JP2014519555A - 電解質、黒色ルテニウムコーティングの堆積へのその使用およびそのようにして得られたコーティング - Google Patents

電解質、黒色ルテニウムコーティングの堆積へのその使用およびそのようにして得られたコーティング Download PDF

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Abstract

本発明は、濃黒の装飾および工業層の堆積に好適なルテニウム電解質に関する。本発明はさらに、本発明の電解質を、濃黒のルテニウム(「黒色ルテニウム」)の装飾および工業層を宝石、装飾品、消費財および工業物品に堆積させるプロセスに用いることに関する。本発明は、従って、対応層およびこのようにしてコートされた物品にも関する。電解質は、弱酸からアルカリのpH範囲で作用することを特徴とする。

Description

本発明は、濃黒の装飾および工業層の堆積に好適なルテニウム電解質に関する。本発明はさらに、本発明の電解質を、濃黒のルテニウム(「黒色ルテニウム」)の装飾および工業層を宝石、装飾品、消費財および工業物品に堆積させるプロセスに用いることに関する。発明は、従って、対応層およびこのようにしてコートされた物品にも関する。
消費財、工業物品、宝石および装飾品は、腐食に対する保護および/または光学性能改善のために、薄い酸化安定金属層でコートされている。これらの層は、機械的に安定でなければならず、長期使用しても、曇りや摩耗現象を示してはならない。かかる層を製造するのに実績のある方法は、それによって、多くの金属および合金層が、高品質な形態で得られる電気めっきプロセスである。日常生活で周知の例を挙げると、ドアハンドルまたはノブへの電着青銅および黄銅層、車両部品へのクロムコーティング、亜鉛めっきツールや時計バンドへの金めっきがある。
電気めっき業界における注目すべき挑戦は、黒色を有し、酸化安定性があり、機械的に強固で、装飾や宝石部門ばかりでなく、例えば、太陽光技術の分野等、工業用途にも該当し得る金属層を製造することである。酸化安定性のある黒色層の製造に利用できる金属は僅かしかない。ルテニウムの他、ロジウムおよびニッケルが好適である。貴金属ロジウムの利用は、原材料が高コストなため、宝石部門に制限されている。安価なニッケルおよびニッケル含有合金の使用は、ニッケルおよびニッケル含有金属層は接触アレルゲンであるため、特に、宝石および消費財部門においては、厳格な規制を順守した例外的な場合においてのみ可能である。ルテニウムの使用は、記載した全ての用途分野について、魅力的な代替手段である。
電解めっきプロセスにおいて黒色ルテニウムを製造する電解質は、従来技術において公知である。最も広く用いられている浴は、アミドスルホン酸との錯体の形態でルテニウムを、あるいはニトリドクロロまたはニトリドブロモ錯体としてルテニウムを含有している((特許文献1)、(特許文献2)、(特許文献3)、(特許文献4)、(特許文献5)、(特許文献6)、(特許文献7)、(特許文献8))。浴のpHは、酸範囲であることが多い。
(特許文献9)には、電気めっき浴における二核ルテニウム錯体[RuNClBr8−x(HO)3−の使用が記載されている。一実施形態において、ニトリドクロロ錯体[RuNCl(HO)3−が用いられている。(特許文献10)は、1〜20g/lのルテニウムを、ジカルボンおよびトリカルボン酸、ベンゼンスルホン酸、N−含有芳香族およびアミノ酸からなる群から選択される1つ以上の化合物または既述の化合物の誘導体と共に含有し、黒色化添加剤として0.01〜10g/lのチオ化合物がさらに用いられるルテニウム電解液に関する。
宝石および装飾品の改善のためには、黒色層は、優れた機械接着強度ばかりでなく、欠陥のない光学品質も有していなければならない。こうした品は必要に応じて、光輝または艶消しの形態、かつ非常に濃い黒色で製造することができなければならない。同じことは、工業部門、特に、太陽光技術における用途に当てはまる。消費財を改善するための黒色層はまた、機械安定性の点で厳しい要件を満足すべきである。特に、それらは、長期間にわたって頻繁に使用しても、黒色摩耗が生じないようにしなければならない。
