JP2014234355A - 触媒量の超原子価ヨウ素試薬を用いるカルボニル化合物へのフッ素化法 - Google Patents
触媒量の超原子価ヨウ素試薬を用いるカルボニル化合物へのフッ素化法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014234355A JP2014234355A JP2013115430A JP2013115430A JP2014234355A JP 2014234355 A JP2014234355 A JP 2014234355A JP 2013115430 A JP2013115430 A JP 2013115430A JP 2013115430 A JP2013115430 A JP 2013115430A JP 2014234355 A JP2014234355 A JP 2014234355A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- mmol
- fluoro
- general formula
- fluoride
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Furan Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
【課題】求核的なフッ素化剤を用いた求核的部位に対する反応を用いた効率的かつ安価な含フッ素有機化合物の合成法の開発【解決手段】発明者らは超原子価状態のヨウ素試薬を用いることで求核的な部位に対して，求核的なフッ素化試薬を極性転換的に反応させてフッ素化を行うことに成功し，更に反応系中でヨードベンゼン誘導体に対して酸化剤を作用させ，再酸化することにより使用するヨードベンゼン誘導体の使用量を触媒量へと低減する方法の開発に成功した。【選択図】なし
Description
本発明は，触媒量のヨウ素試薬を酸化剤とともに用いることで反応系中にて超原子価状態のヨウ素種を発生させ，比較的安価な求核的フッ素化剤を用いて医農薬，材料分野で注目される含フッ素有機化合物を合成する方法に関するものである。
フッ素原子は全原子中で最大の電気陰性度をもつ等，その特異的な性質から含フッ素有機化合物は医薬，農薬分野だけでなく近年では材料分野においてもその利用が広く行われている。フッ素原子はその高い電気陰性度によりアニオンになりやすく，カルボニル基のα位といった求核的な部位へのフッ素化反応を行うことは困難であった。そこでＳｅｌｅｃｔｆｌｕｏｒ（登録商標）やＮ−フルオロビス（ベンゼンスルホニル）イミド（ＮＦＳＩ）といったＮ−Ｆ結合をもつ求電子的なフッ素化試薬が開発され，これらを用いることで求核的な部位へのフッ素化反応は可能となる(非特許文献１，２) 。ただ，これらの試薬にも問題点が存在しており，それは試薬へのフッ素原子の導入には腐食性，爆発性の高いフッ素ガスを用いなければならず，特別な設備が要求されることから，価格が高いという点が挙げられる。また試薬の原子効率が悪く，フッ素化反応を行った後に試薬の残骸を除去しなくてはならないという問題もある。そのため安価なフッ化物イオンをフッ素源とし，より効率的にフッ素原子を導入する方法の開発が求められてきた。今までに超原子価ヨウ素試薬を用いたフッ化物イオンの，カルボニル化合物のα位への導入法が開発されてきてはいる(非特許文献３，４)ものの高価な超原子価ヨウ素試薬を化学量論量以上用いなければならず，またそのために反応後に試薬の残骸を取り除かねばならない問題も残ったままになっており，真に安価でかつ廃棄物も少ないフッ素化法が求められている。
Hintermann, L.; Togni, A. Angew. Chem. Int. Ed. 2000, 39, 4359.
Shibata, N.; Kohno, J.; Takai, K.; Ishimaru, T.; Nakamura, S.; Toru, T.; Kanemasa, S. Angew. Chem. Int. Ed. 2005, 44, 4204.
Kitamura, T.; Kuriki, S.; Morshed, M. H.; Hori, Y. Org. Lett. 2011, 13, 2392.
Hara, S.; Sekiguchi, M.; Ohmori, A.; Fukuhara, T.; Yoneda, N.Chem. Commun. 1996, 1899.
本発明は上記点に鑑みて，安価なフッ素源としてフッ化水素を用い，基質の当量以上の超原子価ヨウ素試薬を用いる代わりに，触媒量のヨードベンゼン誘導体を反応系中で酸化することで発生させる超原子価ヨウ素を用いて，カルボニル化合物のα位に対して極性を転換させながらフッ素化反応を行う方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するため，発明者らは下記一般式（１）で示されるカルボニル化合物，に対して，触媒量の下記一般式（２）で示されるヨードベンゼン誘導体，酸化剤，フッ化物イオン源の存在下，溶媒中で撹拌することで下記一般式（３）に示される２-フルオロ-１-カルボニル化合物を合成できることを見出した。
すなわち請求項１に記載の発明は，下記一般式（１）で示されるカルボニル化合物に対して触媒量の下記一般式（２）で示されるヨードベンゼン誘導体，酸化剤，フッ化物イオン源の存在下，溶媒中で撹拌することで下記一般式（３）に示される２-フルオロ-１-カルボニル化合物を合成する方法にある。
すなわち請求項１に記載の発明は，下記一般式（１）で示されるカルボニル化合物に対して触媒量の下記一般式（２）で示されるヨードベンゼン誘導体，酸化剤，フッ化物イオン源の存在下，溶媒中で撹拌することで下記一般式（３）に示される２-フルオロ-１-カルボニル化合物を合成する方法にある。
（式中，Ｒ１，Ｒ２はそれぞれ独立に置換もしくは未置換のアルキル基，アルコキシ基，アラルキル基，置換基を有していてもよいアミノ基，アルキルチオ基，カルボニル基，置換基を有していてもよいカルバモイル基，アリール基，アリールオキシ基，アルケニル基，又はアルキニル基を示す。Ｘはカルボニル基又はスルホニル基を示す。）
（式中，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７はそれぞれ独立に水素原子，アルキル基，アルコキシ基，アラルキル基，ハロゲン原子，置換基を有していてもよいアミノ基，ヒドロキシル基，アルキルチオ基，カルボニル基，置換基を有していてもよいカルバモイル基，シアノ基，ニトロ基，アリール基，アリールオキシ基，アルケニル基，アルキニル基，シリル基又はスルホニル基を示す。なおＲ３およびＲ４，Ｒ４およびＲ５，Ｒ５およびＲ６又はＲ６およびＲ７が一体となって，ヘテロ原子の介在もしくは非介在で環状構造の一部を形成してもよい。）
（式中，Ｒ１，Ｒ２及びＸは式（１）記載の通りである。）
前記酸化剤の種類は特に限定されないが，例えば，過酢酸，過酸化水素水，尿素・過酸化水素，過炭酸ナトリウム，次亜塩素酸ナトリウム，亜塩素酸ナトリウム，臭素酸カリウム，過ヨウ素酸ナトリウム，過ホウ酸ナトリウム，過ホウ酸カリウム，四ホウ酸ナトリウム，ぺルオキソ二硫酸ジカリウム，Oxone（登録商標），過硫酸テトラブチルアンモニウム，三酸化クロム，過マンガン酸カリウム，二クロム酸カリウム，３-クロロ過安息香酸， Selectfluor（登録商標），酸素，フッ素，塩素，臭素，ジメチルジオキシラン，硝酸，発煙硝酸，tert-ブチルヒドロペルオキシド，次亜塩素酸tert-ブチル，ビス(モノペルオキシフタル酸)マグネシウム 六水和物，Ｎ−ブロモスクシンイミド，Ｎ−ヒドロキシフタルイミド，二酸化ケイ素，などの群から選らばれる１または２種以上の物質が挙げられ，特に好ましくは３-クロロ過安息香酸である。使用量は一般的に式（１）に対して，１．０〜１０当量で，好ましくは１．３当量である(請求項２、３)。
前記フッ化物イオン源は特に限定されないが，例えば，フッ化水素酸，トリエチルアミン三フッ化水素酸塩，トリエチルアミン五フッ化水素酸塩，トリエチルアミン六フッ化水素酸塩，ピリジン三フッ化水素酸塩，ピリジン六フッ化水素酸塩，ピリジン九フッ化水素酸塩，ピリジンポリフッ化水素酸塩，フッ化カリウム，フッ化水素カリウム，フッ化セシウム，フッ化銀（Ｉ），テトラメチルアンモニウムフロリド，テトラブチルアンモニウムフロリド，テトラブチルアンモニウムビフルオリド，テトラブチルアンモニウムジフルオロトリフェニルシリカート，テトラブチルアンモニウムジフルオロトリフェニルすず，テトラブチルアンモニウム三ふっ化二水素などの群から選らばれる１または２種以上の物質が挙げられ，特に好ましくはピリジンポリフッ化水素酸塩である。使用量は一般的に式（１）に対して，１．０〜１００当量で，好ましくは１０当量である(請求項４，５)。
前記溶媒の種類は特に限定されないが，ジエチルエーテル，ジイソプロピルエーテル，ｎ−ブチルメチルエーテル，ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル，テトラヒドロフラン，ジオキサン等のエーテル系溶媒；ヘプタン，ヘキサン，シクロペンタン，シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒；クロロホルム，四塩化炭素，塩化メチレン，ジクロロエタン，トリクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒；ベンゼン，トルエン，キシレン，クメン，シメン，メシチレン，ジイソプロピルベンゼン，ピリジン,ピリミジン,ピラジン,ピリダジン等の芳香族系溶媒；酢酸エチル等のエステル系溶媒；アセトン，メチルエチルケトン等のケトン系溶媒；ジメチルスルホキシド，ジメチルホルムアミド等の溶媒；メタノール,エタノール,プロパノール，i-プロピルアルコール，アミノエタノール，N,N-ジメチルアミノエタノール等のアルコール系溶媒；アセトニトリル等のニトリル系溶媒；１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン，１，１，１，２，３，３，３−ヘプタフルオロプロパン等のフルオロカーボン系溶媒；超臨界二酸化炭素，イオン性液体が挙げられる。これらは単独で使用し得るのみならず，２種類以上を混合して用いることも可能である(請求項６)。
