CN112198768A - 曝光机 - Google Patents

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CN112198768A
CN112198768A CN202011136784.2A CN202011136784A CN112198768A CN 112198768 A CN112198768 A CN 112198768A CN 202011136784 A CN202011136784 A CN 202011136784A CN 112198768 A CN112198768 A CN 112198768A
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reflection
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刘巍巍
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TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
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Abstract

本申请提出了一种曝光机。该曝光机包括：反射组件，反射组件包括靠近光源一侧和/或靠近待曝光产品一侧的多个第一构件；其中，第一构件包括第一反射单元，第一反射单元活动性设置于反射组件靠近待曝光产品的第一侧面上和/或反射组件靠近光源的第二侧面上。本申请通过第一反射单元的活动性设置，当照射至待曝光产品的光线需要调整时，可以根据实际情况调整对应的一个或多个第一反射单元，实现了曝光机对照射至待曝光产品的光线的非线性调整，有利于提高待曝光产品的膜层间的重合精度，提高产品良率。

Description

曝光机
技术领域
本申请涉及显示领域，尤其涉及一种曝光机。
背景技术
随着人们对显示面板的需求量和质量等方面的要求的提升，提高曝光机对显示面板的曝光精度，以提升显示面板的各膜层的重合度，是一大改进方向。
现有的曝光机对照射至待曝光产品的光线的控制是线性的，即，只能控制所有照射至待曝光产品的光线沿同一方向移动，导致待曝光产品的各膜层的重合精度难以提高，影响待曝光产品的产品良率。
因此，亟需一种新的曝光机以解决上述技术问题。
发明内容
本申请提供了一种曝光机，用于解决现有的曝光机对照射至待曝光产品的光线只能进行线性控制，难以提高待曝光产品的各膜层的重合精度，影响待曝光产品的产品良率的问题。
为了解决上述技术问题，本申请提供的技术方案如下：
本申请提出了一种曝光机，包括反射组件，所述反射组件包括靠近光源一侧和/或靠近待曝光产品一侧的多个第一构件；
其中，所述第一构件包括第一反射单元，所述第一反射单元活动性设置于所述反射组件靠近所述待曝光产品的第一侧面上和/或所述反射组件靠近所述光源的第二侧面上。
本申请提供的曝光机中，所述第一构件还包括与所述第一反射单元对应设置的遮光单元；
所述遮光单元位于所述第一反射单元远离所述光源或所述待曝光产品的一侧；或，所述遮光单元位于第一反射单元靠近所述光源或所述待曝光产品的一侧；或，所述遮光单元位于相邻两个所述第一反射单元之间。
本申请提供的曝光机中，相邻两个所述遮光单元连续或非连续设置。
本申请提供的曝光机中，所述遮光单元环绕所述第一反射单元设置；或，
所述第一反射单元在所述遮光单元上的正投影位于所述遮光单元内。
本申请提供的曝光机中，相邻两个所述第一反射单元具有第一重叠部分。
本申请提供的曝光机中，所述第一构件还包括第一支撑柱，所述第一反射单元通过所述第一支撑柱在第一方向上的移动；
其中，所述第一方向为与所述第一侧面所在的第一平面或所述第二侧面所在的第二平面垂直的方向。
本申请提供的曝光机中，在沿入射光的入射密度增加的方向上，所述第一反射单元的密度逐渐增大。
本申请提供的曝光机中，所述第一反射单元包括靠近所述光源一侧或靠近所述待曝光产品一侧的光增强层、以及位于所述光增强层远离所述光源的一侧或远离所述待曝光产品的一侧的反射层；
其中，所述光增强层的折射率大于所述反射层的折射率。
本申请提供的曝光机中，所述第一构件还包括第一旋转轴，所述第一反射单元以所述第一旋转轴为轴转动；
所述第一侧面包括相对设置的第一侧边以及连接所述第一侧边的第二侧边；
所述第二侧面包括相对设置的第三侧边以及连接所述第三侧边的第四侧边；
其中，所述第一旋转轴与所述第一侧边或所述第三侧边平行。
