JP2014235126A - Substrate inspection device, substrate inspection method, and substrate inspection jig - Google Patents
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Description
本発明は、電子部品(IC等)を内蔵する基板に形成される配線パターンの電気的な検査を行う基板検査装置およびそれに関連する技術に関する。 The present invention relates to a substrate inspection apparatus for performing an electrical inspection of a wiring pattern formed on a substrate containing an electronic component (IC or the like), and a related technology.
現在、ダイオードおよびコンデンサ等を含む電子部品を内蔵した電子部品内蔵基板(エンベデッド基板とも称される)の普及が始まりつつある。 Currently, an electronic component built-in substrate (also referred to as an embedded substrate) in which electronic components including a diode and a capacitor are incorporated is beginning to spread.
このような電子部品内蔵基板の検査手法は未だ確立されてはいないが、1つの手法として特許文献1に示すものが存在する。
Although such an inspection method for an electronic component built-in substrate has not yet been established, there is one disclosed in
また、基板上の端子の表面(ひょうめん)に形成された酸化膜を高電圧印加により除去する技術(酸化膜除去技術(電気クリーニング技術))が存在する。具体的には、基板上の特定の端子に2つの接触子を接触させ、当該2つの接触子の相互間に酸化膜除去用の高電圧を印加することによって、当該特定の端子の表面に形成された酸化膜を除去することが可能である。当該技術を用いることによれば、空気中の酸素等によって端子表面に酸化膜(絶縁膜)が生じてしまった場合であっても、検査用の接触子(プローブ)と基板上の端子との良好な接触が当該酸化膜によって阻害されることを防止できる。 There is also a technique (oxide film removal technique (electric cleaning technique)) for removing an oxide film formed on the surface of a terminal on a substrate by applying a high voltage. Specifically, two contacts are brought into contact with a specific terminal on the substrate, and a high voltage for removing an oxide film is applied between the two contacts to form on the surface of the specific terminal. It is possible to remove the oxidized film. According to this technique, even if an oxide film (insulating film) is generated on the surface of the terminal due to oxygen in the air, the contact between the inspection contact (probe) and the terminal on the substrate It can prevent that a favorable contact is inhibited by the said oxide film.
しかしながら、上述の酸化膜除去技術(電気クリーニング技術)を電子部品内蔵基板に適用しようとすると、次のような問題が生じる。 However, when the above-described oxide film removal technique (electric cleaning technique) is applied to an electronic component built-in substrate, the following problems occur.
たとえば、電子部品に接続された特定の端子に2つの接触子を接触させ、当該2つの接触子の相互間に酸化膜除去用の高電圧を印加する際に、当該電子部品に接続された他の端子にも他の接触子が接触していることがある。この場合に2つの接触子を用いて特定の端子に対して高電圧を印加すると、当該2つの接触子間に高電圧が生じるのみならず、当該2つの接触子と当該他の接触子との間にも高電圧が生じ、当該2つの接触子の接触先の特定の端子と当該他の接触子の接続先の他の端子との間に設けられた電子部品にも高電圧が生じることがある。そして、このような高電圧(酸化膜除去用の電圧)が電子部品に印加されると、当該電子部品が破壊されてしまう、という問題が存在する。 For example, when two contacts are brought into contact with a specific terminal connected to an electronic component and a high voltage for removing an oxide film is applied between the two contacts, other contacts connected to the electronic component Other contacts may also be in contact with the terminal. In this case, when a high voltage is applied to a specific terminal using two contacts, not only a high voltage is generated between the two contacts, but also between the two contacts and the other contacts. A high voltage is also generated between the two contacts, and a high voltage is also generated in an electronic component provided between the specific terminal at the contact destination of the two contacts and the other terminal at the connection destination of the other contact. is there. And when such a high voltage (voltage for oxide film removal) is applied to an electronic component, there exists a problem that the said electronic component will be destroyed.
そこで、この発明は、電子部品内蔵基板の端子に関する酸化膜除去を行う際に、電子部品の破壊を防止することが可能な技術を提供することを課題とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide a technique capable of preventing destruction of an electronic component when removing an oxide film related to a terminal of the electronic component built-in substrate.
上記課題を解決すべく、請求項1の発明は、電子部品を内蔵した基板に形成される配線パターンの電気的な検査を行う基板検査装置であって、前記基板上の複数の端子であって前記電子部品に電気的に接続されている複数の端子に接触する複数の接触子と、前記複数の接触子のうちの2つの接触子であって前記複数の端子のうちの一の端子に接触すべき2つの接触子のうち前記一の端子に良好には接触していない接触子である接触不良接触子を検出するとともに、前記2つの接触子のうち前記一の端子に良好に接触している接触子である接触良好接触子を検出する検出制御手段と、前記基板の外部において前記複数の接触子のそれぞれと同電位配線との間に設けられる複数のスイッチと、前記複数のスイッチのうち、前記接触不良接触子と前記同電位配線との間の第1のスイッチがオフ状態にされ、且つ、前記接触良好接触子と前記同電位配線との間の第2のスイッチがオン状態にされ、且つ、前記複数の接触子のうち前記2つの接触子以外の1又は2以上の接触子と前記同電位配線との間の各スイッチがオン状態にされて、前記1又は2以上の接触子と前記接触良好接触子とが互いに同電位に接続された状態で、前記接触良好接触子と前記接触不良接触子との間に酸化膜除去用の電圧を印加する酸化膜除去制御手段と、を備えることを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention of
請求項2の発明は、電子部品を内蔵した基板に形成される配線パターンの電気的な検査を行う基板検査装置であって、前記基板上の複数の端子であって前記電子部品に電気的に接続されている複数の端子に接触する複数の接触子と、前記複数の接触子のうちの2つの接触子であって、前記複数の端子のうち前記基板内の同一の配線パターンに接続された異なる2つの端子にそれぞれ接触すべき2つの接触子のうち、接触すべき端子に良好には接触していない接触子である接触不良接触子を検出するとともに、接触すべき端子に良好に接触している接触子である接触良好接触子を検出する検出制御手段と、前記基板の外部において前記複数の接触子のそれぞれと同電位配線との間に設けられる複数のスイッチと、前記複数のスイッチのうち、前記接触不良接触子と前記同電位配線との間の第1のスイッチがオフ状態にされ、且つ、前記接触良好接触子と前記同電位配線との間の第2のスイッチがオン状態にされ、且つ、前記複数の接触子のうち前記2つの接触子以外の1又は2以上の接触子と前記同電位配線との間の各スイッチがオン状態にされて、前記1又は2以上の接触子と前記接触良好接触子とが互いに同電位に接続された状態で、前記接触良好接触子と前記接触不良接触子との間に酸化膜除去用の電圧を印加する酸化膜除去制御手段と、を備えることを特徴とする。 According to a second aspect of the present invention, there is provided a substrate inspection apparatus for performing an electrical inspection of a wiring pattern formed on a substrate in which an electronic component is incorporated, wherein a plurality of terminals on the substrate are electrically connected to the electronic component. A plurality of contacts that contact a plurality of connected terminals, and two of the plurality of contacts, wherein the plurality of terminals are connected to the same wiring pattern in the substrate. Among the two contacts that should be in contact with two different terminals, a contact failure contact that is not in good contact with the terminal to be contacted is detected, and the contact with the terminal to be contacted with is good. Detection control means for detecting a contact good contact that is a contact, a plurality of switches provided between each of the plurality of contacts and the same potential wiring outside the substrate, and a plurality of switches Before A first switch between the poor contact and the equipotential line is turned off, and a second switch between the good contact and the equipotential line is turned on; and Each switch between the one or more contacts other than the two contacts and the equipotential wiring among the plurality of contacts is turned on, and the one or more contacts and the Oxide film removal control means for applying a voltage for removing an oxide film between the contact good contact and the poor contact contact in a state where the contact good contact is connected to the same potential. It is characterized by.
請求項3の発明は、請求項1または請求項2の発明に係る基板検査装置において、前記検出制御手段は、前記1又は2以上の接触子のいずれかと前記2つの接触子のうちの一方の接触子との間の導通状態が確認される場合に、前記一方の接触子を前記接触良好接触子として検出し、前記1又は2以上の接触子のうちの任意の接触子と前記2つの接触子のうちの他方の接触子との間の導通状態が確認されない場合に、前記他方の接触子を前記接触不良接触子として検出することを特徴とする。 According to a third aspect of the present invention, in the substrate inspection apparatus according to the first or second aspect of the present invention, the detection control means includes either one of the one or more contacts or one of the two contacts. When one of the contacts is detected as a good contact when the conduction state between the contacts is confirmed, any one of the one or more contacts and the two contacts are detected. When the conduction state with the other contact of the children is not confirmed, the other contact is detected as the poor contact contact.
