JP2014214932A - 排ガス処理装置 - Google Patents
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- 238000011282 treatment Methods 0.000 title claims abstract description 33
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 106
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 56
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims abstract description 28
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 23
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- 238000001784 detoxification Methods 0.000 claims abstract description 20
- 238000011221 initial treatment Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 claims abstract description 8
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 claims description 45
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 45
- 239000000446 fuel Substances 0.000 claims description 41
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 claims description 33
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 26
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 23
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims description 22
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 20
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 20
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 24
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 4
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000002912 waste gas Substances 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
- F23G—CREMATION FURNACES; CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION
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- F23G7/06—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
- F23J—REMOVAL OR TREATMENT OF COMBUSTION PRODUCTS OR COMBUSTION RESIDUES; FLUES
- F23J15/00—Arrangements of devices for treating smoke or fumes
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
- F23N—REGULATING OR CONTROLLING COMBUSTION
- F23N5/00—Systems for controlling combustion
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- Regulation And Control Of Combustion (AREA)
- Chimneys And Flues (AREA)
- Incineration Of Waste (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
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- Combustion & Propulsion (AREA)
Abstract
【課題】水素及びアンモニアを含む排ガスを効率よく処理することができる排ガス処理装置を提供する。
【解決手段】水素及びアンモニアを含む排ガスの一次処理を行う第１除害装置１２と、第１除害装置の後段で排ガスの二次除害処理を行う第２除害装置１３と、第１除害装置から導出した一次処理ガスの温度を測定する温度測定手段１４と、温度測定手段で測定した一次処理ガスの温度があらかじめ設定した目標温度より高く設定された高温側設定温度を上回ったときに第１除害装置の運転温度を下げる制御を行うとともに、温度測定手段で測定した一次処理ガスの温度が目標温度より低く設定された低温側設定温度を下回ったときに第１除害装置の運転温度を上げる制御を行う制御手段１５とを備えている。
【選択図】図１
【解決手段】水素及びアンモニアを含む排ガスの一次処理を行う第１除害装置１２と、第１除害装置の後段で排ガスの二次除害処理を行う第２除害装置１３と、第１除害装置から導出した一次処理ガスの温度を測定する温度測定手段１４と、温度測定手段で測定した一次処理ガスの温度があらかじめ設定した目標温度より高く設定された高温側設定温度を上回ったときに第１除害装置の運転温度を下げる制御を行うとともに、温度測定手段で測定した一次処理ガスの温度が目標温度より低く設定された低温側設定温度を下回ったときに第１除害装置の運転温度を上げる制御を行う制御手段１５とを備えている。
【選択図】図１
Description
本発明は、排ガス処理装置に関し、詳しくは、半導体，液晶，太陽光発電パネル，ＬＥＤなどの電子デバイスを成膜するデバイス製造装置から排出される水素及びアンモニアを含む排ガスを処理するための装置に関する。
半導体，液晶，太陽光発電パネル，ＬＥＤなどの電子デバイスを製造するプロセスからは、水素やアンモニアのように、広い濃度範囲で可燃性を有する成分を含む排ガスが排出されることがある。水素及びアンモニアを含む排ガスを処理する方法として、外部から空気を導入して排ガスに混合し、可燃性成分の濃度を爆発下限未満に希釈した後、有毒成分であるアンモニアを湿式スクラバーで吸収処理する方法が知られている（例えば、特許文献１参照。）。また、燃焼式除害装置を使用し、排ガスの流量を監視しながら水素及びアンモニアを燃焼処理する方法も知られている（例えば、特許文献２参照。）。
しかし、特許文献１に記載された方法では，外部から大量の空気を導入するため、湿式スクラバーにおける排ガスの処理量が増大し、湿式スクラバーが大型化するという問題があり、さらに、アンモニアを含むアルカリ廃水が大量に発生することから、廃液処理費用が嵩むという問題もあった。また、特許文献２に記載された方法では、排ガスの流量は監視するものの、排ガス中のアンモニア及び濃度に関する情報が無いままで運転するため，過剰な燃料量を燃焼式除害装置に供給する必要があり、ランニングコストが嵩むという問題があった。
そこで本発明は、水素及びアンモニアを含む排ガスを効率よく処理することができる排ガス処理装置を提供することを目的としている。
上記目的を達成するため、本発明の排ガス処理装置は、水素及びアンモニアを含む排ガスを処理する排ガス処理装置において、前記排ガスの一次処理を行う第１除害装置と、該第１除害装置の後段で前記排ガスの二次処理を行う第２除害装置と、前記第１除害装置から導出した一次処理ガスの温度を測定する温度測定手段と、該温度測定手段で測定した一次処理ガスの温度があらかじめ設定した目標温度より高く設定された高温側設定温度を上回ったときに前記第１除害装置の運転温度を下げる制御を行うとともに、前記温度測定手段で測定した一次処理ガスの温度が前記目標温度より低く設定された低温側設定温度を下回ったときに前記第１除害装置の運転温度を上げる制御を行う制御手段とを備えていることを特徴としている。
