JP2014227191A - 粉体移送装置及び粉体移送方法 - Google Patents

Abstract

【課題】
ホッパ内において、粉体によって形成されるブリッジングを効果的に解消する不活性ガスの噴射形態を有する粉体移送装置および粉体移送方法の提供。
【解決手段】
ホッパ１１内部に、先端位置を高さ方向に調整でき、ホッパ排出口方向に不活性ガスを噴射するホッパ内挿ノズル２６を備え、ホッパのコーン部１１ａ内壁面からホッパ内部に不活性ガスを噴射する内壁面ノズル４９，５０，５１を備える。ホッパ内挿ノズルから噴射した不活性ガスでホッパ排出口付近の粉体を押し出し、ホッパ排出口付近で形成されるブリッジングを解消してホッパ排出口付近に空洞を形成する。さらにホッパ内壁面ノズルから不活性ガスを噴射し、ホッパ内壁面近傍で形成された粉体のブリッジングを崩壊させ、ホッパ排出口付近に形成された空洞に落下させることで、円滑な移送を実現する。
【選択図】図１

Description

本発明は、石炭等の粉体(固体燃料)を、ホッパ間で重力落下させる粉体移送装置とその粉体移送方法に関する。

本技術分野の背景技術として、実開平２−１３１９９４号公報（特許文献１）がある。この公報には、ホッパ内にユーティリティガスが投入される粉粒体用ホッパ装置が記載されている。この粉粒体用ホッパ装置は、ユーティリティガスの温度を制御する調温装置を備え、温度を調節されたユーティリティガスがホッパの払出し部（排出口）近傍に投入される（実用新案登録請求の範囲、第２図参照）。特許文献１には、上記粉粒体用ホッパ装置により、粉粒体内の湿りによる架橋（ブリッジング）の発生を防止できることが記載されている（考案の効果参照）。

また、特開平１１−１６５７９１号公報（特許文献２）には、気体噴出立体ノズルの気体噴出口から気体を噴出させ、気体噴出立体ノズルを水平回転させると共に上下動させるように構成された粉粒体貯留槽が記載されている。この粉粒体貯留槽では、気体を貯留槽のテーパー下部内の粉粒体に吹き付けることによって、ブリッジ現象を防止できることが記載されている（要約参照）。

実開平02−131994号公報 特開平11−165791号公報

上記特許文献１には、ホッパ内にユーティリティガスを投入する配管が設けられた粉粒体用ホッパ装置が記載されている。しかし、このユーティリティガス配管の出口はホッパの払出し部（排出口）近傍に固定され、湿分の凝縮によるブリッジングの発生を防止するために設けられている。特許文献１では、発生したブリッジングを解消することについては配慮されていない。

上記特許文献２では、気体噴出立体ノズルを水平回転させると共に上下動させ、気体を貯留槽（ホッパ）のテーパー下部内の粉粒体に吹き付けることによって、ブリッジングを解消する粉粒体貯留槽が記載されている。しかし、気体噴出立体ノズルから水平方向に噴出される気体は、ホッパ下部に位置した場合にはテーパー部内壁面に届き易いが、ホッパ上部に位置した場合にはテーパー部内壁面に届きにくくなる。さらに、気体噴出立体ノズルを上方に移動するほど、気体噴出立体ノズルから下方に向けて噴出される気体がホッパ下方に届きにくくなり、ホッパ排出口付近に形成されたブリッジング解消も難しくなる。

以上を鑑み、本発明の課題は、ホッパ内において、粉体によって形成されるブリッジングを効果的に解消する不活性ガスの噴射形態を有する粉体移送装置および粉体移送方法を提供することである。

ホッパ内部に、先端位置を高さ方向に調整でき、ホッパ排出口方向に不活性ガスを噴射するホッパ内挿ノズルを備え、ホッパのコーン部内壁面からホッパ内部に不活性ガスを噴射する内壁面ノズルを備える。ホッパ内挿ノズルから噴射した不活性ガスでホッパ排出口付近の粉体を刺激し、ホッパ内壁面ノズルでホッパ内壁面付近の粉体を刺激する。

ホッパ内挿ノズルの先端から噴射された不活性ガスは、ホッパ内挿ノズルの直下の粉体をホッパ排出口方向に押し出し、ホッパ排出口付近のブリッジングを解消するとともに、ホッパ排出口付近に空洞を形成する。さらに、ホッパ内壁面ノズルから不活性ガスを噴射し、ホッパ内壁面近傍で形成された粉体のブリッジングを崩壊させる。崩壊された粉体はホッパ排出口付近に形成された空洞に落下することで、連続的な移送が実現される。

本発明によれば、ホッパ内に発生する粉体によるブリッジングを効果的に解消できる不活性ガスの噴き付け形態を実現でき、粉体の円滑な移送を実現できる。

上記した以外の課題、構成及び効果は、以下の実施形態の説明により明らかにされる。

本発明に係る粉体移送方法を適用した、ガス化炉への石炭供給系統の実施例を示す図である。 図1に記載した石炭供給系統において、ロックホッパ底部における不活性ガス噴射ノズルの配置図である。 図２のロックホッパ底部におけるIII−III’断面図である。 図１に記載した制御系を用いた石炭供給系統において、ロックホッパの運用方法の一例を示す図である。 図４に示す運用方法を実行するフローチャートである。 図５に示すＳ７００の粉体移送工程で実行する不活性ガスの噴射方法の一例を示すフローチャートである。 本発明に係る粉体移送方法を適用した、ガス化炉への石炭供給系統およびチャーの供給系統を示す図である。

以下、図示した実施例に基づいて本発明の粉体移送方法を説明する。実施例では、本発明の粉体移送方法を適用したガス化システムについて説明するが、本発明の適用先は、ガス化システムに限定されるものではなく、上下のホッパ間で粉体を移送する全ての粉体移送系に適用可能である。また、本実施例では、不活性ガスとして窒素を用いた場合で説明するが、二酸化炭素等を用いても構わず、本実施例と同様の移送方法で実施できる。

図１〜３を参照して、本発明に係る粉体移送方法を適用した、ガス化炉への石炭供給系統（石炭供給装置）について説明する。

最初に図１を参照して石炭供給系統の構成を説明する。図1に、ガス化炉４６への石炭供給系統を示す。

ホッパ間の石炭移送、およびガス化炉への石炭搬送には窒素を用いる。ガス化炉は加圧した状態で運用され、本実施例では、石炭供給系統を、上から常圧ホッパ２、ロックホッパ１１、フィードホッパ３１の３つのホッパで構成している。本発明に係るホッパ内挿ノズルは、ロックホッパ１１に設置する。

常圧ホッパ２のコーン部２ａの下端（排出口）は常圧ホッパ移送管１０によってロックホッパ１１の上部に接続され、移送管１０には常圧ホッパ移送弁９が設けられている。ロックホッパ１１のコーン部１１ａの下端（排出口５４）はロックホッパ移送管３０によってフィードホッパ３１の上部に接続され、移送管３０にはロックホッパ移送弁２９が設けられている。常圧ホッパ２とロックホッパ１１との間には均圧管１２が配管（接続）されており、均圧管１２には均圧弁１３が設けられている。ロックホッパ１１とフィードホッパ３１との間には均圧管１４が配管されており、均圧管１４には均圧弁１５が設けられている。