請求項4の発明は、電子部品を内蔵した基板に形成される配線パターンの電気的な検査に用いられる基板検査用治具であって、前記基板上の複数の端子であって前記電子部品に電気的に接続されている複数の端子に接触する複数の接触子であって、前記複数の端子のうちの一の端子に接触すべき2つの接触子を含む複数の接触子と、前記基板の外部において前記複数の接触子のそれぞれと同電位配線との間に設けられる複数のスイッチと、前記2つの接触子のうち前記一の端子に良好に接触している接触子である接触良好接触子と前記2つの接触子のうち前記一の端子に良好には接触していない接触子である接触不良接触子との間に酸化膜除去用の電圧を印加するための配線部と、を備え、前記接触良好接触子と前記接触不良接触子との間に酸化膜除去用の電圧が印加される際には、前記複数のスイッチのうち、前記接触不良接触子と前記同電位配線との間の第1のスイッチがオフ状態にされ、且つ、前記接触良好接触子と前記同電位配線との間の第2のスイッチがオン状態にされ、且つ、前記複数の接触子のうち前記2つの接触子以外の1又は2以上の接触子と前記同電位配線との間の各スイッチがオン状態にされて、前記1又は2以上の接触子と前記接触良好接触子とが互いに同電位に接続されることを特徴とする。 According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a substrate inspection jig used for electrical inspection of a wiring pattern formed on a substrate incorporating an electronic component, the plurality of terminals on the substrate, wherein the electronic component is attached to the electronic component. A plurality of contacts that are in contact with a plurality of terminals that are electrically connected, the contacts including two contacts that are to contact one terminal of the plurality of terminals; A plurality of switches provided between each of the plurality of contacts and the same potential wiring on the outside, and a contact good contact that is a contact that is in good contact with the one terminal of the two contacts And a wiring part for applying a voltage for removing an oxide film between the two contacts and a poor contact that is not in good contact with the one terminal. Between the contact good contact and the poor contact contact When a voltage for removing a chemical film is applied, a first switch between the contact failure contact and the equipotential wiring among the plurality of switches is turned off and the contact is good. A second switch between the contact and the equipotential wiring is turned on, and one or more contacts other than the two contacts among the plurality of contacts and the equipotential wiring; Each of the switches is turned on, and the one or more contacts and the good contact are connected to each other at the same potential.
請求項5の発明は、電子部品を内蔵した基板に形成される配線パターンの電気的な検査に用いられる基板検査用治具であって、前記基板上の複数の端子であって前記電子部品に電気的に接続されている複数の端子に接触する複数の接触子であって、前記複数の端子のうち前記基板内の同一の配線パターンに接続された異なる2つの端子にそれぞれ接触すべき2つの接触子を含む複数の接触子と、前記基板の外部において前記複数の接触子のそれぞれと同電位配線との間に設けられる複数のスイッチと、前記2つの接触子のうち接触対象端子に良好に接触している接触子である接触良好接触子と前記2つの接触子のうち接触対象端子に良好には接触していない接触子である接触不良接触子との間に酸化膜除去用の電圧を印加するための配線部と、を備え、前記接触良好接触子と前記接触不良接触子との間に酸化膜除去用の電圧が印加される際には、前記複数のスイッチのうち、前記接触不良接触子と前記同電位配線との間の第1のスイッチがオフ状態にされ、且つ、前記接触良好接触子と前記同電位配線との間の第2のスイッチがオン状態にされ、且つ、前記複数の接触子のうち前記2つの接触子以外の1又は2以上の接触子と前記同電位配線との間の各スイッチがオン状態にされて、前記1又は2以上の接触子と前記接触良好接触子とが互いに同電位に接続されることを特徴とする。 The invention according to claim 5 is a substrate inspection jig used for electrical inspection of a wiring pattern formed on a substrate incorporating an electronic component, wherein the jig is a plurality of terminals on the substrate and is attached to the electronic component. A plurality of contacts that contact a plurality of terminals that are electrically connected, and two of the plurality of terminals that should contact each of two different terminals connected to the same wiring pattern in the substrate. A plurality of contacts including a contact, a plurality of switches provided between each of the plurality of contacts and the same potential wiring outside the substrate, and a contact target terminal of the two contacts. A voltage for removing an oxide film is provided between a contact good contact that is a contact that is in contact and a contact poor contact that is a contact that is not in good contact with a contact target terminal among the two contacts. Wiring part for applying and When a voltage for removing an oxide film is applied between the good contact and the poor contact, the poor contact and the equipotential wiring among the plurality of switches. And the second switch between the contact good contact and the equipotential wiring is turned on, and the second of the plurality of contacts is turned on. Each switch between one or two or more contacts other than one contact and the equipotential wiring is turned on so that the one or more contacts and the good contact contact are at the same potential. It is connected.
請求項6の発明は、電子部品を内蔵した基板に形成される配線パターンの電気的な検査を行う基板検査方法であって、a)前記基板上の複数の端子であって前記電子部品に電気的に接続されている複数の端子に接触する複数の接触子のうちの2つの接触子であって、前記複数の端子のうちの一の端子に接触すべき2つの接触子の中から、前記一の端子に良好には接触していない接触子である接触不良接触子を検出するとともに、前記2つの接触子のうち前記一の端子に良好に接触している接触子である接触良好接触子を検出するステップと、b)前記基板の外部において前記複数の接触子のそれぞれと同電位配線との間に設けられる複数のスイッチのうち、前記接触不良接触子と前記同電位配線との間の第1のスイッチをオフ状態にし、且つ、前記接触良好接触子と前記同電位配線との間の第2のスイッチをオン状態にし、且つ、前記複数の接触子のうち前記2つの接触子以外の1又は2以上の接触子と前記同電位配線との間の各スイッチをオン状態にして、前記1又は2以上の接触子と前記接触良好接触子とを互いに同電位に接続するステップと、c)前記1又は2以上の接触子と前記接触良好接触子とが互いに同電位に接続された状態で、前記接触良好接触子と前記接触不良接触子との間に酸化膜除去用の電圧を印加するステップと、を備えることを特徴とする。 According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a substrate inspection method for performing an electrical inspection of a wiring pattern formed on a substrate incorporating an electronic component, wherein a) a plurality of terminals on the substrate are electrically connected to the electronic component. Two contacts among a plurality of contacts that contact a plurality of terminals connected to each other, and from among two contacts that should contact one terminal of the plurality of terminals, A contact poor contact which is a contact which is not in good contact with one terminal and which is in good contact with the one terminal among the two contacts. And b) among a plurality of switches provided between each of the plurality of contacts and the same potential wiring outside the substrate, between the poor contact contact and the same potential wiring. Turn off the first switch, and A second switch between the contact good contact and the equipotential wiring is turned on, and one or more contacts other than the two contacts out of the plurality of contacts and the same potential A step of turning on each switch between the wiring and connecting the one or more contacts and the contact good contact with each other at the same potential; c) the one or more contacts and the contact Applying a voltage for removing an oxide film between the good contact and the poor contact in a state where the good contact is connected to the same potential. .
請求項7の発明は、電子部品を内蔵した基板に形成される配線パターンの電気的な検査を行う基板検査方法であって、a)前記基板上の複数の端子であって前記電子部品に電気的に接続されている複数の端子に接触する複数の接触子のうちの2つの接触子であって、前記複数の端子のうち前記基板内の同一の配線パターンに接続された異なる2つの端子にそれぞれ接触すべき2つの接触子の中から、接触すべき端子に良好には接触していない接触子である接触不良接触子を検出するとともに、接触すべき端子に良好に接触している接触子である接触良好接触子を検出するステップと、b)前記基板の外部において前記複数の接触子のそれぞれと同電位配線との間に設けられる複数のスイッチのうち、前記接触不良接触子と前記同電位配線との間の第1のスイッチをオフ状態にし、且つ、前記接触良好接触子と前記同電位配線との間の第2のスイッチをオン状態にし、且つ、前記複数の接触子のうち前記2つの接触子以外の1又は2以上の接触子と前記同電位配線との間の各スイッチをオン状態にして、前記1又は2以上の接触子と前記接触良好接触子とを互いに同電位に接続するステップと、c)前記1又は2以上の接触子と前記接触良好接触子とが互いに同電位に接続された状態で、前記接触良好接触子と前記接触不良接触子との間に酸化膜除去用の電圧を印加するステップと、を備えることを特徴とする。 A seventh aspect of the present invention is a substrate inspection method for performing an electrical inspection of a wiring pattern formed on a substrate incorporating an electronic component, wherein a) a plurality of terminals on the substrate are electrically connected to the electronic component. Two of the plurality of contacts that contact a plurality of terminals connected to each other, and two different terminals connected to the same wiring pattern in the substrate among the plurality of terminals. A contact that is in good contact with the terminal to be contacted is detected while detecting a poor contact contact that is not in good contact with the terminal to be contacted from the two contacts to be contacted. B) detecting a contact good contact, and b) out of a plurality of switches provided between each of the plurality of contacts and the same potential wiring outside the substrate. With potential wiring And the second switch between the contact good contact and the equipotential wiring is turned on, and the plurality of contacts other than the two contacts Each switch between the one or two or more contacts and the equipotential wiring is turned on to connect the one or two or more contacts and the good contact to each other at the same potential; c) With the one or more contacts and the contact good contact connected to each other at the same potential, a voltage for removing an oxide film is applied between the contact good contact and the poor contact contact. And applying.