これらの要件を満たす先行技術に記載されたルテニウム浴およびプロセスは、黒色化添加剤としてのチオ化合物等の毒性の問題のある化合物の使用を必要とするか、あるいは、必要な機械接着強度を与えるために、堆積プロセス中の浴の維持を難しくさせるさらなる遷移金属を含有するかのいずれかである。また、酸浴は、比較的貴金属の性質を有する金属へのみ堆積を可能とする。
(特許文献11)によれば、明色のルテニウムの堆積物はまた、アルカリ範囲でも得ることができる。(特許文献12)には、9〜10のpH範囲におけるルテニウムの堆積のためのプロセスが記載されている。ルテニウムは、錯化アニオン(EDTA、NTA、CDTA)によるこのpH範囲内の溶液中に保たれる。安定しているが、明色のルテニウム堆積物が得られる。
ルテニウムのニトリドクロロ錯体はまた、(特許文献13)に記載されたルテニウムの電着用の水性非酸性浴でも用いられている。さらに、シュウ酸またはシュウ酸アニオンを含有している。このようにして製造された堆積物は適切な黒色度を有しているか疑わしい。
米国特許第6117301号明細書 米国特許第3576724号明細書 日本特許第63259095号公報 国際公開第2001/011113号明細書 独国特許第19741990号明細書 米国特許第4375392号明細書 日本特許第2054792号公報 欧州特許第1975282号明細書 独国特許第1959907号明細書 日本特許第56119791号公報 米国特許第4082625号明細書 米国特許第350049号明細書 米国特許第4297178号明細書
ここで挙げた先行技術によれば、本発明の目的は、安定な電解質、およびそれによって、できる限り耐久性がありかつできる限り黒色のルテニウムを堆積させて金属性物品を製造できるその使用を提供することであった。また、強酸環境において安定でない物品への堆積も可能とすべきである。
これらの目的および先行技術から明白な方法で誘導し得るさらなる目的は、請求項1の特徴を有する電解質によって達成される。本発明の電解質の有利な実施形態は、請求項2〜9に示される。本発明の電解質の本発明のプロセスにおける使用は、請求項10〜19に記載されている。堆積した層は、請求項20〜24による。請求項25は、このようにしてコートされた物品に係わる。
濃黒のルテニウムの装飾および工業用層の堆積のための≧5〜12のpHを有する電解質であって、
a)ルテニウム金属として計算すると、電解質1リットル当たり0.2〜20グラム(g/l)の濃度で溶解したルテニウム、
b)1リットル当たり0.05〜2モルの濃度のジカルボン、トリカルボンまたはテトラカルボン酸の1つ以上のアニオン、
c)1つ以上の硫黄複素環、
d)1つ以上のカチオン界面活性剤、特に、第四級アンモニウム塩をベースとする界面活性剤
の成分を有することを特徴とする電解質の提供は、定めた目的の達成に、極めて有効かつ簡単でありながら、有利に結び付くものである。この電解質は、導電性、特に、金属性の物品に非常に抵抗性のある濃黒のルテニウム堆積物を与える。導電性、特に、金属性の物品への黒色ルテニウムのコーティングの堆積は、これまでは、強酸性電解質を用いるときのみ可能であった。従って、卑金属をコートする場合に基材に与える攻撃を避けるために、コーティングの前に、耐食性の中間層(金、パラジウムまたはパラジウム/ニッケル等)を与えなければならなかった。しかしながら、本発明の電解質であれば、媒体中でも作用可能となり、ダイカスト亜鉛、青銅または黄銅でできた基材を、中間コーティングなしで、めっきすることができる。
比較例と本発明による実施例1の結果を示す
ルテニウムは、当業者に知られた水溶性化合物の形態で、好ましくは、式[RuN(HO)3−(式中、Xはハロゲン化物イオンである)の二核アニオンニトリドハロ錯体として用いることができる。特に好ましいは、クロロ錯体[RuN(HO)Cl3−である。本発明の電解質中の錯体の量は、好ましくは、化合物の完全溶解後のルテニウムの濃度が、ルテニウム金属として計算したときに、電解質1リットル当たり0.5〜10グラムの範囲になるように選択することができる。最終電解質は、特に好ましくは、電解質1リットル当たり1〜8グラムのルテニウム、非常に好ましくは、電解質1リットル当たり3〜6グラムのルテニウムを含有する。好ましいのは、本発明の電解質から堆積したルテニウムのみのものである。この場合、電解質は、ルテニウムに加えて、さらなる遷移金属イオンを含有しない。