常圧ホッパ２のコーン部２ａには、常圧ホッパ上段内壁面ノズル４９−２、常圧ホッパ中段内壁面ノズル５０−２及び常圧ホッパ下段内壁面ノズル５１−２が、常圧ホッパ中心軸２ｂ方向に沿って、３段に配置されている。上段内壁面ノズル４９−２、中段内壁面ノズル５０−２及び下段内壁面ノズル５１−２には、それぞれ常圧ホッパ上段内壁面ノズル窒素配管３、常圧ホッパ中段内壁面ノズル窒素配管５及び常圧ホッパ下段内壁面ノズル窒素配管７が配管されており、各配管を通じて低圧の窒素が供給される。上段内壁面ノズル窒素配管３、中段内壁面ノズル窒素配管５及び下段内壁面ノズル窒素配管７には、それぞれ常圧ホッパ上段内壁面ノズル窒素流量調整弁４、常圧ホッパ中段内壁面ノズル窒素流量調整弁６及び常圧ホッパ下段内壁面ノズル窒素流量調整弁８が設けられている。

ロックホッパ１１のコーン部１１ａには、ロックホッパ上段内壁面ノズル４９−１１、ロックホッパ中段内壁面ノズル５０−１１及びロックホッパ下段内壁面ノズル５１−１１が、ロックホッパ中心軸１１ｂ（５２）方向に沿って、３段に配置されている。ロックホッパ上段内壁面ノズル４９−１１、ロックホッパ中段内壁面ノズル５０−１１及びロックホッパ下段内壁面ノズル５１−１１には、それぞれロックホッパ上段内壁面ノズル窒素配管１８、ロックホッパ中段内壁面ノズル窒素配管２０及びロックホッパ下段内壁面ノズル窒素配管２２が配管されており、各配管を通じて高圧の窒素が供給される。上段内壁面ノズル窒素配管１８、中段内壁面ノズル窒素配管２０及び下段内壁面ノズル窒素配管２２には、それぞれロックホッパ上段内壁面ノズル窒素流量調整弁１９、ロックホッパ中段内壁面ノズル窒素流量調整弁２１及びロックホッパ下段内壁面ノズル窒素流量調整弁２２が設けられている。ロックホッパ１１には、ホッパ内部を加圧するためのロックホッパ加圧窒素配管１６が配管されており、加圧窒素配管１６にはロックホッパ加圧窒素流量調整弁１７が設けられている。

ロックホッパ１１にはロックホッパ内挿ノズル２６が設けられており、ロックホッパ内挿ノズル２６はロックホッパ内挿ノズル外筒２６ａとロックホッパ内挿ノズル内筒２６ｂとで構成されている。外筒２６ａ及び内筒２６ｂにはそれぞれロックホッパ内挿ノズル外筒用窒素配管５９及びロックホッパ内挿ノズル内筒用窒素配管２４が配管され、高圧の窒素が供給されるように構成されている。外筒用窒素配管５９及び内筒用窒素配管２４にはそれぞれロックホッパ内挿ノズル外筒用窒素流量調整弁６０及びロックホッパ内挿ノズル内筒用窒素流量調整弁２５が設けられている。また、ロックホッパ内挿ノズル２６には、ロックホッパ内挿ノズル内筒２６ｂの先端位置を調整する調整装置（アクチュエータ）６４が設けられている。

上述した構成により、本実施例では、下部にコーン部１１ａ，３１ａを有する２つのホッパ１１，３１を上下に配置し、上下のホッパ１１，３１間で粉体を移送する粉体移送装置において、上側のホッパ１１内部に、ホッパ１１のコーン部１１ａ内壁面から離れた位置で先端位置を高さ方向に調整可能に構成され、先端からホッパ排出口５４（図２参照）方向に不活性ガスを噴射するホッパ内挿ノズル２６と、コーン部１１ａ内壁面に設けられコーン部１１ａ内壁面からホッパ１１内部に不活性ガスを噴射する内壁面ノズル４９，５０，５１とを備えている。

尚、ホッパ内挿ノズル２６は、上側のホッパ１１に位置が固定された第１の管状部材２６ａと、第１の管状部材２６ａに少なくとも一部が挿入され、第１の管状部材２６ａの下端からの突出長さが変化することにより先端の高さ方向位置が変位する第２の管状部材２６ｂとを備え、第２の管状部材２６ｂの先端から不活性ガスを噴射する。

また、ロックホッパ１１の上部にはロックホッパロードセル２８が設けられており、ロックホッパロードセル２８の検出信号はロックホッパロードセル演算装置６２を介して制御装置６１に送信されるように構成されている。

フィードホッパ３１のコーン部３１ａには、フィードホッパ上段内壁面ノズル４９−３１、フィードホッパ中段内壁面ノズル５０−３１及びフィードホッパ下段内壁面ノズル５１−３１が、フィードホッパ中心軸３１ｂ方向に沿って、３段に配置されている。上段内壁面ノズル４９−３１、中段内壁面ノズル５０−３１及び下段内壁面ノズル５１−３１には、それぞれフィードホッパ上段内壁面ノズル窒素配管３２、フィードホッパ中段内壁面ノズル窒素配管３４及びフィードホッパ下段内壁面ノズル窒素配管３６が配管されており、各配管を通じて高圧の窒素が供給される。上段内壁面ノズル窒素配管３２、中段内壁面ノズル窒素配管３４及び下段内壁面ノズル窒素配管３６には、それぞれフィードホッパ上段内壁面ノズル窒素流量調整弁３３、フィードホッパ中段内壁面ノズル窒素流量調整弁３５及びフィードホッパ下段内壁面ノズル窒素流量調整弁３７が設けられている。さらに、フィードホッパ３１の底部には、フィードホッパ底部に窒素を噴射して微粉炭１の流動化を図るフィードホッパ底部流動化ノズル３８ａが設けられ、このノズル３８ａに窒素を供給するフィードホッパ底部流動化ノズル窒素配管３８が配管されている。窒素配管３８にはフィードホッパ底部流動化ノズル窒素流量調整弁３９が設けられている。

また、フィードホッパ３１の上部にはフィードホッパロードセル４０が設けられており、フィードホッパロードセル４０の検出信号はフィードホッパロードセル演算装置６３を介して制御装置６１に送信されるように構成されている。

フィードホッパ３１とガス化炉４６との間には微粉炭搬送管４２が配管され、微粉炭搬送管４２には微粉炭搬送流量調整弁４１が設けられている。微粉炭搬送管４２のガス化炉４６側の端部は、ガス化炉４６に設けられた微粉炭バーナ４５に接続されている。

ガス化炉４６の微粉炭バーナ４５には微粉炭搬送管４２の他に酸素含有ガス配管４４が配管され、酸素含有ガス配管４４には酸素含有ガス流量調整弁４３が設けられている。ガス化炉４６では生成ガス４７が生成され、この生成過程でスラグ４８が発生する。