また、本発明の排ガス処理装置は、前記第１除害装置が燃焼式除害装置であり、前記第２除害装置が触媒酸化式除害装置であり、前記目標温度が前記触媒酸化式除害装置の処理温度であることを特徴とし、第１除害装置に燃焼式除害装置を用いた排ガス処理装置において、前記燃焼式除害装置は、該燃焼式除害装置に供給する燃料の供給量を調整可能な燃料供給手段と、前記燃焼式除害装置に供給する大気の供給量を調整可能な大気供給手段と、前記燃焼式除害装置に冷却水を供給する冷却水供給手段とを備え、前記制御手段は、前記温度測定手段の測定温度があらかじめ設定した第１高温側設定温度を上回ったときに前記冷却水供給手段によって燃焼式除害装置に冷却水を供給するとともに、測定温度が目標温度に低下したときに冷却水の供給を停止し、前記測定温度があらかじめ設定した第２高温側設定温度を上回ったときに前記大気供給手段によって燃焼式除害装置に供給される大気の供給量を増加させるとともに、測定温度が目標温度に低下したときに大気の供給量を増加前の供給量に戻し、前記温度測定手段で測定した温度があらかじめ設定した第１低温側設定温度を下回ったときに前記大気供給手段によって前記燃焼式除害装置に供給される大気の供給量を減少させるとともに、測定温度が目標温度に上昇したときに大気の供給量を減少前の供給量に戻し、前記温度測定手段で測定した温度があらかじめ設定した第２低温側設定温度を下回ったときに燃料供給手段によって燃焼式除害装置に供給される燃料の供給量を増加させるとともに、測定温度が目標温度に上昇したときに燃料の供給量を減少前の供給量に戻すことを特徴としている。
さらに、前記第１除害装置としてヒーター加熱式除害装置を用いた排ガス処理装置において、前記ヒーター加熱式除害装置は、該ヒーター加熱式除害装置を加熱するヒーターの出力を調整可能なヒーター出力調整手段と、前記ヒーター加熱式除害装置に供給する大気の供給量を調整可能な大気供給手段と、前記ヒーター加熱式除害装置に冷却水を供給する冷却水供給手段とを備え、前記制御手段は、前記温度測定手段の測定温度があらかじめ設定した第１高温側設定温度を上回ったときに前記冷却水供給手段によってヒーター加熱式除害装置に冷却水を供給するとともに、測定温度が目標温度に低下したときに冷却水の供給を停止し、前記測定温度があらかじめ設定した第２高温側設定温度を上回ったときに前記大気供給手段によってヒーター加熱式除害装置に供給される大気の供給量を増加させるとともに、測定温度が目標温度に低下したときに大気の供給量を増加前の供給量に戻し、前記温度測定手段で測定した温度があらかじめ設定した第１低温側設定温度を下回ったときに前記大気供給手段によって前記ヒーター加熱式除害装置に供給される大気の供給量を減少させるとともに、測定温度が目標温度に上昇したときに大気の供給量を減少前の供給量に戻し、前記温度測定手段で測定した温度があらかじめ設定した第２低温側設定温度を下回ったときに前記ヒーター出力調整手段によってヒーターの出力を増加させるとともに、測定温度が目標温度に上昇したときにヒーターの出力を増加前の出力に戻すことを特徴としている。
また、前記第１高温側設定温度は前記第２高温側設定温度より高い温度に設定され、前記第１低温側設定温度は前記第２低温側設定温度より高い温度に設定されていることを特徴としている。
本発明の排ガス処理装置によれば、第１除害装置の運転温度を目標温度に近付けるように制御するので、排ガス中の水素及びアンモニアを処理するエネルギーの消費量を抑えながら排ガスの除害処理を効率よく行うことができる。例えば、第１除害装置が燃焼式除害装置の場合は、燃焼式除害装置の燃料消費量を抑えることができ、第１除害装置がヒーター加熱式除害装置の場合は、ヒーター加熱式除害装置の消費電力量を抑えることができる。また、第２除害装置として触媒酸化式除害装置を使用することにより、アンモニアを含むアルカリ廃水が発生することもない。
図１は、本発明の排ガス処理装置の第１形態例を示すもので、この排ガス処理装置は、原料ガス（プロセスガス）及びキャリアガスとして、水素（Ｈ２）、アンモニア（ＮＨ３）、窒素（Ｎ２）、その他のガスを使用するＣＶＤ装置１１から排出される排ガスの処理を行うものであって、アンモニアと水素とを除去する一次除害処理を行うための第１除害装置である燃焼式除害装置１２と、該燃焼式除害装置１２で処理できなかったアンモニアを除去する二次除害処理を行うための第２除害装置である触媒酸化式除害装置１３と、燃焼式除害装置１２から導出した一次処理ガスの温度を測定する温度測定手段１４と、該温度測定手段で測定した一次処理ガスの温度に基づいて燃焼式除害装置１２の運転状態を制御する制御手段１５とを備えている。
制御手段１５は、温度測定手段１４で測定した一次処理ガスの温度があらかじめ設定した目標温度より高く設定された高温側設定温度を上回ったときに前記燃焼式除害装置１２の運転温度を下げる制御を行うとともに、前記温度測定手段１４で測定した一次処理ガスの温度が前記目標温度より低く設定された低温側設定温度を下回ったときに前記燃焼式除害装置１２の運転温度を上げる制御を行う。
