対的な光路長(OPL)を有する。これらの3つの異なるOPLにより、光点390に3つの異なる相対的な移相が生成される。加工物上では、この移相の影響で、フリンジの線が側方にずれる。3つの異なる移相を得るために、多くの他のエッチングパターンも可能である。さらに、場合によっては4つ以上の移相を得ることが望ましいこともあり、その結果、追加のエッチング領域が必要とされることがある。図4、図4A、図4Bに示すパターンは単なる提案であり、使用できるパターンのタイプに関して限定するものではないことを理解されたい。
光学要素400のピンホール機能は、±1以外の次数を有する望ましくない光を阻止することである。次数0は、不透明の被覆422によって阻止される。被覆422は、クロムの被覆とすることができる。次数±3、±5は、不透明領域420、424によって阻止される。一実施形態では、領域420、422、および424は、本当のピンホールではなく、縞状である。ピンホールという用語は、一般に、望ましくないビームを阻止する機能について説明するために使用されており、したがって本明細書では、図示の実施形態で縞状のビームブロッカが使用される場合でも、ピンホールという用語を使用する。他のパターンの不透明および透明の領域を、光学要素400に適用することもできる。
図5に示すモータ駆動機構500を使用して、図4の位相調整器400に直線運動を提供することができる。ステージ500は、中心に孔を有するボールスライドを含む。このタイプの市販のボールスライドの指定の真直度は、0.00008m/mである。たとえば調整器400などの位相/フリンジ調整器が、位置520に取り付けられる。アクチュエータ530によって運動が提供される。一実施形態では、アクチュエータ530はボイスコイルアクチュエータである。アクチュエータ530は、ドライバ要素532を押してボールスライドを動かす。センサ540によって、位置フィードバックが提供される。一実施形態では、センサ540は直線エンコーダである。電子ユニット550が、アクチュエータ530およびフィードバックセンサ540に対する電子的な支援を提供する。電子ユニット550は、演算上の支援を提供するプロセッサを含むことができる。
フリンジピッチを変化させる方法について、次に考察する。図6は、第1の表面612にくさび角εおよび入射角αを有するくさび形の窓600を通って進む光線の幾何形状を示す。くさび形の窓600は、第1の屈折角β、第2の入射角γ、および第2の屈折角δを有する。本発明者らは、くさび形の窓に入る最初の光線に対するくさび形の窓を出る最終の光線の角度を求めることに関心をもっている。具体的には、本発明者らは、αが0に近接している場合、この角度変化が入射角αとともにどのように変化するかに関心をもっている。
第1の境界面におけるビーム角の変化はβ−αであり、第2の境界面におけるビーム角の変化はγ−δである。第2の入射角は、
γ=β+ε (1)
によって与えられ、ビーム角の全体的な変化ζは、
ζ=β−α+δ−γ=−α+asin(n sin(γ))−ε (2)
である。
入射角α=0である場合、等式(2)は、
ζ=asin(n sin(ε))−ε (3)
に簡略化される。
等式(3)を使用して、所望のくさび角を計算することができる。たとえば、ガラスの屈折率がn=1.5であり、かつ所望の偏角がζ=1.3ミリラジアンである場合、等式(3)を数値的に解いて、くさび角ε=2.5ミリラジアンを求めることができる。
3D測定デバイスの出力部で点と点の間に所望の距離を与える3つの異なる角度を生成するために、図7に示すように、くさび形の窓の構成をアセンブリ700内に組み合わせることができる。以下に論じる図9を参照して以下に説明するように、各ビームの主な方向は格子要素によって設定される。アセンブリ700の目的は、2つの分離されたビーム間の角度をわずかに変化させて、フリンジピッチに所望の小さい変化を生成することである。これは、アセンブリの中心にくさび形でない窓712を配置し、反対方向に傾斜したくさび形の窓710および714を両側に配置することによって行われることが好都合である。
所望の偏角を生成するために、図7のアセンブリ700は、紙面内で上下に動かされる。これにより、3つの要素710、712、および714のそれぞれにおいて一貫した角度偏差が生成されるが、それぞれの場合に異なる移相が生じ、この移相は、上下運動中のアセンブリ700の位置に依存する。
アセンブリが動くときにガラスの厚さの変動とともに望ましくない移相が生じるのを回避するために、これらのくさびは、図8A、図8Bのアセンブリ1300、1350内のように構成することができる。図8Aの上面図で見たとき、アセンブリは紙面から出る方向に延びている。単一のビーム1330が、3つの断面1310、1315、1320の1つに入る。ガラス断面1310、1315、1320のくさび角により、それぞれ出射光ビーム1340、1350、1345の方向が決まる。くさび形でない断面1310に入るビーム1330の場合、ビーム1340は元の方向に沿ってアセンブリを出る。他の2つの断面1315、1320の場合、図6に従って、ビームはガラスの前縁部の方へ曲がる。アセンブリ1300(1350)の設計の重要な態様は、アセンブリが立ち去るときは断面1310、1315、1320のいずれにおいてもビームの位相が変化しないことである。これは、運動中にガラスの厚さが変化しないように断面1310、1315、1320が適切に位置合わせされている限り、当てはまる。