次に、図１の石炭供給系統による粉体移送方法を説明する。

粉砕機で平均粒径100μm以下、かさ密度500〜600kg/m³程度に粉砕された微粉炭1は、まず常圧ホッパ２に貯留される。常圧ホッパ２の上部には、篩等が設置されており、微粉炭１中に混入した異物が取り除かれる。常圧ホッパ２に貯留された微粉炭１は、常圧ホッパ移送管１０および常圧ホッパ移送弁９を介して重力落下し、直下のロックホッパ１１に移送される。この際、常圧ホッパ２とロックホッパ１１の均圧弁１３を開けて、常圧ホッパ２とロックホッパ１１の均圧管１２を用いることで、微粉炭１は常圧下で移送される。また、移送速度を高めるために、常圧ホッパ２のコーン部２ａに複数段設置された、常圧ホッパ内壁面ノズル４９−２，５０−２，５１−２から窒素を噴射すると良い。本実施例では、ノズルを上段、中段、下段の3段設置した場合を示すが、段数や1段あたりのノズルの本数は、コーン部２ａの大きさや移送する粉体物性(かさ密度、流動性指数など)を考慮して増減させても構わない。また、常に全てのノズル４９−２，５０−２，５１−２から窒素を常時噴射する必要はなく、間欠で噴射したり、常圧ホッパ２内の微粉炭１の残量に応じ、間欠噴射の周期や使用するノズル本数を変えても構わない。

次に、常圧ホッパ移送弁９と常圧ホッパ２とロックホッパ１１の均圧弁１３が閉止された後、ロックホッパ１１に貯留された微粉炭１は、フィードホッパ３１と同じ圧力まで加圧される。ロックホッパ１１の加圧後に、ロックホッパ１１とフィードホッパ３１の均圧弁１５を開けて、ロックホッパ１１とフィードホッパ３１の圧力を均等にする。さらに、ロックホッパ移送弁２９を開けて、ロックホッパ１１内に貯留された微粉炭１を、ロックホッパ移送管３０を介して重力落下させ、フィードホッパ３１に移送する。

ロックホッパ１１からの移送時に、ロックホッパ１１の圧力をフィードホッパ３１と均圧とする理由は、移送の有無に関係なく、所定量の微粉炭１を、搬送管４２と微粉炭流量調整弁４１と微粉炭バーナ４５を介して、フィードホッパ３１からガス化炉４６に搬送継続しているためである。

特に、本実施例のように、フィードホッパ３１内で微粉炭１を流動化させ、フィードホッパ３１とガス化炉４６の差圧で圧送する搬送方式では、微粉炭１の搬送量の変動抑制のためにフィードホッパ３１圧力を一定とする運用が望ましい。フィードホッパ３１の圧力を一定に保ち、かつ低コスト運用の観点から、移送時にロックホッパ１１に投入する窒素流量を削減できる運用が好適である。窒素の使用量低減と移送の信頼性を高めうるロックホッパ１１の運用方法については、後述する。

本実施例のように加圧下での石炭供給系統においては、微粉炭１をフィードホッパ３１まで移送した後に、脱圧して微粉炭１をロックホッパ１１に再充填し、フィードホッパ３１内の微粉炭１が無くなる前に補充するバッチ式の移送となる。このため、各ホッパ間の移送を所定時間以内に終了させる必要がある。

微粉炭１の移送速度を高めるために、ロックホッパ１１のコーン部１１ａに常圧ホッパ内壁面ノズル４９−２，５０−２，５１−２を複数段に設置している。常圧ホッパ内壁面ノズル４９−２，５０−２，５１−２から窒素を噴射することにより、微粉炭１の移送速度を高めることができる。

特に、ロックホッパ１１からフィードホッパ３１への移送は、加圧下で実施される。加圧下では、微粉炭１の粉体圧に加え、ロックホッパ１１内の窒素の密度も常圧より高いことから、ロックホッパ１１の排出口５４（図２参照）付近の微粉炭１が圧密されてブリッジングを形成し、移送停滞が発生しやすくなることが懸念される。ロックホッパ内壁面ノズル４９−１１，５０−１１，５１−１１から窒素噴射しても、ブリッジング解消に時間を要し、所定時間以内に移送完了できないことも想定される。

そこで、ロックホッパ１１の排出口５４付近のブリッジングを解消および予防することで移送停滞を回避し、単位時間あたりの平均移送速度を所定値以上に保持するために、ロックホッパ内壁面ノズル４９−１１，５０−１１，５１−１１に加えて、ロックホッパ内挿ノズル２６を設置している。ロックホッパ内挿ノズル２６の先端から、ロックホッパ１１の排出口５４方向に向けて窒素を噴射し、ロックホッパ１１の排出口５４付近の微粉炭１を排出口５４方向に押出すことで、ブリッジングを解消させる。

ロックホッパ内挿ノズル２６の先端位置を可動式とし、コーン部１１ａの任意高さに設置することで、ロックホッパ１１のコーン部１１ａの任意箇所で発生したブリッジングの近くから窒素を噴射し、微粉炭１を排出口５４方向に押出すことができる。これにより、短時間でブリッジングを解消し、噴射する窒素ガス量も削減できる。

ロックホッパ内挿ノズル２６は、同軸の複数の管で構成され、最外を除いた内側の管を抜き差しすることで、ノズル先端位置を任意高さに調整できる。本実施例では、ロックホッパ内挿ノズル２６が、ロックホッパ内挿ノズル外筒２６ａとロックホッパ内挿ノズル内筒２６ｂの2重管で構成された場合で説明する。この場合、ロックホッパ内挿入ノズル内筒２６ｂを抜き差しすることで、先端の窒素噴射位置を可動式とできる。窒素はロックホッパ内挿ノズル内筒用窒素配管２４を介して供給され、窒素流量はロックホッパ内挿ノズル内筒用窒素流量調整弁２５で調整される。

ロックホッパ内挿ノズル中心軸５３を、ロックホッパ１１の排出口５４に向けることで、ロックホッパ内挿入ノズル内筒２７の先端から噴射された窒素は、ロックホッパ内挿ノズル内筒２７の直下の微粉炭１をロックホッパ移送管３０方向に押し出す。これにより、ロックホッパ１１の排出口５４付近のブリッジングを解消するとともに、ロックホッパ１１の排出口５４付近に空洞を形成する。ロックホッパ内挿入ノズル内筒２７の先端からさらに窒素を噴射することで、窒素噴流への微粉炭１の同伴(エジェクタ)効果が期待できる。

さらに、ロックホッパ上段内壁面ノズル４９−１１、ロックホッパ中段内壁面ノズル５０−１１、ロックホッパ下段内壁面ノズル５１−１１といった壁面からの窒素噴射を併用し、壁面近傍で形成された微粉炭１のブリッジングが解消・崩壊されて、上記のロックホッパ１１排出口５４付近に形成された空洞に微粉炭１が落下することで、連続的な移送となる。ロックホッパ１１の中心側と壁面側の微粉炭１にそれぞれ刺激を与えて、ブリッジングを解消する操作を継続することで、排出口５４付近での新たなブリッジング形成を予防できる。これにより、単位時間あたりの平均移送速度を所定値以上に保持することが可能となる。

なお、単位時間あたりの平均移送速度は、ロックホッパロードセル２８で計測したロックホッパ１１内に貯留された微粉炭１の重量変化から求めると良い。ロックホッパロードセル２８以外でも、粉体用のレベルセンサ等の別の計測手段を用いても構わない。