請求項8の発明は、請求項6または請求項7の発明に係る基板検査方法において、前記ステップa)は、a−1)前記1又は2以上の接触子のいずれかと前記2つの接触子のうちの一方の接触子との間の導通状態が確認される場合に、前記一方の接触子を前記接触良好接触子として検出するステップと、a−2)前記1又は2以上の接触子のうちの任意の接触子と前記2つの接触子のうちの他方の接触子との間の導通状態が確認されない場合に、前記他方の接触子を前記接触不良接触子として検出するステップと、を有することを特徴とする。 According to an eighth aspect of the present invention, in the substrate inspection method according to the sixth or seventh aspect of the invention, the step a) includes: a-1) one of the one or two or more contacts and the two contacts. A step of detecting the one contact as the good contact when a conduction state with one of the contacts is confirmed; a-2) Among the one or more contacts Detecting the other contact as the poor contact when the conduction state between any contact of the contact and the other contact of the two contacts is not confirmed. It is characterized by.
請求項1ないし請求項8に記載の発明によれば、電子部品内蔵基板の端子に関する酸化膜除去を行う際に、電子部品の破壊を防止することが可能である。 According to the first to eighth aspects of the invention, it is possible to prevent the electronic component from being destroyed when the oxide film on the terminal of the electronic component built-in substrate is removed.
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
<1.装置構成概要>
図1は、基板検査装置1の内部構成を示す概略図である。基板検査装置1は、検査対象の基板(回路基板)90に設けられた複数の配線パターンの相互間の導通検査および絶縁検査を行う検査装置である。基板検査装置1は、電子部品を内蔵した基板(電子部品内蔵基板)をも検査対象とすることが可能である。また、後述するように、基板検査装置1は、基板90上の端子の表面(ひょうめん)に形成された酸化膜を高電圧印加により除去する機能(電気クリーニング機能)を有している。
<1. Overview of device configuration>
FIG. 1 is a schematic diagram showing an internal configuration of the
図1に示すように、基板検査装置1は、略直方体形状の筐体8の内部において、検査対象の基板90を載置する搬送テーブル3を備えている。搬送テーブル3は、不図示の支持機構によって支持されるとともに、不図示の駆動機構によって水平方向(図の左右方向等)に駆動される。
As shown in FIG. 1, the
搬送テーブル3の上下には、治具駆動機構2(詳細には2a,2b)が設けられている。詳細には、搬送テーブル3の鉛直方向上側には治具駆動機構2aが配置されており、搬送テーブル3の鉛直方向下側には治具駆動機構2bが配置されている。各治具駆動機構2a,2bは、鉛直方向(図1の上下方向)に移動可能である。
A jig driving mechanism 2 (specifically 2a, 2b) is provided above and below the transfer table 3. Specifically, a
治具駆動機構2には基板検査用治具10(詳細には、10a,10b)が設けられている。詳細には、治具駆動機構2aの下面側には基板検査用治具10aが固定されており、治具駆動機構2bの上面側には基板検査用治具10bが固定されている。
The jig driving mechanism 2 is provided with a board inspection jig 10 (specifically, 10a and 10b). Specifically, the
基板検査用治具10a,10bには、それぞれ、基板90の配線パターンの端子(検査点)に当接される複数(例えば、100本)の基板検査用の接触子(プローブ)12が設けられている。
Each of the
治具駆動機構2aの下降動作に応じて、基板検査用治具10aが下降すると、基板検査用治具10aの下端側の複数の接触子12が、基板90の上面側に設けられた複数の端子(ランドないしパッド電極等とも称する)にそれぞれ接触する。このとき適宜の圧力が付与されることにより、物理的および電気的接触が適切に確保される。
When the
同様に、治具駆動機構2bの上昇動作に応じて、基板検査用治具10bが上昇すると、基板検査用治具10bの上端側の複数の接触子12が、基板90の下面側に設けられた複数の端子にそれぞれ接触する。このとき適宜の圧力が付与されることにより、物理的および電気的接触が適切に確保される。なお、搬送テーブル3の中央部には、基板90の下面(裏面)の配線パターンの端子に基板検査用治具10bの接触子12を接触させるための貫通開口が形成されている。
Similarly, when the
このようにして基板検査用治具10a,10bの接触子12が基板90の上下両面(表裏両面)にそれぞれ接触した状態において、基板に形成される配線パターンの電気的な検査が行われる。
In this way, the electrical inspection of the wiring pattern formed on the substrate is performed in the state where the
<2.治具>
図2は、基板検査用治具10(10a)の構成を示す概略図である。ここでは、基板検査用治具10aについて説明するが、基板検査用治具10bも同様の構成を有している。
<2. Jig>
FIG. 2 is a schematic view showing the configuration of the substrate inspection jig 10 (10a). Here, the
基板検査用治具10は、複数の接触子12と、当該複数の接触子12を保持する保持体13と、複数の電極部14aを有する電極体14と、電極体14を支持する支柱部15と、配線部16と、土台部17と、スイッチ回路20とを備えて構成される。
The
接触子12の一端(図2では下端)は、検査対象物(基板)上に設定される所定の検査点と当接して導通接続され、接触子12の他端(図2では上端)は、電極部14aに当接して導通接続される。接触子12は、導電性材料で形成される。
One end (the lower end in FIG. 2) of the
接触子12は、細長い棒状の形状を有している。接触子12は、両端部を除く全周に亘って絶縁被覆されている。また、接触子12は可撓性を有しており、保持体13に装着される際には、僅かに一定方向に湾曲して装着される。このように接触子12が湾曲して装着されることによって復元力が発生し、当該復元力に応じて接触子12から検査点への押圧力等が生じる。
The
保持体13は、複数の接触子12の一端(下端)をそれぞれの所定の検査点に案内し、他方端(上端)をそれぞれの所定の電極部14aへ案内する。保持体13は、電極側板部13aと検査側板部13bと支柱13cとを有する。電極側板部13aと検査側板部13bとは、互いに離間した状態で、所定数の支柱13cを用いて固定される。なお、電極側板部13aと検査側板部13bとの間の空間において、接触子12が湾曲する。
The holding
電極側板部13aは、絶縁材料で形成されており、接触子12の他端(上端)を電極部14aへ案内するための貫通孔(案内孔)を有している。
The electrode
検査側板部13bは、絶縁材料で形成されており、接触子12の一端(下端)を検査点へ案内するための貫通孔(案内孔)を有している。検査側板部13bの貫通孔からは、接触子12が突出している。検査時においては、接触子12の先端が基板90の検査点に当接する。
The inspection
電極体14は、複数の接触子12の他端(上端)とそれぞれ導通接触する複数の電極部14aと、当該複数の電極部14aを保持する電極保持部14bとを有している。電極部14aは、電極体14の表面(おもてめん)(ここでは下面)側において所定の位置に配置されるように形成され、電極体14の裏面(上面)側から配線部16に接続(詳細には、電気的に接続(以下同様))される。電極保持部14bは、絶縁材料で板形状に形成されており、複数の電極部14aをそれぞれ保持するための複数の貫通孔(図示せず)を有している。
The electrode body 14 includes a plurality of
支柱部15は、電極体14を支持し、ひいては保持体13および接触子12をも支持する。具体的には、支柱部15は、電極体14の四隅にそれぞれ支柱を有し、電極体14を支える構造を有している。
The
配線部16は、電極部14aから延設される配線で構成され、電極部14aと基板検査装置1のコントローラ30(図3参照)とを電気的に接続する。配線部16は、絶縁被覆された銅(Cu)の線材(いわゆる導線)等で構成される。
The
配線部16は、複数の接触子12のそれぞれに接続される複数の配線を有している。複数の接触子12のうちの2つの接触子(たとえば接触良好接触子12eおよび接触不良接触子12f)にそれぞれ接続される2つの配線の相互間に電圧が印加されることによって、当該2つの接触子の相互間に電圧(酸化膜除去用の電圧等)が印加される。
The
土台部17は、複数の接触子12と保持体13と電極体14と支柱部15とに対する土台として構成される。土台部17は、基板検査用治具10を治具駆動機構2に固定する機能等を有する。
The
スイッチ回路20については後述する。
The
<3.基板>
この実施形態では、検査対象の基板90として電子部品内蔵基板が例示される。基板90は、電子部品(ここでは集積回路(IC:Integrated Circuit))95を内蔵した基板(電子部品内蔵基板)である(図3参照)。
<3. Substrate>
In this embodiment, an electronic component built-in substrate is exemplified as the
電子部品95内には、様々な電子部品要素(ダイオード、コンデンサ、抵抗等)が設けられる。ただし、図3では、図示の都合上、ダイオードのみが示されている。図3では、4つのダイオード96a〜96dが電子部品95内に設けられている。電子部品95の内部のダイオード96a〜96dは、内部ダイオードとも称される。また、この電子部品95には、4つのIC端子(電子部品端子とも称する)97a〜97dが設けられている。
In the
また、基板90の表面(ひょうめん)(具体的には、上面および下面等)には、複数の端子93,94が設けられている。当該複数の端子93,94は、基板内部の配線パターンに電気的に接続されている。複数の端子93,94の一部は、基板内部の配線パターン等を介して相互に電気的に接続され、複数の端子93,94の他の一部は、基板内部において互いに電気的に接続されていない。また、複数の端子93は、それぞれ、基板に内蔵された電子部品95の(基板内部の)複数のIC端子97a〜97dのいずれかに対して電気的に接続されている。一方、複数の端子94は、それぞれ、基板に内蔵された電子部品95とは電気的に接続されていない。
In addition, a plurality of terminals 93 and 94 are provided on the surface of the substrate 90 (specifically, an upper surface and a lower surface). The plurality of terminals 93 and 94 are electrically connected to a wiring pattern inside the substrate. Some of the plurality of terminals 93 and 94 are electrically connected to each other via a wiring pattern or the like inside the substrate, and other parts of the plurality of terminals 93 and 94 are electrically connected to each other inside the substrate. Not. Each of the plurality of terminals 93 is electrically connected to one of the plurality of