図9に、単一の光学要素を使用して位相とフリンジピッチの両方を調整する構成を示す。光源910が光を提供する。この光は、レーザ、超放射発光ダイオード、LED、または他の源からくることができる。一実施形態では、光源910からの光は、光ファイバ912を通って、フェルール922およびレンズ924を含むファイバ出射端920へ進む。別法として、光源910からの光は、自由空間を通って進み、レンズ924に到達することもできる。ファイバ出射端920を出た平行光980は格子930へ進み、格子930は、この光を、異なる方向に進むいくつかの光ビームに分割する。後に光路内では、異なる次数の回折光がすべて複数の点に集束され、これらのすべては、±1の次数を除いて、すべて不透明のマスクによって除去される。ビーム987は、鏡933に反射し、鏡932に反射して、位相/フリンジ調整器940を通過する。位相/フリンジ調整器940は、アセンブリ900の出力部の位相とフリンジ間隔の両方を調整する。光は、光を伝送するビームコンバイナの第1の部分952を通過する。
光982は、鏡934に反射し、ビームコンバイナ956の第2の領域954に反射する。ビームコンバイナ956から出射される2つの光ビーム985、989は、位置990で交差する。一実施形態では2つの正レンズ要素962、964を含む無限焦点ビームエクスパンダ960が、第1のレンズ要素962の焦点距離が交点990から第1のレンズ要素962の焦点距離fに等しい距離をあけて配置されるように位置決めされる。2つの平行光ビーム985、989は、第1のレンズ要素962によって、第1のレンズ962から距離fをあけたところに位置する2つの光点996に集束される。レンズ962および964間の距離はf+fに等しく、その結果、ビームエクスパンダ内の2つの点は、第2のレンズ要素964から距離fをあけたところに位置する。2つの平行光ビーム991、993が、ビームエクスパンダ960から出射される。出射ビーム991、993の寸法は、ビームエクスパンダの横倍率Mに入射ビームの寸法をかけた値に等しく、ここで倍率はM=f/fである。2つの出射レーザビーム間の角度は、入射レーザビーム991、993間の角度と比較すると、1/Mだけ低減される。一例として、各入射レーザビーム985、989の直径を0.7mmとし、これらのビームの離し角を13ミリラジアン(mrad)とする。また、ビームエクスパンダ960の横倍率をM=10とする。このとき、出射レーザビーム991、993はそれぞれ、7mmの直径および1.3mradの離し角を有する。ビームエクスパンダ960から出射される平行光ビーム991、993は、位置992で交差する。たとえば、焦点距離f=4.5mmおよび開口数NA=0.65を有する40倍の顕微鏡対物レンズとすることができる対物レンズ970は、対物レンズ970の前方焦点位置から交点992までの距離が対物レンズ970の焦点距離fに等しくなるように配置される。対物レンズ970は、平行ビーム991、993を2つの小さい点994に集束させる。不透明の縞と透明の縞を交互に含むピンホール板946が点994付近に位置決めされ、+1および−1の次数を除いて、格子930からのすべての次数の回折光を阻止する。代替実施形態では、点996の位置の板が、不透明領域と透明領域の縞を交互に含み、+1および−1の次数を除いて、格子によって回折されたすべての次数の光を阻止する。
図10は、図9の要素940として使用できる位相/フリンジ調整器1000を示す。位相/フリンジ調整器1000は、入射面が出射面に対して平行でないガラスのくさび形の窓を含む。調整器1000内では、面1012は面1020に対して平行でない。さらに、位相/フリンジ調整器1000は、ガラス内へエッチングされた2つの小さい断面1014、1016を含む。上部区域1012と2つの断面1014、1016のいずれかとの間の光路長(OPL)の差は、上部区域1012と断面との間の厚さの差に数量n−1をかけた値に等しく、ここでnはガラスの屈折率である。対応する移相は、OPLの差に2π/λをかけた値に等しく、ここでλは光源からの光の波長である。したがって、たとえば、波長が658nmであり、屈折率がn=1.5であり、かつ第1の所望の移相が120度=2π/3ラジアンである場合、断面1014は、d=λ/3(n−1)=658nm/3(1.5−1)=438.7nmの深さdまでエッチングされるべきである。断面1016に対して240度の移相が望ましい場合、エッチングの深さを2倍にして877.3nmにするべきである。ガラスを所与の深さまでエッチングすることに対する代替の手法は、ガラスを所望の断面で所与の高さまで被覆することである。
3つの異なるフリンジピッチを得るために、図11A、図11Bに示すように、3つのガラス窓を積層することができる。3つのくさび形要素をアセンブリ内に組み合わせる簡単な方法は、くさび角が0になる(入口表面と出口表面が平行になる)ように中心要素を設定し、くさび角が等しいが逆向きになるように2つの外側の窓を設定することである。
一例として、図9の点994の所望の分離をα={46、52、58}マイクロメートルとする。対物レンズ970の焦点距離が4.5mmである場合、ビーム991、993間の離し角は、θ=α/f={10.22、11.56、12.89}ミリラジアンである。ビームエクスパンダ960の横倍率がM=10である場合、ビーム985、989間の離し角は、{102.2、115.6、および128.9}ミリラジアンである。鏡932、934は、ビーム987が位相/フリンジ調整器940の中心窓1110を通過するとき、ビーム985、989間に115.6ミリラジアンの角度分離を生成するように設定される。この場合、中心窓1110のくさび角は0であり、言い換えれば、窓の辺は平行である。窓1000および1112は、くさび角が128.89−115.56=115.55−102.22=13.3ミリラジアンに等しくなるように製造される。くさび形の窓1000、1112は反対方向に取り付けられ、その結果、±13.3ミリラジアンのくさび角によって、光ビームは反対方向に偏向される。