次に、ロックホッパ１１のコーン部１１ａにおける内壁面ノズルとロックホッパ内挿ノズルの配置を図２に示す。ロックホッパ上段内壁面ノズル４９−１１、ロックホッパ中段内壁面ノズル５０−１１、ロックホッパ下段内壁面ノズル５１−１１を、それぞれ90度間隔で４本設置した場合を示す。

ロックホッパ１１のコーン部１１ａの任意の箇所で形成されうるブリッジングを確実に解消するためには、内壁面ノズル４９−１１、５０−１１、５１−１１の段数や1段あたりのノズルの本数を増やす方が有利である。しかし、内壁面ノズル４９−１１、５０−１１、５１−１１の数を増やすと、噴射する窒素の使用量が増加し、ロックホッパ１１とフィードホッパ３１の圧力変動抑制にも不利である。このため、内壁面ノズル４９−１１、５０−１１、５１−１１の員数と配置は、コーン部１１ａの大きさ、ブリッジング形成位置、および移送する粉体物性(安息角、流動性指数、かさ密度、平均粒径、水分含有量など)を考慮して設計すると良い。ロックホッパロードセル２８の重量変化から単位時間あたりの平均移送速度をモニタし、使用する内壁面ノズルの位置や員数を変える運用としても良い。

このように、内壁面ノズル４９−１１、５０−１１、５１−１１の設置目的は、ロックホッパ１１のコーン部１１ａの内壁面付近の微粉炭１に刺激を与えてブリッジングを解消し、ロックホッパ排出口５４方向に微粉炭１を移動する流れを作ることである。

ロックホッパ内挿ノズル２６は、ロックホッパ内挿入ノズル中心軸５３の延長線がロックホッパ排出口５４の位置でロックホッパ中心軸５２付近を通るように設置することを基本とする。理想的には、ロックホッパ内挿入ノズル中心軸５３の延長線がロックホッパ排出口５４の位置で中心軸５２と交差するように、或いはロックホッパ排出口５４の開口中心５２ａを通るようにする。これは、ロックホッパ内挿ノズル２６の先端から噴射した窒素で、微粉炭１をロックホッパ排出口５４方向に押出すためである。また、窒素や微粉炭１のロックホッパ１１内壁面への衝突による磨耗も防ぐ。

本実施例では、ロックホッパ内挿ノズル２６が、ロックホッパ内挿ノズル外筒２６ａとロックホッパ内挿ノズル内筒２６ｂの２重管で構成された場合で説明する。この場合、ロックホッパ内挿入ノズル内筒２６ｂを抜き差しすることで、先端の窒素噴射位置を可動式とすることができる。これにより、ロックホッパ１１の内壁から離れたロックホッパ中心軸５２付近の任意の高さの微粉炭１を排出口５４方向に押出し、ブリッジングを解消してロックホッパ排出口５４方向に微粉炭１を移動する流れを作ることができる。

なお、扱う粉体の物性や、ブリッジングの強度によっては、ロックホッパ内挿ノズル内筒２６ｂから窒素を噴射せず、先端位置を変動（変位）させるだけで、ブリッジングを解消できる場合もある。この効果を高めるために本実施例では、ロックホッパ内挿ノズル内筒２６ｂの先端にリブ５７を設置している。リブ５７は、ロックホッパ内挿ノズル内筒２６ｂの外周面に、ノズルの中心軸５３に沿って、延設されている。リブ５７は、ロックホッパ内挿ノズル内筒２６ｂの周方向に４つ配置している。リブ５７の個数は４つに限定される訳ではないが、複数設ける方が大きな効果を期待できる。

また、リブ５７の上端部には、ロックホッパ内挿ノズル内筒２６ｂの上方に向かうに従って、ロックホッパ内挿ノズル内筒２６ｂの外周面からの突き出し高さが低くなり、上流端で突き出し高さがゼロになる傾斜部５７ａが設けられている。

ロックホッパ内挿ノズル内筒２６ｂの先端にリブ５７を設置したことで、ノズルの可動時に周囲の粉体を刺激でき、ブリッジング解消を助ける。これにより、ロックホッパ内挿ノズル内筒先端から噴射された窒素５６の流量低減効果も期待できる。また、リブ５７に傾斜部５７ａを設けたことにより、リブ５７の上端部に微粉炭１が堆積して圧密され、新たなブリッジング形成の起点となることを防ぐことができる。上方から落下してくる微粉炭１がリブ５７の上端部に衝突することにより、ロックホッパ内挿ノズル内筒２６ｂが受ける荷重を小さくすることもできる。

ロックホッパ内挿ノズル内筒２６ｂの先端位置を変動させることによるブリッジング解消は、リブ５７を設けない場合でも得られる場合がある。従って、ブリッジング解消のためにリブ５７は必須の構成ではないが、リブ５７を設けることによりブリッジング解消の効果を高めることができる。

また、本実施例では、ロックホッパ内挿ノズル外筒２６ａに窒素供給配管５９を接続している。ロックホッパ内挿ノズル外筒２６ａの内周面とロックホッパ内挿ノズル内筒２６ｂの外周面との間に窒素５８の流れが形成され、ロックホッパ内挿ノズル外筒２６ａの先端から窒素５８が噴射される。これにより、ロックホッパ内挿ノズル外筒２６ａとロックホッパ内挿ノズル内筒２６ｂとの隙間をパージできるため、ロックホッパ内挿ノズル内筒２７の変位動作の障害を取り除くことができる。

ロックホッパ内挿ノズル外筒２６ａに窒素供給配管５９を接続して先端から窒素５８を噴射する構成は、上記作用効果の必要性に応じて適宜設けるようにすれば良い。

最後に、図２のロックホッパ下段内壁面ノズル５１−１１が設けられた高さの断面図（III−III’断面）を図３に示す。図３ではノズル配置と窒素の噴射方向の一例を示している。ロックホッパ下段内壁面ノズル５１−１１を90度間隔で４本設置し、ロックホッパ内挿入ノズル内筒２６ｂの先端を、III−III’断面まで伸ばした場合で説明する。

ロックホッパ下段内壁面ノズル５１−１１から噴射された窒素５５は、壁面に沿って噴射すると良い。ロックホッパ下段内壁面ノズル５１への微粉炭１の侵入によるノズル閉塞を防ぐため、窒素の噴射方向は、真横、斜め下方、鉛直下方のいずれでも構わない。ロックホッパ下段内壁面ノズル５１−１１は、壁面に沿って窒素５５を噴射することにより、壁面近傍におけるブリッジングを解消する。ロックホッパ上段内壁面ノズル４９−１１及びロックホッパ中段内壁面ノズル５０−１１もロックホッパ下段内壁面ノズル５１−１１と同様にホッパの内壁面に沿って噴射するようにすればよいが、噴射方向はそれぞれで変えても構わない。

ロックホッパ内挿入ノズル内筒２６ｂの先端をロックホッパ下段内壁面ノズル５１−１１の高さまで挿入すると、ロックホッパ排出口５４の直上付近から窒素５６を噴射することとなる。ロックホッパ内挿ノズル内筒２６ｂの先端から噴射された窒素５６は、ロックホッパ中心軸５２に向けて斜め下方に噴射することを基本とする。