たとえば、基板内部のIC端子97bには、2つの端子93(93a,93b)が配線パターンPT1を介して電気的に接続されている。同様に、基板内部のIC端子97aには、2つの端子93(93g,93h)が配線パターンPT2を介して電気的に接続されており、基板内部のIC端子97cには、2つの端子93(93c,93d)が配線パターンPT3を介して電気的に接続されている。また、基板内部のIC端子97dには、1つの端子93(93e)が配線パターンPT4を介して電気的に接続されている。さらに、端子93a,93bは相互に電気的に接続されており、端子93c,93dも相互に電気的に接続されている。同様に、端子93g,93hも相互に電気的に接続されている。一方、複数の端子94は、それぞれ、基板に内蔵された電子部品95の基板内部の複数のIC端子97a〜97dのいずれとも電気的に接続されていない。
For example, two terminals 93 (93a, 93b) are electrically connected to the IC terminal 97b inside the substrate via the wiring pattern PT1. Similarly, two terminals 93 (93g, 93h) are electrically connected to the
ここにおいて、基板90上の各端子93,94は、絶縁検査および導通検査における検査点として用いられる。
Here, the terminals 93 and 94 on the
たとえば、端子93同士の導通検査において、端子(電極)93cと端子(電極)93dとが検査点として用いられて、2つの端子93c,93dの相互間の導通状態(良好な導電状態)が確認される。また、端子93eと端子93hとが検査点として用いられて、2つの端子93e,93hの相互間の導通状態(良好な導電状態)が確認される。他の端子93に関する導通検査についても同様であり、各端子93は導通検査における検査点として用いられる。
For example, in the continuity test between the terminals 93, the terminal (electrode) 93c and the terminal (electrode) 93d are used as inspection points, and the continuity state (good conductive state) between the two
また、絶縁検査においては、複数の端子93の少なくとも一部が検査点として利用される。たとえば、基板90内の配線パターンPT3に対して設けられた2つの端子93c,93dのうちの任意の端子(たとえば93c)と、基板90内の配線パターンPT2に設けられた2つの端子93g,93hのうちの任意の端子(たとえば93h)とが検査点として用いられて、2つの配線パターンPT3,PT2の相互間の絶縁検査が行われる。あるいは、基板90内の配線パターンPT4に対して設けられた端子93eと、基板90内の配線パターンPT2に設けられた2つの端子93g,93hのうちの任意の端子(たとえば93h)とが検査点として用いられて、2つの配線パターンPT4,PT2の相互間の絶縁検査が行われる。なお、端子93に関する絶縁検査は、ダイオード96の順方向電圧Vfよりも小さな電圧(たとえば、0.2V(ボルト))が印加されることによって、ダイオード96には電流が流れない状態で行われる。
In the insulation inspection, at least some of the plurality of terminals 93 are used as inspection points. For example, an arbitrary terminal (for example, 93c) of the two
端子94も同様に、導通検査および絶縁検査における検査点として用いられる。 Similarly, the terminal 94 is used as an inspection point in the continuity inspection and the insulation inspection.
このように、各端子93,94は、各種検査(導通検査および絶縁検査を含む)における検査点として用いられる。 Thus, the terminals 93 and 94 are used as inspection points in various inspections (including continuity inspection and insulation inspection).
<4.検査回路>
図3は、基板90を検査する電子回路(検査回路)を示す図である。
<4. Inspection circuit>
FIG. 3 is a diagram showing an electronic circuit (inspection circuit) for inspecting the
図3に示すように、基板検査装置1は、コントローラ30をも備えている。なお、図3においては、基板検査用治具10の図示を省略している。
As shown in FIG. 3, the
コントローラ30は、各種検査を制御する制御部である。コントローラ30は、電源31の出力(出力電流および/または出力電圧)等を制御し、配線パターン相互間の導通検査および絶縁検査を行う。
The
コントローラ30は、検査制御部34と記憶部35と検出制御部36と酸化膜除去制御部37とを有している。
The
コントローラ30の記憶部35には、各検査における検査パターンデータ(たとえば絶縁検査における印加電圧等)が検査対象端子の組み合わせ毎に記憶される。検査制御部34は、記憶部35に記憶された検査パターンデータ等に基づいて、導通検査および絶縁検査を制御する。検出制御部36は、後述する接触良好接触子および接触不良接触子を検出する処理部である。酸化膜除去制御部37は、酸化膜除去動作を制御する処理部である。
In the
電源31は、定電流源として構成される。電源31は、電圧印加時における供給電流を一定値に調整することが可能である。
The
電源31は、導通検査においては、複数の配線パターンの中から順次選択される絶縁検査の対象配線パターン(絶縁検査対象配線パターン)の相互間において、印加電圧を調整しつつ一定値の電流が流れるように電力を供給する。
In the continuity test, the
また、電源31は、絶縁検査においては、複数の配線パターンの中から順次選択される絶縁検査の対象配線パターン(絶縁検査対象配線パターン)の相互間に対して、様々な大きさの電圧(たとえば、0.2V、200V等)を印加する。
Further, in the insulation test, the
電源31は、後述するように酸化膜除去用の電圧印加等にも用いられる。
The
<5.スイッチ回路>
図3に示すように、スイッチ回路20は、基板90の外部において各接触子12とコントローラ30(電源31等)との間に設けられる。スイッチ回路20は、配線21と複数のスイッチ22,23とを備えて構成される。各スイッチ22,23は、コントローラ30からの指令信号等に応じて、互いに独立して開閉可能である(オフ状態とオン状態とが切り換えられ得る)。
<5. Switch circuit>
As shown in FIG. 3, the
配線21は、接触良好接続子(後述)と複数の接触子のうち接触不良接触子(後述)以外の1又は2以上の接触子とを同電位に接続する配線であることから同電位配線とも称される。
Since the
スイッチ23は、同電位配線21とグランド電位との両者の接続状態と、当該両者の解除状態とを切り換えるスイッチである。同電位配線21は、スイッチ23をオン状態にすることによってグランド(Ground)に接続される(接地される)。
The
複数のスイッチ22(詳細には、22a〜22h)は、基板90の外部において、複数の接触子12のそれぞれと同電位配線21との間に設けられる。詳細には、各スイッチ22の一端は、各接触子12に接続される配線部16の途中に設けられる分岐部分(配線接続部とも称する)Q等に接続されており、各スイッチ22の他端は、同電位配線21に接続されている。
The plurality of switches 22 (specifically, 22a to 22h) are provided between each of the plurality of
より具体的には、スイッチ22eの一端は、接触子12eに接続される配線部16の途中に設けられる分岐部分(配線接続部とも称する)Q5に接続されており、当該スイッチ22eの他端は、同電位配線21に接続されている。また、スイッチ22fの一端は、接触子12fに接続される配線部16の途中に設けられる分岐部分(配線接続部)Q6に接続されており、当該スイッチ22fの他端は、同電位配線21に接続されている。さらに、スイッチ22cの一端は、接触子12cに接続される配線部16の途中に設けられる分岐部分(配線接続部)Q3に接続されており、当該スイッチ22cの他端は、同電位配線21に接続されている。また、スイッチ22dの一端は、接触子12dに接続される配線部16の途中に設けられる分岐部分(配線接続部)Q4に接続されており、当該スイッチ22dの他端は、同電位配線21に接続されている。その他のスイッチ22a,22b,22g,22hについても同様である。各スイッチ22a,22b,22g,22hの一端は配線接続部Q1,Q2,Q7,Q8にそれぞれ接続されており、各スイッチ22a,22b,22g,22hの他端は同電位配線21に接続されている。
More specifically, one end of the
各スイッチ22は、そのオン状態とオフ状態とを切り換えることによって、各接触子12と同電位配線21との両者が電気的に接続されて当該両者12,21が同電位にされる状態と、当該両者の接続が解除された状態とを、接触子12ごとに個別に切り換えることができる。
Each switch 22 is switched between its on state and off state, whereby each contactor 12 and the same
<6.酸化膜除去動作(電気クリーニング動作)>
この実施形態においては、導通検査および絶縁検査に先立って、基板90上の各端子の表面(ひょうめん)に形成された酸化膜(絶縁膜)を高電圧印加により除去する動作(酸化膜除去動作)が行われる。このような酸化膜除去動作によれば、端子表面に生じた酸化膜(絶縁膜)を除去し、検査用の接触子(プローブ)と基板上の端子との接触を確実化することができる。ひいては、その後の導通検査および絶縁検査の精度を向上させることが可能である。以下では、このような酸化膜除去動作(電気クリーニング動作とも称される)について詳細に説明する。
<6. Oxide film removal operation (electric cleaning operation)>
In this embodiment, prior to the continuity test and the insulation test, an operation (oxide film removal operation) for removing the oxide film (insulating film) formed on the surface of each terminal on the
<6−1.一の端子93eに関する酸化膜除去動作>
まず、複数の端子93のうちの一の端子93eに関する酸化膜除去動作について、図8のフローチャートを参照しながら説明する。この酸化膜除去動作は、複数の接触子12のうち、複数の端子93のうちの一の端子93eに接触する2つの接触子12e,12fを主に用いて行われる。
<6-1. Oxide Film Removal Operation for One Terminal 93e>
First, an oxide film removal operation related to one terminal 93e of the plurality of terminals 93 will be described with reference to the flowchart of FIG. This oxide film removing operation is performed mainly using the two
具体的には、ステップS11において、コントローラ30は、基板90上の端子93eに接触する2つの接触子12e,12fの相互間の導通検査を行う。なお、ステップS11〜S16の各処理の実行時には、各スイッチ22,23はいずれもオフ状態に設定される(図3参照)。
Specifically, in step S <b> 11, the
ステップS12では、この導通検査の結果に基づく分岐処理が行われる。 In step S12, a branch process based on the result of the continuity test is performed.
