JP2014239189A - インダクタ、およびインダクタの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】安定したインダクタンス特性を簡易な製法で得る。【解決手段】コア2は、第1部分21および第2部分22を有する。コイル3は、コア2に埋設された巻線3aを含む。第1部分21は、第1比透磁率を有する第1材料からなる。第2部分22は、第1比透磁率より低い第2比透磁率を有する第2材料からなる。第1部分21は、少なくとも巻線3aの内側に位置する領域を含む。第2部分22は、第1部分21の外側に位置する領域を含む。【選択図】図2
Description
本発明は、インダクタ、およびインダクタの製造方法に関する。
コイルがコアに埋設された構成を備えるインダクタが知られている。この種のコアは、予め形成された空芯コイルをパンチ型内に配置するとともに磁性体粉を含む樹脂材料を充填し、パンチングを行なうことにより圧密成形される(例えば特許文献1を参照)。
本発明は、この種のインダクタに対する、インダクタンス向上の要求に応える技術を提供することを目的とする。
上記の目的を達成するために、本発明がとりうる第1の態様は、インダクタであって、
第1部分および第2部分を有するコアと、
前記コアに埋設された巻線を含むコイルとを備え、
前記第1部分は、第1比透磁率を有する第1材料からなり、
前記第2部分は、前記第1比透磁率より低い第2比透磁率を有する第2材料からなり、
前記第1部分は、少なくとも前記巻線の内側に位置する領域を含み、
前記第2部分は、前記第1部分の外側に位置する領域を含む。
第1部分および第2部分を有するコアと、
前記コアに埋設された巻線を含むコイルとを備え、
前記第1部分は、第1比透磁率を有する第1材料からなり、
前記第2部分は、前記第1比透磁率より低い第2比透磁率を有する第2材料からなり、
前記第1部分は、少なくとも前記巻線の内側に位置する領域を含み、
前記第2部分は、前記第1部分の外側に位置する領域を含む。
上記の目的を達成するために、本発明がとりうる第2の態様は、インダクタの製造方法であって、
第1比透磁率を有する第1材料でコアの第1部分を成形し、
前記第1コアの周囲に導線を巻き付けて巻線を含むコイルを形成し、
前記コイルが巻き付けられた前記第1部分の少なくとも一部を覆うように、第2比透磁率を有する第2材料で前記コアの第2部分を成形する。
第1比透磁率を有する第1材料でコアの第1部分を成形し、
前記第1コアの周囲に導線を巻き付けて巻線を含むコイルを形成し、
前記コイルが巻き付けられた前記第1部分の少なくとも一部を覆うように、第2比透磁率を有する第2材料で前記コアの第2部分を成形する。
上記の目的を達成するために、本発明がとりうる第3の態様は、インダクタの製造方法であって、
導線が巻回された巻線を形成し、
前記巻線の内側に位置する領域に第1比透磁率を有する第1材料でコアの第1部分を形成し、
前記第1部分の少なくとも一部を覆うように、第2比透磁率を有する第2材料で前記コアの第2部分を形成する。
導線が巻回された巻線を形成し、
前記巻線の内側に位置する領域に第1比透磁率を有する第1材料でコアの第1部分を形成し、
前記第1部分の少なくとも一部を覆うように、第2比透磁率を有する第2材料で前記コアの第2部分を形成する。
すなわち、本発明に係るインダクタにおいては、コアが比透磁率の異なる材料からなる第1部分と第2部分を有する。第2部分は第1部分の外側に位置しており、第1部分を形成する材料よりも比透磁率の低い材料で形成されている。比透磁率が相対的に高い第1部分は、少なくとも励磁電流により発生する磁界が最も強くなる巻線の内側に配置されている。このような構成により、従来よりもインダクタンスが向上したインダクタが得られる旨の知見を得た。インダクタンスの値を従来のものと等しくするのであれば、インダクタの直流抵抗を低下させることができる。
第1部分がコイルを形成する巻線の内側に配置されている構成の場合、先ず相対的に高い比透磁率を有する第1材料で第1部分を成形し、次いで当該第1部分の周囲に導線を巻き付けて巻線を含むコイルを形成し、その後、コイルが巻き付けられた第1部分を覆うように相対的に低い比透磁率を有する第2材料で第2部分を成形するという簡易な製法で、上記のようにインダクタンスが向上したインダクタを得ることができる。なおコイルを先に形成してから第1部分を成形してもよい。