本発明について、例示的な実施形態を参照して説明したが、本発明の範囲から逸脱することなく、様々な変更を加えることでき、これらの要素を均等物で置き換えることができることが、当業者には理解されるであろう。さらに、特定の状況または材料を本発明の教示に適合させるために、本発明の本質的な範囲から逸脱することなく、多くの変形を加えることができる。したがって、本発明は、本発明を実施するために企図される最良の形態として開示する特定の実施形態に限定されるものではなく、本発明は、添付の特許請求の範囲の範囲内に入るすべての実施形態を含むものとする。さらに、第1、第2などの用語の使用は、いかなる順序または重要性も示すものではなく、第1、第2などの用語は、要素同士を区別するために使用される。さらに、a、anなどの用語の使用は、数量の限定を示すものではなく、記載の項目の少なくとも1つの存在を示すものである。

Claims (7)

  1. 物体(130)の表面上で第1の物体点(124)の3次元座標を決定する方法であって、
    第1の光源(210、310A、310B、910、920)、投影器(160、200、300、900)、およびカメラ(140)を用意するステップであって、前記投影器が、第1の回折格子(220、330A、330B、930)、対物レンズ(240、350、970)、および第1の板(360、400、512、946)を含み、前記カメラが、カメラレンズ(142)および感光アレイ(146)を含み、前記第1の光源が第1の光源ビームを生成し、前記第1の板が、第1の透明領域(410)、第2の透明領域(412)、および少なくとも1つの不透明領域(420、422、424)を含み、前記少なくとも1つの不透明領域が、前記第1の板の表面上に配置された被覆によって形成され、前記投影器が、投影器投影中心を有し、前記カメラが、カメラ投影中心(144)を有し、前記投影器の投影中心と前記カメラの投影中心との間の線分が基準線(164)であり、前記基準線が、基準線長さを有する、ステップと、
    前記第1の光源ビームを前記第1の回折格子へ送るステップと、
    前記第1の回折格子を用いて、少なくとも第1の回折光ビーム(987)、第2の回折光ビーム(982)、および残余光を形成するステップであって、前記残余光が、前記第1の光源ビームからの光のうち、前記第1の回折格子を通過し、かつ前記第1の回折光ビームまたは前記第2の回折光ビーム以外の光である、ステップと、
    前記第1の回折光ビーム、前記第2の回折光ビーム、および前記残余光を前記対物レンズへ送るステップと、
    前記対物レンズを用いて、少なくとも第1の光点(112、270、390、994)および第2の光点(114、270、390、994)を形成するステップであって、前記第1の光点が前記第1の回折光ビームから生じ、前記第2の光点が前記第2の回折光ビームから生じる、ステップと、
    前記第1の光点および前記第2の光点付近の第1の位置に前記第1の板を配置するステップと、
    前記第1の光点からの第1の光を前記第1の透明領域内のガラスの第1の厚さに通し、前記第2の光点からの第2の光を前記第2の透明領域内のガラスの第2の厚さに通し、一方、前記少なくとも1つの不透明領域を用いて、前記残余光が前記第1の板を通るのを阻止するステップであって、前記第1の厚さと前記第2の厚さとの差が第1の厚差に等しい、ステップと、
    前記第1の光と前記第2の光とを組み合わせて、前記物体の前記表面上に第1のフリンジパターンを生成するステップと、
    前記第1のフリンジパターンによって照射された前記第1の物体点を感光アレイ上のアレイ点上へ撮像して、前記感光アレイから第1の電気データ値を得るステップと、
    前記第1の板を第2の位置へ動かすステップと、
    前記第1の光点からの第3の光を前記第1の透明領域内のガラスの第3の厚さに通し、前記第2の光点からの第4の光を前記第2の透明領域内のガラスの第4の厚さに通し、一方、前記少なくとも1つの不透明領域を用いて、前記残余光が前記第1の板を通るのを阻止するステップであって、前記第3の厚さと前記第4の厚さとの差が第2の厚差に等しく、前記第2の厚差が前記第1の厚差に等しくない、ステップと、
    前記物体の前記表面上で前記第3の光と前記第4の光とを組み合わせて、前記物体の前記表面上に第2のフリンジパターンを生成するステップであって、前記第1のフリンジパターンおよび前記第2のフリンジパターンが、前記第1の物体点に第1のフリンジピッチを有する、ステップと、
    前記第2のフリンジパターンによって照射された前記第1の物体点を前記アレイ点上へ撮像して、前記感光アレイから第2の電気データ値を得るステップと、
    前記第1の電気データ値、前記第2の電気データ値、および前記基準線長さに少なくとも部分的に基づいて、前記第1の物体点の前記3次元座標を計算するステップと、
    前記第1の物体点の前記3次元座標を記憶するステップと、
    を含むことを特徴とする方法。
  2. 請求項1に記載の方法であって、
    第1の光源、投影器、およびカメラを用意する前記ステップで、前記第1の光源ビームが、可視光、赤外光、および紫外光からなる群から選択される、
    ことを特徴とする方法。
  3. 請求項1に記載の方法であって、
    前記第1の板を第3の位置へ動かすステップと、