電解質は、1つ以上のカルボン酸基を有する特定の有機化合物を含有する。それは、特定のジカルボン、トリカルボンまたはテトラカルボン酸である。それらは、当業者に周知されており、例えば、文献(Beyer−Walter,Lehrbuch der Organischen Chemie,22nd edition,S.Hirzel−Verlag,p.324ff)に載っている。これに関して、特に好ましいのは、シュウ酸、クエン酸、酒石酸、コハク酸、マレイン酸、グルタル酸、アジピン酸、マロン酸、リンゴ酸からなる群から選択される酸である。酸は、設定されるpHで電解質中においてアニオン形態で自然に存在する。既述したカルボン酸は、ここでは、1リットル当たり0.05〜2モル、好ましくは、1リットル当たり0.1〜1モル、特に好ましくは、1リットル当たり0.2〜0.5モルの濃度で、電解質に添加される。これは、電解質中において同じく導電塩として作用すると考えられるシュウ酸の使用に特に当てはまる。
特定の硫黄化合物も、当該の電解質中に存在する。特に、複素環系(硫黄複素環)に少なくとも1つの硫黄原子を含有する1つ以上の硫黄化合物がある(Beyer−Walter,Lehrbuch der Organischen Chemie,22nd edition,S.Hirzel−Verlag,p.703ff)。炭素ベースの任意の芳香族または完全もしくは部分飽和5員もしくは6員環、あるいは、少なくとも1つの硫黄原子および/または窒素等の少なくとも1つのさらなるヘテロ原子を含有する対応の溶融環系とすることができる。用いる硫黄複素環は、電解質中で適切な濃度範囲で有効に用いることのできる、十分に水溶性のものであるのが好ましい。好ましい化合物は、3−(2−ベンゾチアゾリル−2−メルカプト)プロパンスルホン酸ナトリウム塩、サッカリンナトリウム塩、サッカリンN−プロピルスルホネートナトリウム塩、6−メチル−3,4−ジヒドロ−1,2,3−オキサチアジン−4−オン2,2−二酸化物、ベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、チアゾール、イソチアゾールおよびこれらの誘導体からなる群から選択されるものである。ここで提案した理論に拘束されるものではないが、硫黄複素環が、ルテニウムの堆積において、濃黒色化に寄与するものと考えられる。硫黄複素環は、電解質中、1リットル当たり0.001〜4モルの濃度、好ましくは、1リットル当たり0.002〜1モル、特に好ましくは、1リットル当たり0.004〜0.01モルの濃度で用いられる。
カチオン界面活性剤タイプの1つ以上の表面活性物質も電解質中に存在する。このタイプの可能性のある界面活性剤は、特に、第四級アンモニウム塩である。それは、当業者に周知されている(Beyer−Walter,Lehrbuch der Organischen Chemie,22nd edition,S.Hirzel−Verlag,p.251ff)。好ましいのは、オクチルトリメチルアンモニウムブロミド、オクチルトリメチルアンモニウムクロリド、デシルトリメチルアンモニウムブロミド、デシルトリメチルアンモニウムクロリド、ドデシルトリメチルアンモニウムブロミド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド、テトラデシルトリメチルアンモニウムブロミド、テトラデシルトリメチルアンモニウムクロリド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリド、エチルジメチルヘキサデシルアンモニウムブロミド、エチルジメチルヘキサデシルアンモニウムクロリド、ベンジルジメチルデシルアンモニウムクロリド、ベンジルジメチルドデシルアンモニウムクロリド、ベンジルジメチルテトラデシルアンモニウムクロリドおよびベンジルジメチルヘキサデシルアンモニウムクロリドからなる群より選択されるアンモニウム塩である。ここで考慮されるカチオン界面活性剤は、電解質中、1リットル当たり0.1〜20ミリモル、好ましくは、1リットル当たり0.5〜10ミリモル、特に好ましくは、1リットル当たり1〜5ミリモルの濃度で用いられ、より濃黒の堆積層の決定因子でもある。
