JP2014522982A - 位相およびピッチ調整を伴う格子ベースのスキャナ - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、その内容を全体として本願に引用して援用する、2011年7月14日出願の米国仮特許出願第61/507,771号の利益を主張するものである。
γ=β+ε (1)
によって与えられ、ビーム角の全体的な変化ζは、
ζ=β−α+δ−γ=−α+asin(n sin(γ))−ε (2)
である。
ζ=asin(n sin(ε))−ε (3)
に簡略化される。
Claims (7)
- 物体(130)の表面上で第1の物体点(124)の3次元座標を決定する方法であって、
第1の光源(210、310A、310B、910、920)、投影器(160、200、300、900)、およびカメラ(140)を用意するステップであって、前記投影器が、第1の回折格子(220、330A、330B、930)、対物レンズ(240、350、970)、および第1の板(360、400、512、946)を含み、前記カメラが、カメラレンズ(142)および感光アレイ(146)を含み、前記第1の光源が第1の光源ビームを生成し、前記第1の板が、第1の透明領域(410)、第2の透明領域(412)、および少なくとも1つの不透明領域(420、422、424)を含み、前記少なくとも1つの不透明領域が、前記第1の板の表面上に配置された被覆によって形成され、前記投影器が、投影器投影中心を有し、前記カメラが、カメラ投影中心(144)を有し、前記投影器の投影中心と前記カメラの投影中心との間の線分が基準線(164)であり、前記基準線が、基準線長さを有する、ステップと、
前記第1の光源ビームを前記第1の回折格子へ送るステップと、
前記第1の回折格子を用いて、少なくとも第1の回折光ビーム(987)、第2の回折光ビーム(982)、および残余光を形成するステップであって、前記残余光が、前記第1の光源ビームからの光のうち、前記第1の回折格子を通過し、かつ前記第1の回折光ビームまたは前記第2の回折光ビーム以外の光である、ステップと、
前記第1の回折光ビーム、前記第2の回折光ビーム、および前記残余光を前記対物レンズへ送るステップと、
前記対物レンズを用いて、少なくとも第1の光点(112、270、390、994)および第2の光点(114、270、390、994)を形成するステップであって、前記第1の光点が前記第1の回折光ビームから生じ、前記第2の光点が前記第2の回折光ビームから生じる、ステップと、
前記第1の光点および前記第2の光点付近の第1の位置に前記第1の板を配置するステップと、
前記第1の光点からの第1の光を前記第1の透明領域内のガラスの第1の厚さに通し、前記第2の光点からの第2の光を前記第2の透明領域内のガラスの第2の厚さに通し、一方、前記少なくとも1つの不透明領域を用いて、前記残余光が前記第1の板を通るのを阻止するステップであって、前記第1の厚さと前記第2の厚さとの差が第1の厚差に等しい、ステップと、
前記第1の光と前記第2の光とを組み合わせて、前記物体の前記表面上に第1のフリンジパターンを生成するステップと、
前記第1のフリンジパターンによって照射された前記第1の物体点を感光アレイ上のアレイ点上へ撮像して、前記感光アレイから第1の電気データ値を得るステップと、
前記第1の板を第2の位置へ動かすステップと、
前記第1の光点からの第3の光を前記第1の透明領域内のガラスの第3の厚さに通し、前記第2の光点からの第4の光を前記第2の透明領域内のガラスの第4の厚さに通し、一方、前記少なくとも1つの不透明領域を用いて、前記残余光が前記第1の板を通るのを阻止するステップであって、前記第3の厚さと前記第4の厚さとの差が第2の厚差に等しく、前記第2の厚差が前記第1の厚差に等しくない、ステップと、
前記物体の前記表面上で前記第3の光と前記第4の光とを組み合わせて、前記物体の前記表面上に第2のフリンジパターンを生成するステップであって、前記第1のフリンジパターンおよび前記第2のフリンジパターンが、前記第1の物体点に第1のフリンジピッチを有する、ステップと、
前記第2のフリンジパターンによって照射された前記第1の物体点を前記アレイ点上へ撮像して、前記感光アレイから第2の電気データ値を得るステップと、
前記第1の電気データ値、前記第2の電気データ値、および前記基準線長さに少なくとも部分的に基づいて、前記第1の物体点の前記3次元座標を計算するステップと、
前記第1の物体点の前記3次元座標を記憶するステップと、
を含むことを特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法であって、
第1の光源、投影器、およびカメラを用意する前記ステップで、前記第1の光源ビームが、可視光、赤外光、および紫外光からなる群から選択される、
ことを特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法であって、
前記第1の板を第3の位置へ動かすステップと、
前記第1の光点からの第5の光を前記第1の透明領域内のガラスの第5の厚さに通し、前記第2の光点からの第6の光を前記第2の透明領域内のガラスの第6の厚さに通し、一方、前記少なくとも1つの不透明領域を用いて、前記残余光が前記第1の板を通るのを阻止するステップであって、前記第5の厚さおよび前記第6の厚さの差が第3の厚差に等しく、前記第3の厚差が前記第1の厚差または前記第2の厚差に等しくない、ステップと、
前記物体の前記表面上で前記第5の光と前記第6の光とを組み合わせて、前記物体の前記表面上に第3のフリンジパターンを生成するステップであって、前記第3のフリンジパターンが、前記第1の物体点に第1のフリンジピッチを有する、ステップと、
前記第3のフリンジパターンによって照射された前記第1の物体点を前記アレイ点上へ撮像して、前記感光アレイから第3の電気データ値を得るステップと、
をさらに含み、
前記第1の物体点の前記3次元座標を計算する前記ステップが、前記第3の電気データ値にさらに基づいて行われる、
ことを特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法であって、
第1のくさび角を有する第1の透明くさびを通って前記第1の回折光ビームを送り、前記第1の回折光ビームの伝播方向を変化させてから、前記対物レンズを通って前記第1の回折光ビームを送るステップ、
をさらに含み、
前記第1の透明くさびが、前記第1の物体点に前記第1のピッチを生成するように構成される、
ことを特徴とする方法。 - 請求項4に記載の方法であって、
第2のくさび角を有する第2の透明くさび(600、710、712、714、1310、1315、1320)を通って前記第1の回折光ビームを送り、前記第1の回折光ビームの伝播方向を変化させてから、前記対物レンズを通って前記第1の回折光ビームを送るステップ、
をさらに含み、
前記第2のくさび角が、前記第1のくさび角とは異なり、前記第2の透明くさびが、前記第1の物体点に第2のピッチを生成するように構成され、前記第2のピッチが、前記第1のピッチとは異なる、
ことを特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法であって、
