JP2014519555A - 電解質、黒色ルテニウムコーティングの堆積へのその使用およびそのようにして得られたコーティング - Google Patents
電解質、黒色ルテニウムコーティングの堆積へのその使用およびそのようにして得られたコーティング Download PDFInfo
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Abstract
Description
a)ルテニウム金属として計算すると、電解質1リットル当たり0.2〜20グラム(g/l)の濃度で溶解したルテニウム、
b)1リットル当たり0.05〜2モルの濃度のジカルボン、トリカルボンまたはテトラカルボン酸の1つ以上のアニオン、
c)1つ以上の硫黄複素環、
d)1つ以上のカチオン界面活性剤、特に、第四級アンモニウム塩をベースとする界面活性剤
の成分を有することを特徴とする電解質の提供は、定めた目的の達成に、極めて有効かつ簡単でありながら、有利に結び付くものである。この電解質は、導電性、特に、金属性の物品に非常に抵抗性のある濃黒のルテニウム堆積物を与える。導電性、特に、金属性の物品への黒色ルテニウムのコーティングの堆積は、これまでは、強酸性電解質を用いるときのみ可能であった。従って、卑金属をコートする場合に基材に与える攻撃を避けるために、コーティングの前に、耐食性の中間層(金、パラジウムまたはパラジウム/ニッケル等)を与えなければならなかった。しかしながら、本発明の電解質であれば、媒体中でも作用可能となり、ダイカスト亜鉛、青銅または黄銅でできた基材を、中間コーティングなしで、めっきすることができる。
黄銅シートを、以下の組成を有する電解質に浸漬する。
比較例−米国特許第4297178号明細書による処方
6.2g/lの[Ru2N(H2O)Cl8]3−としてのRu
80g/lのシュウ酸
水酸化カリウムによりpHを7.5に設定
pH7.5(70℃)
作業温度70℃
電流密度1A/dm2
L*=68.6
本発明による実施例1(タイプI):
6.2g/lの[Ru2N(H2O)Cl8]3−としてのRu
80g/lのシュウ酸
20g/lのリン酸水素二カリウム
2g/lのサッカリン−N−プロピルスルホネートナトリウム塩
600mg/lの第四級アンモニウム塩
pH7.5(70℃)
作業温度70℃
電流密度1A/dm2
L*=55.5
本発明による実施例2(タイプII):
3g/lの[Ru2N(H2O)X8]3−(X=ハロゲン化物イオン)としてのRu
40g/lのシュウ酸
20g/lのリン酸水素二カリウム
1g/lの3−(2−ベンゾチアゾリル−2−メルカプト)プロパンスルホン酸ナトリウム塩
400mg/lの第四級アンモニウム塩
pH8(75℃)
作業温度75℃
電流密度1A/dm2
L*=52.3
本発明による実施例3(タイプIII):
3g/lの[Ru2N(H2O)X8]3−(X=ハロゲン化物イオン)としてのRu
60g/lのシュウ酸
40g/lのリン酸水素二カリウム
300mg/lの第四級アンモニウム塩
pH6(75℃)
作業温度75℃
電流密度1A/dm2
L*=69.2
Claims (25)
- 濃黒のルテニウムの装飾および工業用層の堆積のための≧5〜12のpHを有する電解質であって、
a)ルテニウム金属として計算すると、電解質1リットル当たり0.2〜20グラム(g/l)の濃度で溶解したルテニウム、
b)1リットル当たり0.05〜2モルの濃度のジカルボン、トリカルボンまたはテトラカルボン酸の1つ以上のアニオン、
c)1つ以上の硫黄複素環、
d)1つ以上のカチオン界面活性剤
の成分を有することを特徴とする電解質。 - ルテニウムが、式[Ru2N(H2O)2X8]3−(式中、Xはハロゲン化物イオンである)の二核アニオンルテニウムニトリドハロ錯体として存在することを特徴とする請求項1に記載の電解質。
- 前記化合物の完全溶解後のルテニウムの濃度が、電解質1リットル当たり2〜8グラムの範囲にあることを特徴とする請求項1および/または2に記載の電解質。
- 前記電解質が、さらなる遷移金属イオンを含まないことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の電解質。
- 前記カルボン酸が、シュウ酸、クエン酸、酒石酸、コハク酸、マレイン酸、グルタル酸、アジピン酸、マロン酸、リンゴ酸からなる群から選択されることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の電解質。
- 前記硫黄複素環が、3−(2−ベンゾチアゾリル−2−メルカプト)プロパンスルホン酸ナトリウム塩、サッカリンナトリウム塩、サッカリンN−プロピルスルホネートナトリウム塩、6−メチル−3,4−ジヒドロ−1,2,3−オキサチアジン−4−オン2,2−二酸化物、ベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、チアゾール、イソチアゾールおよびこれらの誘導体からなる群から選択されることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の電解質。