電解質のpHは、微弱酸性からアルカリ性範囲内にあるのが好ましい。pHは、5〜12の範囲の値に設定されるのが好ましい。使用中の電解質のpHは、より好ましくは、6〜9の範囲、特に好ましくは、7〜8である。約7.5のpHが特に好ましく設定される。pHは、緩衝物質の添加により一定に保たれる。それは、当業者に周知されている(Handbook of Chemistry and Physics,CRC Press,66th Edition,D−144ff)。好ましい緩衝系は、ホウ酸塩、リン酸塩および炭酸塩緩衝剤である。これらの緩衝系を作製するための化合物は、ホウ酸、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウム、炭酸水素カリウムおよび炭酸二カリウムからなる群から選択することができる。緩衝系は、1リットル当たり0.08〜1.15モル、好ましくは、1リットル当たり0.15〜0.65モル、特に好ましくは、1リットル当たり0.2〜0.4モルの濃度で用いられる(アニオンベースで)。
当然ながら、堆積に有利なさらなる添加剤を、当該電解質に添加することができる。それらは当業者に周知されている。導電性塩、さらなる黒色化添加剤、光沢剤からなる群から選択されるものが好ましい(Praktische Galvanotechnik,5th edition,Eugen G. Leuze Verlag,Bad Saulgau,p.39ff)。
本発明はまた、本発明の電解質の使用も提供する。使用の際、当業者であれば、コートする導電性、特に、金属性の物品をカソードとして、電解質に浸漬し、アノードとカソード間に電流の流れを生じさせる。本発明の電解質の使用は、電解質について上述した同じ有利な実施形態で実施されるのが好ましい。電流の流れは、許容できる時間内に、導電性、特に、金属性の物品に黒色ルテニウムコーティングを堆積させるのに十分なものでなければならない。当業者であれば、これについて設定すべき電界強度が分かるであろう。0.1〜10A/dmの電流密度が好ましくは設定される。電流密度は、特に好ましくは、0.2〜5A/dm、さらに特に好ましくは、0.5〜2A/dmである。
堆積中の電解質の温度は、当業者により適宜設定することができる。設定される温度範囲は、有利には10〜80℃である。より好ましくは、50°〜75℃、特に好ましくは、60°および70℃の温度を設定する。当該の電解質は堆積中、攪拌するのが有利である。
アノードとして、当業者であればこの目的で想到するであろう実施形態を選択することもできる。白金めっきチタン、グラファイト、イリジウム遷移金属混合酸化物および特別な炭素材料(「ダイヤモンド・ライクカーボン」DLC)またはこれらの組み合わせからなる群から選択される材料でできたアノードを用いるのが好ましい。白金めっきチタンまたはイリジウム遷移金属混合酸化物でできた不溶性アノードが有利であることが分かっている。白金めっきチタンでできたアノードを用いるのが特に好ましい。
本発明は、本発明の方法により得られる黒色ルテニウム層も提供する。この層の厚さは、0.1〜3μm、好ましくは、0.2〜1.5μm、特に好ましくは、0.3〜1.3μmである。本発明の層の硫黄含量は、3重量%〜6重量%、好ましくは、3.1重量%〜5重量%、特に好ましくは、3.2重量%〜4.5重量%であり、外側領域(目視表面内側から見た)は約1.1(±0.2)μmである。硫黄含量は、特に好ましくは、約4重量%である。ルテニウム層はまた、同じ外側領域において、1重量%〜2重量%、好ましくは、1.1重量%〜1.8重量%、特に好ましくは、1.15重量%〜1.5重量%の炭素含量も有する。特に好ましい値は、約1.2重量%である。ルテニウム層は、同じ外側領域において、15重量%〜20重量%、好ましくは、16重量%〜19重量%、特に好ましくは、17重量%〜18.5重量%の酸素含量を有する。酸素含量は、ここでは、特に好ましくは約18重量%である。当該のこの層の硫黄濃度は、外側から内側へ増える濃度の傾斜を有するのが特に有利と考えられる。このように、内側方向において5重量%増大し得る約2重量%の表面で直接、硫黄濃度が測定されることが多い。