前記酸化剤の種類は特に限定されないが，例えば，過酢酸，過酸化水素水，尿素・過酸化水素，過炭酸ナトリウム，次亜塩素酸ナトリウム，亜塩素酸ナトリウム，臭素酸カリウム，過ヨウ素酸ナトリウム，過ホウ酸ナトリウム，過ホウ酸カリウム，四ホウ酸ナトリウム，ぺルオキソ二硫酸ジカリウム，Oxone（登録商標），過硫酸テトラブチルアンモニウム，三酸化クロム，過マンガン酸カリウム，二クロム酸カリウム，３-クロロ過安息香酸， Selectfluor（登録商標），酸素，フッ素，塩素，臭素，ジメチルジオキシラン，硝酸，発煙硝酸，tert-ブチルヒドロペルオキシド，次亜塩素酸tert-ブチル，ビス(モノペルオキシフタル酸)マグネシウム 六水和物，Ｎ−ブロモスクシンイミド，Ｎ−ヒドロキシフタルイミド，二酸化ケイ素，などの群から選らばれる１または２種以上の物質が挙げられ，特に好ましくは３-クロロ過安息香酸である。使用量は一般的に式（１）に対して，１．０〜１０当量で，好ましくは１．３当量である(請求項２、３)。
前記フッ化物イオン源は特に限定されないが，例えば，フッ化水素酸，トリエチルアミン三フッ化水素酸塩，トリエチルアミン五フッ化水素酸塩，トリエチルアミン六フッ化水素酸塩，ピリジン三フッ化水素酸塩，ピリジン六フッ化水素酸塩，ピリジン九フッ化水素酸塩，ピリジンポリフッ化水素酸塩，フッ化カリウム，フッ化水素カリウム，フッ化セシウム，フッ化銀（Ｉ），テトラメチルアンモニウムフロリド，テトラブチルアンモニウムフロリド，テトラブチルアンモニウムビフルオリド，テトラブチルアンモニウムジフルオロトリフェニルシリカート，テトラブチルアンモニウムジフルオロトリフェニルすず，テトラブチルアンモニウム三ふっ化二水素などの群から選らばれる１または２種以上の物質が挙げられ，特に好ましくはピリジンポリフッ化水素酸塩である。使用量は一般的に式（１）に対して，１．０〜１００当量で，好ましくは１０当量である(請求項４，５)。
前記溶媒の種類は特に限定されないが，ジエチルエーテル，ジイソプロピルエーテル，ｎ−ブチルメチルエーテル，ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル，テトラヒドロフラン，ジオキサン等のエーテル系溶媒；ヘプタン，ヘキサン，シクロペンタン，シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒；クロロホルム，四塩化炭素，塩化メチレン，ジクロロエタン，トリクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒；ベンゼン，トルエン，キシレン，クメン，シメン，メシチレン，ジイソプロピルベンゼン，ピリジン,ピリミジン,ピラジン,ピリダジン等の芳香族系溶媒；酢酸エチル等のエステル系溶媒；アセトン，メチルエチルケトン等のケトン系溶媒；ジメチルスルホキシド，ジメチルホルムアミド等の溶媒；メタノール,エタノール,プロパノール，i-プロピルアルコール，アミノエタノール，N,N-ジメチルアミノエタノール等のアルコール系溶媒；アセトニトリル等のニトリル系溶媒；１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン，１，１，１，２，３，３，３−ヘプタフルオロプロパン等のフルオロカーボン系溶媒；超臨界二酸化炭素，イオン性液体が挙げられる。これらは単独で使用し得るのみならず，２種類以上を混合して用いることも可能である(請求項６)。
また、本発明は、上記方法により得られた下記一般式（４）〜（７）の新規物質にある（請求項７〜１０）。
すなわち、下記一般式（４）で示されるメチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-（２-メチルフェニル）プロパノエート。
すなわち、下記一般式（４）で示されるメチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-（２-メチルフェニル）プロパノエート。
下記一般式（５）で示されるメチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-（３-メトキシフェニル）プロパノエート。
下記一般式（６）で示されるエチル ２-フルオロ-３-（フラン-３-イル）-３-オキソプロパノエート。
下記一般式（７）で示されるＮ，Ｎ-ジエチル-２-フルオロ-３-オキソ-３-フェニルプロパンアミド。
本明細書において，Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すアルキル基としては，例えば，炭素数１乃至２０程度のアルキル基を用いることができる。具体的には，メチル基，エチル基，プロピル基，ブチル基，プロピル基，ペンチル基，ヘキシル基，ヘプチル基，オクチル基，ノニル基，デシル基，ウンデシル基，ドデシル基，トリデシル基，テトラデシル基，ペンタデシル基，ヘキサデシル基，ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基，イコシル基，又はこれらの環状アルキル基，分鎖アルキル基などを用いることができる。アルキル基はハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよい。
Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すアルケニル基又はアルキニル基に含まれる不飽和結合の数は特に限定されないが，好ましくは１乃至２個程度である。該アルケニル基又はアルキニル基は，直鎖状又は分枝鎖状のいずれでもよい。
Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すアラルキル基は，例としてベンジル基，ペンタフルオロベンジル基，ｏ−メチルベンジル基，ｍ−メチルベンジル基，ｐ−メチルベンジル基，ｐ−ニトロベンジル基，ナフチルメチル基，フルフリル基，α−フェネチル基等が挙げられる。
Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すアリール基としては，ヘテロアリール基も含有し，具体例としては，例えば炭素数2〜30のアリール基，具体的にはフェニル基，ナフチル基，アンスラニル基，ピレニル基，ビフェニル基，インデニル基，テトラヒドロナフチル基，ピリジル基，ピリミジニル基，ピラジニル基，ピリダニジル基，ピペラジニル基，ピラゾリル基，イミダゾリル基，キニリル基，ピロリル基，インドリル基，フリル基などが挙げることができる。
Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すアリールオキシ基としては，ヘテロアリールオキシ基も含有し，具体例としては，例えば炭素数2〜30のアリール基，具体的にはフェニルオキシ基，ナフチルオキシ基，アンスラニルオキシ基，ピレニルオキシ基，ビフェニルオキシ基，インデニルオキシ基，テトラヒドロナフチルオキシ基，ピリジルオキシ基，ピリミジニルオキシ基，ピラジニルオキシ基，ピリダニジルオキシ基，ピペラジニルオキシ基，ピラゾリルオキシ基，イミダゾリルオキシ基，キニリルオキシ基，ピロリルオキシ基，インドリルオキシ基，フリルオキシ基などが挙げることができる。
Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すアルコキシ基としては，例えば，炭素数１〜６程度のアルコキシ基を用いることができる。より具体的には，メトキシ基，エトキシ基，ｎ−プロポキシ基，イソプロポキシ基，ｎ−ブトキシ基，ｓｅｃ−ブトキシ基，ｔｅｒｔ−ブトキシ基，シクロプロピルメチルオキシ基，ｎ−ペントキシ基，ｎ−ヘキソキシ基，トリエチレングリコシル基などを挙げることができる。
Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すハロゲン原子はフッ素原子，塩素原子，臭素原子，又はヨウ素原子のいずれでもよい。
Ｒ１，Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すアミノ基が置換基を有する場合，置換基として，例えば，上記に説明した炭素数１〜１０程度のアルキル基又はハロゲン化アルキル基等を有していてもよい。より具体的には，炭素数１〜６程度のアルキル基で置換されたモノアルキルアミノ基，又は炭素数１〜６程度の２個のアルキル基で置換されたジアルキルアミノ基（２個のアルキル基は同一でも異なっていてもよい）などを挙げることができる。
Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すアルキルチオ基としては，上記に説明した炭素数１〜１０程度のアルキルチオ基を用いることができる。例えば，メチルチオ基，エチルチオ基などを挙げることができる。
Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すスルホニル基としては，例えば，アルキル基，アルコキシ基，アルケニル基，アルキニル基，又はヘテロアリール基を含むアリール基を有するスルホニル基を用いることができる。具体的にはメタンスルホニル基，エタンスルホニル基，トリフルオロメタンスルホニル基，ベンゼンスルホニル基，パラトルエンスルホニル基，２-ニトロベンゼンスルホニル基などを挙げることができる。
Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すカルボニル基としては，例えば，アルキル基，アルコキシ基，アルケニル基，アルキニル基，又はアリール基を有するカルボニル基を用いることができる。具体的には，アセトキシ基，プロピオノキシ基，ブタノキシ基，ペンタノキシ基，ヘキサノキシ基，メトキシカルボニル基，エトキシカルボニル基などが挙げられる。
Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すカルバモイル基が置換基を有する場合，置換基として，例えば，上記に説明した炭素数１〜１０程度のアルキル基又はハロゲン化アルキル基等を有していてもよい。カルバモイル基が２個の置換基を有する場合には，それらは同一でも異なっていてもよい。
Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すシリル基としては例えば，２個又は３個の，上記に説明した炭素数１〜１０程度のアルキル基，ヘテロアリール基を含むアリール基，炭素数１〜６程度のアルコキシ基で置換されたシリル基（２個又は３個の置換基は同一でも異なっていてもよい）を用いることができる。具体的には，トリメチルシリル基，トリエチルシリル基，トリイソプロピルシリル基，tert-ブチルジメチルシリル基，tert-ブチルジフェニルシリル基，トリメトキシシリル基，トリエトキシシリル基，などが挙げられる。
アルキル基又はアルキル部分を含む置換基（例えば，アルコキシ基，アルキルチオ基，アルコキシカルボニル基など）のアルキル部分，アリール基又はアリール部分を含む置換基(例えば,アリールオキシ基など)のアリール部分は，フッ素原子，塩素原子，臭素原子，及びヨウ素原子からなる群から選ばれる１又は２個以上のハロゲン原子有していてもよく，２個以上のハロゲン原子が置換している場合には，それらは同一でも異なっていてもよい。
アルキル基又はアルキル部分を含む置換基（例えば，アルコキシ基，アルキルチオ基，アルコキシカルボニル基など）のアルキル部分，アリール基又はアリール部分を含む置換基(例えば,アリールオキシ基など)のアリール部分は，アルキル基，アルコキシ基，置換基を有していてもよいアミノ基，ヒドロキシル基，アルキルチオ基，スルホニル基，カルボニル基，シアノ基，ニトロ基，シリル基，アリール基，アルケニル基，又はアルキニル基からなる群から選ばれる１又は２個以上の置換基を有していてもよく，２個以上の置換基を有している場合には，それらは同一でも異なっていてもよい。
Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７はそれぞれ独立に上記に定義されたいずれかの置換基を示すが，全部が同一の置換基であってもよい。
酸化剤の種類は特に限定されないが，例えば，過酢酸，過酸化水素水，尿素・過酸化水素，過炭酸ナトリウム，次亜塩素酸ナトリウム，亜塩素酸ナトリウム，臭素酸カリウム，過ヨウ素酸ナトリウム，過ホウ酸ナトリウム，過ホウ酸カリウム，四ホウ酸ナトリウム，ぺルオキソ二硫酸ジナトリウム，ぺルオキソ二硫酸ジカリウム，Oxone（登録商標），過硫酸テトラブチルアンモニウム，三酸化クロム，二酸化マンガン，過マンガン酸カリウム，二クロム酸カリウム，３-クロロ過安息香酸， Selectfluor（登録商標），酸素，フッ素，塩素，臭素，ジメチルジオキシラン，硝酸，発煙硝酸， tert-ブチルヒドロペルオキシド，次亜塩素酸tert-ブチル，ビス(モノペルオキシフタル酸)マグネシウム 六水和物，Ｎ−ブロモスクシンイミド，Ｎ−ヒドロキシフタルイミド，二酸化ケイ素，などの群から選らばれる１または２以上の物質が挙げられ，特に好ましくは３-クロロ過安息香酸である。使用量は一般的に式（１）に対して，１．０〜１０当量で，好ましくは１．３当量である。
フッ化物イオン源は特に限定されないが，例えば，フッ化水素酸，トリエチルアミン三フッ化水素酸塩，トリエチルアミン五フッ化水素酸塩，トリエチルアミン六フッ化水素酸塩，ピリジン三フッ化水素酸塩，ピリジン六フッ化水素酸塩，ピリジン九フッ化水素酸塩，ピリジンポリフッ化水素酸塩，フッ化カリウム，フッ化水素カリウム，フッ化セシウム，フッ化銀（Ｉ），テトラメチルアンモニウムフロリド，テトラブチルアンモニウムフロリド，テトラブチルアンモニウムビフルオリド，テトラブチルアンモニウムジフルオロトリフェニルシリカート，テトラブチルアンモニウムジフルオロトリフェニルすず，テトラブチルアンモニウム三ふっ化二水素などの群から選らばれる１または２以上の物質が挙げられ，特に好ましくはピリジンポリフッ化水素酸塩である。使用量は一般的に式（１）に対して，１．０〜１００当量で，好ましくは１０当量である。
溶媒の種類は特に限定されないが，ジエチルエーテル，ジイソプロピルエーテル，ｎ−ブチルメチルエーテル，ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル，テトラヒドロフラン，ジオキサン等のエーテル系溶媒；ヘプタン，ヘキサン，シクロペンタン，シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒；クロロホルム，四塩化炭素，塩化メチレン，ジクロロエタン，トリクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒；ベンゼン，トルエン，キシレン，クメン，シメン，メシチレン，ジイソプロピルベンゼン，ピリジン,ピリミジン,ピラジン,ピリダジン等の芳香族系溶媒；酢酸エチル等のエステル系溶媒；アセトン，メチルエチルケトン等のケトン系溶媒；ジメチルスルホキシド，ジメチルホルムアミド等の溶媒；メタノール,エタノール,プロパノール，i-プロピルアルコール，アミノエタノール，N,N-ジメチルアミノエタノール等のアルコール系溶媒；アセトニトリル等のニトリル系溶媒；１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン，１，１，１，２，３，３，３−ヘプタフルオロプロパン等のフルオロカーボン系溶媒；超臨界二酸化炭素，イオン性液体が挙げられる。これらは単独で使用し得るのみならず，２種類以上を混合して用いることも可能である。
本発明の２-フルオロ-１-カルボニル化合物の絶対配置は（Ｓ）又は（Ｒ）配置のいずれであってもよく，光学異性体又はジアステレオ異性体などの立体異性体はいずれも本発明の範囲に包含される。光学的に純粋な形態の異性体は本発明の好ましい態様である。また，立体異性体の任意の混合物，ラセミ体なども本発明の範囲に包含される。本発明の２-フルオロ-１-カルボニル化合物は置換基の種類に応じて塩を形成する場合があり，また水和物又は溶媒和物として存在する場合もあるが，これらの物質はいずれも本発明の範囲に包含される。
前記式（３）の製造は加圧下に行うこともできるが，通常は常圧で行う。反応温度は−８０℃から溶媒の沸点までの間で行うことができるが，好ましくは室温乃至４０℃付近である。反応時間は特に限定されるものではないが，通常１時間〜５日で反応は完結する。
反応後、前記式（３）で示される２-フルオロ-１-カルボニル化合物は一般的な手法によって反応液から単離および精製することができ，例えば反応液を濃縮した後，蒸留精製またはシリカゲル，アルミナ等の吸着剤を用いたカラムクロマトグラフ法での精製，塩析，再結晶等が挙げられる。
Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すアルケニル基又はアルキニル基に含まれる不飽和結合の数は特に限定されないが，好ましくは１乃至２個程度である。該アルケニル基又はアルキニル基は，直鎖状又は分枝鎖状のいずれでもよい。
Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すアラルキル基は，例としてベンジル基，ペンタフルオロベンジル基，ｏ−メチルベンジル基，ｍ−メチルベンジル基，ｐ−メチルベンジル基，ｐ−ニトロベンジル基，ナフチルメチル基，フルフリル基，α−フェネチル基等が挙げられる。
Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すアリール基としては，ヘテロアリール基も含有し，具体例としては，例えば炭素数2〜30のアリール基，具体的にはフェニル基，ナフチル基，アンスラニル基，ピレニル基，ビフェニル基，インデニル基，テトラヒドロナフチル基，ピリジル基，ピリミジニル基，ピラジニル基，ピリダニジル基，ピペラジニル基，ピラゾリル基，イミダゾリル基，キニリル基，ピロリル基，インドリル基，フリル基などが挙げることができる。
Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すアリールオキシ基としては，ヘテロアリールオキシ基も含有し，具体例としては，例えば炭素数2〜30のアリール基，具体的にはフェニルオキシ基，ナフチルオキシ基，アンスラニルオキシ基，ピレニルオキシ基，ビフェニルオキシ基，インデニルオキシ基，テトラヒドロナフチルオキシ基，ピリジルオキシ基，ピリミジニルオキシ基，ピラジニルオキシ基，ピリダニジルオキシ基，ピペラジニルオキシ基，ピラゾリルオキシ基，イミダゾリルオキシ基，キニリルオキシ基，ピロリルオキシ基，インドリルオキシ基，フリルオキシ基などが挙げることができる。
Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すアルコキシ基としては，例えば，炭素数１〜６程度のアルコキシ基を用いることができる。より具体的には，メトキシ基，エトキシ基，ｎ−プロポキシ基，イソプロポキシ基，ｎ−ブトキシ基，ｓｅｃ−ブトキシ基，ｔｅｒｔ−ブトキシ基，シクロプロピルメチルオキシ基，ｎ−ペントキシ基，ｎ−ヘキソキシ基，トリエチレングリコシル基などを挙げることができる。
Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すハロゲン原子はフッ素原子，塩素原子，臭素原子，又はヨウ素原子のいずれでもよい。
Ｒ１，Ｒ2，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すアミノ基が置換基を有する場合，置換基として，例えば，上記に説明した炭素数１〜１０程度のアルキル基又はハロゲン化アルキル基等を有していてもよい。より具体的には，炭素数１〜６程度のアルキル基で置換されたモノアルキルアミノ基，又は炭素数１〜６程度の２個のアルキル基で置換されたジアルキルアミノ基（２個のアルキル基は同一でも異なっていてもよい）などを挙げることができる。
Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すアルキルチオ基としては，上記に説明した炭素数１〜１０程度のアルキルチオ基を用いることができる。例えば，メチルチオ基，エチルチオ基などを挙げることができる。
Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すスルホニル基としては，例えば，アルキル基，アルコキシ基，アルケニル基，アルキニル基，又はヘテロアリール基を含むアリール基を有するスルホニル基を用いることができる。具体的にはメタンスルホニル基，エタンスルホニル基，トリフルオロメタンスルホニル基，ベンゼンスルホニル基，パラトルエンスルホニル基，２-ニトロベンゼンスルホニル基などを挙げることができる。
Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すカルボニル基としては，例えば，アルキル基，アルコキシ基，アルケニル基，アルキニル基，又はアリール基を有するカルボニル基を用いることができる。具体的には，アセトキシ基，プロピオノキシ基，ブタノキシ基，ペンタノキシ基，ヘキサノキシ基，メトキシカルボニル基，エトキシカルボニル基などが挙げられる。
Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すカルバモイル基が置換基を有する場合，置換基として，例えば，上記に説明した炭素数１〜１０程度のアルキル基又はハロゲン化アルキル基等を有していてもよい。カルバモイル基が２個の置換基を有する場合には，それらは同一でも異なっていてもよい。
Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が示すシリル基としては例えば，２個又は３個の，上記に説明した炭素数１〜１０程度のアルキル基，ヘテロアリール基を含むアリール基，炭素数１〜６程度のアルコキシ基で置換されたシリル基（２個又は３個の置換基は同一でも異なっていてもよい）を用いることができる。具体的には，トリメチルシリル基，トリエチルシリル基，トリイソプロピルシリル基，tert-ブチルジメチルシリル基，tert-ブチルジフェニルシリル基，トリメトキシシリル基，トリエトキシシリル基，などが挙げられる。
アルキル基又はアルキル部分を含む置換基（例えば，アルコキシ基，アルキルチオ基，アルコキシカルボニル基など）のアルキル部分，アリール基又はアリール部分を含む置換基(例えば,アリールオキシ基など)のアリール部分は，フッ素原子，塩素原子，臭素原子，及びヨウ素原子からなる群から選ばれる１又は２個以上のハロゲン原子有していてもよく，２個以上のハロゲン原子が置換している場合には，それらは同一でも異なっていてもよい。
アルキル基又はアルキル部分を含む置換基（例えば，アルコキシ基，アルキルチオ基，アルコキシカルボニル基など）のアルキル部分，アリール基又はアリール部分を含む置換基(例えば,アリールオキシ基など)のアリール部分は，アルキル基，アルコキシ基，置換基を有していてもよいアミノ基，ヒドロキシル基，アルキルチオ基，スルホニル基，カルボニル基，シアノ基，ニトロ基，シリル基，アリール基，アルケニル基，又はアルキニル基からなる群から選ばれる１又は２個以上の置換基を有していてもよく，２個以上の置換基を有している場合には，それらは同一でも異なっていてもよい。
Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７はそれぞれ独立に上記に定義されたいずれかの置換基を示すが，全部が同一の置換基であってもよい。
酸化剤の種類は特に限定されないが，例えば，過酢酸，過酸化水素水，尿素・過酸化水素，過炭酸ナトリウム，次亜塩素酸ナトリウム，亜塩素酸ナトリウム，臭素酸カリウム，過ヨウ素酸ナトリウム，過ホウ酸ナトリウム，過ホウ酸カリウム，四ホウ酸ナトリウム，ぺルオキソ二硫酸ジナトリウム，ぺルオキソ二硫酸ジカリウム，Oxone（登録商標），過硫酸テトラブチルアンモニウム，三酸化クロム，二酸化マンガン，過マンガン酸カリウム，二クロム酸カリウム，３-クロロ過安息香酸， Selectfluor（登録商標），酸素，フッ素，塩素，臭素，ジメチルジオキシラン，硝酸，発煙硝酸， tert-ブチルヒドロペルオキシド，次亜塩素酸tert-ブチル，ビス(モノペルオキシフタル酸)マグネシウム 六水和物，Ｎ−ブロモスクシンイミド，Ｎ−ヒドロキシフタルイミド，二酸化ケイ素，などの群から選らばれる１または２以上の物質が挙げられ，特に好ましくは３-クロロ過安息香酸である。使用量は一般的に式（１）に対して，１．０〜１０当量で，好ましくは１．３当量である。
フッ化物イオン源は特に限定されないが，例えば，フッ化水素酸，トリエチルアミン三フッ化水素酸塩，トリエチルアミン五フッ化水素酸塩，トリエチルアミン六フッ化水素酸塩，ピリジン三フッ化水素酸塩，ピリジン六フッ化水素酸塩，ピリジン九フッ化水素酸塩，ピリジンポリフッ化水素酸塩，フッ化カリウム，フッ化水素カリウム，フッ化セシウム，フッ化銀（Ｉ），テトラメチルアンモニウムフロリド，テトラブチルアンモニウムフロリド，テトラブチルアンモニウムビフルオリド，テトラブチルアンモニウムジフルオロトリフェニルシリカート，テトラブチルアンモニウムジフルオロトリフェニルすず，テトラブチルアンモニウム三ふっ化二水素などの群から選らばれる１または２以上の物質が挙げられ，特に好ましくはピリジンポリフッ化水素酸塩である。使用量は一般的に式（１）に対して，１．０〜１００当量で，好ましくは１０当量である。
溶媒の種類は特に限定されないが，ジエチルエーテル，ジイソプロピルエーテル，ｎ−ブチルメチルエーテル，ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル，テトラヒドロフラン，ジオキサン等のエーテル系溶媒；ヘプタン，ヘキサン，シクロペンタン，シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒；クロロホルム，四塩化炭素，塩化メチレン，ジクロロエタン，トリクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒；ベンゼン，トルエン，キシレン，クメン，シメン，メシチレン，ジイソプロピルベンゼン，ピリジン,ピリミジン,ピラジン,ピリダジン等の芳香族系溶媒；酢酸エチル等のエステル系溶媒；アセトン，メチルエチルケトン等のケトン系溶媒；ジメチルスルホキシド，ジメチルホルムアミド等の溶媒；メタノール,エタノール,プロパノール，i-プロピルアルコール，アミノエタノール，N,N-ジメチルアミノエタノール等のアルコール系溶媒；アセトニトリル等のニトリル系溶媒；１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン，１，１，１，２，３，３，３−ヘプタフルオロプロパン等のフルオロカーボン系溶媒；超臨界二酸化炭素，イオン性液体が挙げられる。これらは単独で使用し得るのみならず，２種類以上を混合して用いることも可能である。
本発明の２-フルオロ-１-カルボニル化合物の絶対配置は（Ｓ）又は（Ｒ）配置のいずれであってもよく，光学異性体又はジアステレオ異性体などの立体異性体はいずれも本発明の範囲に包含される。光学的に純粋な形態の異性体は本発明の好ましい態様である。また，立体異性体の任意の混合物，ラセミ体なども本発明の範囲に包含される。本発明の２-フルオロ-１-カルボニル化合物は置換基の種類に応じて塩を形成する場合があり，また水和物又は溶媒和物として存在する場合もあるが，これらの物質はいずれも本発明の範囲に包含される。
前記式（３）の製造は加圧下に行うこともできるが，通常は常圧で行う。反応温度は−８０℃から溶媒の沸点までの間で行うことができるが，好ましくは室温乃至４０℃付近である。反応時間は特に限定されるものではないが，通常１時間〜５日で反応は完結する。
反応後、前記式（３）で示される２-フルオロ-１-カルボニル化合物は一般的な手法によって反応液から単離および精製することができ，例えば反応液を濃縮した後，蒸留精製またはシリカゲル，アルミナ等の吸着剤を用いたカラムクロマトグラフ法での精製，塩析，再結晶等が挙げられる。
以下，実施形態により本発明をさらに具体的に説明するが，本発明の範囲は下記の実施形態に限定されることはない。
（第１実施形態）
ベンゾイル酢酸エチル（０．２０ｍｍｏｌ），ヨードベンゼン(０．０１５ｍｍｏｌ)，ピリジンポリフッ化水素酸塩（２．０ｍｍｏｌ），ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン２．０ｍｌに溶かし，反応溶液を４０℃に加熱した。薄層クロマトグラフィーで反応の進行を確認し，再びｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を加え，２時間撹拌した。反応溶液を室温まで冷却し水を加え，ジクロロメタンを用いて抽出した。その後，ガスクロマトグラフィーを用いて，エチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-フェニルプロパノエート１aへの転化率を９４％と決定した。
Compound １a: エチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-フェニルプロパノエート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ1.26 (t, J = 7.2 Hz, 3H), 4.30 (q, J = 7.5 Hz, 2H), 5.88 (d, J = 48.9 Hz, 1H), 7.51 (t, J = 7.5 Hz, 2H), 7.64 (t, J = 6.9 Hz, 1H), 8.05 (d, J = 7.2 Hz, 2H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-190.9 (d, J= 48.5 Hz).