第2の光源(310B)、第2の回折格子(330B)、およびビームコンバイナ(340)を用意するステップであって、前記第2の光源が第2の光源ビームを生成する、ステップと、
前記第2の光源ビームを前記第2の回折格子へ送るステップと、
前記第2の回折格子を用いて、少なくとも第3の回折光ビームおよび第4の回折光ビームを形成するステップと、
前記第3の回折光ビームおよび前記第4の回折光ビームを前記ビームコンバイナへ送るステップと、
前記第3の回折光ビームおよび前記第4の回折光ビームを前記ビームコンバイナから前記対物レンズへ送るステップと、
前記対物レンズ(350)を用いて、少なくとも第3の光点(390)および第4の光点(390)を形成するステップであって、前記第3の光点が前記第3の回折光ビームから生じ、前記第4の光点が前記第4の回折光ビームから生じる、ステップと、
前記第1の光点からの第1の光および前記第2の光点からの第2の光を前記物体の前記表面へ通すステップと、
前記第1の光と前記第2の光とを組み合わせて、前記物体の前記表面上に第4のフリンジパターンを生成するステップと、
前記第4のフリンジパターンによって照射された前記第1の物体点を感光アレイ上のアレイ点上へ撮像して、前記感光アレイから第4の電気データ値を得るステップと、
をさらに含み、
前記第1の物体点の前記3次元座標を計算する前記ステップが、前記第4の電気データ値にさらに基づいて行われる、
ことを特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法であって、
拡大レンズ系(960)を用意するステップであって、前記拡大レンズ系が、1より大きい横倍率を有する無限焦点レンズ系である、ステップと、
前記拡大レンズ系を通って前記第1の回折光ビームおよび前記第2の回折光ビームを送ってから、前記対物レンズ(970)を通って前記第1の回折光ビームおよび前記第2の回折光ビームを送るステップと、
をさらに含むことを特徴とする方法。
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DE102014116621A1 (de) * | 2014-11-13 | 2016-05-19 | Mel Mikroelektronik Gmbh | Zweidimensionaler Lichtschnittsensor mit UV-Laserlicht |
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CN109001179B (zh) * | 2018-08-07 | 2020-10-27 | 东南大学 | 尖端间距可调节的金属V型光栅Fano共振结构 |
CN110553585A (zh) * | 2018-09-05 | 2019-12-10 | 天目爱视(北京)科技有限公司 | 一种基于光学阵列的3d信息获取装置 |
USD875573S1 (en) | 2018-09-26 | 2020-02-18 | Hexagon Metrology, Inc. | Scanning device |
WO2020209855A1 (en) * | 2019-04-11 | 2020-10-15 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Three dimensional imaging |
US20220252392A1 (en) * | 2019-07-02 | 2022-08-11 | Nikon Corporation | Metrology for additive manufacturing |
US10921721B1 (en) * | 2019-09-13 | 2021-02-16 | Applied Materials, Inc. | Measurement system and grating pattern array |
CN115200510A (zh) * | 2021-04-09 | 2022-10-18 | 圣邦微电子(北京)股份有限公司 | 一种获取物体表面深度信息的装置和方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4033665A (en) * | 1975-05-30 | 1977-07-05 | Rca Corporation | System for recording redundant fourier-transform hologram |
JP3351857B2 (ja) * | 1993-06-01 | 2002-12-03 | 株式会社ミツトヨ | マイケルソン形干渉測定装置 |
DE10321888A1 (de) * | 2003-05-07 | 2004-12-02 | Universität Stuttgart | Messverfahren und Sensor, insbesondere zur optischen Abtastung bewegter Objekte |
JP2007178307A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Sony Corp | レーザ光の波長検出器およびレーザ装置 |
JP2008051749A (ja) * | 2006-08-28 | 2008-03-06 | Mitsutoyo Corp | 光波干渉測定装置 |
JP2008251661A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-16 | Sharp Corp | 発振モード判定装置およびレーザ光源装置 |
WO2010096062A1 (en) * | 2009-02-23 | 2010-08-26 | Dimensional Photonics International, Inc. | Apparatus and method for high-speed phase shifting for interferometric measurement systems |
US20100290060A1 (en) * | 2009-05-14 | 2010-11-18 | Andover Photonics, Inc. | Shape measurement using microchip based fringe projection |
JP2011053176A (ja) * | 2009-09-04 | 2011-03-17 | Sony Corp | 検査装置および検査方法 |
Family Cites Families (40)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US321888A (en) * | 1885-07-07 | Milling-spout for conducting granular pulverized material | ||
US3762809A (en) | 1970-01-07 | 1973-10-02 | Ricoh Kk | Original mount or holder for optical projection system |
