JP2014224018A - 酸化処理システム - Google Patents
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Abstract
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前記酸化処理システムには、処理室と、オゾン発生装置と、を具備し、オゾン発生装置にて発生させたオゾン(O3)ガスを用いて処理室内の処理対象の酸化処理を行うものが公知となっている(特許文献1参照)。
処理対象には、例えば、リネン素材の衣類や、介護施設の居室内の機器類等のように、処理室に配置されるもの、処理室2の内壁、また、処理室2内の空間等がある。
例えば、前記酸化処理システムでは、処理室内の温度が低い場合よりも高い場合の方が、オゾンガスによる処理対象の酸化反応が促進されて、処理室内の処理対象を酸化処理する処理時間が短くなる。
そして、前記酸化処理システムでは、このように処理室内の温度によって処理室内の処理対象の酸化処理時間が異なり、酸化処理時間のバラつきが大きくなると、処理室内の処理対象を酸化処理する状態(例えば、処理対象の酸化処理が完了する時間)を管理することが困難になる。
そして、前記酸化処理システムでは、オゾン発生装置においてオゾンガスを発生する動作を行うと、オゾン反応器が発熱してオゾン発生装置内の温度(オゾン反応器の周辺温度)が上昇し、オゾン発生装置のオゾン発生量が減少することとなる。
即ち、本発明によれば、処理室内の処理対象を酸化処理する状態を管理することができるとともに、オゾン発生装置のオゾン発生量を増加させることができる。
酸化処理システム1は、オゾン発生装置3にて発生させたオゾン(O3)ガスがオゾン供給管4を介して処理室2に供給されるように構成される。
酸化処理システム1は、オゾン発生装置3にて発生させたオゾンガスを用いて処理室2内の処理対象の酸化処理を行うように構成される。酸化処理システム1では、処理室2内において酸化処理されることにより、処理対象の殺菌また脱臭等が行われる。
処理対象には、処理室2に配置されるもの、処理室2の内壁、また、処理室2内の空間等がある。
処理対象には、精密機械工業、半導体工業、医薬品工業等の製造設備や研究施設のクリーンルームやアイソレータの内壁、手術室の内壁、殺菌装置の殺菌室の内壁、歯科・眼科等の医院の居室の内壁、洗浄装置の洗浄室の内壁、食品製造工場の内壁、ホテルの客室の内壁、介護施設もしくは病院等の不特定多数が集う各種施設の内壁、食堂・レストラン等の厨房の内壁、または、有害な化学物質や微生物が残留した施設内の内壁等がある。また、処理対象には、クリーンルーム内やアイソレータ内、手術室内、殺菌装置の殺菌室内、歯科・眼科等の医院や介護施設の居室内、洗浄装置の洗浄室内、食品製造工場内、ホテルの客室内、介護施設もしくは病院等の不特定多数が集う各種施設内、食堂・レストラン等の厨房内、または、有害な化学物質や微生物が残留した施設内等のもの、例えば、クリーンルームやアイソレータ内の装置や工具、手術室内の手術用具、殺菌装置の殺菌室内の衣類(例えば、リネン素材の衣類)や容器、歯科・眼科等の医院や介護施設の居室内の設置品や機器類、洗浄装置の洗浄室内の電子部品や電気製品等、食品製造工場に設置された製造機器、食品工場内の雰囲気中の浮遊菌、治具類、ケーキ、パイ、もしくは、そば等の原材料、ホテルの客室内のカーテン、ベッド等の調度品、介護施設もしくは病院等の不特定多数が集う各種施設内の調度品、食堂・レストラン等の厨房内の調度品や食器類及び排気される臭い物質、または、有害な化学物質や微生物が残留した施設内の設置物等がある。
このように、酸化処理システム1では、半導体の表面処理のように処理対象そのものの処理(酸化処理)が行われる。また、酸化処理システム1では、処理対象に付着した化学物質または微生物の処理(酸化処理)が行われて、処理対象の臭い物質の低減(脱臭)、処理対象の有害物質の無害化、処理対象の微生物の殺菌等が行われる。
オゾン発生装置3は、その内部にオゾンガスを発生させるオゾン反応器8を二個(複数個)備えて構成される。
オゾン発生装置3(オゾン反応器8)には、酸素に放電することによりオゾンガスを発生するもの(放電式オゾン発生装置)、または、酸素に紫外線を照射することによってオゾンガスを発生するもの(紫外線式オゾン発生装置)等がある。
調温部5は、暖気または冷気を発生させるように構成される。
調温部5は、暖気または冷気を処理室2に供給して、処理室2内の温度を所定の範囲内の温度に調温するように構成される。
調温部5は、オゾン発生装置3に冷気を供給して、オゾン発生装置3内を冷却するように構成される。
酸化処理システム1は、調温部5において発生された暖気または冷気が処理室側供給管6を介して調温部5から処理室2に供給されて、処理室2内の温度が所定の範囲内の温度に調温(例えば、処理室2内の温度が35℃±5℃の温度の調温)されるように構成される。