ここで求められる値は、GDOES法(グロー放電発光分析(Glow Discharge Optical Emission Spectrometry);R.Kenneth Marcus,Jose Broekaert:Glow Discharge Plasma in Analytical Spectroscopy,Wiley ISBN 0−471−60699−5およびThomas Nelis,Richard Payling:Glow Discharge Optical Emission Spectroscopy−A Practical Guide,Royal Society of Chemistry,ISBN 0−85404−521−X)により求められたものである。
本発明は、本発明による層を有する装飾品、消費財および工業品等の特定の物品をさらに提供する。卑金属の性質のために酸範囲での対応の堆積ができない場合の物品には特に好ましい。
本発明による導電性、特に、金属性の物品への黒色ルテニウムコーティングの堆積は、上述したことを考慮に入れて、例を挙げると、以下のようにして行うことができる。すなわち、黒色ルテニウム層を電解適用するには、宝石、装飾品、消費財または工業物品(まとめて基材と称す)の片を、本発明の電解質に浸漬し、カソードを形成する。例えば、白金めっきチタニウム(Umicore Galvanotechnik GmbH製PLATINODE(登録商標))でできたアノードも電解質に浸漬する。アノードとカソード間に電流の適切な流れを続いて印加する。固着した均一な層を得るには、1平方デシメートル当たり10アンペア[A/dm]の最大電流密度を超えてはならない。この値より上だと、様々な割合のアモルファスルテニウムが堆積し得る。その結果、層が不均一となり、機械応力がかかると黒色摩耗となる。選択する電流密度は、コーティングプロセスの種類によっても決まる。バレルめっきプロセスにおいて、好ましい電流密度は、0.1〜1A/dmの範囲である。ラックめっきプロセスにおいては、0.5〜5A/dmの電流密度だと、光学的欠陥のない黒色ルテニウム層となる。
本発明により提供される記載されたルテニウム電解質は、例えば、宝石や装飾品に、装飾的な濃黒および任意で光輝層を堆積させるプロセスに特に好適である。この宝石や装飾品も本発明により提供される。電解質は、好ましくは、バレルおよびラックめっきプロセスに用いることができる。ここに記載した電解質によって、適切な材料に、特に緻密な濃黒ルテニウム(50までのL)の堆積物を生成することができる(比較例と本発明による実施例1の結果を示す図1参照)。さらに、電解質を用いるとき、弱酸性またはアルカリ性範囲で作用させることができ、貴金属中間層を予め提供せずに、卑金属に黒色ルテニウムコーティングを堆積させることがはじめて可能となる。これは、公知の先行技術からは及びもつかないことであった。
5つの試料を試験した。実施例で作製した試料である。
アルカリ範囲(本発明による電解質)のプロセスでは、比較的良好なL値が得られることが明らかに分かる。さらなる黒色化は、湿潤剤としてカチオン界面活性剤を添加することにより促進される。
色値は、CIE−L系に従って、標準色測定器を用いて得られて層について測定した。
層をまた、GDOES(グロー放電発光分析)により試験した。試料は、アルゴンプラズマにおいて、ほぼ平面で「スパッタオフ」され、励起されて特定の放射線を発する。放射線は、光学分光計により検出される。濃度および深さの計算は、マルチマトリックス補正により行われる。
一般的方法:
黄銅シートを、以下の組成を有する電解質に浸漬する。
比較例−米国特許第4297178号明細書による処方
6.2g/lの[RuN(HO)Cl3−としてのRu
80g/lのシュウ酸
水酸化カリウムによりpHを7.5に設定
pH7.5(70℃)
作業温度70℃
電流密度1A/dm
=68.6
本発明による実施例1(タイプI):
6.2g/lの[RuN(HO)Cl3−としてのRu
80g/lのシュウ酸
20g/lのリン酸水素二カリウム
2g/lのサッカリン−N−プロピルスルホネートナトリウム塩
600mg/lの第四級アンモニウム塩
pH7.5(70℃)
作業温度70℃
電流密度1A/dm
=55.5
本発明による実施例2(タイプII):