前記第1材料は、第1体積抵抗率を有し、前記第2材料は、前記第1体積抵抗率より高い第2体積抵抗率を有する構成としてもよい。
このような構成によれば、コアに埋設されたコイルに対する高い体積抵抗率を確保することができる。
前記コアの表面全体が前記第2部分により形成されている構成としてもよい。この場合、コアに埋設されたコイルが予期せず外部と導通する事態を確実に回避できる。
前記第1材料は、扁平形状の磁性体粒子と有機結合剤を含んでなる構成としてもよい。この場合、磁性体粒子の長軸方向を含む面内において高い比透磁率を得ることができ、第1部分の比透磁率向上に寄与する。
ここで前記扁平形状の磁性体粒子が、その長軸方向が前記コイルの軸方向に配向されている構成とすれば、巻線内で発生する磁界の向きと、比透磁率が高くなる向きを一致させることができ、インダクタのインダクタンス向上に寄与する。
上記の製造方法においては、前記コアの前記第1部分と前記第2部分の少なくとも一方は、射出成型またはトランスファー成形にて成形されうる。
本発明によれば、コイルがコアに埋設された構造を有するインダクタにおいて、インダクタンスの向上を簡易な製法で達成できる。
添付の図面を参照しつつ、本発明に係る実施形態の例について以下詳細に説明する。なお以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするために縮尺を適宜変更している。また「前後」「左右」「上下」という表現は、説明の便宜のために用いるものであり、実際の使用状態における姿勢や方向を限定するものではない。
図1は、本発明の一実施形態に係るインダクタ1の外観を示す斜視図である。図2の(a)は、図1における線IIA−IIAに沿う縦断面図である。図2の(b)は、図1における線IIB−IIBに沿う横断面図である。
インダクタ1は、コア2、コイル3、第1接続端子4、および第2接続端子5を備えている。コイル3は、コア2に埋設された巻線3aにより形成されている。第1接続端子4は、コア2の前面2aに設けられ、コア2の下面2cまで延びている。第2接続端子5は、コア2の後面2bに設けられ、コア2の下面2cまで延びている。前面2a、後面2b、および下面2cは、コア2の表面の一例である。第1接続端子4は、コイル3の一端部と電気的に接続されている。第2接続端子5は、コイル3の他端部と電気的に接続されている。
コア2は、第1部分21と第2部分22を有している。第1部分21は、コイル3の巻線3aの内側に位置する部分である。第2部分22は、第1部分21の外側を包囲し、コア2の外表面を形成している。
第1部分21は、第1比透磁率および第1体積抵抗率を有する第1材料からなる。具体的には、扁平形状の磁性体粒子と有機結合剤を含む樹脂材料からなる。各磁性体粒子は、その長軸方向がコイル3の軸方向Aに配向されている。
第2部分22は、上記第1比透磁率より低い第2比透磁率、および上記第1体積抵抗率より高い第2体積抵抗率を有する第2材料からなる。具体的には、磁性体粒子と有機結合剤を含む樹脂材料からなる。
上記のような構成を有するインダクタ1の製法について、図3を参照しつつ説明する。まず図3の(a)に示すように、上記第1材料でコア2の第1部分21を成形する。成形は、射出成型またはトランスファー成形により行なわれる。同図においては、金型内に流れ込む材料の流れを矢印Bで表わしている。同図に拡大して示す各磁性体粒子21aは、この材料の流れ方向に扁平形状の長軸を向けるようになる。したがって成形完了後の第1部分21においては、各磁性体粒子の長軸方向は矢印Bの向きに配向される。
次いで図3の(b)に示すように、第1部分21の周囲に導線を巻き付けて巻線3aを含むコイル3を形成する。このときコイル3の軸方向Aが、図3の(a)に示した矢印Bの向きと一致するように、導線を第1部分21の周囲に巻きつける。したがって、第1部分21に含まれる扁平形状の各磁性体粒子は、その長軸方向がコイル3の軸方向Aに配向される。
次いで図3の(c)に示すように、コイル3が巻き付けられた第1部分21を覆うように、上記第2材料でコア2の第2部分22を成形する。成形は、射出成型またはトランスファー成形により行なわれる。