以上のように、ロックホッパ内挿ノズル２６でホッパ中心軸５２付近、特にホッパ排出口５４直上付近の粉体を押出し、ホッパ排出口５４付近で形成されたブリッジングを解消して、粉体が落下する流れを形成する。また、ロックホッパ内挿ノズル２６の先端位置を可動式とすることで、ロックホッパのコーン部１１ａの任意の高さで形成されるブリッジングの発生位置近傍から窒素５６を噴射することで、確実にブリッジングを解消し、かつ窒素５６の使用量を抑えた低コスト運用を実現する。さらに、ロックホッパ内壁面ノズル４９−１１、５０−１１、５１−１１でホッパ壁面近傍でも形成されるブリッジングを解消することで、ホッパからの粉体の移送停滞を解消し、所定の移送速度を確保する。

また、本実施例によれば、ロックホッパ内挿ノズル２６にホッパの中心軸５２に対して垂直に突き出す突出面が設けられていないため、そのような突出面に粉体が堆積して圧密され、新たなブリッジング形成の起点となることを防ぐことができる。また、上方から落下してくる粉体により、ロックホッパ内挿ノズル２６が受ける荷重を小さくすることもできる。

ロックホッパ内挿ノズル２６の噴射口は下方を向いているため、上方から落下して周囲に堆積する粉体によって噴射口が閉塞するのを防ぐことができる。

上述したように、本実施例では、ブリッジング形成の起点となることを防ぎ、噴射口が閉塞するのを防ぐことができるので、ロックホッパ内挿ノズル内筒２６ｂの先端部を頻繁に変動させる必要がなく、不要な不活性ガスを噴射する必要もない。

次に、図１、図４乃至図６を参照して、上述した石炭供給系統の実施例に適用される制御系と運用方法について説明する。

図１に示すように、各ホッパへの窒素供給配管に設けられた窒素の流量調整弁の開度は、全て制御装置６１で調整される。

常圧ホッパ２からロックホッパ１１への移送状況(平均移送速度、移送停滞の有無、移送した微粉炭１の重量)は、ロックホッパロードセル２８の重量変化からロックホッパロードセル演算装置６２で監視し、データを制御装置６１に送って良否を判定する。平均移送速度の低下、移送停滞発生を検知した場合は、常圧ホッパ上段内壁面ノズル４９−２の窒素流量調整弁４、常圧ホッパ中段内壁面ノズル５０−２の窒素流量調整弁６、常圧ホッパ下段内壁面ノズル５１−２の窒素流量調整弁８の開度を高め、窒素流量を増やすと良い。これら系統から窒素を間欠で噴射している場合には、制御装置６１で噴射周期を調整しても良い。

ロックホッパ１１からフィードホッパ３１への移送状況(平均移送速度、移送停滞の有無、移送した微粉炭１の重量)は、ロックホッパロードセル２８の重量変化からロックホッパロードセル演算装置６２で監視し、データを制御装置６１に送って良否を判定する。平均移送速度の低下、移送停滞発生を検知した場合は、ロックホッパ上段内壁面ノズル４９−１１の窒素流量調整弁１９、ロックホッパ中段内壁面ノズル５０−１１の窒素流量調整弁２１、ロックホッパ下段内壁面ノズル５１−１１の窒素流量調整弁２３、ロックホッパ内挿ノズル内筒２６ｂ用の窒素流量調整弁２５の開度を高め、窒素流量を増やすと良い。これら系統から窒素を間欠で噴射している場合には、制御装置６１で噴射周期を調整しても良い。ロックホッパ内挿ノズル内筒２６ｂの先端位置をロックホッパ内挿ノズル内筒２６ｂの先端位置の調整装置６４で調整しても良い。

また、通常移送時には一部のノズルから窒素を噴射し、平均移送速度の低下、移送停滞発生を検知した場合に、窒素を噴射するノズル数を増やしても構わない。例えば、通常移送時にはロックホッパ内壁面ノズル４９−１１、５０−１１、５１−１１を使用し、異常時にロックホッパ内挿ノズル２６を使用する等である。

次に、ロックホッパ運用方法の一例を図４、図５及び図６に示す。図４は、図１に記載した制御系を用いた石炭供給系統において、ロックホッパの運用方法の一例を示す図である。図５は、図４に示す運用方法を実行するフローチャートである。図６は、図５に示すＳ７００の粉体移送工程で実行する不活性ガスの噴射方法の一例を示すフローチャートである。

ロックホッパ１１への粉体貯留は常圧で実施される。直上の常圧ホッパ２からの粉体移送（Ｓ１００）により、ロックホッパ１１の粉体貯留重量が所定値まで増加する（Ｓ１００〜Ｓ３００）。常圧ホッパ２からの粉体移送を行っている間、必要に応じてロックホッパ内壁面ノズル４９−１１、５０−１１、５１−１１とロックホッパ内挿ノズル２６から窒素を噴射（Ｓ２００）してロックホッパに貯留された粉体を刺激し、ブリッジングの形成を防ぐ。

次いで、ロックホッパ１１の昇圧時には、ロックホッパ１１内に窒素を供給して昇圧し（Ｓ４００）、フィードホッパ３１と同圧となるように加圧する。移送前の昇圧、待機時にロックホッパ１１内の粉体が圧密され、ブリッジングが形成されやすい。移送前にブリッジングが形成されると、移送開始時の初期停滞に繋がる。

そこで、移送前のブリッジング形成を予防するために、移送前のロックホッパ１１への粉体貯留時、ロックホッパ昇圧時、待機時にも、ロックホッパ内壁面ノズル４９−１１、５０−１１、５１−１１とロックホッパ内挿ノズル２６から窒素を供給し、ホッパ底部の粉体に刺激を与えると良い（Ｓ２００，Ｓ４００）。これにより、移送前のブリッジング形成を予防でき、移送開始時の初期停滞を回避できるだけでなく、ノズルへの粉体浸入による閉塞も予防できる。尚、ロックホッパ１１の昇圧時には、ロックホッパ内挿ノズル２６とロックホッパ内壁面ノズル４９−１１、５０−１１、５１−１１とから窒素を連続噴射（Ｓ４００）して昇圧時間を短縮するようにし、それ以外では窒素を間欠噴射（Ｓ２００，Ｓ６００）している。

ロックホッパ１１の昇圧が終了すると、ロックホッパ内壁面ノズル４９−１１、５０−１１、５１−１１とロックホッパ内挿ノズル２６とからの窒素噴射を間欠噴射に切り換える（Ｓ５００）。

次いで、ロックホッパ１１とフィードホッパ３１の均圧弁１５を開けて（Ｓ６００）、両ホッパ１１、３１を均圧とした後に、ロックホッパ１１からフィードホッパ３１に粉体を移送する（Ｓ７００）。本実施例では、ロックホッパ内壁面ノズル４９−１１、５０−１１、５１−１１とロックホッパ内挿ノズル２６から窒素を間欠噴射する場合を示すが、窒素の流量や噴射周期、使用するノズル本数は、移送状況に応じ、制御装置６１で適宜調整すると良い。

また、ロックホッパ内挿ノズル２６の先端位置は、移送開始時はロックホッパ排出口５４付近まで伸ばすと良い。これは、ロックホッパ排出口５４付近の粉体の粉体圧が高く、特にブリッジングが発生しやすいためである。ロックホッパ１１内の粉体貯留重量の減少に伴い、ロックホッパ内挿ノズル２６の先端位置を上方に移動すると、より効果的と考えられる。