燃焼式除害装置１２には、燃焼用種火を形成するための一定量の燃料を供給する第１燃料供給手段１６と、燃焼量を調節するための燃料を供給する第２燃料供給手段１７と、燃焼式除害装置１２に大気を供給するための大気供給手段１８と、燃焼式除害装置１２に冷却水を供給するための冷却水供給手段１９とを備えており、大気供給手段１８には、燃焼用及び燃焼後の一次処理ガスの冷却用として、最小限の大気供給量が設定されている。制御手段１５は、第２燃料供給手段１７から供給する燃料の流量、大気供給手段１８から供給する大気の流量及び冷却水供給手段１９から供給する冷却水の流量を、例えば、弁を開閉したり、弁の開度を調節したりすることによって調整する。
前記制御手段１５には、触媒酸化式除害装置１３で一次処理ガス中に残存するアンモニアを処理するのに適した温度として目標温度が設定されるとともに、第２燃料供給手段１７、大気供給手段１８及び冷却水供給手段１９を制御するための温度がそれぞれ設定されている。
目標温度より高い設定温度としては、冷却水供給手段１９から冷却水の供給を開始する第１高温側設定温度Ｈ１と、大気供給手段からの大気の供給量を増加させる第２高温側設定温度Ｈ２とが設定され、目標温度より低い設定温度としては、大気供給手段からの大気の供給量を減少させる第１低温側設定温度Ｌ１と、第２燃料供給手段１７からの燃料の供給量を増加させる第２低温側設定温度Ｌ２とが設定されている。第１高温側設定温度Ｈ１と第２高温側設定温度Ｈ２との関係は、Ｈ１＞Ｈ２となっており、第１低温側設定温度Ｌ１と第２低温側設定温度Ｌ２との関係は、Ｌ１＞Ｌ２となっている。
このように形成した排ガス処理装置は、ＣＶＤ装置１１から排出される排ガス中の可燃性成分濃度の変動によって生じる燃焼式除害装置１２の温度変化に応じて制御部１５が作動し、燃焼式除害装置１２から導出されて触媒酸化式除害装置１３に導入される一次処理ガスの温度を、触媒酸化式除害装置１３でのアンモニアの処理に最適な温度、すなわち、触媒活性が高い温度に調節する。
例えば、ＣＶＤ装置１１では、気相成長を行う工程の進行に伴って供給するガスの種類や量が変化し、例えば、工程開始から予熱などを行っている工程初期では、アンモニアは供給されずに水素と窒素とが供給され、工程中間でアンモニアの供給が始まり、次いで水素の供給が停止する。さらに、工程の後半では水素の供給が再開されるという工程が行われる。
したがって、工程中にアンモニアや水素が供給されない期間や両者が同時に供給される期間があり、ＣＶＤ装置１１から排出される排ガス中の水素濃度やアンモニア濃度が大きく変化するため、燃焼式除害装置１２では、可燃性成分である水素やアンモニアの濃度変化に伴って燃焼状態が変化する。このため、水素やアンモニアの濃度が高くなると燃焼量の増大によって燃焼式除害装置１２の温度が上昇し、水素やアンモニアの濃度が低くなると燃焼量の減少によって燃焼式除害装置１２の温度が低下する。これにより、燃焼式除害装置１２から導出される一次処理ガスの温度が変動し、一次処理ガスの温度が触媒酸化式除害装置１３における最適処理温度範囲から外れると、触媒酸化式除害装置１３でのアンモニアの除去処理が十分に行えなくなるおそれがある。
そこで、一次処理ガスの温度を温度測定手段１４で測定し、一次処理ガスの温度が触媒酸化式除害装置１３における最適処理温度範囲内に納まるようにする。まず、工程初期で温度測定手段１４で測定した一次処理ガスの温度が目標温度になっている場合、アンモニアの供給開始によって可燃性成分濃度の増加で燃焼式除害装置１２の温度が上昇し、温度測定手段１４で測定した温度が第２高温側設定温度Ｈ２に上昇した場合は、大気供給手段１８からの大気の供給量を増加させ、燃焼式除害装置１２の燃焼温度に比べて温度が低い大気を混合することによって一次処理ガスの温度を低下させる。大気供給量の増加によって測定温度が目標温度に低下したときには、大気の供給量を増加前の供給量に戻す。
さらに、温度測定手段１４で測定した温度が第１高温側設定温度Ｈ１に上昇した場合は、冷却水供給手段１９から冷却水の供給を開始し、冷却水をスプレーによって燃焼式除害装置１２内に散布し、水の蒸発潜熱を利用して一次処理ガスの温度を低下させる。この場合も、測定温度が目標温度に低下したときには、冷却水の供給を停止する。