その後適宜の方法で、図2に示すように第1接続端子4と第2接続端子5がコア2の表面に装着され、コイル3との電気的接続が確保される。
上記の構成を有するインダクタ1について具体的な実施例を以下に示す。また従来構成を有するインダクタとの特性比較試験を行なった結果を併せて示す。
(第1実施例)
第1材料として、FeAlSi系扁平磁性体粒子および耐熱ナイロンからなるコンパウンドを用い、射出成型により40mm×55mm×0.65mmの平板試料を作成した。次いで機械加工により、5mm×5mm×0.65mmのバーコア(第1部分21に対応)を得た。本試料の比透磁率を、BHアナライザで測定したところ47であった。
第1材料として、FeAlSi系扁平磁性体粒子および耐熱ナイロンからなるコンパウンドを用い、射出成型により40mm×55mm×0.65mmの平板試料を作成した。次いで機械加工により、5mm×5mm×0.65mmのバーコア(第1部分21に対応)を得た。本試料の比透磁率を、BHアナライザで測定したところ47であった。
次いで当該バーコアに線径0.3mmの絶縁被覆ワイヤを7ターン巻いた。特性測定のためにワイヤの端部を30mm残し、巻線が施されたバーコア全体を覆うように第2材料で第2部分22の成形を行なった。これにより外径寸法が7mm×7mm×3mmのインダクタを得た。
第2材料としては、ガスアトマイズ法で作製されたFeSiCrBC系アモルファス磁性粒子とエポキシ系樹脂を用いた。磁性体粒子の充填率が60体積%となるように各材料を秤量の上、自転公転ミキサを用いて流動性を有するペーストを作製した。本ペーストの硬化後の比透磁率は12であった。
(第2実施例)
第1材料として、FeSiCrを扁平化した磁性体粒子およびPPS樹脂を用いた。磁性体粒子の充填率が40体積%となるように各材料を秤量の上、二軸押出機を用いて混練し、コンパウンドを作製した。当該コンパウンドを用いて射出成型を行なうことにより、40mm×40mm×0.65mmの平板試料を作成した。次いで機械加工により、5mm×5mm×0.65mmのバーコア(第1部分21に対応)を得た。本試料の比透磁率は、14であった。
第1材料として、FeSiCrを扁平化した磁性体粒子およびPPS樹脂を用いた。磁性体粒子の充填率が40体積%となるように各材料を秤量の上、二軸押出機を用いて混練し、コンパウンドを作製した。当該コンパウンドを用いて射出成型を行なうことにより、40mm×40mm×0.65mmの平板試料を作成した。次いで機械加工により、5mm×5mm×0.65mmのバーコア(第1部分21に対応)を得た。本試料の比透磁率は、14であった。
次いで当該バーコアに線径0.3mmの絶縁被覆ワイヤを7ターン巻いた。特性測定のためにワイヤの端部を30mm残し、巻線が施されたバーコア全体を覆うように第2材料で第2部分22の成形を行なった。これにより外径寸法が7mm×7mm×3mmのインダクタを得た。第2材料は、第1実施例と同じものを用いた。
(比較例)
第1実施例と同様の構成を有する空芯コイルを予め作製した。次いで当該空芯コイルが中心部に配置されるように、上記各実施例で用いた第2材料でインサート成型を行なった。これにより外径寸法が7mm×7mm×3mmのインダクタを得た。すなわち、比較例に係るインダクタは、コアが単一の複合磁性材料からなり、当該コアにコイルが埋設された周知の構成を有するものである。
第1実施例と同様の構成を有する空芯コイルを予め作製した。次いで当該空芯コイルが中心部に配置されるように、上記各実施例で用いた第2材料でインサート成型を行なった。これにより外径寸法が7mm×7mm×3mmのインダクタを得た。すなわち、比較例に係るインダクタは、コアが単一の複合磁性材料からなり、当該コアにコイルが埋設された周知の構成を有するものである。
上記の第1実施例に係るインダクタ、第2実施例に係るインダクタ、および比較例に係るインダクタについて、インダクタンスの測定を行なった。測定にはLCRメータを用い、条件は測定周波数1MHz、励磁電流0.1mAとした。