2つの接触子12e,12fの相互間における良好な導通状態が検出される場合(図5参照)には、酸化膜除去動作は行われずに、本ルーチンは終了する。たとえば、図5に示すように、両接触子12e,12fがいずれも端子93eに良好に接触している場合には、良好な導通状態が検出される。この場合には、酸化膜除去動作は行われない。
When a good conduction state is detected between the two
一方、2つの接触子12e,12fの相互間における導通状態が不良である場合(図6および図7参照)には、ステップS13に進む。たとえば、図6に示すように、端子93eの表面(ひょうめん)における接触子12fの当接部分に酸化膜99が形成されている場合には、導通不良が検出される。また、図7に示すように、図の左右方向の位置ずれに起因して接触子12fと端子93eとが接触していない場合にも、導通不良が検出される。これらの場合には、酸化膜除去動作を行うべく、ステップS13以降に進む。
On the other hand, when the conduction state between the two
検出制御部36は、ステップS13〜S16において、端子93eに接触すべき2つの接触子12e,12fの中から、「接触不良接触子」と「接触良好接触子」とを検出する。ここで、接触すべき端子(接触対象端子とも称する)93に良好には接触していない接触子を「接触不良接触子」(ないし「接触不良プローブ」)などとも称する。また、接触すべき端子(接触対象端子)93に良好に接触している接触子を「接触良好接触子」(ないし「接触良好プローブ」)などとも称する。ここでは、2つの接触子12のうちの一方は「接触良好接触子」である場合を想定する。
In steps S13 to S16, the
具体的には、まず、ステップS13において、2つの接触子12e,12fのうちの一方の接触子12eと、複数の接触子12a〜12hのうち2つの接触子12e,12f以外の2以上の(ここでは6個の)接触子12a〜12d,12g,12hとの導通状態が確認される。換言すれば、接触子12eと端子93eとの接触状態が確認される。
Specifically, first, in step S13, one
たとえば、まず、接触子12eと接触子12aとの間の導通検査が行われ、つぎに接触子12eと接触子12bとの間の導通検査が行われる。さらに、接触子12eと接触子12cとの間の導通検査、接触子12eと接触子12dとの間の導通検査、接触子12eと接触子12gとの間の導通検査が行われ、接触子12eと接触子12hとの間の導通検査が行われる。このようにして、接触子12eと、各接触子12a〜12d,12g,12hとの導通状態が順次に確認される。
For example, first, a continuity test is performed between the
なお、これに限定されず、複数の接触子12a〜12d,12g,12hを互いに同じ電位V1(第1の電位)にした状態で、接触子12eに対して第2の電位V2(第1の電位V1とは異なる電位V2)を付与することによって、接触子12eと、接触子12a〜12d,12g,12hとの導通状態が一斉に確認されるようにしてもよい。
Note that the present invention is not limited to this, and a plurality of
また、ステップS14において、2つの接触子12e,12fのうちの他方の接触子12fと、複数の接触子12a〜12hのうち2つの接触子12e,12f以外の2以上の接触子12a〜12d,12g,12hとの導通状態が確認される。換言すれば、接触子12fと端子93eとの接触状態が確認される。詳細には、接触子12eを接触子12fに変更する点を除いては、ステップS13と同様の処理が行われればよい。
In step S14, the
そして、ステップS13,S14の導通検査の結果に基づいて、「接触不良接触子」と「接触良好接触子」とが検出される。 Then, based on the results of the continuity test in steps S13 and S14, “contact failure contact” and “contact good contact” are detected.
ステップS15においては、「接触良好接触子」が検出される。具体的には、複数の接触子12a〜12hのうち2つの接触子以外の2以上の接触子12a〜12d,12g,12hのいずれかと2つの接触子12e,12fのうちの一方の接触子との間の導通状態が確認される場合に、当該一方の接触子が接触良好接触子として検出される。たとえば、接触子12eと接触子12a〜12d,12g,12hの少なくとも1つとの間の導通状態が確認される場合に、当該接触子12eが「接触良好接触子」として検出される。換言すれば、接触子12eが端子93eに対して良好に接触していることが確認される。
In step S15, a “contact good contact” is detected. Specifically, any one of two or
また、ステップS16においては、「接触不良接触子」が検出される。具体的には、接触子12a〜12d,12g,12hのうちの任意の接触子と2つの接触子12e,12fのうちの他方の接触子との間の導通状態が確認されない場合に、当該他方の接触子が接触良好接触子として検出される。たとえば、接触子12fが接触子12a〜12d,12g,12hのいずれとも良好に導通していない場合には、当該接触子12fが「接触不良接触子」として検出される。換言すれば、接触子12fが端子93eに対して良好には接触していないことが確認される。
In step S16, “contact failure contact” is detected. Specifically, when the conduction state between any contact among the
なお、仮に、2つの接触子12e,12fの双方が「接触不良接触子」である場合には、図8の処理が中断されればよい。そして、基板検査装置1は、複数の接触子12と複数の端子93との接触状態を一端解除し、さらに基板90に対する接触子12の位置決め動作を再度行った後に、複数の接触子12と複数の端子93とを再度接触させて、上記のステップS11からステップS18までの動作を再度を実行するようにすればよい。
If both of the two
ステップS13〜S16の後のステップS17においては、各スイッチ22,23の状態が酸化膜除去制御部37によって次のように設定される。
In step S17 after steps S13 to S16, the states of the
具体的には、図4に示すように設定される。まず、複数のスイッチ22のうち、「接触不良接触子」(ここでは12f)と同電位配線21との間のスイッチ22fがオフ状態にされる。一方、「接触良好接触子」(ここでは12e)と同電位配線21との間のスイッチ22eがオン状態にされる。また、複数の接触子12a〜12hのうち2つの接触子12e,12f以外の各接触子12a〜12d,12g,12hと同電位配線21との間の各スイッチ22a〜22d,22g,22hもオン状態にされる。これにより、各接触子12a〜12d,12g,12hと接触良好接触子12eとが互いに同電位に接続される。さらに、スイッチ23はオン状態にされる。これにより、同電位配線21(ひいては接触子12a〜12d,12e,12g,12h)が接地される。
Specifically, it is set as shown in FIG. First, among the plurality of switches 22, the
次のステップS18においては、各接触子12a〜12d,12g,12hと接触良好接触子12eとが互いに同電位に接続された状態で、酸化膜除去制御部37は、接触良好接触子12eと接触不良接触子12fとの間に酸化膜除去用の電圧Vhを電源31により印加する。たとえば、接触不良接触子12fに電位Vhが付与される。接触良好接触子12eと接触不良接触子12fとの間に比較的大きな電圧Vh(たとえば250V(ボルト))が印加されて付与された電気エネルギーによって、端子93e上の酸化膜が除去される。
In the next step S18, the oxide film
なお、ステップS18にて電圧を印加したにもかかわらず、電流が流れなかった場合には、図7に示すような状況、すなわち、2つの接触子12e,12fのうちの一方が端子93に接触していない旨が判定されればよい。そして、基板検査装置1は、複数の接触子12と複数の端子93との接触状態を一端解除し、さらに基板90に対する接触子12の位置決め動作を再度行った後に、複数の接触子12と複数の端子93とを再度接触させて、上記のステップS11からステップS18までの動作を再度を実行するようにすればよい。
If no current flows despite the application of a voltage in step S18, the situation shown in FIG. 7, that is, one of the two
以上のような動作においては、ステップS18の電圧印加の際に、各接触子12a〜12d,12g,12hと接触良好接触子12eとが互いに同電位に接続されている。したがって、当該各接触子12a〜12d,12g,12h,12eがそれぞれ対応する各端子93a〜93d,93g,93h,93eに良好に接触している場合には、複数の端子93a〜93d,93g,93h,93eは互いに同じ電位を有する。したがって、酸化膜除去用の電圧Vh付与によって接触子12eと接触子12fとの間に電位差が生じる場合であっても、複数の端子93a〜93d,93g,93h,93eは同電位を有し、比較的大きな電圧Vhが電子部品95に印加されることを回避できる。すなわち、高電圧印加による電子部品の破壊を回避することが可能である。
In the operation as described above, the
なお、仮に、接触子12a〜12d,12g,12hのうちの一部の接触子12(たとえば接触子12h)が対応する端子93a〜93d,93g,93h(たとえば端子93h)に良好に接触していない場合には、当該端子93(93h)と他の端子93(93a〜93g)との間には電源31による電圧は印加されない。したがって、電子部品95は破壊されずに済む。
Temporarily, some of the
<6−2.2つの端子93c,93dに関する酸化膜除去動作>
同様に、複数の端子93のうちの2つの端子93c,93dに関する酸化膜除去動作を行うことも可能である。この酸化膜除去動作は、複数の接触子12のうちの2つの接触子12c,12d(複数の端子93のうちの2つの端子93c,93dにそれぞれ接触すべき接触子12c,12d)を主に用いて行われる。この動作においては、2つの接触子12c,12dが、複数の端子93のうち異なる2つの端子93c,93dにそれぞれ接触すべきものである点で、複数の端子93のうちの一の端子93eに接触すべき2つの接触子12e,12fを主に用いて行われる上述の動作と相違する。
<6-2. Oxide Film Removal Operation for Two
Similarly, it is possible to perform an oxide film removing operation on two
以下では、図10のフローチャートを参照しながら、このような動作について説明する。 Hereinafter, such an operation will be described with reference to the flowchart of FIG.