また、ＣＶＤ装置１１への水素の供給停止による可燃性成分濃度の減少で燃焼式除害装置１２の温度が低下し、温度測定手段１４で測定した温度が第１低温側設定温度Ｌ１に低下すると、大気供給手段１８からの大気の供給量を減少させて排ガスへの大気混合量を少なくすることによって一次処理ガスの温度を上昇させる。大気供給量の減少によって測定温度が目標温度に上昇したときには、大気の供給量を減少前の供給量に戻す。さらに、温度測定手段１４で測定した温度が第２低温側設定温度Ｌ２に低下すると、第２燃料供給手段１７からの燃料の供給量を増加させて燃焼量を増大させ、一次処理ガスの温度を上昇させる。燃料供給量の増加によって測定温度が目標温度に上昇したときには、燃料供給量を増加前の供給量に戻す。
このように、一次処理ガスの温度に応じて燃料供給量、大気供給量、冷却水供給量を制御することにより、一次処理ガスの温度を、触媒酸化式除害装置１３における最適処理温度、すなわち、目標温度に確実に調節することができる。また、温度上昇の一段階目で燃料供給量を減少させることにより、燃料消費量の削減も図れる。さらに、燃料としては、各種燃料を使用することが可能であるが、ＣＶＤ装置１１で使用する水素を燃料として使用することにより、燃料用の設備を別に設ける必要がなく、二酸化炭素の発生も抑えることができる。また、大気の供給や冷却水の供給を、燃料供給量の減少より高い温度で開始することにより、排ガス量の増加を抑えることができるとともにアルカリ廃水が発生することもない。
図２は、本発明の排ガス処理装置の第２形態例を示すものである。なお、以下の説明において、前記第１形態例に示した排ガス処理装置の構成要素と同一の構成要素には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
本形態例に示す排ガス処理装置は、第１除害装置としてヒーター加熱式除害装置２１を使用している。このヒーター加熱式除害装置２１は、該ヒーター加熱式除害装置２１を加熱するヒーターとして、常時一定の加熱量を確保するための第１ヒーター２２と、ヒーター出力を調整可能な第２ヒーター２３と、ヒーター加熱式除害装置に供給する大気の供給量を調整可能な大気供給手段２４と、ヒーター加熱式除害装置に冷却水を供給する冷却水供給手段２５とを備えている。
ヒーター加熱式除害装置２１の後段には、前記第１形態例と同様に、ヒーター加熱式除害装置２１から導出されて触媒酸化式除害装置１３に導入される一次処理ガスの温度を測定する温度測定手段２６と、該温度測定手段２６で測定した一次処理ガスの温度に基づいてヒーター加熱式除害装置２１の運転状態を制御する制御手段２７とを備えている。
制御手段２７には、前記第１形態例と同様の目標温度と、高温側の設定温度としての第１高温側設定温度Ｈ１及び第２高温側設定温度Ｈ２が設定されるとともに、低温側の設定温度としての第１低温側設定温度Ｌ１及び第２低温側設定温度Ｌ２がそれぞれ設定されている。
本形態例においても、前記第１形態例と同様に、ヒーター加熱式除害装置２１から導出した一次処理ガスの温度を温度測定手段２６で測定し、測定した一次処理ガスの温度が第２高温側設定温度Ｈ２に上昇した場合は、大気供給手段２４からの大気の供給量を増加させて一次処理ガスの温度を低下させ、一次処理ガスの温度が目標温度に低下したときには、大気の供給量を増加前の供給量に戻す。さらに、温度測定手段２６で測定した温度が第１高温側設定温度Ｈ１に上昇した場合は、冷却水供給手段２５から冷却水の供給を開始し、冷却水を燃焼式除害装置１２内に散布することによって一次処理ガスの温度を低下させ、測定温度が目標温度に低下したときには、冷却水の供給を停止する。
また、温度測定手段２６で測定した温度が第１低温側設定温度Ｌ１に低下した場合は、大気供給手段２４からの大気の供給量を減少させて一次処理ガスの温度を上昇させ、測定温度が目標温度に上昇したときには、大気の供給量を減少前の供給量に戻す。さらに、温度測定手段２６で測定した温度が第２低温側設定温度Ｌ２に低下した場合は、第２ヒーター２３の出力を増加させて一次処理ガスの温度を上昇させ、測定温度が目標温度に上昇したときには、第２ヒーター２３の出力を増加前の出力に戻す。
このように、一次処理ガスの温度に応じてヒーター加熱式除害装置２１のヒーター出力、大気供給量、冷却水供給量を制御することにより、前記第１形態例と同様に、一次処理ガスの温度を、触媒酸化式除害装置１３における最適処理温度、すなわち、目標温度に確実に調節することができる。また、温度上昇の一段階目でヒーター出力を減少させることにより、消費電力量の削減も図れるとともに、大気の供給や冷却水の供給を、ヒータ出力の減少より高い温度で開始することにより、排ガス量の増加を抑えるとともにアルカリ廃水の発生を抑えることができる。