（第２実施形態）
ベンゾイル酢酸エチル（０．２０ｍｍｏｌ），ヨードベンゼン(０．０１５ｍｍｏｌ)，フッ化水素酸（２．０ｍｍｏｌ），ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン２．０ｍｌに溶かし，反応溶液を４０℃に加熱した。薄層クロマトグラフィーで反応の進行を確認し，再びｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を加え，２時間撹拌した。反応溶液を室温まで冷却し水を加え，ジクロロメタンを用いて抽出した。その後，ガスクロマトグラフィーを用いて，エチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-フェニルプロパノエート１aへの転化率を７９％と決定した。
（第３実施形態）
ベンゾイル酢酸エチル（０．２０ｍｍｏｌ），４-メチルヨードベンゼン(０．０１５ｍｍｏｌ)，ピリジンポリフッ化水素酸塩（２．０ｍｍｏｌ），ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン２．０ｍｌに溶かし，反応溶液を４０℃に加熱した。薄層クロマトグラフィーで反応の進行を確認し，再びｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を加え，３０分撹拌した。反応溶液を室温まで冷却し水を加え，ジクロロメタンを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，エチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-フェニルプロパノエート１aを９８％の収率で得た。
（第４実施形態）
ベンゾイル酢酸エチル（０．２０ｍｍｏｌ），４-メチルヨードベンゼン(０．０１５ｍｍｏｌ)，ピリジンポリフッ化水素酸塩（２．０ｍｍｏｌ），ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）をトルエン２．０ｍｌに溶かし，反応溶液を４０℃に加熱した。薄層クロマトグラフィーで反応の進行を確認し，再びｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を加え，３０分撹拌した。反応溶液を室温まで冷却し水を加え，ジクロロメタンを用いて抽出した。その後，ガスクロマトグラフィーを用いて，エチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-フェニルプロパノエート１aへの転化率を５６％と決定した。
（第５実施形態）
２-メチルベンゾイル酢酸メチル（０．２０ｍｍｏｌ），４-メチルヨードベンゼン(０．０１５ｍｍｏｌ)，ピリジンポリフッ化水素酸塩（２．０ｍｍｏｌ），ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン２．０ｍｌに溶かし，反応溶液を４０℃に加熱した。薄層クロマトグラフィーで反応の進行を確認し，再びｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を加え，３０分撹拌した。反応溶液を室温まで冷却し水を加え，ジクロロメタンを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，新規物質のメチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-（２-メチルフェニル）プロパノエート１ｂを７４％の収率で得た。
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ1.26 (t, J = 7.2 Hz, 3H), 4.30 (q, J = 7.5 Hz, 2H), 5.88 (d, J = 48.9 Hz, 1H), 7.51 (t, J = 7.5 Hz, 2H), 7.64 (t, J = 6.9 Hz, 1H), 8.05 (d, J = 7.2 Hz, 2H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-190.9 (d, J= 48.5 Hz).
（第２実施形態）
ベンゾイル酢酸エチル（０．２０ｍｍｏｌ），ヨードベンゼン(０．０１５ｍｍｏｌ)，フッ化水素酸（２．０ｍｍｏｌ），ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン２．０ｍｌに溶かし，反応溶液を４０℃に加熱した。薄層クロマトグラフィーで反応の進行を確認し，再びｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を加え，２時間撹拌した。反応溶液を室温まで冷却し水を加え，ジクロロメタンを用いて抽出した。その後，ガスクロマトグラフィーを用いて，エチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-フェニルプロパノエート１aへの転化率を７９％と決定した。
（第３実施形態）
ベンゾイル酢酸エチル（０．２０ｍｍｏｌ），４-メチルヨードベンゼン(０．０１５ｍｍｏｌ)，ピリジンポリフッ化水素酸塩（２．０ｍｍｏｌ），ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン２．０ｍｌに溶かし，反応溶液を４０℃に加熱した。薄層クロマトグラフィーで反応の進行を確認し，再びｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を加え，３０分撹拌した。反応溶液を室温まで冷却し水を加え，ジクロロメタンを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，エチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-フェニルプロパノエート１aを９８％の収率で得た。
（第４実施形態）
ベンゾイル酢酸エチル（０．２０ｍｍｏｌ），４-メチルヨードベンゼン(０．０１５ｍｍｏｌ)，ピリジンポリフッ化水素酸塩（２．０ｍｍｏｌ），ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）をトルエン２．０ｍｌに溶かし，反応溶液を４０℃に加熱した。薄層クロマトグラフィーで反応の進行を確認し，再びｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を加え，３０分撹拌した。反応溶液を室温まで冷却し水を加え，ジクロロメタンを用いて抽出した。その後，ガスクロマトグラフィーを用いて，エチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-フェニルプロパノエート１aへの転化率を５６％と決定した。
（第５実施形態）
２-メチルベンゾイル酢酸メチル（０．２０ｍｍｏｌ），４-メチルヨードベンゼン(０．０１５ｍｍｏｌ)，ピリジンポリフッ化水素酸塩（２．０ｍｍｏｌ），ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン２．０ｍｌに溶かし，反応溶液を４０℃に加熱した。薄層クロマトグラフィーで反応の進行を確認し，再びｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を加え，３０分撹拌した。反応溶液を室温まで冷却し水を加え，ジクロロメタンを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，新規物質のメチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-（２-メチルフェニル）プロパノエート１ｂを７４％の収率で得た。
Compound １ｂ: メチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-（２-メチルフェニル）プロパノエート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ2.53 (s, 3H), 3.85 (s, 3H), 5.83 (d, J = 48.9 Hz, 1H), 7.30-7.34 (m, 2H), 7.47 (t, J = 7.2 Hz, 1H), 7.76 (d, J= 7.5 Hz, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-189.2 (d, J = 48.5 Hz).
（第６実施形態）
３-メチルベンゾイル酢酸メチル（０．２０ｍｍｏｌ），４-メチルヨードベンゼン(０．０１５ｍｍｏｌ)，ピリジンポリフッ化水素酸塩（２．０ｍｍｏｌ），ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン２．０ｍｌに溶かし，反応溶液を４０℃に加熱した。薄層クロマトグラフィーで反応の進行を確認し，再びｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を加え，３０分撹拌した。反応溶液を室温まで冷却し水を加え，ジクロロメタンを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，メチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-（３-メチルフェニル）プロパノエート１ｃを６２％の収率で得た。
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ2.53 (s, 3H), 3.85 (s, 3H), 5.83 (d, J = 48.9 Hz, 1H), 7.30-7.34 (m, 2H), 7.47 (t, J = 7.2 Hz, 1H), 7.76 (d, J= 7.5 Hz, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-189.2 (d, J = 48.5 Hz).
（第６実施形態）
３-メチルベンゾイル酢酸メチル（０．２０ｍｍｏｌ），４-メチルヨードベンゼン(０．０１５ｍｍｏｌ)，ピリジンポリフッ化水素酸塩（２．０ｍｍｏｌ），ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン２．０ｍｌに溶かし，反応溶液を４０℃に加熱した。薄層クロマトグラフィーで反応の進行を確認し，再びｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を加え，３０分撹拌した。反応溶液を室温まで冷却し水を加え，ジクロロメタンを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，メチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-（３-メチルフェニル）プロパノエート１ｃを６２％の収率で得た。
Compound １ｃ: メチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-（３-メチルフェニル）プロパノエート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ2.43 (s, 3H), 3.85 (s, 3H), 5.89 (d, J = 48.9 Hz, 1H), 7.37-7.48 (m, 2H), 7.85 (s, 2H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-190.8 (d, J= 48.5 Hz).
（第７実施形態）
４-メチルベンゾイル酢酸メチル（０．２０ｍｍｏｌ），４-メチルヨードベンゼン(０．０１５ｍｍｏｌ)，ピリジンポリフッ化水素酸塩（２．０ｍｍｏｌ），ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン２．０ｍｌに溶かし，反応溶液を４０℃に加熱した。薄層クロマトグラフィーで反応の進行を確認し，再びｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を加え，３０分撹拌した。反応溶液を室温まで冷却し水を加え，ジクロロメタンを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，メチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-（４-メチルフェニル）プロパノエート１ｄを５３％の収率で得た。
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ2.43 (s, 3H), 3.85 (s, 3H), 5.89 (d, J = 48.9 Hz, 1H), 7.37-7.48 (m, 2H), 7.85 (s, 2H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-190.8 (d, J= 48.5 Hz).
（第７実施形態）
４-メチルベンゾイル酢酸メチル（０．２０ｍｍｏｌ），４-メチルヨードベンゼン(０．０１５ｍｍｏｌ)，ピリジンポリフッ化水素酸塩（２．０ｍｍｏｌ），ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン２．０ｍｌに溶かし，反応溶液を４０℃に加熱した。薄層クロマトグラフィーで反応の進行を確認し，再びｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を加え，３０分撹拌した。反応溶液を室温まで冷却し水を加え，ジクロロメタンを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，メチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-（４-メチルフェニル）プロパノエート１ｄを５３％の収率で得た。
Compound １ｄ: メチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-（４-メチルフェニル）プロパノエート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ2.44 (s, 3H), 3.84 (s, 3H), 5.88 (d, J = 48.6 Hz, 1H), 7.31 (d, J= 7.8 Hz, 2H), 7.95 (d, J = 8.1 Hz, 2H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-190.7 (d, J = 48.5 Hz).
