JP2014510798A5

JP2014510798A5 -

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Publication number: JP2014510798A5
Application number: JP2013544680A
Authority: JP
Filing date: 2011-12-13
Publication date: 2015-02-12
Anticipated expiration: 2031-12-13

Claims

それぞれ式Ａによって表され、式Ａ１によって表されるノルボルネンタイプのモノマーから誘導される第１のタイプのノルボルネンタイプの繰り返し単位及び第２のタイプのノルボルネンタイプの繰り返し単位：

（式中、ｍは、０、１、又は２であり、第１のタイプの繰り返し単位に関するＲ^ａ、Ｒ^ｂ、Ｒ^ｃ、及びＲ^ｄの少なくとも１つは式ＢおよびＣ：

（ここで、ｎは１〜４の整数であり、Ａは、不存在か、又はメチレン、Ｃ_２〜Ｃ_６アルキレンから選択され、Ｒ^１およびＲ^２は、水素、メチル、およびエチルからなる群からそれぞれ独立に選択される）の１つによって表される架橋性ヒドロカルビル懸垂基であり、第２のタイプの繰り返し単位に関するＲ^ａ、Ｒ^ｂ、Ｒ^ｃ、及びＲ^ｄの少なくとも１つは、第１のタイプの繰り返し単位とは異なり、式Ｅ、Ｆ、Ｇ、又はＨ：

（式中、Ａ^†は、不存在か、又はメチレン、Ｃ_２〜Ｃ_６アルキレン、又はＣ_２〜Ｃ_６エーテルから選択される連結基であり、式Ｅに関して、Ｒ^＊、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれフッ素であり、式Ｆ、Ｇ、およびＨに関して、それぞれのＲ^＊は水素又はフッ素であり、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立して、水素、フッ素、メチル、ペルフルオロメチル、エチル、又はペルフルオロエチルから選択され、ｎは１〜６の整数であり、ｎ^＊は０〜３の整数であり、Ｚは、（Ｃ_ｎＲ^＊ _２ｎ＋１）、および（ＣＲ^＊ _２）_ｎ（ＣＲ^１Ｒ^２）_ｎＯＨから選択され、Ｑは、不存在か、又はＣ_２〜Ｃ_９アルキレンから選択される）
の１つによって表されるヒドロカルビル懸垂基であり、Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ、Ｒ^ｃ、及びＲ^ｄの他のものは水素及びＣ_１〜Ｃ_６アルキルからなる群から独立に選択される）
を含む層形成ポリマーであって、３μｍフィルムを空気中において２８０℃の温度に３０分間曝露した後に４００ｎｍにおいて少なくとも９５％の初期透明度を有する、前記ポリマー。
第１のタイプの繰り返し単位に関するＲ^ａ、Ｒ^ｂ、Ｒ^ｃ、及びＲ^ｄの少なくとも１つは式ＢおよびＣ：

（ここで、ｎは１〜４の整数であり、Ａは、メチレン、Ｃ_２アルキレン連結基から選択され、Ｒ^１およびＲ^２は、おのおの水素である）の１つによって表される架橋性ヒドロカルビル懸垂基である、請求項１に記載の層形成ポリマー。
第２のタイプの繰り返し単位に関して、Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ、Ｒ^ｃ、及びＲ^ｄの１つが、式Ｅ、Ｇ、又はＨ：

（式中、Ａ^†は、存在する場合には、メチレンおよびＣ_２アルキレンから選択される連結基であり、それぞれのＲ^＊はフッ素であり、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立して、水素、フッ素、メチル、ペルフルオロメチル、エチル、又はペルフルオロエチルから選択され、ｎは１、２または３であり、ｎ^＊は０〜２の整数であり、Ｚは、メチルまたはエチルから選択され、Ｑは不存在である）
の１つによって表されるヒドロカルビル懸垂基である、請求項１または２に記載の層形成性ポリマー。
式１、６、又は７：

によって表される基から選択される架橋性懸垂基を有する第１のタイプの繰り返し単位；
式２、３、４、又は５：

によって表される基から選択される懸垂基を有する第２のタイプの繰り返し単位：
を含み；
第２のタイプの繰り返し単位とは異なり、これも式２、３、４、又は５によって表される基から選択される懸垂基を有する第３のタイプの繰り返し単位を更に含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の層形成性ポリマー。
Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、γ−ブチロラクトン（ＧＢＬ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、メチルエチルケトン、又はシクロヘキサノンの１以上から選択されるキャスト溶媒をさらに含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の層形成性組成物。
熱酸発生剤（ＴＡＧ）、及び酸化防止剤／相乗添加剤を更に含み、ＴＡＧが、ジメチル（ｐ−アセトキシフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル（ｐ−ヒドロキシフェニル）メチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、および１−ナフチルメチル（ｐ−ヒドロキシフェニル）メチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートから選択される、請求項１〜５のいずれか１項に記載の層形成性組成物。