酸化処理システム1は、調温部5において発生された冷気がオゾン発生装置側供給管7を介して調温部5からオゾン発生装置3に供給されて、オゾン発生装置3内が冷却されるように構成される。酸化処理システム1は、調温部5において発生された冷気がオゾン発生装置側供給管7を介して調温部5からオゾン発生装置3に供給されて、オゾン発生装置3内(オゾン発生装置3内の温度)を降温(例えば、オゾン発生装置3内の温度を35℃±5℃の温度に降温)させるように構成される。
このように、酸化処理システム1では、処理室2内の温度が所定の範囲内の温度に調温されることから、処理室2内の処理対象の酸化処理時間を所定の範囲内の時間で(バラつきが少なく)行うことができ、また、冷気がオゾン発生装置3に供給されることから、オゾン発生装置3内の温度(オゾン反応器8の周辺温度)が上昇することを抑制する(また、オゾン発生装置3内の温度を低下させる)ことができる。
したがって、酸化処理システム1によれば、処理室2内の温度を所定の範囲内の温度に調温するように構成されないものに比べて処理室2内の処理対象を酸化処理する状態を管理することができるとともに、オゾン発生装置3内を冷却するように構成されないものに比べてオゾン発生装置3のオゾン発生量を増加させることができる。
さらに、酸化処理システム1によれば、オゾン発生装置3内が冷却されてオゾン発生装置3のオゾン発生量を増加させることができることから、オゾン発生装置3内を冷却するように構成されないものに比べて、オゾン発生装置3のオゾン反応器8において効率良くオゾンガスを発生させることができ、オゾン発生装置3を小型化することができる。
以上のように、処理室2内を昇温させて処理室2内の温度を所定の範囲内の温度に調温するように構成される調温部5を具備する酸化処理システム1では、処理室2内を昇温させて処理室2内の温度を所定の範囲内の温度に調温する。
このように、酸化処理システム1では、処理室2内を昇温させることにより、処理室2内におけるオゾンガスの化学反応速度を促進させる。
したがって、酸化処理システム1によれば、オゾンガスの酸化力に基づく処理対象への作用力を増加させることができる。
以上のように、調温部5が処理室2内を昇温させるときに熱交換によって生じる冷気を用いてオゾン発生装置3内を冷却するように構成される、酸化処理システム1では、調温部5が処理室2内を昇温させるときに熱交換によって生じる冷気を用いてオゾン発生装置3内を冷却する。
したがって、酸化処理システム1によれば、処理室2内を昇温させるときに熱交換によって生じる冷気を用いてオゾン発生装置3内を冷却しないものに比べて、処理室2内の昇温とオゾン発生装置3内の冷却とを効率良く行うことができる。
図2に示すように、オゾン発生装置側供給管7は、その下流側の開口7a(オゾン発生装置側供給管7における冷気の流通方向の下流側の開口7a)がオゾン発生装置3内に位置するように配置される。オゾン発生装置側供給管7は、その下流側の開口7aがオゾン発生装置3のオゾン反応器8の周辺に位置するように配置される。
酸化処理システム1のオゾン発生装置3は、オゾン反応器8がオゾン発生装置側供給管7の内部に支持部材9によって支持されるようにして構成される。
酸化処理システム1は、オゾン発生装置側供給管7の下流側の開口部(開口7aの近傍)にオゾン発生装置3のオゾン反応器8が位置するように構成される。酸化処理システム1は、オゾン発生装置側供給管7の下流側においてオゾン発生装置側供給管7の内部(オゾン発生装置側供給管7の下流側の開口部の内側)にオゾン発生装置3のオゾン反応器8が位置するように構成される。
したがって、酸化処理システム1によれば、オゾン発生装置3のオゾン反応器8の周辺を確実に冷却することができる。
したがって、酸化処理システム1によれば、オゾン発生装置側供給管7の側板が電磁ノイズの遮断壁となって、オゾン発生装置3のオゾン反応器8から生じる電子ノイズを、オゾン発生装置側供給管7の開口7aが位置する方向を除いて、オゾン発生装置側供給管7によって遮断することができる。
シールド部材10は、オゾン発生装置3のオゾン反応器8から生じる電子ノイズが、オゾン発生装置3内においてオゾン反応器8が配置される空間からそれ以外の空間(例えば、オゾン反応器8よりも下流側の制御基板が配置される空間)に流出することを抑制するように構成される。
シールド部材10は、金属素材からなるメッシュ状の部材(金網)で構成される。
シールド部材10は、オゾン発生装置3内に設けられる。シールド部材10は、オゾン発生装置側供給管7の下流側側の開口7aの近傍に配置される。
二個のファン11は、オゾン発生装置3の二個のオゾン反応器8毎に対応するように配置される。
ファン11は、オゾン発生装置側供給管7内に配置される。ファン11は、オゾン発生装置3のオゾン反応器8よりも上流側(オゾン発生装置側供給管7における冷気の流通方向の上流側)に配置される。