（第８実施形態）
３-メトキシベンゾイル酢酸メチル（０．２０ｍｍｏｌ），４-メチルヨードベンゼン(０．０１５ｍｍｏｌ)，ピリジンポリフッ化水素酸塩（２．０ｍｍｏｌ），ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン２．０ｍｌに溶かし，反応溶液を４０℃に加熱した。薄層クロマトグラフィーで反応の進行を確認し，再びｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を加え，３０分撹拌した。反応溶液を室温まで冷却し水を加え，ジクロロメタンを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，新規物質のメチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-（３-メトキシフェニル）プロパノエート１eを６１％の収率で得た。
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ2.44 (s, 3H), 3.84 (s, 3H), 5.88 (d, J = 48.6 Hz, 1H), 7.31 (d, J= 7.8 Hz, 2H), 7.95 (d, J = 8.1 Hz, 2H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-190.7 (d, J = 48.5 Hz).
（第８実施形態）
３-メトキシベンゾイル酢酸メチル（０．２０ｍｍｏｌ），４-メチルヨードベンゼン(０．０１５ｍｍｏｌ)，ピリジンポリフッ化水素酸塩（２．０ｍｍｏｌ），ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン２．０ｍｌに溶かし，反応溶液を４０℃に加熱した。薄層クロマトグラフィーで反応の進行を確認し，再びｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を加え，３０分撹拌した。反応溶液を室温まで冷却し水を加え，ジクロロメタンを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，新規物質のメチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-（３-メトキシフェニル）プロパノエート１eを６１％の収率で得た。
Compound １e: メチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-（３-メトキシフェニル）プロパノエート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ3.85 (s, 3H), 3.87 (s, 3H), 5.88 (d, J = 48.6 Hz, 1H), 7.19 (dd, J= 8.1, 2.7 Hz, 1H), 7.42 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 7.55 (s, 1H), 7.64 (d, J = 7.8 Hz, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-190.7 (d, J = 48.2 Hz).
（第９実施形態）
４-メトキシベンゾイル酢酸メチル（０．２０ｍｍｏｌ），４-メチルヨードベンゼン(０．０１５ｍｍｏｌ)，ピリジンポリフッ化水素酸塩（２．０ｍｍｏｌ），ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン２．０ｍｌに溶かし，反応溶液を４０℃に加熱した。薄層クロマトグラフィーで反応の進行を確認し，再びｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を加え，３０分撹拌した。反応溶液を室温まで冷却し水を加え，ジクロロメタンを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，メチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-（４-メトキシフェニル）プロパノエート１ｆを７２％の収率で得た。
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ3.85 (s, 3H), 3.87 (s, 3H), 5.88 (d, J = 48.6 Hz, 1H), 7.19 (dd, J= 8.1, 2.7 Hz, 1H), 7.42 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 7.55 (s, 1H), 7.64 (d, J = 7.8 Hz, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-190.7 (d, J = 48.2 Hz).
（第９実施形態）
４-メトキシベンゾイル酢酸メチル（０．２０ｍｍｏｌ），４-メチルヨードベンゼン(０．０１５ｍｍｏｌ)，ピリジンポリフッ化水素酸塩（２．０ｍｍｏｌ），ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン２．０ｍｌに溶かし，反応溶液を４０℃に加熱した。薄層クロマトグラフィーで反応の進行を確認し，再びｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を加え，３０分撹拌した。反応溶液を室温まで冷却し水を加え，ジクロロメタンを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，メチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-（４-メトキシフェニル）プロパノエート１ｆを７２％の収率で得た。
Compound １ｆ: メチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-（４-メトキシフェニル）プロパノエート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ3.84 (s, 3H), 3.89 (s, 3H), 5.85 (d, J = 48.9 Hz, 1H), 6.97 (d, J= 8.7 Hz, 2H), 8.05 (d, J = 8.7 Hz, 2H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-190.1 (d, J = 48.2 Hz).
（第１０実施形態）
４-クロロベンゾイル酢酸メチル（０．２０ｍｍｏｌ），４-メチルヨードベンゼン(０．０１５ｍｍｏｌ)，ピリジンポリフッ化水素酸塩（２．０ｍｍｏｌ），ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン２．０ｍｌに溶かし，反応溶液を４０℃に加熱した。薄層クロマトグラフィーで反応の進行を確認し，再びｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を加え，３０分撹拌した。反応溶液を室温まで冷却し水を加え，ジクロロメタンを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，メチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-（４-クロロフェニル）プロパノエート１ｇを５９％の収率で得た。
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ3.84 (s, 3H), 3.89 (s, 3H), 5.85 (d, J = 48.9 Hz, 1H), 6.97 (d, J= 8.7 Hz, 2H), 8.05 (d, J = 8.7 Hz, 2H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-190.1 (d, J = 48.2 Hz).
（第１０実施形態）
４-クロロベンゾイル酢酸メチル（０．２０ｍｍｏｌ），４-メチルヨードベンゼン(０．０１５ｍｍｏｌ)，ピリジンポリフッ化水素酸塩（２．０ｍｍｏｌ），ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン２．０ｍｌに溶かし，反応溶液を４０℃に加熱した。薄層クロマトグラフィーで反応の進行を確認し，再びｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を加え，３０分撹拌した。反応溶液を室温まで冷却し水を加え，ジクロロメタンを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，メチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-（４-クロロフェニル）プロパノエート１ｇを５９％の収率で得た。
Compound １ｇ: メチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-（４-クロロフェニル）プロパノエート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ3.85 (t, J = 7.2 Hz, 3H), 5.84 (d, J = 48.9 Hz, 1H), 7.49 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 8.00 (d, J = 8.4 Hz, 2H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-190.5 (d, J= 48.5 Hz).
（第１１実施形態）
４-ブロモベンゾイル酢酸メチル（０．２０ｍｍｏｌ），４-メチルヨードベンゼン(０．０１５ｍｍｏｌ)，ピリジンポリフッ化水素酸塩（２．０ｍｍｏｌ），ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン２．０ｍｌに溶かし，反応溶液を４０℃に加熱した。薄層クロマトグラフィーで反応の進行を確認し，再びｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を加え，３０分撹拌した。反応溶液を室温まで冷却し水を加え，ジクロロメタンを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，メチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-（４-ブロモフェニル）プロパノエート１ｈを７８％の収率で得た。
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ3.85 (t, J = 7.2 Hz, 3H), 5.84 (d, J = 48.9 Hz, 1H), 7.49 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 8.00 (d, J = 8.4 Hz, 2H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-190.5 (d, J= 48.5 Hz).
（第１１実施形態）
４-ブロモベンゾイル酢酸メチル（０．２０ｍｍｏｌ），４-メチルヨードベンゼン(０．０１５ｍｍｏｌ)，ピリジンポリフッ化水素酸塩（２．０ｍｍｏｌ），ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン２．０ｍｌに溶かし，反応溶液を４０℃に加熱した。薄層クロマトグラフィーで反応の進行を確認し，再びｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を加え，３０分撹拌した。反応溶液を室温まで冷却し水を加え，ジクロロメタンを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，メチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-（４-ブロモフェニル）プロパノエート１ｈを７８％の収率で得た。
Compound １ｈ: メチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-（４-ブロモフェニル）プロパノエート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ3.85 (s, 3H), 5.84 (d, J= 48.9 Hz, 1H), 7.66 (d, J = 8.7 Hz, 2H), 7.92 (d, J = 8.4 Hz, 2H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-190.6 (d, J= 48.5 Hz).
（第１２実施形態）
エチル ３-（フラン-３-イル）-３-オキソプロパノエート（０．２０ｍｍｏｌ），４-メチルヨードベンゼン(０．０１５ｍｍｏｌ)，ピリジンポリフッ化水素酸塩（２．０ｍｍｏｌ），ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン２．０ｍｌに溶かし，反応溶液を４０℃に加熱した。薄層クロマトグラフィーで反応の進行を確認し，再びｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を加え，３０分撹拌した。反応溶液を室温まで冷却し水を加え，ジクロロメタンを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，新規物質のエチル ２-フルオロ-３-（フラン-３-イル）-３-オキソプロパノエート１iを６４％の収率で得た。
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ3.85 (s, 3H), 5.84 (d, J= 48.9 Hz, 1H), 7.66 (d, J = 8.7 Hz, 2H), 7.92 (d, J = 8.4 Hz, 2H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-190.6 (d, J= 48.5 Hz).