本申请提供的曝光机中，所述第一构件还包括第二旋转轴，所述第一反射单元以所述第二旋转轴为轴转动，所述第二旋转轴与所述第二侧边或所述第四侧边平行。
有益效果：本申请通过第一反射单元的活动性设置，当照射至待曝光产品的光线需要调整时，可以根据实际情况调整对应的一个或多个第一反射单元，实现了曝光机对照射至待曝光产品的光线的非线性调整，有利于提高待曝光产品的膜层间的重合精度，提高产品良率。
附图说明
下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1为本申请的曝光机的第一种结构示意图。
图2为本申请的曝光机的第二种结构示意图。
图3为本申请的曝光机的第三种结构示意图。
图4为本申请的第一侧面的第一种结构示意图。
图5为本申请的曝光机的第四种结构示意图。
图6为本申请的第一侧面的第二种结构示意图。
图7为本申请的曝光机的第三种结构示意图。
图8为本申请的第一侧面的第三种结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
现有的曝光机，由于对照射至待曝光产品的光线只能进行线性控制，导致待曝光产品的各膜层的重合精度难以提高，导致产品良率受影响的问题。基于此，本申请提出了一种曝光机。
请参阅图1至图8，所述曝光机100包括反射组件101，所述反射组件101包括靠近光源102一侧和/或靠近待曝光产品103一侧的多个第一构件106。
其中，所述第一构件106包括第一反射单元107，所述第一反射单元107活动性设置于所述反射组件101靠近所述待曝光产品103的第一侧面104上和/或所述反射组件101靠近所述光源102的第二侧面105上。
本实施例中，所述反射组件101用于将来自所述光源102的光反射至所述待曝光产品103上。其中，所述反射组件101靠近所述光源102的所述第二侧面105将来自所述光源102的入射光反射至所述曝光机100的第一凹面镜，所述第一凹面镜将来自所述第一侧面104反射的光线反射至第一凸面镜，经所述第一凸面镜聚光后的光线再次反射至所述第一凹面镜后，经所述第一凹面镜反射至所述反射组件101靠近所述待曝光产品的所述第二侧面105，并最终经过所述第二侧面105的反射照射至所述待曝光产品上。
本实施例中，所述第一反射单元107的形状可以为正方形、长方形、圆形或椭圆形等规则形状，也可以为不规则形状，在此不作具体限定。
本实施例中，相邻所述第一反射单元107所在的平面可以相互平行，也可以互成一定角度，具体情况视实际对所述第一反射单元107的调整而定，在此不作具体限定。
当所述第一反射单元107位于所述第一侧面104上时，当所述第一反射单元107需要进行调整以改变反射至所述待曝光产品上的光线的位置时，可以通过使所述第一反射单元107与所述第一侧面104形成第一夹角；当所述第一反射单元107位于所述第二侧面105上时，当所述第一反射单元107需要进行调整以改变反射至所述待曝光产品上的光线的位置时，可以通过使所述第一反射单元107与所述第二侧面105形成第二夹角。
本实施例中，所述第一反射单元107的转动可以为电路控制，也可以为其他可以使其转动的方式，在此不作具体限定。
本实施例中，所述第一构件106还包括第一旋转轴，所述第一反射单元107以所述第一旋转轴为轴转动；
所述第一侧面104包括相对设置的第一侧边以及连接所述第一侧边的第二侧边；
所述第二侧面105包括相对设置的第三侧边以及连接所述第三侧边的第四侧边；
其中，所述第一旋转轴与所述第一侧边或所述第三侧边平行。
当所述第一反射单元107位于所述第一侧面104上时，所述第一旋转轴与所述第一侧边平行；当所述第一反射单元107位于所述第二侧面105上时，所述第一旋转轴与所述第三侧边平行。
本实施例中，所述第一构件106还包括第二旋转轴，所述第一反射单元107以所述第二旋转轴为轴转动，所述第二旋转轴与所述第二侧边或所述第四侧边平行。
当所述第一反射单元107位于所述第一侧面104上时，所述第二旋转轴与所述第二侧边平行；当所述第一反射单元107位于所述第二侧面105上时，所述第二旋转轴与所述第四侧边平行。
所述第一反射单元107与所述第一侧面104形成第一夹角或所述第一反射单元107与所述第二侧面105形成第二夹角可以通过所述第一反射单元107以所述第一旋转轴为轴转动和/或所述第一反射单元107以所述第二旋转轴为轴转动实现，具体实现方式视实际调整需求而定。
通过所述第一旋转轴以及所述第二旋转轴的设置，可以灵活改变所述第一反射单元107与所述第一侧面104或所述第二侧面105形成的夹角，进而可以灵活改变入射光线的反射角，从而灵活控制照射至所述待曝光产品上的位置；并且，由于所述第一构件106的个数多于一个，可以根据实际调整需求以调整对应的所述第一反射单元107，而无需对照射至所述待曝光产品的光线进行整体调整，进一步提高了调整的精准度，有利于提高待所述曝光产品的膜层间的重合精度，提高产品良率。