US4017727A (en) | 1975-11-12 | 1977-04-12 | Yamamoto David J | Light projecting apparatus |
US6690474B1 (en) | 1996-02-12 | 2004-02-10 | Massachusetts Institute Of Technology | Apparatus and methods for surface contour measurement |
US5870191A (en) | 1996-02-12 | 1999-02-09 | Massachusetts Institute Of Technology | Apparatus and methods for surface contour measurement |
US6438272B1 (en) | 1997-12-31 | 2002-08-20 | The Research Foundation Of State University Of Ny | Method and apparatus for three dimensional surface contouring using a digital video projection system |
US6040910A (en) | 1998-05-20 | 2000-03-21 | The Penn State Research Foundation | Optical phase-shift triangulation technique (PST) for non-contact surface profiling |
DE19908883A1 (de) | 1999-03-02 | 2000-09-07 | Rainer Heintzmann | Verfahren zur Erhöhung der Auflösung optischer Abbildung |
JP3893809B2 (ja) | 1999-09-29 | 2007-03-14 | コニカミノルタフォトイメージング株式会社 | 焦点位置を変更できる空間変調ユニット、光束偏向装置、焦点検出装置、およびカメラ |
JP2001127852A (ja) | 1999-10-28 | 2001-05-11 | Seiko Epson Corp | カバーガラス及び光学部品 |
JP3714853B2 (ja) | 2000-06-30 | 2005-11-09 | 株式会社ミツトヨ | 位相シフト干渉縞同時撮像装置における平面形状計測方法 |
JP3554816B2 (ja) | 2000-09-14 | 2004-08-18 | 和歌山大学長 | 矩形波格子投影によるリアルタイム形状変形計測方法 |
US20020163573A1 (en) | 2001-04-11 | 2002-11-07 | Bieman Leonard H. | Imaging system |
US6578970B2 (en) | 2001-09-19 | 2003-06-17 | Advanced Radiation Corporation | Point-like lamp with anode chimney |
US20030072011A1 (en) | 2001-10-09 | 2003-04-17 | Shirley Lyle G. | Method and apparatus for combining views in three-dimensional surface profiling |
US7046410B2 (en) | 2001-10-11 | 2006-05-16 | Polychromix, Inc. | Actuatable diffractive optical processor |
US6768589B2 (en) | 2001-12-21 | 2004-07-27 | Polychromix Corporation | Method and apparatus providing reduced polarization-dependent loss |
US6810207B2 (en) | 2002-05-13 | 2004-10-26 | Olympus Corporation | Camera |
US6985308B1 (en) | 2002-05-28 | 2006-01-10 | Polychromix Corporation | Telecommunications optical processor |
US20040125205A1 (en) | 2002-12-05 | 2004-07-01 | Geng Z. Jason | System and a method for high speed three-dimensional imaging |
US7139128B2 (en) | 2003-01-06 | 2006-11-21 | Polychromix Corporation | Diffraction grating having high throughput efficiency |
US20050002677A1 (en) | 2003-07-03 | 2005-01-06 | Polychromix, Inc. | Methods and apparatus for monitoring the strength of carriers in an optical communication system |
US7196789B2 (en) | 2003-10-15 | 2007-03-27 | Polychromix Corporation | Light processor providing wavelength control and method for same |
US7379241B2 (en) | 2004-12-15 | 2008-05-27 | Polychromix Corporation | High efficiency phase grating having a planar reflector |
JP4427632B2 (ja) | 2005-03-15 | 2010-03-10 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 高精度三次元形状測定装置 |
US7599071B2 (en) | 2005-04-06 | 2009-10-06 | Dimensional Photonics International, Inc. | Determining positional error of an optical component using structured light patterns |
US7505641B1 (en) | 2005-08-17 | 2009-03-17 | Polychromix Corporation | Optical biosensor incorporating wavelength encoding of multiple unlabeled analytes |