- 前記界面活性剤が、オクチルトリメチルアンモニウムブロミド、オクチルトリメチルアンモニウムクロリド、デシルトリメチルアンモニウムブロミド、デシルトリメチルアンモニウムクロリド、ドデシルトリメチルアンモニウムブロミド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド、テトラデシルトリメチルアンモニウムブロミド、テトラデシルトリメチルアンモニウムクロリド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリド、エチルジメチルヘキサデシルアンモニウムブロミド、エチルジメチルヘキサデシルアンモニウムクロリド、ベンジルジメチルデシルアンモニウムクロリド、ベンジルジメチルドデシルアンモニウムクロリド、ベンジルジメチルテトラデシルアンモニウムクロリドおよびベンジルジメチルヘキサデシルアンモニウムクロリドならびにこれらの混合物からなる群から選択されることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の電解質。
- 前記電解質の前記pHが7〜8の範囲にあることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の電解質。
- 前記電解質が、ホウ酸塩、リン酸塩および炭酸塩緩衝剤からなる群から選択される緩衝系を含むことを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の電解質。
- 導電性、特に、金属性の物品に黒色ルテニウムコーティングを、コート対象の物品をカソードとして電解質に浸漬し、アノードと前記カソードとの間に電流の流れを確立することにより、堆積するためのプロセスおける電解質の使用において、請求項1〜9のいずれか1項に記載の電解質を選択することを特徴とする使用。
- ルテニウムが、式[Ru2N(H2O)2X8]3−(式中、Xはハロゲン化物イオン)の二核アニオンルテニウムニトリドハロ錯体として存在することを特徴とする請求項10に記載の使用。
- 前記化合物の完全溶解後、ルテニウムの濃度が、電解質1リットル当たり2〜8グラムの範囲であることを特徴とする請求項10または11に記載の使用。
- 前記電解質が、遷移金属イオンをさらに含まないことを特徴とする請求項10〜12のいずれか1項に記載の使用。
- 前記カルボン酸が、シュウ酸、クエン線、酒石酸、コハク酸、マレイン酸、グルタル酸、アジピン酸、マロン酸、リンゴ酸からなる群から選択されることを特徴とする請求項10〜13のいずれか1項に記載の使用。
- 前記硫黄複素環が、3−(2−ベンゾチアゾリル−2−メルカプト)プロパンスルホン酸ナトリウム塩、サッカリンナトリウム塩、サッカリンN−プロピルスルホネートナトリウム塩、6−メチル−3,4−ジヒドロ−1,2,3−オキサチアジン−4−オン2,2−二酸化物、ベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、チアゾール、イソチアゾールおよびこれらの誘導体からなる群から選択されることを特徴とする請求項10〜14のいずれか1項に記載の使用。
- 前記界面活性剤が、オクチルトリメチルアンモニウムブロミド、オクチルトリメチルアンモニウムクロリド、デシルトリメチルアンモニウムブロミド、デシルトリメチルアンモニウムクロリド、ドデシルトリメチルアンモニウムブロミド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド、テトラデシルトリメチルアンモニウムブロミド、テトラデシルトリメチルアンモニウムクロリド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリド、エチルジメチルヘキサデシルアンモニウムブロミド、エチルジメチルヘキサデシルアンモニウムクロリド、ベンジルジメチルデシルアンモニウムクロリド、ベンジルジメチルドデシルアンモニウムクロリド、ベンジルジメチルテトラデシルアンモニウムクロリドおよびベンジルジメチルヘキサデシルアンモニウムクロリドならびにこれらの混合物からなる群から選択されることを特徴とする請求項10〜15のいずれか1項に記載の使用。
- 0.1〜10A/dm2の電流密度が設定されることを特徴とする請求項10〜16のいずれか1項に記載の使用。
- 10〜80℃の温度が設定されることを特徴とする請求項10〜17のいずれか1項に記載の使用。
- 白金めっきチタン、グラファイト、イリジウム−遷移金属混合酸化物および特殊炭素材料からなる群から選択される材料でできた不溶性アノードおよびこれらのアノードの組み合わせを用いることを特徴とする請求項10〜18のいずれか1項に記載の使用。
- 請求項10〜19の1項以上に記載したとおりにして得ることのできる黒色ルテニウム層。
- 0.1〜3μmの厚さを有することを特徴とする請求項20に記載のルテニウム層。
- 前記層が、1μmの外側領域において、3重量%〜6重量%の硫黄含量を有することを特徴とする請求項20に記載のルテニウム層。
- 前記層が、1μmの外側領域において、1重量%〜2重量%の炭素含量を有することを特徴とする請求項20に記載のルテニウム層。
- 前記層が、1μmの外側領域において、15重量%〜20重量%の酸素含量を有することを特徴とする請求項21に記載のルテニウム層。
- 請求項20〜24のいずれか1項に記載のルテニウム層を有する物品。
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JP2010270375A (ja) | 銅−亜鉛合金めっき被膜の製造方法および銅−亜鉛合金めっき被膜 |
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