本实施例中，由于所述第一反射单元107的单个面积越小，数量越多，对于照射至所述待曝光产品103的光线的调整的精准度越高，因此，所述第一反射单元107的个数可以大于或等于100个，具体个数可以视实际精度需求而定。
本申请通过所述第一反射单元107的活动性设置，当照射至所述待曝光产品103的光线需要调整时，可以根据实际情况调整对应的一个或多个所述第一反射单元107，实现了所述曝光机100对照射至所述待曝光产品103的光线的非线性调整，有利于提高待所述曝光产品103的膜层间的重合精度，提高产品良率。
现结合具体实施例对本申请的技术方案进行描述。
实施例一
请参阅图1～6，所述第一构件106还包括与所述第一反射单元107对应设置的遮光单元108。
所述遮光单元108位于所述第一反射单元107远离所述光源102或所述待曝光产品103的一侧。
或，所述遮光单元108位于第一反射单元107靠近所述光源102或所述待曝光产品103的一侧。
或，所述遮光单元108位于相邻两个所述第一反射单元107之间。
请参阅图2，本实施例中，当所述第一反射单元107位于所述第一侧面104上时，所述遮光单元108位于所述第一反射单元107远离所述待曝光产品103的一侧；当所述第一反射单元107位于所述第二侧面105上时，所述遮光单元108位于所述第一反射单元107远离所述光源102的一侧。
请参阅图3以及图4，本实施例中，当所述第一反射单元107位于所述第一侧面104上时，所述遮光单元108位于所述第一反射单元107靠近所述待曝光产品103的一侧；当所述第一反射单元107位于所述第二侧面105上时，所述遮光单元108位于所述第一反射单元107靠近所述光源102的一侧。
本实施例中，由于所述第一反射单元107之间存在缝隙，入射光会在缝隙处存在折射和散射，发生折射和散射的光线可能照射至所述待曝光产品103上不需曝光的位置，而且折射和散射后的光线难以控制，会对所述待曝光产品103的膜层间的重合精度造成影响。因此，所述遮光单元108的设置有利于提高所述曝光机100对照射至所述待曝光产品103的光线的调整的精确度，改善所述曝光产品的膜层间的重合精度，提高产品良率。
本实施例中，所述遮光单元108的材料可以为黑色吸光材料。
本实施例中，相邻两个所述遮光单元108连续或非连续设置，即相邻两个所述遮光单元108可以一体设置也可以分别独立设置。
本实施例中，当所述遮光单元108位于所述第一反射单元107远离所述光源102或所述待曝光产品103的一侧时，所述第一反射单元107在所述遮光单元108上的正投影位于所述遮光单元108内。
此时，当相邻两个所述遮光单元108连续设置时，所述遮光单元108不受所述第一旋转轴和/或所述第二旋转轴的控制，即所述遮光单元108不随所述第一反射单元107的转动而转动，所述遮光单元108与所述第一侧面104或所述第二侧面105的相对位置保持固定。
当所述遮光单元108位于所述第一反射单元107远离所述光源102或所述待曝光产品103的一侧，相邻两个所述遮光单元108连续设置时，所述遮光单元108与所述第一反射单元107具有第一距离，所述第一距离的大小以所述第一反射单元107转动后不与所述遮光单元108发生碰撞造成损坏以及对相邻所述第一反射单元107之间缝隙造成的折射光和散射光的吸收率为标准，在此不作具体限定。为防止所述第一距离设置过小导致所述第一反射单元107转动后与所述遮光单元108发生碰撞而损坏，所述遮光单元108可以采用缓冲材料，例如，利用黑色染料染色的树脂等。
通过将所述遮光单元108设置于所述第一反射单元107远离所述光源102或远离所述待曝光产品103的一侧，当光线在所述第一反射单元107之间发生折射或散射时，可以对折射光以及散射光进行吸收，同时避免了由于所述遮光单元108的设置造成的所述第一反射单元107实际能对入射光线反射的有效面积的减小，有利于提高照射至所述待曝光产品103的光的总量。
本实施例中，当所述遮光单元108位于所述第一反射单元107靠近所述光源102或所述待曝光产品103的一侧时，相邻两个所述遮光单元108可以连续或非连续设置，此时，所述遮光单元108环绕所述第一反射单元107设置，所述遮光单元108与所述第一反射单元107具有第二重叠部分。
当所述遮光单元108位于所述第一反射单元107靠近所述光源102或所述待曝光产品103的一侧，相邻两个所述遮光单元108非连续设置时，所述遮光单元108可以随对应设置的所述第一反射单元107的转动而转动，有利于提高对于入射至相邻所述第一反射单元107之间的光线的吸收效率。