WO2007089770A2 (en) | 2006-01-31 | 2007-08-09 | Polychromix Corporation | Hand-held ir spectrometer with a fixed grating and a diffractive mems-array |
DE102007002880B4 (de) | 2007-01-15 | 2011-08-25 | DMG Microset GmbH, 33689 | Verfahren und Vorrichtung zum optischen Ausmessen eines Objekts, insbesondere eines Werkstücks oder Werkzeugs |
EP2114238A1 (en) * | 2007-02-14 | 2009-11-11 | The Institute For Eye Research Limited | Characterization of optical systems |
US8081319B2 (en) | 2008-06-12 | 2011-12-20 | Ahura Scientific Inc. | Adjustable two dimensional lamellar grating |
WO2010006081A1 (en) | 2008-07-08 | 2010-01-14 | Chiaro Technologies, Inc. | Multiple channel locating |
WO2010021972A1 (en) | 2008-08-18 | 2010-02-25 | Brown University | Surround structured lighting for recovering 3d object shape and appearance |
KR101530930B1 (ko) | 2008-08-19 | 2015-06-24 | 삼성전자주식회사 | 패턴투영장치, 이를 구비한 3차원 이미지 형성장치, 및 이에 사용되는 초점 가변 액체렌즈 |
KR20100084718A (ko) | 2009-01-19 | 2010-07-28 | 삼성전자주식회사 | 3차원 이미지를 생성하는 휴대 단말기 |
US8989845B2 (en) * | 2009-02-17 | 2015-03-24 | Koninklijke Philips N.V. | Model-based extension of field-of-view in nuclear imaging |
US20110298896A1 (en) | 2009-02-23 | 2011-12-08 | Dimensional Photonics International, Inc. | Speckle noise reduction for a coherent illumination imaging system |
US7763841B1 (en) | 2009-05-27 | 2010-07-27 | Microsoft Corporation | Optical component for a depth sensor |
JP5402393B2 (ja) | 2009-08-20 | 2014-01-29 | 大日本印刷株式会社 | 投射型映像表示装置および映像表示方法 |
WO2012141868A1 (en) | 2011-04-15 | 2012-10-18 | Faro Technologies, Inc. | Enhanced position detector in laser tracker |
-
2012
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Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4033665A (en) * | 1975-05-30 | 1977-07-05 | Rca Corporation | System for recording redundant fourier-transform hologram |
JP3351857B2 (ja) * | 1993-06-01 | 2002-12-03 | 株式会社ミツトヨ | マイケルソン形干渉測定装置 |
DE10321888A1 (de) * | 2003-05-07 | 2004-12-02 | Universität Stuttgart | Messverfahren und Sensor, insbesondere zur optischen Abtastung bewegter Objekte |
JP2007178307A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Sony Corp | レーザ光の波長検出器およびレーザ装置 |
JP2008051749A (ja) * | 2006-08-28 | 2008-03-06 | Mitsutoyo Corp | 光波干渉測定装置 |
JP2008251661A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-16 | Sharp Corp | 発振モード判定装置およびレーザ光源装置 |
WO2010096062A1 (en) * | 2009-02-23 | 2010-08-26 | Dimensional Photonics International, Inc. | Apparatus and method for high-speed phase shifting for interferometric measurement systems |
US20100290060A1 (en) * | 2009-05-14 | 2010-11-18 | Andover Photonics, Inc. | Shape measurement using microchip based fringe projection |
JP2011053176A (ja) * | 2009-09-04 | 2011-03-17 | Sony Corp | 検査装置および検査方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
GARY J. SWANSON ; MATTHEW P. KAVALAUSKAS ; LYLE G. SHIRLEY: "High-precision surface profiling with broadband accordion fringe interferometry", PROCEEDINGS OF SPIE , MACHINE VISION AND THREE-DIMENSIONAL IMAGING SYSTEMS FOR INSPECTION AND METROL, vol. 4189, JPN7015002491, 12 February 2001 (2001-02-12), US, pages 161 - 169, XP055038933, ISSN: 0003215467, DOI: 10.1117/12.417193 * |
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