図10のステップS21〜ステップS28においては、図8のステップS11〜S18とそれぞれ同様の処理が行われる。 In steps S21 to S28 in FIG. 10, the same processes as in steps S11 to S18 in FIG. 8 are performed.
ステップS21では、コントローラ30は、基板90上の異なる2つの端子93c,93dにそれぞれ接触する2つの接触子12c,12dの相互間の導通検査を行う。ここにおいて、異なる2つの端子93c,93dは、基板90内の同一の配線パターン(PT3)に接続されているものとする。すなわち、端子93c,93dは、基板90内の配線によって同電位に接続されているものとする。なお、ステップS21〜S26の各処理の実行時には、各スイッチ22,23はいずれもオフ状態に設定される(図3参照)。
In step S <b> 21, the
ステップS22では、ステップS12と同様に、導通検査の結果に基づく分岐処理が行われる。 In step S22, a branch process based on the result of the continuity test is performed as in step S12.
2つの接触子12c,12dの相互間における良好な導通状態が検出される場合(図11参照)には、酸化膜除去動作は行われずに、本ルーチンは終了する。たとえば、図11に示すように、接触子12cが端子93cに良好に接触し且つ接触子12dが端子93dに良好に接触している場合には、良好な導通状態が検出される。この場合には、酸化膜除去動作は行われない。
When a good conduction state between the two
一方、2つの接触子12e,12fの相互間における導通状態が不良である場合(図12および図13参照)には、ステップS13に進む。たとえば、図12に示すように、端子93dの表面における接触子12dの当接部分に酸化膜99が形成されている場合には、導通不良が検出される。また、図13に示すように、図の左右方向の位置ずれに起因して接触子12dと端子93dとが接触していない場合にも、導通不良が検出される。これらの場合には、酸化膜除去動作を行うべく、ステップS13以降に進む。
On the other hand, when the conduction state between the two
検出制御部36は、ステップS23〜S26において、端子93cに接触すべき接触子12cと端子93dに接触すべき接触子12dとの中から、「接触不良接触子」と「良好接子」とを検出する。ステップS23〜S26においては、ステップS13〜S16と同様の処理が行われる。
In steps S23 to S26, the
たとえば、接触子12a,12b,12e〜12hのいずれかと接触子12cとの間の導通状態が確認される場合に、当該接触子12cが「接触良好接触子」として検出される(ステップS25)。また、接触子12dが接触子12a,12b,12e〜12hのいずれとも良好に導通していない場合には、当該接触子12dが「接触不良接触子」として検出される(ステップS26)。
For example, when a conduction state between any one of the
そして、ステップS27においては、各スイッチ22,23の状態が酸化膜除去制御部37によって次のように設定される(図9参照)。
In step S27, the states of the
具体的には、図9に示すように、複数のスイッチ22のうち、「接触不良接触子」(ここでは12d)と同電位配線21との間のスイッチ22dがオフ状態にされる。一方、「接触良好接触子」(ここでは12c)と同電位配線21との間のスイッチ22cがオン状態にされる。また、複数の接触子12a〜12hのうち2つの接触子12c,12d以外の各接触子12a,12b,12e〜12hと同電位配線21との間の各スイッチ22a,22b,22e〜22hもオン状態にされる。これにより、各接触子12a,12b,12e〜12hと接触良好接触子12cとが互いに同電位に接続される。さらに、スイッチ23はオン状態にされる。これにより、同電位配線21(ひいては接触子12a,12b,12c,12e〜12h)が接地される。
Specifically, as shown in FIG. 9, among the plurality of switches 22, the
次のステップS28においては、各接触子12a,12b,12e〜12hと接触良好接触子12cとが互いに同電位に接続された状態で、酸化膜除去制御部37は、接触良好接触子12cと接触不良接触子12dとの間に酸化膜除去用の電圧Vhを印加する。接触良好接触子12cと接触不良接触子12dとの間に比較的大きな電圧Vh(たとえば250V(ボルト))が印加されて付与された電気エネルギーによって、端子93d上の酸化膜99が除去され、図11と同様の状態が実現される。
In the next step S28, the oxide film
なお、ステップS28において、電圧を印加したにもかかわらず電流が流れなかった場合には、図13に示すような状況、すなわち、2つの接触子12c,12dのうちの一方が端子93に接触していない旨が判定されればよい。そして、基板検査装置1は、複数の接触子12と複数の端子93との接触状態を一端解除し、さらに基板90に対する接触子12の位置決め動作を再度行った後に、複数の接触子12と複数の端子93とを再度接触させて、上記のステップS21からステップS28までの動作を再度を実行するようにすればよい。
In step S28, if no current flows even though a voltage is applied, the situation shown in FIG. 13, that is, one of the two
以上のような動作においては、ステップS28の電圧印加の際に、各接触子12a,12b,12e〜12hと接触良好接触子12cとが互いに同電位に接続されている。したがって、当該各接触子12a,12b,12e,12f,12g,12hがそれぞれ対応する各端子93a,93b,93e,93e,93g,93hに良好に接触している場合には、複数の端子93c,93a,93b,93e,93g,93hは互いに同じ電位を有する。したがって、酸化膜除去用の電圧Vh付与によって接触子12cと接触子12dとの間に電位差が生じる場合であっても、複数の端子93c,93a,93b,93e,93g,93hは同電位を有し、これらの端子93を介して電圧Vhが電子部品95に印加されることを回避できる。すなわち、高電圧印加による電子部品の破壊を回避することが可能である。
In the operation as described above, the
<7.変形例等>
以上、この発明の実施の形態について説明したが、この発明は上記説明した内容のものに限定されるものではない。
<7. Modified example>
Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the contents described above.