（第１２実施形態）
エチル ３-（フラン-３-イル）-３-オキソプロパノエート（０．２０ｍｍｏｌ），４-メチルヨードベンゼン(０．０１５ｍｍｏｌ)，ピリジンポリフッ化水素酸塩（２．０ｍｍｏｌ），ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン２．０ｍｌに溶かし，反応溶液を４０℃に加熱した。薄層クロマトグラフィーで反応の進行を確認し，再びｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を加え，３０分撹拌した。反応溶液を室温まで冷却し水を加え，ジクロロメタンを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，新規物質のエチル ２-フルオロ-３-（フラン-３-イル）-３-オキソプロパノエート１iを６４％の収率で得た。
Compound １i: エチル ２-フルオロ-３-（フラン-３-イル）-３-オキソプロパノエート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ1.28 (t, J = 6.9 Hz, 3H), 4.30 (dd, J = 6.9, 2.1 Hz, 2H), 5.71 (d, J = 48.6 Hz, 1H), 6.64 (m, 1H), 7.51 (s, 1H), 7.74 (s, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-193.7 (d, J = 48.5 Hz).
（第１３実施形態）
メチル ３-シクロヘキシル-３-オキソプロパノエート（０．２０ｍｍｏｌ），４-メチルヨードベンゼン(０．０１５ｍｍｏｌ)，ピリジンポリフッ化水素酸塩（２．０ｍｍｏｌ），ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン２．０ｍｌに溶かし，反応溶液を４０℃に加熱した。薄層クロマトグラフィーで反応の進行を確認し，再びｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を加え，１時間撹拌した。反応溶液を室温まで冷却し水を加え，ジクロロメタンを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，メチル ３-シクロヘキシル-２-フルオロ-３-オキソプロパノエート１ｊを５６％の収率で得た。
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ1.28 (t, J = 6.9 Hz, 3H), 4.30 (dd, J = 6.9, 2.1 Hz, 2H), 5.71 (d, J = 48.6 Hz, 1H), 6.64 (m, 1H), 7.51 (s, 1H), 7.74 (s, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-193.7 (d, J = 48.5 Hz).
（第１３実施形態）
メチル ３-シクロヘキシル-３-オキソプロパノエート（０．２０ｍｍｏｌ），４-メチルヨードベンゼン(０．０１５ｍｍｏｌ)，ピリジンポリフッ化水素酸塩（２．０ｍｍｏｌ），ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン２．０ｍｌに溶かし，反応溶液を４０℃に加熱した。薄層クロマトグラフィーで反応の進行を確認し，再びｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を加え，１時間撹拌した。反応溶液を室温まで冷却し水を加え，ジクロロメタンを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，メチル ３-シクロヘキシル-２-フルオロ-３-オキソプロパノエート１ｊを５６％の収率で得た。
Compound １ｊ: メチル ３-シクロヘキシル-２-フルオロ-３-オキソプロパノエート
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ1.18-1.46 (m, 5H), 1.67-1.89 (m, 5H), 2.87-2.88 (m, 1H), 3.85 (s, 3H), 5.30 (d, J = 49.2 Hz, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-196.3 (d, J = 49.6 Hz).
（第１４実施形態）
Ｎ，Ｎ-ジエチル-３-オキソ-３-フェニルプロパンアミド（０．２０ｍｍｏｌ），４-メチルヨードベンゼン(０．０１５ｍｍｏｌ)，ピリジンポリフッ化水素酸塩（２．０ｍｍｏｌ），ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン２．０ｍｌに溶かし，反応溶液を４０℃に加熱した。薄層クロマトグラフィーで反応の進行を確認し，再びｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を加え，３０分撹拌した。反応溶液を室温まで冷却し水を加え，ジクロロメタンを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，新規物質のＮ，Ｎ-ジエチル-２-フルオロ-３-オキソ-３-フェニルプロパンアミド１ｋを６６％の収率で得た。
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ1.18-1.46 (m, 5H), 1.67-1.89 (m, 5H), 2.87-2.88 (m, 1H), 3.85 (s, 3H), 5.30 (d, J = 49.2 Hz, 1H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-196.3 (d, J = 49.6 Hz).
（第１４実施形態）
Ｎ，Ｎ-ジエチル-３-オキソ-３-フェニルプロパンアミド（０．２０ｍｍｏｌ），４-メチルヨードベンゼン(０．０１５ｍｍｏｌ)，ピリジンポリフッ化水素酸塩（２．０ｍｍｏｌ），ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン２．０ｍｌに溶かし，反応溶液を４０℃に加熱した。薄層クロマトグラフィーで反応の進行を確認し，再びｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を加え，３０分撹拌した。反応溶液を室温まで冷却し水を加え，ジクロロメタンを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，新規物質のＮ，Ｎ-ジエチル-２-フルオロ-３-オキソ-３-フェニルプロパンアミド１ｋを６６％の収率で得た。
Compound １ｋ: Ｎ，Ｎ-ジエチル-２-フルオロ-３-オキソ-３-フェニルプロパンアミド
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ1.11 (t, J = 7.2 Hz, 3H), 1.19 (t, J = 7.2 Hz, 3H), 3.35-3.57 (m, 4H), 6.12 (d, J = 48.9 Hz, 1H), 7.46-7.52 (m, 2H), 7.59-7.64 (m, 1H), 8.15 (d, J = 7.8 Hz, 2H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-187.1 (d, J = 49.9 Hz).
（第１５実施形態）
１-フェニル-２-（ベンゼンスルホニル）エタノン（０．２０ｍｍｏｌ），４-メチルヨードベンゼン(０．０１５ｍｍｏｌ)，ピリジンポリフッ化水素酸塩（２．０ｍｍｏｌ），ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン２．０ｍｌに溶かし，反応溶液を４０℃に加熱した。薄層クロマトグラフィーで反応の進行を確認し，ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を加え，更に薄層クロマトグラフィーで反応の進行を確認したのち，ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を加えて，２４時間撹拌した。反応溶液を室温まで冷却し水を加え，ジクロロメタンを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，２-フルオロ-１-フェニル-２-（ベンゼンスルホニル）エタノン１ｌを７１％の収率で得た。
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ1.11 (t, J = 7.2 Hz, 3H), 1.19 (t, J = 7.2 Hz, 3H), 3.35-3.57 (m, 4H), 6.12 (d, J = 48.9 Hz, 1H), 7.46-7.52 (m, 2H), 7.59-7.64 (m, 1H), 8.15 (d, J = 7.8 Hz, 2H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-187.1 (d, J = 49.9 Hz).
（第１５実施形態）
１-フェニル-２-（ベンゼンスルホニル）エタノン（０．２０ｍｍｏｌ），４-メチルヨードベンゼン(０．０１５ｍｍｏｌ)，ピリジンポリフッ化水素酸塩（２．０ｍｍｏｌ），ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン２．０ｍｌに溶かし，反応溶液を４０℃に加熱した。薄層クロマトグラフィーで反応の進行を確認し，ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を加え，更に薄層クロマトグラフィーで反応の進行を確認したのち，ｍＣＰＢＡ（０．１３ｍｍｏｌ）を加えて，２４時間撹拌した。反応溶液を室温まで冷却し水を加え，ジクロロメタンを用いて抽出し，有機層を飽和食塩水で洗浄した。その後，Na2SO4を用いて溶液を乾燥させ減圧下，溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィーにて精製し，２-フルオロ-１-フェニル-２-（ベンゼンスルホニル）エタノン１ｌを７１％の収率で得た。
Compound １ｌ: ２-フルオロ-１-フェニル-２-（ベンゼンスルホニル）エタノン
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ6.35 (d, J = 48.0 Hz, 1H), 7.53 (t, J = 7.2 Hz, 2H), 7.59 (t, J = 7.8 Hz, 2H), 7.66-7.78 (m, 2H), 7.88 (d, J = 7.5 Hz, 2H), 8.03 (d, J = 7.2 Hz, 2H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-180.1 (d, J= 48.2 Hz).
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ6.35 (d, J = 48.0 Hz, 1H), 7.53 (t, J = 7.2 Hz, 2H), 7.59 (t, J = 7.8 Hz, 2H), 7.66-7.78 (m, 2H), 7.88 (d, J = 7.5 Hz, 2H), 8.03 (d, J = 7.2 Hz, 2H); 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ-180.1 (d, J= 48.2 Hz).