具体的には、図５のＳ７００で粉体の移送が開始されると、図６に示すように、粉体の平均移送速度が所定速度以上であるかどうかを監視し（Ｓ７１０）、所定速度よりも小さくなると、ブリッジングが発生しているものと判断して、内壁面ノズル４９，５０，５１と内挿ノズル２６から不活性ガスを間欠噴射する（Ｓ７２０）。この場合、内壁面ノズル４９，５０，５１と内挿ノズル２６の両方から不活性ガスを間欠噴射してもよいし、いずれか一方から不活性ガスを間欠噴射し、粉体の移送速度が所定速度に回復しない場合に、他方から不活性ガスを間欠噴射するようにしてもよい。粉体の平均移送速度が所定速度以上である場合、或いはＳ７３０で不活性ガスを噴射した後、ロックホッパ１１内の重量が所定重量ｍに減少したかどうかを判定する（Ｓ７３０）。ロックホッパ１１内の重量が所定重量ｍに減少していなければ、平均移送速度の監視Ｓ７１０に戻る。ロックホッパ１１内の重量が所定重量ｍに減少すると、内壁面ノズル２６の位置を高めるように調整し（Ｓ７４０）、粉体の移送を継続する。

Ｓ７３０による粉体貯留重量の監視では、所定重量ｍを複数段階に設定し、内壁面ノズル２６の高さ位置を複数段階に変位させてもよい。この場合、図６のフローが粉体の移送期間中に所定重量ｍの設定値を変更しながら繰り返し実行されるようにする。

上述したように、ロックホッパ内挿ノズル２６の先端位置を上方に移動しても、ロックホッパ排出口５４付近の粉体の粉体圧が低下傾向であるため、ロックホッパ排出口５４から離れた箇所から窒素を噴射しても、十分な効果が得られる。平均移送速度が所定値以上であれば、移送前半のみ窒素噴射を実施し、後半は窒素噴射を止めても構わない。これらの流量、使用するノズル本数、先端位置などは、試運転時の調整結果を制御装置に入力しておくと、自動運転が可能である。

図７を参照して、本発明の粉体移送方法を適用した、ガス化炉への石炭およびチャーの供給系統（チャー供給装置）の実施例について説明する。図７は、ガス化炉４６で微粉炭１を酸素でガス化して生成ガス４７を製造し、生成ガス中に同伴されるチャーをチャー脱塵部１０５で脱塵し、チャーバーナ１５４からガス化炉４６に再投入するガス化システムの系統を示す。以下の説明では、実施例１に追加した系統、運用方法について説明する。

最初にガス化炉４６への石炭およびチャーの供給系統の構成を説明する。ガス化炉４６への石炭供給系統については、図１と同様である。また、石炭供給系統の制御及び運用方法は実施例１と同様に実施できる。

本実施例では、チャーの供給系統を、上からチャー脱塵部１０５、チャーロックホッパ１０８、チャーフィードホッパ１０９の３つのホッパで構成している。チャーロックホッパ１０８に、実施例１で説明したホッパ内挿ノズル２６と同様なチャーロックホッパ内挿ノズル１３４を設置している。

チャー脱塵部１０５のコーン部１０５ａの下端（排出口）はチャー脱塵部移送管１１６によってチャーロックホッパ１０８の上部に接続され、移送管１１６にはチャー脱塵部移送弁１１７が設けられている。

チャーロックホッパ１０８のコーン部１０８ａの下端（排出口）はチャーロックホッパ移送管１４１によってチャーフィードホッパ１０９の上部に接続され、移送管１４１にはチャーロックホッパ移送弁１４２が設けられている。チャー脱塵部１０５とチャーロックホッパ１０８との間には均圧管１３７が配管（接続）されており、均圧管１３７には均圧弁１３８が設けられている。チャーロックホッパ１０８とチャーフィードホッパ１０９との間には均圧管１３９が配管されており、均圧管１３９には均圧弁１４０が設けられている。

チャー脱塵部１０５のコーン部１０５ａには、チャー脱塵部上段内壁面ノズル１２３−１０５、チャー脱塵部中段内壁面ノズル１２６−１０５及びチャー脱塵部下段内壁面ノズル１２９−１０５が、チャー脱塵部中心軸１０５ｂ方向に沿って、３段に配置されている。上段内壁面ノズル１２３−１０５、中段内壁面ノズル１２６−１０５及び下段内壁面ノズル１２９−１０５には、それぞれチャー脱塵部上段内壁面ノズル窒素配管１１０、チャー脱塵部中段内壁面ノズル窒素配管１１２及びチャー脱塵部下段内壁面ノズル窒素配管１１４が配管されており、各配管を通じて高圧の窒素が供給される。上段内壁面ノズル窒素配管１１０、中段内壁面ノズル窒素配管１１２及び下段内壁面ノズル窒素配管１１４には、それぞれチャー脱塵部上段内壁面ノズル窒素流量調整弁１１１、チャー脱塵部中段内壁面ノズル窒素流量調整弁１１３及びチャー脱塵部下段内壁面ノズル窒素流量調整弁１１５が設けられている。

チャーロックホッパ１０８のコーン部１０８ａには、チャーロックホッパ１０８上段内壁面ノズル１２３−１０８、チャーロックホッパ中段内壁面ノズル１２６−１０８及びチャーロックホッパ下段内壁面ノズル１２９−１０８が、チャーロックホッパ中心軸１０８ｂ方向に沿って、３段に配置されている。チャーロックホッパ上段内壁面ノズル１２３−１０８、チャーロックホッパ中段内壁面ノズル１２６−１０８及びチャーロックホッパ下段内壁面ノズル１２９−１０８には、それぞれチャーロックホッパ上段内壁面ノズル窒素配管１２１、チャーロックホッパ中段内壁面ノズル窒素配管１２４及びチャーロックホッパ下段内壁面ノズル窒素配管１２７が配管されており、各配管を通じて高圧の窒素が供給される。上段内壁面ノズル窒素配管１２１、中段内壁面ノズル窒素配管１２４及び下段内壁面ノズル窒素配管１２７には、それぞれチャーロックホッパ上段内壁面ノズル窒素流量調整弁１２２、チャーロックホッパ中段内壁面ノズル窒素流量調整弁１２５及びチャーロックホッパ下段内壁面ノズル窒素流量調整弁１２８が設けられている。チャーロックホッパ１０８には、ホッパ内部を加圧するためのチャーロックホッパ加圧窒素配管１１９が配管されており、加圧窒素配管１１９にはチャーロックホッパ加圧窒素流量調整弁１２０が設けられている。

チャーロックホッパ１１にはチャーロックホッパ内挿ノズル１３４が設けられており、内挿ノズル１３４はチャーロックホッパ内挿ノズル外筒１３４ａとチャーロックホッパ内挿ノズル内筒１３４ｂとで構成されている。外筒１３４ａ及び内筒１３４ｂにはそれぞれチャーロックホッパ内挿ノズル外筒用窒素配管１３２及びチャーロックホッパ内挿ノズル内筒用窒素配管１３０が配管され、高圧の窒素が供給されるように構成されている。外筒用窒素配管１３２及び内筒用窒素配管１３０にはそれぞれチャーロックホッパ内挿ノズル外筒用窒素流量調整弁１３３及びチャーロックホッパ内挿ノズル内筒用窒素流量調整弁１３１が設けられている。内筒１３４ｂの先端部外周面には周方向に沿って複数のリブ１３６が設けられている。このリブ１３６はロックホッパ内挿ノズル２６のリブ５７と同様に設けられる。また、内挿ノズル１３４には、内筒１３４ｂの先端位置を調整する調整装置（図示省略）がロックホッパ内挿ノズル２６と同様に設けられている。