図３は、本発明の排ガス処理装置の第３形態例を示すものであって、複数のＣＶＤ装置１１から排出される排ガスを一つの排ガス処理装置で処理する形態例を示している。複数のＣＶＤ装置１１から排出された排ガスは、燃焼式除害装置１２に導入されて燃焼除害処理が行われ、燃焼式除害装置１２から導出された一次処理ガスが触媒酸化式除害装置１３に導入されて触媒酸化処理が行われることにより、排ガス中の水素やアンモニアの除害処理が行われる。
このように複数のＣＶＤ装置１１から排出される排ガスの除害処理を行う際にも、燃焼式除害装置１２から導出された一次処理ガスの温度を温度測定手段１４で測定し、測定した一次処理ガスの温度に応じて燃料供給量、大気供給量、冷却水供給量を制御し、一次処理ガスの温度を触媒酸化式除害装置１３における最適処理温度に調節することにより、前記第１形態例と同様に、燃料消費量の削減を図れるとともに、排ガス量の増加を抑え、アルカリ廃水が発生することもなくなる。なお、燃焼式除害装置１２に代えて、前記第２形態例で示したヒーター加熱式除害装置２１を使用することもできる。
なお、各形態例において、目標温度に対する第１高温側設定温度Ｈ１、第２高温側設定温度Ｈ２、第１低温側設定温度Ｌ１、第２低温側設定温度Ｌ２や、燃料の増減量、ヒータ出力の増減量、大気供給量の増減量は、第１除害装置における排ガス処理量や装置構成、装置規模、さらに、第２除害装置における最適温度範囲などの条件に応じて適宜な温度を設定することが可能である。また、燃料供給量やヒーター出力、大気供給量、冷却水供給量を増減させた後、増減前の状態に戻す温度を目標温度とは別に設定することもできる。
１１…ＣＶＤ装置、１２…燃焼式除害装置、１３…触媒酸化式除害装置、１４…温度測定手段、１５…制御手段、１６…第１燃料供給手段、１７…第２燃料供給手段、１８…大気供給手段、１９…冷却水供給手段、２１…ヒーター加熱式除害装置、２２…第１ヒーター、２３…第２ヒーター、２４…大気供給手段、２５…冷却水供給手段、２６…温度測定手段、２７…制御手段
なお、各形態例において、目標温度に対する第１高温側設定温度Ｈ１、第２高温側設定温度Ｈ２、第１低温側設定温度Ｌ１、第２低温側設定温度Ｌ２や、燃料の増減量、ヒータ出力の増減量、大気供給量の増減量は、第１除害装置における排ガス処理量や装置構成、装置規模、さらに、第２除害装置における最適温度範囲などの条件に応じて適宜に設定することが可能である。また、燃料供給量やヒーター出力、大気供給量、冷却水供給量を増減させた後、増減前の状態に戻す温度を目標温度とは別に設定することもできる。
Claims (7)
- 水素及びアンモニアを含む排ガスを処理する排ガス処理装置において、前記排ガスの一次処理を行う第１除害装置と、該第１除害装置の後段で前記排ガスの二次処理を行う第２除害装置と、前記第１除害装置から導出した一次処理ガスの温度を測定する温度測定手段と、該温度測定手段で測定した一次処理ガスの温度があらかじめ設定した目標温度より高く設定された高温側設定温度を上回ったときに前記第１除害装置の運転温度を下げる制御を行うとともに、前記温度測定手段で測定した一次処理ガスの温度が前記目標温度より低く設定された低温側設定温度を下回ったときに前記第１除害装置の運転温度を上げる制御を行う制御手段とを備えている排ガス処理装置。
- 前記第１除害装置が燃焼式除害装置であり、前記第２除害装置が触媒酸化式除害装置であり、前記目標温度が前記触媒酸化式除害装置の処理温度である請求項１記載の排ガス処理装置。
- 前記燃焼式除害装置は、該燃焼式除害装置に供給する燃料の供給量を調整可能な燃料供給手段と、前記燃焼式除害装置に供給する大気の供給量を調整可能な大気供給手段と、前記燃焼式除害装置に冷却水を供給する冷却水供給手段とを備え、前記制御手段は、前記温度測定手段の測定温度があらかじめ設定した第１高温側設定温度を上回ったときに前記冷却水供給手段によって燃焼式除害装置に冷却水を供給するとともに、測定温度が目標温度に低下したときに冷却水の供給を停止し、前記測定温度があらかじめ設定した第２高温側設定温度を上回ったときに前記大気供給手段によって燃焼式除害装置に供給される大気の供給量を増加させるとともに、測定温度が目標温度に低下したときに大気の供給量を増加前の供給量に戻し、前記温度測定手段で測定した温度があらかじめ設定した第１低温側設定温度を下回ったときに前記大気供給手段によって前記燃焼式除害装置に供給される大気の供給量を減少させるとともに、測定温度が目標温度に上昇したときに大気の供給量を減少前の供給量に戻し、前記温度測定手段で測定した温度があらかじめ設定した第２低温側設定温度を下回ったときに燃料供給手段によって燃焼式除害装置に供給される燃料の供給量を増加させるとともに、測定温度が目標温度に上昇したときに燃料の供給量を減少前の供給量に戻す請求項２記載の排ガス処理装置。