3g/lの[RuN(HO)X3−(X=ハロゲン化物イオン)としてのRu
40g/lのシュウ酸
20g/lのリン酸水素二カリウム
1g/lの3−(2−ベンゾチアゾリル−2−メルカプト)プロパンスルホン酸ナトリウム塩
400mg/lの第四級アンモニウム塩
pH8(75℃)
作業温度75℃
電流密度1A/dm
=52.3
本発明による実施例3(タイプIII):
3g/lの[RuN(HO)X3−(X=ハロゲン化物イオン)としてのRu
60g/lのシュウ酸
40g/lのリン酸水素二カリウム
300mg/lの第四級アンモニウム塩
pH6(75℃)
作業温度75℃
電流密度1A/dm
=69.2

Claims (25)

  1. 濃黒のルテニウムの装飾および工業用層の堆積のための≧5〜12のpHを有する電解質であって、
    a)ルテニウム金属として計算すると、電解質1リットル当たり0.2〜20グラム(g/l)の濃度で溶解したルテニウム、
    b)1リットル当たり0.05〜2モルの濃度のジカルボン、トリカルボンまたはテトラカルボン酸の1つ以上のアニオン、
    c)1つ以上の硫黄複素環、
    d)1つ以上のカチオン界面活性剤
    の成分を有することを特徴とする電解質。
  2. ルテニウムが、式[RuN(HO)3−(式中、Xはハロゲン化物イオンである)の二核アニオンルテニウムニトリドハロ錯体として存在することを特徴とする請求項1に記載の電解質。
  3. 前記化合物の完全溶解後のルテニウムの濃度が、電解質1リットル当たり2〜8グラムの範囲にあることを特徴とする請求項1および/または2に記載の電解質。
  4. 前記電解質が、さらなる遷移金属イオンを含まないことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の電解質。
  5. 前記カルボン酸が、シュウ酸、クエン酸、酒石酸、コハク酸、マレイン酸、グルタル酸、アジピン酸、マロン酸、リンゴ酸からなる群から選択されることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の電解質。
  6. 前記硫黄複素環が、3−(2−ベンゾチアゾリル−2−メルカプト)プロパンスルホン酸ナトリウム塩、サッカリンナトリウム塩、サッカリンN−プロピルスルホネートナトリウム塩、6−メチル−3,4−ジヒドロ−1,2,3−オキサチアジン−4−オン2,2−二酸化物、ベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、チアゾール、イソチアゾールおよびこれらの誘導体からなる群から選択されることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の電解質。
  7. 前記界面活性剤が、オクチルトリメチルアンモニウムブロミド、オクチルトリメチルアンモニウムクロリド、デシルトリメチルアンモニウムブロミド、デシルトリメチルアンモニウムクロリド、ドデシルトリメチルアンモニウムブロミド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド、テトラデシルトリメチルアンモニウムブロミド、テトラデシルトリメチルアンモニウムクロリド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリド、エチルジメチルヘキサデシルアンモニウムブロミド、エチルジメチルヘキサデシルアンモニウムクロリド、ベンジルジメチルデシルアンモニウムクロリド、ベンジルジメチルドデシルアンモニウムクロリド、ベンジルジメチルテトラデシルアンモニウムクロリドおよびベンジルジメチルヘキサデシルアンモニウムクロリドならびにこれらの混合物からなる群から選択されることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の電解質。
  8. 前記電解質の前記pHが7〜8の範囲にあることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の電解質。
  9. 前記電解質が、ホウ酸塩、リン酸塩および炭酸塩緩衝剤からなる群から選択される緩衝系を含むことを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の電解質。