インダクタンスの測定結果は、比較例に係るインダクタが0.72μHであったのに対し、第1実施例に係るインダクタが1.71μH、第2実施例に係るインダクタが1.01μHであった。この測定結果から明らかなように、本発明の実施例に係るインダクタにおいては、従来構成を有するインダクタと比較して大幅なインダクタンスの向上が認められる。
すなわち、本実施形態に係るインダクタ1においては、コア2が比透磁率の異なる材料からなる第1部分21と第2部分22を有する。第2部分22は第1部分21の外側に位置しており、第1部分21を形成する材料よりも比透磁率の低い材料で形成されている。比透磁率が相対的に高い第1部分21は、励磁電流により発生する磁界が最も強くなる巻線3aの内側に配置されている。このような構成により、従来よりもインダクタンスが向上したインダクタが得られる旨の知見を得た。インダクタンスの値を従来のものと等しくするのであれば、インダクタ1の直流抵抗を低下させることができる。
また本実施形態に係るインダクタ1においては、第1部分21がコイル3を形成する巻線3aの内側に配置されている。したがって、先ず相対的に高い比透磁率を有する第1材料で第1部分21を成形し、次いで当該第1部分21の周囲に導線を巻き付けて巻線3aを含むコイル3を形成し、その後、コイル3が巻き付けられた第1部分21を覆うように相対的に低い比透磁率を有する第2材料で第2部分を成形するという簡易な製法で、上記のようにインダクタンスが向上したインダクタを得ることができる。
なお第2部分22を形成する第2材料は、第1部分21を形成する第1材料よりも高い体積抵抗率を有する。これにより、コア2に埋設されたコイル3に対する高い体積抵抗率を確保することができる。
特に本実施形態に係るインダクタ1は、コア2の表面全体が、相対的に体積抵抗率の高い第2材料からなる第2部分22により形成されている。したがって、コア2に埋設されたコイル3が予期せず外部と導通する事態を確実に回避できる。
本実施形態に係るインダクタ1においては、第1部分21を形成する第1材料が、扁平形状の磁性体粒子21aと有機結合剤を含んでなる。このような構成によれば、磁性体粒子21aの長軸方向を含む面内において高い比透磁率を得ることができ、上述した第1部分21の比透磁率向上に寄与する。なお扁平形状の磁性体粒子を含む磁性複合材料は、一般に体積抵抗率が低い。
特に本実施形態に係るインダクタ1においては、扁平形状の磁性体粒子21aは、コイル3の軸方向Aに配向されている。このような構成によれば、巻線3a内で発生する磁界の向きと、比透磁率が高くなる向きを一致させることができ、インダクタ1のインダクタンス向上に寄与する。
なお上記のような配向構成を得るにあたっては、複雑な粒子の配向制御を必要としない。射出成型やトランスファー成形に用いる金型内に注入される材料の流れを一方向に規制する構造を設けるのみで、容易に磁性体粒子を配向させることができる。なお必要に応じて金型に磁場印加機構を設け、磁性粒子を配向させてもよい。
上記の実施形態は本発明の理解を容易にするためのものであって、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく変更・改良され得ると共に、本発明にはその等価物が含まれることは明らかである。
上記の実施形態においては、相対的に比透磁率の高い第1材料からなる第1部分21は、コイル3を形成する巻線3aの内側に配置されている。しかしながら、巻線3aの内側に位置する領域を含む限りにおいて、第1部分21の配置および形状は上記実施形態に示した通りに限定されるものではない。
図4にそのような第1変形例に係るインダクタ1Aを示す。図4は、図2の(a)に対応する縦断面図である。本例において第1部分21は、コイル3を形成する巻線3aの径方向外側に位置する領域も含み、コア2の下面2cに露出している。第2部分22は、コア2の表面のうち、第1接続端子4と第2接続端子5の内側に位置する前面2aと後面2b、上面2d、右側面2e、および左側面2fを形成している。
このような構成によっても従来よりも高いインダクタンスを得ることができる。またコア2に埋設されたコイル3が予期せず外部と導通する事態を確実に回避できる。
図5に第2変形例に係るインダクタ1Bを示す。また図6に第3変形例に係るインダクタ1Cを示す。これらの図は、図2の(b)に対応する横断面図である。第1部分21が少なくともコイル3を形成する巻線3aの内側に位置する領域を含み、第2部分22が第1部分の外側に位置する領域を含む限りにおいて、第1部分21と第2部分22の配置および形状は、求められる仕様や特性に応じて適宜に定められる。