たとえば、上記実施形態においては、同電位配線21をグランド電位に等しくするためのスイッチ23が設けられているが、これに限定されず、スイッチ23が設けられないようにしてもよい。また、ステップS17(S27)の実行時においては、同電位配線21は接地されることが好ましいが、同電位配線21が接地されないようにしてもよい。
For example, in the above embodiment, the
また、上記実施形態においては、8個の接触子12a〜12hが用いられているが、これに限定されず、異なる個数の接触子12が設けられるようにしてもよい。また、上記実施形態においては、7個の端子93が基板90上に設けられているが、これに限定されず、異なる個数の端子93が設けられるようにしてもよい。
Moreover, in the said embodiment, although eight
たとえば、2つの端子93e,93hのみが基板90上に設けられ、3つの接触子12e,12f,12hのみが用いられるようにしてもよい。この場合には、ステップS13〜S16において、接触子12eと複数の接触子12e,12f,12hのうち2つの接触子12e,12f以外の一の接触子12hとの導通検査が行われるとともに、接触子12fと一の接触子12hとの導通検査が行われればよい。また、ステップS18においては、一の接触子12hと接触良好接触子12eとが互いに同電位に接続された状態で、接触良好接触子12eと接触不良接触子12fとの間に酸化膜除去用の電圧Vhが印加されればよい。
For example, only two
あるいは、3つの端子93c,93d,93hのみが基板90上に設けられ、3つの接触子12c,12d,12hのみが用いられるようにしてもよい。この場合には、ステップS23〜S26において、接触子12cと複数の接触子12c,12d,12hのうち2つの接触子12c,12d以外の一の接触子12hとの導通検査が行われるとともに、接触子12dと一の接触子12hとの導通検査が行われればよい。また、ステップS18においては、一の接触子12hと接触良好接触子12cとが互いに同電位に接続された状態で、接触良好接触子12cと接触不良接触子12dとの間に酸化膜除去用の電圧Vhが印加されればよい。
Alternatively, only the three
1 基板検査装置
2 治具駆動機構
10 基板検査用治具
12 接触子
20 スイッチ回路
21 同電位配線
22 (同電位設定用の)スイッチ
23 (接地用の)スイッチ
30 コントローラ
31 電源
93 (電子部品95に接続された)端子
95 電子部品
99 酸化膜
DESCRIPTION OF
Claims (8)
前記基板上の複数の端子であって前記電子部品に電気的に接続されている複数の端子に接触する複数の接触子と、
前記複数の接触子のうちの2つの接触子であって前記複数の端子のうちの一の端子に接触すべき2つの接触子のうち前記一の端子に良好には接触していない接触子である接触不良接触子を検出するとともに、前記2つの接触子のうち前記一の端子に良好に接触している接触子である接触良好接触子を検出する検出制御手段と、
前記基板の外部において前記複数の接触子のそれぞれと同電位配線との間に設けられる複数のスイッチと、
前記複数のスイッチのうち、前記接触不良接触子と前記同電位配線との間の第1のスイッチがオフ状態にされ、且つ、前記接触良好接触子と前記同電位配線との間の第2のスイッチがオン状態にされ、且つ、前記複数の接触子のうち前記2つの接触子以外の1又は2以上の接触子と前記同電位配線との間の各スイッチがオン状態にされて、前記1又は2以上の接触子と前記接触良好接触子とが互いに同電位に接続された状態で、前記接触良好接触子と前記接触不良接触子との間に酸化膜除去用の電圧を印加する酸化膜除去制御手段と、
を備えることを特徴とする基板検査装置。 A board inspection apparatus that performs an electrical inspection of a wiring pattern formed on a board containing electronic components,
A plurality of contacts on a plurality of terminals on the substrate that are in contact with a plurality of terminals electrically connected to the electronic component;
Two of the plurality of contacts that are not in good contact with the one terminal among the two contacts that should contact one terminal of the plurality of terminals. A detection control means for detecting a contact poor contact and detecting a contact good contact which is a contact which is in good contact with the one terminal among the two contacts;
A plurality of switches provided between each of the plurality of contacts and the same potential wiring outside the substrate;
Of the plurality of switches, a first switch between the poor contact contact and the equipotential wiring is turned off, and a second switch between the good contact contact and the equipotential wiring The switch is turned on, and each switch between the one or more contacts other than the two contacts and the equipotential wiring among the plurality of contacts is turned on, and the 1 Or an oxide film that applies a voltage for removing an oxide film between the good contact and the poor contact in a state where two or more contacts and the good contact are connected to each other at the same potential. Removal control means;
A board inspection apparatus comprising:
前記基板上の複数の端子であって前記電子部品に電気的に接続されている複数の端子に接触する複数の接触子と、
前記複数の接触子のうちの2つの接触子であって、前記複数の端子のうち前記基板内の同一の配線パターンに接続された異なる2つの端子にそれぞれ接触すべき2つの接触子のうち、接触すべき端子に良好には接触していない接触子である接触不良接触子を検出するとともに、接触すべき端子に良好に接触している接触子である接触良好接触子を検出する検出制御手段と、
前記基板の外部において前記複数の接触子のそれぞれと同電位配線との間に設けられる複数のスイッチと、
前記複数のスイッチのうち、前記接触不良接触子と前記同電位配線との間の第1のスイッチがオフ状態にされ、且つ、前記接触良好接触子と前記同電位配線との間の第2のスイッチがオン状態にされ、且つ、前記複数の接触子のうち前記2つの接触子以外の1又は2以上の接触子と前記同電位配線との間の各スイッチがオン状態にされて、前記1又は2以上の接触子と前記接触良好接触子とが互いに同電位に接続された状態で、前記接触良好接触子と前記接触不良接触子との間に酸化膜除去用の電圧を印加する酸化膜除去制御手段と、
を備えることを特徴とする基板検査装置。 A board inspection apparatus that performs an electrical inspection of a wiring pattern formed on a board containing electronic components,
A plurality of contacts on a plurality of terminals on the substrate that are in contact with a plurality of terminals electrically connected to the electronic component;
Two of the plurality of contacts, and two of the plurality of terminals to be in contact with two different terminals connected to the same wiring pattern in the substrate, Detection control means for detecting a poor contact that is a contact that is not in good contact with the terminal to be contacted, and detecting a good contact that is a contact that is in good contact with the terminal that is to be in contact When,
A plurality of switches provided between each of the plurality of contacts and the same potential wiring outside the substrate;
Of the plurality of switches, a first switch between the poor contact contact and the equipotential wiring is turned off, and a second switch between the good contact contact and the equipotential wiring The switch is turned on, and each switch between the one or more contacts other than the two contacts and the equipotential wiring among the plurality of contacts is turned on, and the 1 Or an oxide film that applies a voltage for removing an oxide film between the good contact and the poor contact in a state where two or more contacts and the good contact are connected to each other at the same potential. Removal control means;
A board inspection apparatus comprising:
前記検出制御手段は、
前記1又は2以上の接触子のいずれかと前記2つの接触子のうちの一方の接触子との間の導通状態が確認される場合に、前記一方の接触子を前記接触良好接触子として検出し、
前記1又は2以上の接触子のうちの任意の接触子と前記2つの接触子のうちの他方の接触子との間の導通状態が確認されない場合に、前記他方の接触子を前記接触不良接触子として検出することを特徴とする基板検査装置。 In the board | substrate inspection apparatus of Claim 1 or Claim 2,
The detection control means includes
When a conduction state between one of the one or two or more contacts and one of the two contacts is confirmed, the one contact is detected as the good contact. ,
When the conduction state between any one of the one or more contacts and the other contact of the two contacts is not confirmed, the other contact is connected to the poor contact. A substrate inspection apparatus for detecting as a child.
前記基板上の複数の端子であって前記電子部品に電気的に接続されている複数の端子に接触する複数の接触子であって、前記複数の端子のうちの一の端子に接触すべき2つの接触子を含む複数の接触子と、
前記基板の外部において前記複数の接触子のそれぞれと同電位配線との間に設けられる複数のスイッチと、
前記2つの接触子のうち前記一の端子に良好に接触している接触子である接触良好接触子と前記2つの接触子のうち前記一の端子に良好には接触していない接触子である接触不良接触子との間に酸化膜除去用の電圧を印加するための配線部と、
を備え、
前記接触良好接触子と前記接触不良接触子との間に酸化膜除去用の電圧が印加される際には、前記複数のスイッチのうち、前記接触不良接触子と前記同電位配線との間の第1のスイッチがオフ状態にされ、且つ、前記接触良好接触子と前記同電位配線との間の第2のスイッチがオン状態にされ、且つ、前記複数の接触子のうち前記2つの接触子以外の1又は2以上の接触子と前記同電位配線との間の各スイッチがオン状態にされて、前記1又は2以上の接触子と前記接触良好接触子とが互いに同電位に接続されることを特徴とする基板検査用治具。 A substrate inspection jig used for electrical inspection of a wiring pattern formed on a substrate containing electronic components,
A plurality of contacts on a plurality of terminals on the substrate that are in contact with a plurality of terminals that are electrically connected to the electronic component, and are to contact one terminal of the plurality of terminals. A plurality of contacts including one contact;
A plurality of switches provided between each of the plurality of contacts and the same potential wiring outside the substrate;
Among the two contacts, a contact good contact that is in good contact with the one terminal, and a contact that does not make good contact with the one terminal out of the two contacts A wiring portion for applying a voltage for removing an oxide film between the poorly contacted contacts,
With
When a voltage for removing an oxide film is applied between the good contact and the poor contact, among the plurality of switches, between the poor contact and the same potential wiring The first switch is turned off, the second switch between the contact good contact and the equipotential wiring is turned on, and the two contacts among the plurality of contacts Each of the switches between the other one or more contacts and the equipotential wiring is turned on, and the one or more contacts and the good contact are connected to the same potential. A board inspection jig.