また、チャーロックホッパ１０８の上部にはチャーロックホッパロードセル１１８が設けられており、チャーロックホッパロードセル１１８の検出信号はロックホッパロードセル２８及びフィードホッパロードセル４０と同様にロードセル演算装置（図示省略）を介して制御装置（図示省略）に送信されるように構成されている。制御装置は、石炭供給系統の制御装置６１で兼用してもよいし、チャーの供給系統専用の制御装置を設けてもよい。チャーの供給系統専用の制御装置を設ける場合は、この制御装置又は制御装置６１のいずれかでシステム全体を統括的に制御するようにするか、さらに上位の制御装置を設けてシステム全体を統括的に制御する。

チャーフィードホッパ１０９のコーン部１０９ａには、チャーフィードホッパ上段内壁面ノズル１２３−１０９、チャーフィードホッパ中段内壁面ノズル１２６−１０９及びチャーフィードホッパ下段内壁面ノズル１２９−１０６が、チャーフィードホッパ中心軸１０９ｂ方向に沿って、３段に配置されている。上段内壁面ノズル１２３−１０９、中段内壁面ノズル１２６−１０９及び下段内壁面ノズル１２９−１０９には、それぞれチャーフィードホッパ上段内壁面ノズル窒素配管１４４、チャーフィードホッパ中段内壁面ノズル窒素配管１４６及びチャーフィードホッパ下段内壁面ノズル窒素配管１４８が配管されており、各配管を通じて高圧の窒素が供給される。上段内壁面ノズル窒素配管１４４、中段内壁面ノズル窒素配管１４６及び下段内壁面ノズル窒素配管１４８には、それぞれチャーフィードホッパ上段内壁面ノズル窒素流量調整弁１４５、チャーフィードホッパ中段内壁面ノズル窒素流量調整弁１４７及びチャーフィードホッパ下段内壁面ノズル窒素流量調整弁１４９が設けられている。さらに、チャーフィードホッパ３１の底部には、チャーフィードホッパ底部に窒素を噴射してチャーの流動化を図るチャーフィードホッパ底部流動化ノズル１５０ａが設けられ、このノズル１５０ａに窒素を供給するチャーフィードホッパ底部流動化ノズル窒素配管１５０が配管されている。窒素配管１５０にはチャーフィードホッパ底部流動化ノズル窒素流量調整弁１５５が設けられている。

また、チャーフィードホッパ１０９の上部にはチャーフィードホッパロードセル１４３が設けられており、チャーフィードホッパロードセル１４３の検出信号はロードセル１１８の検出信号と同様にロードセル演算装置（図示省略）を介してチャー供給系統の制御装置（図示省略）に送信されるように構成されている。

チャーフィードホッパ１０９とガス化炉４６との間にはチャー搬送管１５２が配管され、チャー搬送管１５２にはチャー搬送流量調整弁１５３が設けられている。チャー搬送管１５２のガス化炉４６側の端部は、ガス化炉４６に設けられたチャーバーナ１５４に接続されている。

ガス化炉４６のチャーバーナ１５４にはチャー搬送管１５２の他にチャー系酸素含有ガス配管１５６が配管され、チャー系酸素含有ガス配管１５６にはチャー系酸素含有ガス流量調整弁１５５が設けられている。

本実施例では、ガス化炉４６で生成された生成ガス４７を冷却する生成ガス冷却部１０４が設けられ、生成ガス冷却部１０４で冷却された生成ガスがチャー脱塵部１０５に送られる。このために、ガス化炉４６と生成ガス冷却部１０４との間、生成ガス冷却部１０４とチャー脱塵部１０５との間がそれぞれ配管で接続されている。チャー脱塵部１０５に送られた生成ガスはチャー脱塵部１０５でチャーが脱塵され、チャーが除かれた生成ガス１０６が得られる。

本実施例では、コンプレッサ１０２で圧縮した空気１０１を空気分離設備１０３で、酸素と窒素とに分離する。酸素は酸素含有ガス配管４４及びチャー系酸素含有ガス配管１５６によりガス化炉４６に供給される。窒素は石炭供給系統及びチャー供給系統で使用される前述の窒素として供給される。

生成ガス４７の温度は、生成ガス冷却部１０４の下流でも300度以上あり、水分も含むことからチャー脱塵部１０５、チャーロックホッパ１０８、チャーフィードホッパ１０９、チャー搬送管１５２といったチャー供給系は保温部１０７で保温される。チャー供給系の移送は、石炭供給系と同様の方式を適用するが、保温部１０７の設置のために外部からの機械的な振動(ハンマリング、攪拌器)によるブリッジング解消が難しく、本発明の移送方法の適用先としても好適である。

以上より、上述した各実施例の粉体移送方法は、ブリッジング解消とロックホッパ内挿ノズル保護を両立しており、石炭およびチャー供給系統の信頼性を高めることができる。

更に具体的には、ホッパ１１内に設置した内挿ノズル２６の先端位置を調整し、ホッパ１１内部の任意の高さからホッパ排出口５４方向に不活性ガスを噴射する。これにより、内挿ノズル２６より下方の粉体をホッパ排出口５４方向に押出す刺激を与え、ホッパ中心軸５２付近で形成されたブリッジングを解消する。

内挿ノズル２６で可動式となった、最外を除く内側の管２６ｂの先端部外側に、それぞれリブ５７を設置することで、内挿ノズル２６の先端位置を変動させた場合に内挿ノズル２６周囲の粉体にも刺激を与え、内挿ノズル２６周囲のブリッジング解消と、内挿ノズル２６の可動範囲を確保する。また、最内を除く管２６ｂの先端部の外周部から不活性ガスを供給することで、変動時における同軸の複数の管の隙間への粉体の侵入を防ぎ、内挿ノズル２６の駆動部の信頼性を確保する。

移送時には、内挿ノズル２６と内壁面ノズル４９−１１、５０−１１、５１−１１の少なくとも一方から不活性ガスを噴射し、各ノズルから噴射する不活性ガスの流量や噴射周期、および内挿ノズル２６の先端位置を、粉体の移送状況をもとに調整することで、所定時間以内に粉体移送を完了させる平均移送速度の確保と不活性ガスの使用量低減を両立させる。

また、移送前のホッパ１１への粉体貯留時、圧力調整時、および移送開始までの待機時においても、内挿ノズル２６と内壁面ノズル４９−１１、５０−１１、５１−１１の少なくとも一方から不活性ガスを噴射し、ホッパ１１の底部の粉体に刺激を与え、移送前に形成されるブリッジングを解消する。これにより、移送開始時の移送停滞も予防する。

本発明は、ホッパ間で粉体を重力落下させる粉体移送系に適用できる。特に、ブリッジングを形成しやすい石炭およびチャーを加圧下で移送し、かつ一部の移送系を保温して運用するために、外部からの打撃や攪拌などの機械的な対策が困難な石炭ガス化システムが有望である。