    前記第1の光点からの第5の光を前記第1の透明領域内のガラスの第5の厚さに通し、前記第2の光点からの第6の光を前記第2の透明領域内のガラスの第6の厚さに通し、一方、前記少なくとも1つの不透明領域を用いて、前記残余光が前記第1の板を通るのを阻止するステップであって、前記第5の厚さおよび前記第6の厚さの差が第3の厚差に等しく、前記第3の厚差が前記第1の厚差または前記第2の厚差に等しくない、ステップと、
    前記物体の前記表面上で前記第5の光と前記第6の光とを組み合わせて、前記物体の前記表面上に第3のフリンジパターンを生成するステップであって、前記第3のフリンジパターンが、前記第1の物体点に第1のフリンジピッチを有する、ステップと、
    前記第3のフリンジパターンによって照射された前記第1の物体点を前記アレイ点上へ撮像して、前記感光アレイから第3の電気データ値を得るステップと、
    をさらに含み、
    前記第1の物体点の前記3次元座標を計算する前記ステップが、前記第3の電気データ値にさらに基づいて行われる、
    ことを特徴とする方法。
  4. 請求項1に記載の方法であって、
    第1のくさび角を有する第1の透明くさびを通って前記第1の回折光ビームを送り、前記第1の回折光ビームの伝播方向を変化させてから、前記対物レンズを通って前記第1の回折光ビームを送るステップ、
    をさらに含み、
    前記第1の透明くさびが、前記第1の物体点に前記第1のピッチを生成するように構成される、
    ことを特徴とする方法。
  5. 請求項4に記載の方法であって、
    第2のくさび角を有する第2の透明くさび(600、710、712、714、1310、1315、1320)を通って前記第1の回折光ビームを送り、前記第1の回折光ビームの伝播方向を変化させてから、前記対物レンズを通って前記第1の回折光ビームを送るステップ、
    をさらに含み、
    前記第2のくさび角が、前記第1のくさび角とは異なり、前記第2の透明くさびが、前記第1の物体点に第2のピッチを生成するように構成され、前記第2のピッチが、前記第1のピッチとは異なる、
    ことを特徴とする方法。
  6. 請求項1に記載の方法であって、
    第2の光源(310B)、第2の回折格子(330B)、およびビームコンバイナ(340)を用意するステップであって、前記第2の光源が第2の光源ビームを生成する、ステップと、
    前記第2の光源ビームを前記第2の回折格子へ送るステップと、
    前記第2の回折格子を用いて、少なくとも第3の回折光ビームおよび第4の回折光ビームを形成するステップと、
    前記第3の回折光ビームおよび前記第4の回折光ビームを前記ビームコンバイナへ送るステップと、
    前記第3の回折光ビームおよび前記第4の回折光ビームを前記ビームコンバイナから前記対物レンズへ送るステップと、
    前記対物レンズ(350)を用いて、少なくとも第3の光点(390)および第4の光点(390)を形成するステップであって、前記第3の光点が前記第3の回折光ビームから生じ、前記第4の光点が前記第4の回折光ビームから生じる、ステップと、
    前記第1の光点からの第1の光および前記第2の光点からの第2の光を前記物体の前記表面へ通すステップと、
    前記第1の光と前記第2の光とを組み合わせて、前記物体の前記表面上に第4のフリンジパターンを生成するステップと、
    前記第4のフリンジパターンによって照射された前記第1の物体点を感光アレイ上のアレイ点上へ撮像して、前記感光アレイから第4の電気データ値を得るステップと、
    をさらに含み、
    前記第1の物体点の前記3次元座標を計算する前記ステップが、前記第4の電気データ値にさらに基づいて行われる、
    ことを特徴とする方法。
  7. 請求項1に記載の方法であって、
    拡大レンズ系(960)を用意するステップであって、前記拡大レンズ系が、1より大きい横倍率を有する無限焦点レンズ系である、ステップと、
    前記拡大レンズ系を通って前記第1の回折光ビームおよび前記第2の回折光ビームを送ってから、前記対物レンズ(970)を通って前記第1の回折光ビームおよび前記第2の回折光ビームを送るステップと、
    をさらに含むことを特徴とする方法。
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3194884B1 (en) 2014-09-19 2023-11-01 Hexagon Metrology, Inc Multi-mode portable coordinate measuring machine
DE102014116621A1 (de) * 2014-11-13 2016-05-19 Mel Mikroelektronik Gmbh Zweidimensionaler Lichtschnittsensor mit UV-Laserlicht
WO2019094901A1 (en) 2017-11-13 2019-05-16 Hexagon Metrology, Inc. Thermal management of an optical scanning device
CN109001179B (zh) * 2018-08-07 2020-10-27 东南大学 尖端间距可调节的金属V型光栅Fano共振结构
CN110553585A (zh) * 2018-09-05 2019-12-10 天目爱视(北京)科技有限公司 一种基于光学阵列的3d信息获取装置
USD875573S1 (en) 2018-09-26 2020-02-18 Hexagon Metrology, Inc. Scanning device