また上記の実施形態においては、成形された第1部分21の周囲に導線を巻き付けて巻線3aを含むコイルを形成している。しかしながら、第1部分21と第2部分22の配置および形状に応じて、エッチングやプレス成型などの適宜の技術を用いて導線が巻回された巻線3aを先に形成してもよい。この場合、その後に巻線3aの内側に位置する部分に第1部分21をインサート成型することにより、コイル3が形成される。
上記の実施形態においては、第2部分22の成形に用いられる第2材料として、磁性体粒子を含む樹脂材料を用いている。しかしながら、第1部分21の成形に用いられる第1材料よりも比透磁率が低く、体積抵抗率が高い材料である限りにおいて、適宜のものを用いることができる。例えば、樹脂材料のみや酸化物等の無機材料で第2部分22を成形してもよい。
インダクタの絶縁抵抗値は、例えば35Vの直流電圧を接続端子とコア間に印加した後で電圧を印加したときに10kΩ以上であることが求められる。この要求を満足するために、例えば、第1部分21の成形に用いられる第1材料に含まれる磁性体粒子21aの表面に、リン酸処理により絶縁膜を形成してもよい。
1:インダクタ、2:コア、3:コイル、3a:巻線、4:第1接続端子、5:第2接続端子、21:第1部分、21a:磁性体粒子、22:第2部分、A:コイルの軸方向
Claims (8)
- 第1部分および第2部分を有するコアと、
前記コアに埋設された巻線を含むコイルとを備え、
前記第1部分は、第1比透磁率を有する第1材料からなり、
前記第2部分は、前記第1比透磁率より低い第2比透磁率を有する第2材料からなり、
前記第1部分は、少なくとも前記巻線の内側に位置する領域を含み、
前記第2部分は、前記第1部分の外側に位置する領域を含む、インダクタ。 - 前記第1材料は、第1体積抵抗率を有し、
前記第2材料は、前記第1体積抵抗率より高い第2体積抵抗率を有する、請求項1に記載のインダクタ。 - 前記コアの表面全体が前記第2部分により形成されている、請求項1または2に記載のインダクタ。
- 前記第1材料は、扁平形状の磁性体粒子と有機結合剤を含んでなる、請求項1から3のいずれか一項に記載のインダクタ。
- 前記扁平形状の磁性体粒子は、その長軸方向が前記コイルの軸方向に配向されている、請求項4に記載のインダクタ。
- 第1比透磁率を有する第1材料でコアの第1部分を成形し、
前記第1コアの周囲に導線を巻き付けて巻線を含むコイルを形成し、
前記コイルが巻き付けられた前記第1部分の少なくとも一部を覆うように、第2比透磁率を有する第2材料で前記コアの第2部分を成形する、インダクタの製造方法。 - 導線が巻回された巻線を形成し、
前記巻線の内側に位置する領域に第1比透磁率を有する第1材料でコアの第1部分を形成し、
前記第1部分の少なくとも一部を覆うように、第2比透磁率を有する第2材料で前記コアの第2部分を形成する、インダクタの製造方法。 - 前記コアの前記第1部分と前記第2部分の少なくとも一方は、射出成型またはトランスファー成形にて成形される、請求項6または7に記載の製造方法。
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---|---|---|---|---|
KR20160136049A (ko) * | 2015-05-19 | 2016-11-29 | 삼성전기주식회사 | 코일 전자부품 및 그 제조방법 |
JP2018110215A (ja) * | 2017-01-02 | 2018-07-12 | サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. | コイル部品 |
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- 2013-06-10 JP JP2013121905A patent/JP2014239189A/ja active Pending
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