Claims (10)
- 下記一般式（１）で示されるカルボニル化合物に対して触媒量の下記一般式（２）で示されるヨードベンゼン誘導体，酸化剤，フッ化物イオン源の存在下，溶媒中で撹拌することで下記一般式（３）に示される２-フルオロ-１-カルボニル化合物を合成する方法。
（式中，Ｒ１，Ｒ２はそれぞれ独立に置換もしくは未置換のアルキル基，アルコキシ基，アラルキル基，置換基を有していてもよいアミノ基，アルキルチオ基，カルボニル基，置換基を有していてもよいカルバモイル基，アリール基，アリールオキシ基，アルケニル基，又はアルキニル基を示す。Ｘはカルボニル基又はスルホニル基を示す。）
（式中，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７はそれぞれ独立に水素原子，アルキル基，アルコキシ基，アラルキル基，ハロゲン原子，置換基を有していてもよいアミノ基，ヒドロキシル基，アルキルチオ基，カルボニル基，置換基を有していてもよいカルバモイル基，シアノ基，ニトロ基，アリール基，アリールオキシ基，アルケニル基，アルキニル基，シリル基又はスルホニル基を示す。なおＲ３およびＲ４，Ｒ４およびＲ５，Ｒ５およびＲ６又はＲ６およびＲ７が一体となって，ヘテロ原子の介在もしくは非介在で環状構造の一部を形成してもよい。）
（式中，Ｒ１，Ｒ２及びＸは式（１）記載の通りである。） - 前記酸化剤が、過酢酸，過酸化水素水，尿素・過酸化水素，過炭酸ナトリウム，次亜塩素酸ナトリウム，亜塩素酸ナトリウム，臭素酸カリウム，過ヨウ素酸ナトリウム，過ホウ酸ナトリウム，過ホウ酸カリウム，四ホウ酸ナトリウム，ぺルオキソ二硫酸ジカリウム，Oxone（登録商標），過硫酸テトラブチルアンモニウム，三酸化クロム，過マンガン酸カリウム，二クロム酸カリウム，３-クロロ過安息香酸， Selectfluor（登録商標），酸素，フッ素，塩素，臭素，ジメチルジオキシラン，硝酸，発煙硝酸， tert-ブチルヒドロペルオキシド，次亜塩素酸tert-ブチル，ビス(モノペルオキシフタル酸)マグネシウム 六水和物，Ｎ−ブロモスクシンイミド，Ｎ−ヒドロキシフタルイミド，二酸化ケイ素の群から選択される１または２種以上の物質であることを特徴とする請求項１記載の方法。
- 前記酸化剤の使用量が、一般的式（１）に対して，１．０〜１０当量であることを特徴とする請求項１または２記載の方法。
- 前記フッ化物イオン源が、フッ化水素酸，トリエチルアミン三フッ化水素酸塩，トリエチルアミン五フッ化水素酸塩，トリエチルアミン六フッ化水素酸塩，ピリジン三フッ化水素酸塩，ピリジン六フッ化水素酸塩，ピリジン九フッ化水素酸塩，ピリジンポリフッ化水素酸塩，フッ化カリウム，フッ化水素カリウム，フッ化セシウム，フッ化銀（Ｉ），テトラメチルアンモニウムフロリド，テトラブチルアンモニウムフロリド，テトラブチルアンモニウムビフルオリド，テトラブチルアンモニウムジフルオロトリフェニルシリカート，テトラブチルアンモニウムジフルオロトリフェニルすず，テトラブチルアンモニウム三ふっ化二水素の群から選択される１または２種以上の物質であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の方法。
- 前記フッ化物イオン源の使用量が一般的式（１）に対して，１．０〜１００当量であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の方法。
- 前記溶媒が、ジエチルエーテル，ジイソプロピルエーテル，ｎ−ブチルメチルエーテル，ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル，テトラヒドロフラン，ジオキサン等のエーテル系溶媒；ヘプタン，ヘキサン，シクロペンタン，シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒；クロロホルム，四塩化炭素，塩化メチレン，ジクロロエタン，トリクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒；ベンゼン，トルエン，キシレン，クメン，シメン，メシチレン，ジイソプロピルベンゼン，ピリジン,ピリミジン,ピラジン,ピリダジン等の芳香族系溶媒；酢酸エチル等のエステル系溶媒；アセトン，メチルエチルケトン等のケトン系溶媒；ジメチルスルホキシド，ジメチルホルムアミド等の溶媒；メタノール,エタノール,プロパノール，i-プロピルアルコール，アミノエタノール，N,N-ジメチルアミノエタノール等のアルコール系溶媒；アセトニトリル等のニトリル系溶媒；１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン，１，１，１，２，３，３，３−ヘプタフルオロプロパン等のフルオロカーボン系溶媒；超臨界二酸化炭素，イオン性液体の群から選択される１種または２種以上の物質の混合であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の方法。
- 下記一般式（４）で示されるメチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-（２-メチルフェニル）プロパノエート。
- 下記一般式（５）で示されるメチル ２-フルオロ-３-オキソ-３-（３-メトキシフェニル）プロパノエート。
- 下記一般式（６）で示されるエチル ２-フルオロ-３-（フラン-３-イル）-３-オキソプロパノエート。
- 下記一般式（７）で示されるＮ，Ｎ-ジエチル-２-フルオロ-３-オキソ-３-フェニルプロパンアミド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013115430A JP2014234355A (ja) | 2013-05-31 | 2013-05-31 | 触媒量の超原子価ヨウ素試薬を用いるカルボニル化合物へのフッ素化法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013115430A JP2014234355A (ja) | 2013-05-31 | 2013-05-31 | 触媒量の超原子価ヨウ素試薬を用いるカルボニル化合物へのフッ素化法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014234355A true JP2014234355A (ja) | 2014-12-15 |
Family
ID=52137310
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013115430A Pending JP2014234355A (ja) | 2013-05-31 | 2013-05-31 | 触媒量の超原子価ヨウ素試薬を用いるカルボニル化合物へのフッ素化法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2014234355A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110041161A (zh) * | 2018-01-16 | 2019-07-23 | 南通诺泰生物医药技术有限公司 | (3r)-2,4-二碘代-3-甲基丁-1-烯化合物及其制备方法和应用 |
| WO2019189862A1 (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-03 | ダイキン工業株式会社 | フッ素化有機化合物の製造方法 |
-
2013
- 2013-05-31 JP JP2013115430A patent/JP2014234355A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110041161A (zh) * | 2018-01-16 | 2019-07-23 | 南通诺泰生物医药技术有限公司 | (3r)-2,4-二碘代-3-甲基丁-1-烯化合物及其制备方法和应用 |
| WO2019189862A1 (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-03 | ダイキン工業株式会社 | フッ素化有機化合物の製造方法 |
| CN112004793A (zh) * | 2018-03-30 | 2020-11-27 | 大金工业株式会社 | 氟化有机化合物的制造方法 |
| JPWO2019189862A1 (ja) * | 2018-03-30 | 2021-01-07 | ダイキン工業株式会社 | フッ素化有機化合物の製造方法 |
| JP7129070B2 (ja) | 2018-03-30 | 2022-09-01 | ダイキン工業株式会社 | フッ素化有機化合物の製造方法 |
| US11667600B2 (en) | 2018-03-30 | 2023-06-06 | Daikin Industries, Ltd. | Fluorinated organic compound production method |
| CN112004793B (zh) * | 2018-03-30 | 2024-02-27 | 大金工业株式会社 | 氟化有机化合物的制造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Kirihara et al. | Oxidation of disulfides with electrophilic halogenating reagents: concise methods for preparation of thiosulfonates and sulfonyl halides | |
| Kirihara et al. | Oxidation of disulfides with Selectfluor™: concise syntheses of thiosulfonates and sulfonyl fluorides | |
| JP6029090B2 (ja) | フッ素化物の単離方法 | |
| JP2014139151A (ja) | （ｅ）−１−ハロ−エナミド誘導体又はその塩を製造する方法及び（ｅ）−１−ハロ−エナミド誘導体又はその塩。 | |
| CN107540598B (zh) | 一种制备n-二氟甲硫基邻苯酰亚胺类化合物的方法 | |
| JP2014234355A (ja) | 触媒量の超原子価ヨウ素試薬を用いるカルボニル化合物へのフッ素化法 | |
| CN110621658B (zh) | 五氟硫烷基芳香族化合物的制造方法 | |
| JP2015063500A (ja) | 超原子価ヨウ素試薬を用いる第３級１，３−ジカルボニル化合物の触媒的不斉フッ素化法 | |
| JP2009242270A (ja) | ４−パーフルオロイソプロピルアニリン類の製造方法 | |
| JPH0912508A (ja) | ２−フルオロ−イソ酪酸アルキルの製造方法 | |
| JP2003335735A (ja) | パーフルオロイソプロピルアニリン類の製造方法 | |
| JP2014234356A (ja) | 触媒量の超原子価ヨウ素試薬を用いるオレフィンへのアミノフッ素化法 | |
| JP2014019667A (ja) | モノフルオロメチル基を有するヘテロ原子含有５員環化合物と不活性なｃ−ｆ結合切断を鍵反応とするその製造方法 | |
| JP4675065B2 (ja) | ４−フルオロプロリン誘導体の製造方法 | |
| JP5305321B2 (ja) | フルオロ化合物の製造方法 | |
| BR112019009760A2 (pt) | t-butil 2-carbamotioil-2-(3-(5-(4-cianofenoxi)piridin-2-il)-2-(2,4- difluorofenil)-3,3-difluoro-2-hidroxipropil)hidrazina-l- carboxilato e processos de preparação | |
| Khisamutdinov et al. | Fluorination of 4-nitroisoxazoline salts. Synthesis of 4-fluoro-4-nitroisoxazolines and 4-fluoroisoxazoles | |
| JP6985636B2 (ja) | α−フルオロアクリル酸エステルの製造方法 | |
| CN108264522A (zh) | 含芳基硅醚基团的亚膦酰胺 | |
| JP2016084346A (ja) | ビス（３−フェネチルオキシフェニル）ジスルフィド誘導体およびその製造方法 | |
| CN107827834B (zh) | 5-芳基-6-三氟甲基-1,2,4-三氮嗪-3-甲酸酯化合物及制备方法 | |
| JP2015086144A (ja) | 光学活性超原子価ヨウ素型トリフルオロメチル化試薬及びその製造法 | |
| JP2007055958A (ja) | 含窒素化合物の製造方法 | |
| JP6764158B2 (ja) | カルボニル化合物の製造方法 | |
| JP2020158392A (ja) | フルオロフェノール誘導体の製造方法及び新規なフルオロ化合物 |