WO2020209855A1 (en) * 2019-04-11 2020-10-15 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Three dimensional imaging
US20220252392A1 (en) * 2019-07-02 2022-08-11 Nikon Corporation Metrology for additive manufacturing
US10921721B1 (en) * 2019-09-13 2021-02-16 Applied Materials, Inc. Measurement system and grating pattern array
CN115200510A (zh) * 2021-04-09 2022-10-18 圣邦微电子(北京)股份有限公司 一种获取物体表面深度信息的装置和方法

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4033665A (en) * 1975-05-30 1977-07-05 Rca Corporation System for recording redundant fourier-transform hologram
JP3351857B2 (ja) * 1993-06-01 2002-12-03 株式会社ミツトヨ マイケルソン形干渉測定装置
DE10321888A1 (de) * 2003-05-07 2004-12-02 Universität Stuttgart Messverfahren und Sensor, insbesondere zur optischen Abtastung bewegter Objekte
JP2007178307A (ja) * 2005-12-28 2007-07-12 Sony Corp レーザ光の波長検出器およびレーザ装置
JP2008051749A (ja) * 2006-08-28 2008-03-06 Mitsutoyo Corp 光波干渉測定装置
JP2008251661A (ja) * 2007-03-29 2008-10-16 Sharp Corp 発振モード判定装置およびレーザ光源装置
WO2010096062A1 (en) * 2009-02-23 2010-08-26 Dimensional Photonics International, Inc. Apparatus and method for high-speed phase shifting for interferometric measurement systems
US20100290060A1 (en) * 2009-05-14 2010-11-18 Andover Photonics, Inc. Shape measurement using microchip based fringe projection
JP2011053176A (ja) * 2009-09-04 2011-03-17 Sony Corp 検査装置および検査方法

Family Cites Families (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US321888A (en) * 1885-07-07 Milling-spout for conducting granular pulverized material
US3762809A (en) 1970-01-07 1973-10-02 Ricoh Kk Original mount or holder for optical projection system
US4017727A (en) 1975-11-12 1977-04-12 Yamamoto David J Light projecting apparatus
US6690474B1 (en) 1996-02-12 2004-02-10 Massachusetts Institute Of Technology Apparatus and methods for surface contour measurement
US5870191A (en) 1996-02-12 1999-02-09 Massachusetts Institute Of Technology Apparatus and methods for surface contour measurement
US6438272B1 (en) 1997-12-31 2002-08-20 The Research Foundation Of State University Of Ny Method and apparatus for three dimensional surface contouring using a digital video projection system
US6040910A (en) 1998-05-20 2000-03-21 The Penn State Research Foundation Optical phase-shift triangulation technique (PST) for non-contact surface profiling
DE19908883A1 (de) 1999-03-02 2000-09-07 Rainer Heintzmann Verfahren zur Erhöhung der Auflösung optischer Abbildung