  10. 導電性、特に、金属性の物品に黒色ルテニウムコーティングを、コート対象の物品をカソードとして電解質に浸漬し、アノードと前記カソードとの間に電流の流れを確立することにより、堆積するためのプロセスおける電解質の使用において、請求項1〜9のいずれか1項に記載の電解質を選択することを特徴とする使用。
  11. ルテニウムが、式[RuN(HO)3−(式中、Xはハロゲン化物イオン)の二核アニオンルテニウムニトリドハロ錯体として存在することを特徴とする請求項10に記載の使用。
  12. 前記化合物の完全溶解後、ルテニウムの濃度が、電解質1リットル当たり2〜8グラムの範囲であることを特徴とする請求項10または11に記載の使用。
  13. 前記電解質が、遷移金属イオンをさらに含まないことを特徴とする請求項10〜12のいずれか1項に記載の使用。
  14. 前記カルボン酸が、シュウ酸、クエン線、酒石酸、コハク酸、マレイン酸、グルタル酸、アジピン酸、マロン酸、リンゴ酸からなる群から選択されることを特徴とする請求項10〜13のいずれか1項に記載の使用。
  15. 前記硫黄複素環が、3−(2−ベンゾチアゾリル−2−メルカプト)プロパンスルホン酸ナトリウム塩、サッカリンナトリウム塩、サッカリンN−プロピルスルホネートナトリウム塩、6−メチル−3,4−ジヒドロ−1,2,3−オキサチアジン−4−オン2,2−二酸化物、ベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、チアゾール、イソチアゾールおよびこれらの誘導体からなる群から選択されることを特徴とする請求項10〜14のいずれか1項に記載の使用。
  16. 前記界面活性剤が、オクチルトリメチルアンモニウムブロミド、オクチルトリメチルアンモニウムクロリド、デシルトリメチルアンモニウムブロミド、デシルトリメチルアンモニウムクロリド、ドデシルトリメチルアンモニウムブロミド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド、テトラデシルトリメチルアンモニウムブロミド、テトラデシルトリメチルアンモニウムクロリド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリド、エチルジメチルヘキサデシルアンモニウムブロミド、エチルジメチルヘキサデシルアンモニウムクロリド、ベンジルジメチルデシルアンモニウムクロリド、ベンジルジメチルドデシルアンモニウムクロリド、ベンジルジメチルテトラデシルアンモニウムクロリドおよびベンジルジメチルヘキサデシルアンモニウムクロリドならびにこれらの混合物からなる群から選択されることを特徴とする請求項10〜15のいずれか1項に記載の使用。
  17. 0.1〜10A/dmの電流密度が設定されることを特徴とする請求項10〜16のいずれか1項に記載の使用。
  18. 10〜80℃の温度が設定されることを特徴とする請求項10〜17のいずれか1項に記載の使用。
  19. 白金めっきチタン、グラファイト、イリジウム−遷移金属混合酸化物および特殊炭素材料からなる群から選択される材料でできた不溶性アノードおよびこれらのアノードの組み合わせを用いることを特徴とする請求項10〜18のいずれか1項に記載の使用。
  20. 請求項10〜19の1項以上に記載したとおりにして得ることのできる黒色ルテニウム層。
  21. 0.1〜3μmの厚さを有することを特徴とする請求項20に記載のルテニウム層。
  22. 前記層が、1μmの外側領域において、3重量%〜6重量%の硫黄含量を有することを特徴とする請求項20に記載のルテニウム層。
  23. 前記層が、1μmの外側領域において、1重量%〜2重量%の炭素含量を有することを特徴とする請求項20に記載のルテニウム層。
  24. 前記層が、1μmの外側領域において、15重量%〜20重量%の酸素含量を有することを特徴とする請求項21に記載のルテニウム層。
  25. 請求項20〜24のいずれか1項に記載のルテニウム層を有する物品。
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