JP2014505368A - マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図3
Description
本明細書では「光」という用語をあらゆる電磁放射線、特に、可視光、UV光、DUV光、VUV光、及びEUV光、並びにX線を表す上に使用する。
図1は、本発明による投影露光装置10の大幅に簡略化した斜視図である。装置10は、投影光ビームを生成する照明系12を含む。照明系12は、図1に細線として略示す複数の小さい特徴部19によって形成されたパターン18を含むマスク16上で視野14を照明する。この実施形態において、照明視野14は、環セグメントの形状を有する。しかし、他の形状、例えば、矩形の照明視野14も考えられている。
図2は、マスク16の拡大斜視図である。このマスク上のパターン18は、Y方向に沿って互いに前後に配置された4つの等しいパターン区域18a、18b、18c、及び18dを含む。この実施形態において、各パターン区域18a、18b、18c、及び18dは、第1の部分181、第2の部分182、及び第3の部分183を含む。これらの部分181、182、183は、重ならないようにX方向に沿って互いに隣に配置される。これは、部分181、182、183が共通のX座標を持たないことを意味する。
図3は、図1に示す照明系12を通る子午断面図である。明瞭化の目的で、図3の図は大幅に簡略化したものであり、正確な縮尺のものではない。これは特に異なる光学ユニットを1つ又は非常に少数の光学要素だけによって表すことを意味する。実際にはこれらのユニットは、有意に多くのレンズ及び他の光学要素を含むことができる。
1.スポット形成
図8は、第1のミラーアレイ38と、コンデンサー50と、光学インテグレーター60の第1のアレイ70の光学ラスター要素74のうちの一部とを示す図3からの略抜粋図である。この実施形態において、光学ラスター要素74を矩形の境界を有する回転対称両凸レンズとして例示している。
光入射ファセット100は、ラスター視野平面84内に位置するので、これらのパターンは、第2のアレイ72の光学ラスター要素74及び第2のコンデンサー78を通じて中間視野平面80上に結像される。
以下では、図11及び図12を参照して空間光変調器52の機能を説明する。
次に、本発明の重要な方法段階を図13に示す流れ図を参照して要約する。
14 照明視野
16 マスク
30 光源
36 ビーム偏向デバイス
Claims (14)
- マイクロリソグラフィ投影露光装置(10)の照明系であって、
a)瞳平面(76)と、
b)照明されるマスク(16)を配置することができるマスク平面(88)と、
c)前記瞳平面(76)に位置する複数の2次光源(106)を生成するように構成され、該2次光源(106)のうちの1つに各々が関連付けられた複数の光入射ファセット(100)を有する光学インテグレーター(60)と、
d)反射性又は透過性のビーム偏向要素(40)のビーム偏向アレイ(38)を含むビーム偏向デバイス(36)であって、各ビーム偏向要素(40)が、該ビーム偏向要素(40)によって生成される偏向角を変更することによって可変である位置で前記光入射ファセット(100)上のスポット(98)を照明するように構成され、該ビーム偏向要素(40)によって照明される該スポット(98)が、該光入射ファセット(100)のうちの少なくとも1つの最大合計面積よりも少なくとも5倍、好ましくは少なくとも10倍、より好ましくは少なくとも20倍小さい合計面積を有する前記ビーム偏向デバイス(36)と、
e)前記光入射ファセット(100)のうちの少なくとも1つの上の前記スポット(98)から組み立てられる光パターン(108,114,118)が、前記マスク平面(88)内の角度的照度分布の視野依存性を修正すべきであるという入力指令に応答して変更されるように、前記ビーム偏向要素(40)を制御するように構成された制御ユニット(90)と、
を含むことを特徴とする照明系。 - 前記制御ユニット(90)は、照明系(12)によって前記マスク平面に照明される照明視野(14)の第1の部分に第1の角度的照度分布が生成され、かつ該第1の角度的照度分布とは異なる第2の角度的照度分布が該照明視野(14)の第2の部分に生成されるように、前記ビーム偏向要素(40)を制御するように構成されることを特徴とする請求項1に記載の照明系。
- 前記第1の部分は、前記第1の角度的照度分布が均一である2次元区域であり、
前記第2の部分は、前記第2の角度的照度分布が均一である2次元区域である、