JP3893809B2 (ja) 1999-09-29 2007-03-14 コニカミノルタフォトイメージング株式会社 焦点位置を変更できる空間変調ユニット、光束偏向装置、焦点検出装置、およびカメラ
JP2001127852A (ja) 1999-10-28 2001-05-11 Seiko Epson Corp カバーガラス及び光学部品
JP3714853B2 (ja) 2000-06-30 2005-11-09 株式会社ミツトヨ 位相シフト干渉縞同時撮像装置における平面形状計測方法
JP3554816B2 (ja) 2000-09-14 2004-08-18 和歌山大学長 矩形波格子投影によるリアルタイム形状変形計測方法
US20020163573A1 (en) 2001-04-11 2002-11-07 Bieman Leonard H. Imaging system
US6578970B2 (en) 2001-09-19 2003-06-17 Advanced Radiation Corporation Point-like lamp with anode chimney
US20030072011A1 (en) 2001-10-09 2003-04-17 Shirley Lyle G. Method and apparatus for combining views in three-dimensional surface profiling
US7046410B2 (en) 2001-10-11 2006-05-16 Polychromix, Inc. Actuatable diffractive optical processor
US6768589B2 (en) 2001-12-21 2004-07-27 Polychromix Corporation Method and apparatus providing reduced polarization-dependent loss
US6810207B2 (en) 2002-05-13 2004-10-26 Olympus Corporation Camera
US6985308B1 (en) 2002-05-28 2006-01-10 Polychromix Corporation Telecommunications optical processor
US20040125205A1 (en) 2002-12-05 2004-07-01 Geng Z. Jason System and a method for high speed three-dimensional imaging
US7139128B2 (en) 2003-01-06 2006-11-21 Polychromix Corporation Diffraction grating having high throughput efficiency
US20050002677A1 (en) 2003-07-03 2005-01-06 Polychromix, Inc. Methods and apparatus for monitoring the strength of carriers in an optical communication system
US7196789B2 (en) 2003-10-15 2007-03-27 Polychromix Corporation Light processor providing wavelength control and method for same
US7379241B2 (en) 2004-12-15 2008-05-27 Polychromix Corporation High efficiency phase grating having a planar reflector
JP4427632B2 (ja) 2005-03-15 2010-03-10 独立行政法人産業技術総合研究所 高精度三次元形状測定装置
US7599071B2 (en) 2005-04-06 2009-10-06 Dimensional Photonics International, Inc. Determining positional error of an optical component using structured light patterns
US7505641B1 (en) 2005-08-17 2009-03-17 Polychromix Corporation Optical biosensor incorporating wavelength encoding of multiple unlabeled analytes
WO2007089770A2 (en) 2006-01-31 2007-08-09 Polychromix Corporation Hand-held ir spectrometer with a fixed grating and a diffractive mems-array
DE102007002880B4 (de) 2007-01-15 2011-08-25 DMG Microset GmbH, 33689 Verfahren und Vorrichtung zum optischen Ausmessen eines Objekts, insbesondere eines Werkstücks oder Werkzeugs
EP2114238A1 (en) * 2007-02-14 2009-11-11 The Institute For Eye Research Limited Characterization of optical systems