- 前記第１高温側設定温度は前記第２高温側設定温度より高い温度に設定され、前記第１低温側設定温度は前記第２低温側設定温度より高い温度に設定されている請求項３記載の排ガス処理装置。
- 前記第１除害装置がヒーター加熱式除害装置であり、前記第２除害装置が触媒酸化式除害装置であり、前記目標温度が前記触媒酸化式除害装置の処理温度である請求項１記載の排ガス処理装置。
- 前記ヒーター加熱式除害装置は、該ヒーター加熱式除害装置を加熱するヒーターの出力を調整可能なヒーター出力調整手段と、前記ヒーター加熱式除害装置に供給する大気の供給量を調整可能な大気供給手段と、前記ヒーター加熱式除害装置に冷却水を供給する冷却水供給手段とを備え、前記制御手段は、前記温度測定手段の測定温度があらかじめ設定した第１高温側設定温度を上回ったときに前記冷却水供給手段によってヒーター加熱式除害装置に冷却水を供給するとともに、測定温度が目標温度に低下したときに冷却水の供給を停止し、前記測定温度があらかじめ設定した第２高温側設定温度を上回ったときに前記大気供給手段によってヒーター加熱式除害装置に供給される大気の供給量を増加させるとともに、測定温度が目標温度に低下したときに大気の供給量を増加前の供給量に戻し、前記温度測定手段で測定した温度があらかじめ設定した第１低温側設定温度を下回ったときに前記大気供給手段によって前記ヒーター加熱式除害装置に供給される大気の供給量を減少させるとともに、測定温度が目標温度に上昇したときに大気の供給量を減少前の供給量に戻し、前記温度測定手段で測定した温度があらかじめ設定した第２低温側設定温度を下回ったときに前記ヒーター出力調整手段によってヒーターの出力を増加させるとともに、測定温度が目標温度に上昇したときにヒーターの出力を上昇前の出力に戻す請求項５記載の排ガス処理装置。
- 前記第１高温側設定温度は前記第２高温側設定温度より高い温度に設定され、前記第１低温側設定温度は前記第２低温側設定温度より高い温度に設定されている請求項６記載の排ガス処理装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013091257A JP5785978B2 (ja) | 2013-04-24 | 2013-04-24 | 排ガス処理装置 |
| TW103114821A TWI673430B (zh) | 2013-04-24 | 2014-04-24 | 排氣處理裝置 |
| CN201410168388.6A CN104121590B (zh) | 2013-04-24 | 2014-04-24 | 排气处理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013091257A JP5785978B2 (ja) | 2013-04-24 | 2013-04-24 | 排ガス処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014214932A true JP2014214932A (ja) | 2014-11-17 |
| JP5785978B2 JP5785978B2 (ja) | 2015-09-30 |
Family
ID=51767116
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013091257A Expired - Fee Related JP5785978B2 (ja) | 2013-04-24 | 2013-04-24 | 排ガス処理装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5785978B2 (ja) |
| CN (1) | CN104121590B (ja) |
| TW (1) | TWI673430B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7037697B1 (ja) | 2021-09-29 | 2022-03-16 | 三菱重工パワーインダストリー株式会社 | 燃焼設備 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017142004A (ja) * | 2016-02-09 | 2017-08-17 | 大陽日酸株式会社 | 排ガス処理方法 |