前記基板上の複数の端子であって前記電子部品に電気的に接続されている複数の端子に接触する複数の接触子であって、前記複数の端子のうち前記基板内の同一の配線パターンに接続された異なる2つの端子にそれぞれ接触すべき2つの接触子を含む複数の接触子と、
前記基板の外部において前記複数の接触子のそれぞれと同電位配線との間に設けられる複数のスイッチと、
前記2つの接触子のうち接触対象端子に良好に接触している接触子である接触良好接触子と前記2つの接触子のうち接触対象端子に良好には接触していない接触子である接触不良接触子との間に酸化膜除去用の電圧を印加するための配線部と、
を備え、
前記接触良好接触子と前記接触不良接触子との間に酸化膜除去用の電圧が印加される際には、前記複数のスイッチのうち、前記接触不良接触子と前記同電位配線との間の第1のスイッチがオフ状態にされ、且つ、前記接触良好接触子と前記同電位配線との間の第2のスイッチがオン状態にされ、且つ、前記複数の接触子のうち前記2つの接触子以外の1又は2以上の接触子と前記同電位配線との間の各スイッチがオン状態にされて、前記1又は2以上の接触子と前記接触良好接触子とが互いに同電位に接続されることを特徴とする基板検査用治具。 A substrate inspection jig used for electrical inspection of a wiring pattern formed on a substrate containing electronic components,
A plurality of contacts that are in contact with a plurality of terminals that are electrically connected to the electronic component and that are a plurality of terminals on the substrate, and the same wiring pattern in the substrate among the plurality of terminals. A plurality of contacts including two contacts to be in contact with two different connected terminals, respectively;
A plurality of switches provided between each of the plurality of contacts and the same potential wiring outside the substrate;
A contact failure that is a contact that is in good contact with the contact target terminal of the two contacts and a contact failure that is not in good contact with the contact target terminal of the two contacts. A wiring portion for applying a voltage for removing an oxide film between the contact and the contact;
With
When a voltage for removing an oxide film is applied between the good contact and the poor contact, among the plurality of switches, between the poor contact and the same potential wiring The first switch is turned off, the second switch between the contact good contact and the equipotential wiring is turned on, and the two contacts among the plurality of contacts Each of the switches between the other one or more contacts and the equipotential wiring is turned on, and the one or more contacts and the good contact are connected to the same potential. A board inspection jig.
a)前記基板上の複数の端子であって前記電子部品に電気的に接続されている複数の端子に接触する複数の接触子のうちの2つの接触子であって、前記複数の端子のうちの一の端子に接触すべき2つの接触子の中から、前記一の端子に良好には接触していない接触子である接触不良接触子を検出するとともに、前記2つの接触子のうち前記一の端子に良好に接触している接触子である接触良好接触子を検出するステップと、
b)前記基板の外部において前記複数の接触子のそれぞれと同電位配線との間に設けられる複数のスイッチのうち、前記接触不良接触子と前記同電位配線との間の第1のスイッチをオフ状態にし、且つ、前記接触良好接触子と前記同電位配線との間の第2のスイッチをオン状態にし、且つ、前記複数の接触子のうち前記2つの接触子以外の1又は2以上の接触子と前記同電位配線との間の各スイッチをオン状態にして、前記1又は2以上の接触子と前記接触良好接触子とを互いに同電位に接続するステップと、
c)前記1又は2以上の接触子と前記接触良好接触子とが互いに同電位に接続された状態で、前記接触良好接触子と前記接触不良接触子との間に酸化膜除去用の電圧を印加するステップと、
を備えることを特徴とする基板検査方法。 A board inspection method for performing an electrical inspection of a wiring pattern formed on a board containing electronic components,
a) Two contacts among a plurality of contacts on the substrate that are in contact with a plurality of terminals that are electrically connected to the electronic component, of the plurality of terminals A contact failure contact that is a contact that is not in good contact with the one terminal is detected from the two contacts to be in contact with the one terminal, and the one of the two contacts is Detecting a contact good contact that is a contact that is in good contact with the terminals of
b) Turn off the first switch between the contact failure contact and the equipotential wiring among the plurality of switches provided between the contacts and the equipotential wiring outside the substrate. And a second switch between the contact good contact and the equipotential wiring is turned on, and one or more contacts other than the two contacts among the plurality of contacts A step of turning on each switch between a child and the equipotential wiring to connect the one or more contacts and the contact good contact to each other at the same potential;
c) With the one or more contacts and the contact good contact connected to each other at the same potential, a voltage for removing an oxide film is applied between the contact good contact and the poor contact contact. Applying, and
A substrate inspection method comprising:
a)前記基板上の複数の端子であって前記電子部品に電気的に接続されている複数の端子に接触する複数の接触子のうちの2つの接触子であって、前記複数の端子のうち前記基板内の同一の配線パターンに接続された異なる2つの端子にそれぞれ接触すべき2つの接触子の中から、接触すべき端子に良好には接触していない接触子である接触不良接触子を検出するとともに、接触すべき端子に良好に接触している接触子である接触良好接触子を検出するステップと、
b)前記基板の外部において前記複数の接触子のそれぞれと同電位配線との間に設けられる複数のスイッチのうち、前記接触不良接触子と前記同電位配線との間の第1のスイッチをオフ状態にし、且つ、前記接触良好接触子と前記同電位配線との間の第2のスイッチをオン状態にし、且つ、前記複数の接触子のうち前記2つの接触子以外の1又は2以上の接触子と前記同電位配線との間の各スイッチをオン状態にして、前記1又は2以上の接触子と前記接触良好接触子とを互いに同電位に接続するステップと、
c)前記1又は2以上の接触子と前記接触良好接触子とが互いに同電位に接続された状態で、前記接触良好接触子と前記接触不良接触子との間に酸化膜除去用の電圧を印加するステップと、
を備えることを特徴とする基板検査方法。 A board inspection method for performing an electrical inspection of a wiring pattern formed on a board containing electronic components,
a) Two contacts among a plurality of contacts on the substrate that are in contact with a plurality of terminals that are electrically connected to the electronic component, of the plurality of terminals A contact failure contact which is a contact which is not in good contact with the terminal to be contacted among the two contacts which are to be in contact with two different terminals connected to the same wiring pattern in the substrate. Detecting a contact good contact that is a contact that is in good contact with the terminal to be contacted, and
b) Turn off the first switch between the contact failure contact and the equipotential wiring among the plurality of switches provided between the contacts and the equipotential wiring outside the substrate. And a second switch between the contact good contact and the equipotential wiring is turned on, and one or more contacts other than the two contacts among the plurality of contacts A step of turning on each switch between a child and the equipotential wiring to connect the one or more contacts and the contact good contact to each other at the same potential;
c) With the one or more contacts and the contact good contact connected to each other at the same potential, a voltage for removing an oxide film is applied between the contact good contact and the poor contact contact. Applying, and
A substrate inspection method comprising:
前記ステップa)は、
a−1)前記1又は2以上の接触子のいずれかと前記2つの接触子のうちの一方の接触子との間の導通状態が確認される場合に、前記一方の接触子を前記接触良好接触子として検出するステップと、
a−2)前記1又は2以上の接触子のうちの任意の接触子と前記2つの接触子のうちの他方の接触子との間の導通状態が確認されない場合に、前記他方の接触子を前記接触不良接触子として検出するステップと、
を有することを特徴とする基板検査方法。 In the board | substrate inspection method of Claim 6 or Claim 7,
Said step a)
a-1) When a conduction state between one of the one or two or more contacts and one of the two contacts is confirmed, contact the one contact with the good contact Detecting as a child;
a-2) When the conduction state between any one of the one or more contacts and the other contact of the two contacts is not confirmed, the other contact is Detecting as the poor contact contact;
A substrate inspection method characterized by comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013118081A JP2014235126A (en) | 2013-06-04 | 2013-06-04 | Substrate inspection device, substrate inspection method, and substrate inspection jig |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013118081A JP2014235126A (en) | 2013-06-04 | 2013-06-04 | Substrate inspection device, substrate inspection method, and substrate inspection jig |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
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Family
ID=52137936
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013118081A Pending JP2014235126A (en) | 2013-06-04 | 2013-06-04 | Substrate inspection device, substrate inspection method, and substrate inspection jig |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2014235126A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11067658B2 (en) | 2018-09-13 | 2021-07-20 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Probe card inspection wafer, probe card inspection system, and method of inspecting probe card |
JPWO2020149104A1 (en) * | 2019-01-15 | 2021-11-25 | 株式会社村田製作所 | Electronic circuit modules, inspection methods, and communication equipment |
-
2013
- 2013-06-04 JP JP2013118081A patent/JP2014235126A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11067658B2 (en) | 2018-09-13 | 2021-07-20 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Probe card inspection wafer, probe card inspection system, and method of inspecting probe card |
JPWO2020149104A1 (en) * | 2019-01-15 | 2021-11-25 | 株式会社村田製作所 | Electronic circuit modules, inspection methods, and communication equipment |
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