US8081319B2 (en) 2008-06-12 2011-12-20 Ahura Scientific Inc. Adjustable two dimensional lamellar grating
WO2010006081A1 (en) 2008-07-08 2010-01-14 Chiaro Technologies, Inc. Multiple channel locating
WO2010021972A1 (en) 2008-08-18 2010-02-25 Brown University Surround structured lighting for recovering 3d object shape and appearance
KR101530930B1 (ko) 2008-08-19 2015-06-24 삼성전자주식회사 패턴투영장치, 이를 구비한 3차원 이미지 형성장치, 및 이에 사용되는 초점 가변 액체렌즈
KR20100084718A (ko) 2009-01-19 2010-07-28 삼성전자주식회사 3차원 이미지를 생성하는 휴대 단말기
US8989845B2 (en) * 2009-02-17 2015-03-24 Koninklijke Philips N.V. Model-based extension of field-of-view in nuclear imaging
US20110298896A1 (en) 2009-02-23 2011-12-08 Dimensional Photonics International, Inc. Speckle noise reduction for a coherent illumination imaging system
US7763841B1 (en) 2009-05-27 2010-07-27 Microsoft Corporation Optical component for a depth sensor
JP5402393B2 (ja) 2009-08-20 2014-01-29 大日本印刷株式会社 投射型映像表示装置および映像表示方法
WO2012141868A1 (en) 2011-04-15 2012-10-18 Faro Technologies, Inc. Enhanced position detector in laser tracker

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4033665A (en) * 1975-05-30 1977-07-05 Rca Corporation System for recording redundant fourier-transform hologram
JP3351857B2 (ja) * 1993-06-01 2002-12-03 株式会社ミツトヨ マイケルソン形干渉測定装置
DE10321888A1 (de) * 2003-05-07 2004-12-02 Universität Stuttgart Messverfahren und Sensor, insbesondere zur optischen Abtastung bewegter Objekte
JP2007178307A (ja) * 2005-12-28 2007-07-12 Sony Corp レーザ光の波長検出器およびレーザ装置
JP2008051749A (ja) * 2006-08-28 2008-03-06 Mitsutoyo Corp 光波干渉測定装置
JP2008251661A (ja) * 2007-03-29 2008-10-16 Sharp Corp 発振モード判定装置およびレーザ光源装置
WO2010096062A1 (en) * 2009-02-23 2010-08-26 Dimensional Photonics International, Inc. Apparatus and method for high-speed phase shifting for interferometric measurement systems
US20100290060A1 (en) * 2009-05-14 2010-11-18 Andover Photonics, Inc. Shape measurement using microchip based fringe projection
JP2011053176A (ja) * 2009-09-04 2011-03-17 Sony Corp 検査装置および検査方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
GARY J. SWANSON ; MATTHEW P. KAVALAUSKAS ; LYLE G. SHIRLEY: "High-precision surface profiling with broadband accordion fringe interferometry", PROCEEDINGS OF SPIE , MACHINE VISION AND THREE-DIMENSIONAL IMAGING SYSTEMS FOR INSPECTION AND METROL, vol. 4189, JPN7015002491, 12 February 2001 (2001-02-12), US, pages 161 - 169, XP055038933, ISSN: 0003215467, DOI: 10.1117/12.417193 *

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