| CN108800170B (zh) * | 2017-08-11 | 2020-06-30 | 苏州能讯高能半导体有限公司 | 一种尾排管路保护装置以及尾排管路保护方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007013041A (ja) * | 2005-07-04 | 2007-01-18 | Sharp Corp | 半導体処理装置用排ガス処理装置および半導体処理装置の排ガス処理方法 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59229109A (ja) * | 1983-05-31 | 1984-12-22 | Rohm Co Ltd | シランガス燃焼装置 |
| JP4428818B2 (ja) * | 2000-06-05 | 2010-03-10 | 株式会社日本触媒 | 廃ガス処理装置 |
| JP2003139316A (ja) * | 2001-11-02 | 2003-05-14 | Babcock Hitachi Kk | 蓄熱式揮発性有機化合物処理装置と処理方法 |
| GB0613044D0 (en) * | 2006-06-30 | 2006-08-09 | Boc Group Plc | Gas combustion apparatus |
| JP2009082892A (ja) * | 2007-10-03 | 2009-04-23 | Kanken Techno Co Ltd | 排ガス処理装置の温度制御方法及び該方法を用いた排ガス処理装置と排ガス処理システム |
| TW201038885A (en) * | 2010-05-28 | 2010-11-01 | Jg Environmental Tech Co Ltd | Incinerator tail gas purifying device and method |
| CN102274689A (zh) * | 2010-06-13 | 2011-12-14 | 杰智环境科技股份有限公司 | 焚化炉尾气触媒净化装置及方法 |
| JP5622686B2 (ja) * | 2011-08-19 | 2014-11-12 | 大陽日酸株式会社 | 燃焼除害装置 |
-
2013
- 2013-04-24 JP JP2013091257A patent/JP5785978B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2014
- 2014-04-24 TW TW103114821A patent/TWI673430B/zh active
- 2014-04-24 CN CN201410168388.6A patent/CN104121590B/zh active Active
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007013041A (ja) * | 2005-07-04 | 2007-01-18 | Sharp Corp | 半導体処理装置用排ガス処理装置および半導体処理装置の排ガス処理方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7037697B1 (ja) | 2021-09-29 | 2022-03-16 | 三菱重工パワーインダストリー株式会社 | 燃焼設備 |
| JP2023049393A (ja) * | 2021-09-29 | 2023-04-10 | 三菱重工パワーインダストリー株式会社 | 燃焼設備 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TWI673430B (zh) | 2019-10-01 |
| CN104121590A (zh) | 2014-10-29 |
| CN104121590B (zh) | 2017-10-24 |
| TW201506240A (zh) | 2015-02-16 |
| JP5785978B2 (ja) | 2015-09-30 |
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| Date | Code | Title | Description |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Request for written amendment filed |
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
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