ことを特徴とする請求項2に記載の照明系。 - 前記第1の部分と前記第2の部分は、重ならないことを特徴とする請求項3に記載の照明系。
- 前記ビーム偏向デバイス(36)と前記光学インテグレーター(60)の間の光伝播経路に配置され、かつ入射光を空間分解方式で透過又は反射するように構成された空間光変調器(52)を含むことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の照明系。
- 前記空間光変調器(52)は、反射性又は透過性ビーム偏向要素(56)の更に別のビーム偏向アレイ(54)を含み、
前記更に別のビーム偏向アレイの各ビーム偏向要素(56)は、それが入射光を前記光学インテグレーター(60)の向きに誘導する「オン」状態とそれが入射光をいずれか他の場所に誘導する「オフ」状態とにあることができる、
ことを特徴とする請求項5に記載の照明系。 - 前記空間光変調器(52)の前記ビーム偏向アレイ(54)を前記光学インテグレーター(60)の前記光入射ファセット(100)上に結像する対物系(58)を含むことを特徴とする請求項6に記載の照明系。
- 前記制御ユニット(90)は、異なる非ゼロ照度を有する少なくとも2つの区域(110,116)を含む光パターン(図11及び図12の114,118)が少なくとも1つの光入射ファセット(100)上に生成されるように前記ビーム偏向要素(40)を制御するように構成されることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の照明系。
- マイクロリソグラフィ投影露光装置(10)の照明系であって、
a)複数の光入射ファセット(100)を有する光学インテグレーター(60)と、
b)反射性又は透過性ビーム偏向要素(40)のビーム偏向アレイ(38)であって、各ビーム偏向要素(40)が、該ビーム偏向要素(40)によって生成される偏向角を変更することによって可変である位置で前記光学インテグレーター(60)上のスポット(98)を照明するように構成された前記ビーム偏向アレイ(38)と、
c)前記光入射ファセット(100)のうちの少なくとも1つの上の前記スポット(98)から組み立てられる光パターン(108,114,118)がマスク平面(88)内の角度的照度分布の視野依存性を修正すべきであるという入力指令に応答して変更されるように前記ビーム偏向要素(40)を制御するように構成された制御ユニット(90)と、
を含むことを特徴とする照明系。 - 請求項2から請求項8のいずれか1項に記載の特徴を含むことを特徴とする請求項9に記載の照明系。
- マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系を作動させる方法であって、
a)複数の光入射ファセット(100)を有する光学インテグレーター(60)を照明系(12)が含むマイクロリソグラフィ投影露光装置(10)の照明系(12)を準備する段階(S1)と、
b)個々のスポット(98)から組み立てられた光パターン(108,114,118)を前記光学インテグレーター(60)の前記光入射ファセット(100)上に生成する段階(S2)と、
c)マスク平面(88)内の角度的照度分布の視野依存性を変更すべきであると決定する段階と、
d)スポット(98)を再配列及び/又は除去及び/又は追加することによって前記光入射ファセット(100)上の前記光パターン(108,114,118)を変更する段階と、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記光パターンは、前記照明系(12)によって前記マスク平面に照明される照明視野(14)の第1の部分で第1の角度的照度分布が生成され、かつ該第1の角度的照度分布とは異なる第2の角度的照度分布が該照明視野(12)の第2の部分で生成されるように段階d)において変更されることを特徴とする請求項11に記載の方法。
- 前記第1の部分は、前記第1の角度的照度分布が均一である2次元区域であり、
前記第2の部分は、前記第2の角度的照度分布が均一である2次元区域である、
ことを特徴とする請求項11又は請求項12のいずれか1項に記載の方法。 - 前記光パターンは、異なる非ゼロ照度を有する少なくとも2つの区域(110,116)を含む光パターン(図11及び図12の114,118)が少なくとも1つの光入射ファセット(100)上に生成されるように段階d)において変更されることを特徴とする請求項11から請求項13のいずれか1項に記載の方法。
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