なお、本発明は上記した各実施例に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、上記した実施例は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、ある実施例の構成の一部を他の実施例の構成に置き換えることが可能であり、また、ある実施例の構成に他の実施例の構成を加えることも可能である。また、各実施例の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることが可能である。

また、上記の制御装置６１は、それらの一部又は全部を、例えば集積回路で設計する等によりハードウェアで実現してもよい。或いは、プロセッサがそれぞれの機能を実現するプログラムを解釈し、実行することによりソフトウェアで実現してもよい。各機能を実現するプログラム、テーブル、ファイル等の情報は、メモリや、ハードディスク、ＳＳＤ（Ｓｏｌｉｄ Ｓｔａｔｅ Ｄｒｉｖｅ）等の記録装置、または、ＩＣカード、ＳＤカード、ＤＶＤ等の記録媒体に置くことができる。

また、制御線や情報線は説明上必要と考えられるものを示しており、製品上必ずしも全ての制御線や情報線を示しているとは限らない。実際には殆ど全ての構成が相互に接続されていると考えてもよい。

１…微粉炭、２…常圧ホッパ、９…常圧ホッパ移送弁、１０…常圧ホッパ移送管、１１…ロックホッパ、２４…ロックホッパ内挿ノズル内筒用窒素配管、２５…ロックホッパ内挿ノズル内筒用窒素流量調整弁、２６…ロックホッパ内挿ノズル、２６ａ…ロックホッパ内挿ノズル外筒、２６ｂ…ロックホッパ内挿ノズル内筒、２８…ロックホッパロードセル、２９…ロックホッパ移送弁、３０…ロックホッパ移送管、３１…フィードホッパ、４０…フィードホッパロードセル、４９−１１…ロックホッパ上段内壁面ノズル、５０−１１…ロックホッパ中段内壁面ノズル、５１−１１…ロックホッパ下段内壁面ノズル、５２…ロックホッパ中心軸、５３…ロックホッパ内挿ノズル中心軸、５４…ロックホッパ排出口、５５…ロックホッパ下段内壁面ノズルから噴射された窒素、５６…ロックホッパ内挿ノズル内筒先端から噴射された窒素、５７…リブ、５８…ロックホッパ内挿ノズル外筒先端から噴射された窒素、５９…ロックホッパ内挿ノズル外筒用窒素配管、６０…ロックホッパ内挿ノズル外筒用窒素流量調整弁、６１…制御装置、６２…ロックホッパロードセル演算装置、６３…フィードホッパロードセル演算装置、６４…ロックホッパ内挿ノズル内筒先端位置の調整装置、１０５…チャー脱塵部、１０８…チャーロックホッパ、１０９…チャーフィードホッパ、１１６…チャー脱塵部移送管、１１７…チャー脱塵部移送弁、１１８…チャーロックホッパロードセル、１２３−１０８…チャーロックホッパ上段内壁面ノズル、１２６−１０８…チャーロックホッパ中段内壁面ノズル、１２９−１０８…チャーロックホッパ下段内壁面ノズル、１３０…チャーロックホッパ内挿ノズル内筒用窒素配管、１３１…チャーロックホッパ内挿ノズル内筒用窒素流量調整弁、１３２…チャーロックホッパ内挿ノズル外筒用窒素配管、１３３…チャーロックホッパ内挿ノズル外筒用窒素流量調整弁、１３４…チャーロックホッパ内挿ノズル、１３４ａ…チャーロックホッパ内挿ノズル外筒、１３４ｂ…チャーロックホッパ内挿ノズル内筒、１３６…チャーロックホッパ内挿ノズル内筒リブ、１４１…チャーロックホッパ移送管、１４２…チャーロックホッパ移送弁、１４３…チャーフィードホッパロードセル。

Claims (9)

1. 下部にコーン部を有する２つのホッパを上下に配置し、上下のホッパ間で粉体を移送する粉体移送装置において、
   上側のホッパ内部に、ホッパのコーン部内壁面から離れた位置で先端位置を高さ方向に調整可能に構成され、先端からホッパ排出口方向に不活性ガスを噴射するホッパ内挿ノズルと、コーン部内壁面に設けられ前記コーン部内壁面からホッパ内部に不活性ガスを噴射する内壁面ノズルとを備えたことを特徴とする粉体移送装置。
2. 請求項１に記載の粉体移送装置において、
   前記ホッパ内挿ノズルは、前記上側のホッパに位置が固定された第１の管状部材と、前記第１の管状部材に少なくとも一部が挿入され、前記第１の管状部材の下端からの突出長さが変化することにより先端の高さ方向位置が変位する第２の管状部材とを備え、前記第２の管状部材の先端から不活性ガスを噴射することを特徴とする粉体移送装置。
3. 請求項２に記載の粉体移送装置において、
   前記第２の管状部材の先端部外側に、前記ホッパ内挿ノズルの中心軸に平行な突状部を設置したことを特徴とする粉体移送装置。
4. 請求項２に記載の粉体移送装置において、
   前記ホッパ内挿ノズルは、前記第１の管状部材と前記第２の管状部材との間から不活性ガスを噴射するように構成されたことを特徴とする粉体移送装置。
5. 上下に配置されたホッパ間で粉体を移送する粉体移送方法において、
   上側のホッパ内部に配置されたホッパ内挿ノズルの先端位置を高さ方向に変位させ、前記ホッパ内挿ノズルからホッパ排出口付近の粉体をホッパ排出口から押し出す方向に不活性ガスを噴射し、
   上側のホッパのコーン部内壁面に設けられた内壁面ノズルにより、前記コーン部内壁面からホッパ内部に不活性ガスを噴射し、
   もって上側のホッパから下側のホッパへの粉体の移送を行うことを特徴とする粉体移送方法。
6. 請求項５に記載の粉体移送方法において、
   前記ホッパ内挿ノズルは、先端部外周面に、前記ホッパ内挿ノズルの中心軸に沿う方向に延設された突状部を有し、前記ホッパ内挿ノズルの先端位置を変化させて前記突状部を移動させ、前記ホッパ内挿ノズル周囲の粉体を刺激し、前記ホッパ内挿ノズル周囲のブリッジングを解消することを特徴とする粉体移送方法。
7. 請求項５乃至６のいずれかに記載の粉体移送方法において、
   粉体の移送開始の初期に、前記ホッパ内挿ノズルからの不活性ガス噴射位置を、前記ホッパ排出口付近まで下げ、前記上側のホッパ内部の粉体貯留量の減少とともに、前記ホッパ内挿ノズルからの不活性ガス噴射位置を上方に移動させることを特徴とする粉体移送方法。
8. 請求項５乃至６のいずれかに記載の粉体移送方法において、
   通常移送時には前記内壁面ノズルから不活性ガスを噴射し、移送停滞時および単位時間あたりの平均移送速度が所定値以下となった場合に、前記ホッパ内挿ノズルから不活性ガスを噴射することを特徴とする粉体移送方法。
9. 請求項５に記載の粉体移送方法において、
   粉体の移送開始前に、前記ホッパ内挿ノズルと前記内壁面ノズルの少なくとも一方から不活性ガスを噴射することを特徴とする粉体移送方法。

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