当所述遮光单元108位于所述第一反射单元107靠近所述光源102或所述待曝光产品103的一侧，相邻两个所述遮光单元108连续设置时，所述第一反射单元107与所述遮光单元108之间具有第二距离，所述第二距离的设置原因以及设置标准与所述第一距离的设置原因以及设置标准相同或相似，在此不再赘述。
通过将所述遮光单元108环绕所述第一反射单元107设置于所述第一反射单元107靠近所述光源102或所述待曝光产品103的一侧时，将靠近所述第一反射单元107边缘的入射光吸收，从而大大减少了能到达相邻所述第一反射单元107之间的缝隙的入射光，并且能对在所述第一反射单元107之间发生折射或散射后的光线进行吸收，有利于提高所述曝光机100对照射至所述待曝光产品103的光线的调整的精确度，改善所述曝光产品的膜层间的重合精度，提高产品良率。
请参阅图5以及图6，本实施例中，当所述遮光单元108位于相邻两个所述第一反射单元107之间时，相邻两个所述遮光单元108可以连续或非连续设置，此时，所述遮光单元108环绕所述第一反射单元107设置。
当所述遮光单元108位于相邻所述第一反射单元107之间，相邻两个所述遮光单元108连续设置时，所述遮光单元108不受所述第一旋转轴和/或所述第二旋转轴的控制，即所述遮光单元108不随所述第一反射单元107的转动而转动，所述遮光单元108与所述第一侧面104或所述第二侧面105的相对位置保持固定。
当所述遮光单元108位于相邻所述第一反射单元107之间，相邻两个所述遮光单元108非连续设置时，所述遮光单元108可以随所述第一反射单元107的转动而转动，有利于提高对于入射至相邻所述第一反射单元107之间的光线的吸收效率。
通过将所述遮光单元108环绕所述第一反射单元107设置于相邻两个所述第一反射单元107之间，有利于直接吸收入射至相邻所述第一反射单元107之间的光线，避免了入射光由于所述第一反射单元107之间的缝隙发生折射和散射对所述待曝光产品103的膜层间的重合精度造成影响，有利于提高所述曝光机100对照射至所述待曝光产品103的光线的调整的精确度，改善所述曝光产品的膜层间的重合精度，提高产品良率。
本实施例通过所述遮光单元108的设置，吸收了由于相邻所述第一反射单元107之间的缝隙产生的折射光和散射光，避免了折射光和散射光对所述待曝光产品103的膜层间的重合精度造成影响，有利于提高待所述曝光产品的膜层间的重合精度，提高产品良率。
实施例二
请参阅图7，本实施例与实施例一相同或相似，不同之处在于：
相邻两个所述第一反射单元107具有第一重叠部分。
本实施例中，在第一方向上，相邻两个所述第一反射单元107上下交错设置。
其中，所述第一方向为与所述第一侧面104所在的第一平面或所述第二侧面105所在的第二平面垂直的方向。
当所述第一反射单元107位于所述第一侧面104上时，所述第一方向为与所述第一侧面104所在的第一平面垂直的方向；当所述第一反射单元107位于所述第二侧面105上时，所述第一方向为与所述第二侧面105所在的第二平面垂直的方向。
本实施例中，上下交错设置的所述第一反射单元107在所述第一方向上可以具有第三距离，以避免所述第一反射单元107需要转动时与相邻的其他所述第一反射单元107发生碰撞造成损坏。
本实施例中，所述第一构件106还包括第一支撑柱，所述第一反射单元107通过所述第一支撑柱在第一方向上的移动。
由于在第一方向上，相邻所述第一反射单元107上下交错设置，当所述第一反射单元107需要转动时，为防止与相邻的其他所述第一反射单元107发生碰撞，可以通过所述第一支撑柱使需要转动的所述第一反射单元107与相邻的其他所述第一反射单元107相距一段距离；当所述第一反射单元107不需转动时，相邻所述第一反射单元107则不需保持固定距离而是可以相互保持尽量接近，有利于减少入射光从相邻所述第一反射单元107在所述第一方向上的间距中的透过，提高照射至所述待曝光产品103的光的总量。
本实施例通过相邻两个所述第一反射单元107具有第一重叠部分，减少了使入射光线发生折射或散射的相邻所述第一反射单元107之间的缝隙，有利于提高所述曝光机100对照射至所述待曝光产品103的光线的调整的精确度，提高待所述曝光产品的膜层间的重合精度，提高产品良率。
实施例三
请参阅图8，本实施例与上述实施例相同或相似，不同之处在于：
在沿入射光的入射密度增加的方向上，所述第一反射单元107的密度逐渐增大。
本实施例中，在沿入射光的入射密度增加的方向上，单个所述第一反射单元107的面积逐渐减小。