ファン11は、オゾン発生装置側供給管7内を流通する冷気を、オゾン発生装置3のオゾン反応器8よりも上流側からオゾン反応器8側に送り出すように構成される。ファン11は、オゾン発生装置側供給管7内を流通する冷気がオゾン発生装置3のオゾン反応器8に均一(比較的均一)にあたるように、当該冷気を流通させる。
酸化処理システム1は、調温部5から処理室側供給管6を介して処理室2に供給された暖気(または冷気)が処理室2から処理室側排出管12を介して調温部5に排出されるように構成される。
酸化処理システム1は、処理室側供給管6および処理室側排出管12を介して、調温部5とオゾン発生装置3内とを暖気が循環するように構成される。
したがって、酸化処理システム1によれば、調温部5と処理室2内とを暖気が循環しないものに比べて、処理室2内を効率良く昇温させることができる。
酸化処理システム1は、調温部5からオゾン発生装置側供給管7を介してオゾン発生装置3内に供給された冷気がオゾン発生装置3内からオゾン発生装置側排出管13を介して調温部5に排出されるように構成される。
酸化処理システム1は、オゾン発生装置3を密閉構造にして、オゾン発生装置側供給管7およびオゾン発生装置側排出管13を介して、調温部5とオゾン発生装置3内とを冷気が循環するように構成される。
したがって、酸化処理システム1によれば、調温部5とオゾン発生装置3内とを冷気が循環しないものに比べて、オゾン発生装置3内を効率良く冷却することができる。
このように構成される酸化処理システム1では、処理室2内で処理対象の酸化処理を行った後、処理室2内においてオゾンガスが酸素に還元される時間を短くすることができる。
このように構成される酸化処理システム1では、処理室2内で処理対象の酸化処理を行いながら、オゾン分解触媒14で分解して処理室2の排気口15から処理室2外に排気することができる。
このように構成される酸化処理システム1では、処理室2に暖気を供給して処理室2内の温度を調温するものに比べて、処理室2内の調温操作を簡易に行うことができる。
このとき、酸化処理システム1の調温部5において発生させた暖気を処理室2に供給して、処理室2内を昇温させて、処理室2内の温度を所定の範囲内の温度に調温する。
酸化処理システム1の処理室2内の温度を所定の範囲内の温度に調温する工程(ステップS1)を行った後、調温部5において暖気を発生させる動作を停止して、ステップS2およびステップS3に移行する。
このとき、酸化処理システム1のオゾン発生装置3を作動させてオゾン発生装置3においてオゾンガスを発生させて、オゾン発生装置3にて発生させたオゾンガスを処理室2内に供給して、オゾンガスを用いて処理室2内の処理対象の酸化処理を行う。
このとき、酸化処理システム1の調温部5において発生させた冷気をオゾン発生装置3に冷気を供給して、オゾン発生装置3内を冷却する。
したがって、酸化処理システム1では、処理室2内の温度を所定の範囲内の温度に調温しないものに比べて処理室2内の処理対象を殺菌・脱臭する処理状態を管理することができるとともに、オゾン発生装置3内を冷却しないものに比べてオゾン発生装置3のオゾン発生量を増加させることができる。
2 処理室
3 オゾン発生装置
4 オゾン供給管
5 調温部
6 処理室側供給管
7 オゾン発生装置側供給管
8 オゾン反応器
12 処理室側排出管
13 オゾン発生装置側排出管
Claims (5)
- 処理室と、オゾン発生装置と、を具備し、前記オゾン発生装置にて発生させたオゾンガスを用いて前記処理室内の処理対象の酸化処理を行う、酸化処理システムであって、
前記処理室内の温度を所定の範囲内の温度に調温するように構成されるとともに、前記オゾン発生装置内を冷却するように構成される調温部を具備する、
酸化処理システム。 - 前記調温部は、前記処理室内を昇温させて前記処理室内の温度を所定の範囲内の温度に調温するように構成される、
請求項1に記載の酸化処理システム。 - オゾン発生装置側供給管を具備し、
前記調温部は、前記オゾン発生装置側供給管を介して前記オゾン発生装置内に冷気を供給することによって、前記オゾン発生装置内を冷却するように構成され、
前記オゾン発生装置側供給管が前記オゾン発生装置内における前記オゾンガスを発生させるオゾン反応器の周辺に前記調温部からの冷気を供給するように配置されて、構成される、
請求項1または請求項2に記載の酸化処理システム。 - 前記調温部は、前記処理室内を昇温させるときに熱交換によって生じる冷気を用いて前記オゾン発生装置内を冷却するように構成される、
請求項2または請求項3に記載の酸化処理システム。 - オゾン発生装置側排出管を具備し、
前記調温部から前記オゾン発生装置側供給管を介して前記オゾン発生装置内に供給された前記冷気が、前記オゾン発生装置内から前記オゾン発生装置側排出管を介して前記調温部に排出されて、前記調温部と前記オゾン発生装置内とを循環して、前記オゾン発生装置内を冷却するように構成される、
請求項3または請求項4に記載の酸化処理システム。
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