本实施例中，在沿入射光的入射密度增加的方向上，所述第一反射单元107的数量逐渐增加。
本实施例通过在沿入射光的入射密度增加的方向上，所述第一反射单元107的密度逐渐增大的设置，有利于实现所述第一反射单元107的合理排布，在入射光密度越大的地方所述第一反射单元107的密度越大也有利于提高所述曝光机100对照射至所述待曝光产品103的光线的调整的精准度，提高待所述曝光产品的膜层间的重合精度，提高产品良率。
上述各实施例中，所述第一反射单元107包括靠近所述光源102一侧或靠近所述待曝光产品103一侧的光增强层，以及位于所述光增强层远离所述光源102的一侧或远离所述待曝光产品103的一侧的反射层。其中，所述光增强层的折射率大于所述反射层的折射率。通过所述光增强层的设置，增加了入射光线在所述反射层上的全反射率，增加照射至所述待曝光产品103的光的总量，有利于提高所述曝光机100对所述待曝光产品103的曝光效果，提高对所述光源102的光线的有效利用率，减少能耗。
本申请提出了一种曝光机。该曝光机包括：反射组件，反射组件包括靠近光源一侧和/或靠近待曝光产品一侧的多个第一构件；其中，第一构件包括第一反射单元，第一反射单元活动性设置于反射组件靠近待曝光产品的第一侧面上和/或反射组件靠近光源的第二侧面上。本申请通过第一反射单元的活动性设置，当照射至待曝光产品的光线需要调整时，可以根据实际情况调整对应的一个或多个第一反射单元，实现了曝光机对照射至待曝光产品的光线的非线性调整，有利于提高待曝光产品的膜层间的重合精度，提高产品良率。
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本申请实施例所提供的一种曝光机进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种曝光机，其特征在于，包括反射组件，所述反射组件包括靠近光源一侧和/或靠近待曝光产品一侧的多个第一构件；
其中，所述第一构件包括第一反射单元，所述第一反射单元活动性设置于所述反射组件靠近所述待曝光产品的第一侧面上和/或所述反射组件靠近所述光源的第二侧面上。
2.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述第一构件还包括与所述第一反射单元对应设置的遮光单元；
所述遮光单元位于所述第一反射单元远离所述光源或所述待曝光产品的一侧；或，所述遮光单元位于第一反射单元靠近所述光源或所述待曝光产品的一侧；或，所述遮光单元位于相邻两个所述第一反射单元之间。
3.根据权利要求2所述的曝光机，其特征在于，相邻两个所述遮光单元连续或非连续设置。
4.根据权利要求3所述的曝光机，其特征在于，所述遮光单元环绕所述第一反射单元设置；或，
所述第一反射单元在所述遮光单元上的正投影位于所述遮光单元内。
5.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，相邻两个所述第一反射单元具有第一重叠部分。
6.根据权利要求5所述的曝光机，其特征在于，所述第一构件还包括第一支撑柱，所述第一反射单元通过所述第一支撑柱在第一方向上的移动；
其中，所述第一方向为与所述第一侧面所在的第一平面或所述第二侧面所在的第二平面垂直的方向。
7.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，在沿入射光的入射密度增加的方向上，所述第一反射单元的密度逐渐增大。
8.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述第一反射单元包括靠近所述光源一侧或靠近所述待曝光产品一侧的光增强层、以及位于所述光增强层远离所述光源的一侧或远离所述待曝光产品的一侧的反射层；
其中，所述光增强层的折射率大于所述反射层的折射率。
9.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述第一构件还包括第一旋转轴，所述第一反射单元以所述第一旋转轴为轴转动；
所述第一侧面包括相对设置的第一侧边以及连接所述第一侧边的第二侧边；
所述第二侧面包括相对设置的第三侧边以及连接所述第三侧边的第四侧边；
其中，所述第一旋转轴与所述第一侧边或所述第三侧边平行。
10.根据权利要求9所述的曝光机，其特征在于，所述第一构件还包括第二旋转轴，所述第一反射单元以所述第二旋转轴为轴转动，所述第二旋转轴与所述第二侧边或所述第四侧边平行。
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