JP2014213546A - 導電積層膜及びタッチパネル - Google Patents
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
Abstract
【解決手段】低反射電極2は、基板1上に形成された、有機系樹脂膜などからなる下地膜21と、下地膜21上に形成された酸素原子を含むAl合金膜22と、Al合金膜22上に形成された金属導電膜23と、金属導電膜23上に形成された光透過性膜24とを備える。下地膜21、Al合金膜22、金属導電膜23及び光透過性膜24のうち少なくとも金属導電膜23及び光透過性膜24の表面に凹凸が形成されている。
【選択図】図1
Description
本発明の実施の形態1では、本発明に係る導電積層膜を電極に適用した場合を例にして説明する。なお、後述するように、当該導電積層膜が適用された電極においては、光の反射率は低減されていることから、以下、当該電極を「低反射電極」と記す。
実施の形態1に係る低反射電極2は、任意の形状にパターニング加工(パターン形成)されてもよい。例えば、図5に示すように、下地膜21、Al合金膜22、金属導電膜23及び光透過性膜24の平面視の形状が揃うようにパターニング加工してもよい。
実施の形態1の変形例1で説明したパターニング加工された低反射電極2では、その側面が剥き出していることから、当該側面における反射光が視覚に影響を与えることがある。そこで、図7に示されるように、下地膜21、Al合金膜22及び金属導電膜23を導電積層膜パターン26としてパターニング加工(パターン形成)し、当該導電積層膜パターン26を、光透過性膜24で覆うように構成してもよい。このような構成によれば、導電積層膜パターン26の側面においても、光透過性膜24により反射率低減効果が得られる。
図9は、本発明の実施の形態2に係る低反射電極2の基本構成を模式的に示す断面図である。なお、本実施の形態2に係る低反射電極2において、実施の形態1で説明した構成要素と同一または類似するものについては同じ符号を付し、異なる点を中心に以下説明する。
本発明の実施の形態3では、上述の導電積層膜パターン26を、外部(指など)との接触を検出するためのセンサー電極に用いたタッチパネル基板(タッチパネル)を例にして説明する。なお、以下では、センサー電極は、図8に示した低反射電極2であるものとする。すなわち、以下では、センサー電極は、図8に示した導電積層膜パターン26だけでなく、図8に示した光透過性膜24も備えて構成されるものとして説明する。
図17は、実施の形態3の変形例に係るタッチパネル基板51の基本構成を模式的に示す断面図である。本変形例に係るタッチパネル基板51は、実施の形態3に係るXセンサー電極2a及びYセンサー電極2bに、実施の形態2に係る構成を適用したものである。すなわち、本変形例においては、断面視における導電積層膜パターン26aの各パターンの表面輪郭、及び、導電積層膜パターン26bの各パターンの表面輪郭が、略円弧状となるように構成されている。したがって、本変形例に係るタッチパネル基板51によれば、実施の形態2と同様に、Xセンサー電極2a及びYセンサー電極2bの表面部分の広範囲に亘って光を散乱させることができるので、反射率の低減効果を高めることができる。
Claims (11)
- 基板上に形成された、有機系樹脂膜、無機系樹脂膜、及び、Siを含む膜のいずれかからなる下地膜と、
前記下地膜上に形成された、酸素原子を含むAl合金膜と、
前記Al合金膜上に形成された金属導電膜と、
前記金属導電膜上に形成された光透過性膜と
を備え、
前記下地膜、前記Al合金膜、前記金属導電膜及び前記光透過性膜のうち少なくとも前記金属導電膜及び前記光透過性膜の表面に凹凸が形成されている、導電積層膜。 - 請求項1に記載の導電積層膜であって、
前記Al合金膜が、アルゴンガスと酸素ガスと含む混合ガスを用いたスパッタリング法によって形成された、導電積層膜。 - 請求項1または請求項2に記載の導電積層膜であって、
前記Al合金膜は、前記凹凸と同様の凹凸が形成された表面を有し、
前記金属導電膜及び前記光透過性膜の前記凹凸は、前記Al合金膜の前記凹凸を反映している、導電積層膜。 - 請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の導電積層膜であって、
波長550nmの光に関する前記光透過性膜の屈折率が、1.8以上2.3以下である、導電積層膜。 - 請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の導電積層膜であって、
前記光透過性膜の膜厚が、10nm以上150nm以下である、導電積層膜。 - 請求項5に記載の導電積層膜であって、
前記光透過性膜の膜厚が、40nm以上80nm以下である、導電積層膜。 - 請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の導電積層膜であって、
前記光透過性膜は導電性酸化物を含む、導電積層膜。 - 請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の導電積層膜であって、
前記光透過性膜は、39mol%以上50mol%未満の窒素原子を含むAl合金膜からなる、導電積層膜。 - 請求項1乃至請求項8のいずれかに記載の導電積層膜であって、
前記下地膜、前記Al合金膜及び前記金属導電膜は導電積層膜パターンとしてパターン形成されており、
前記導電積層膜パターンが、前記光透過性膜で覆われている、導電積層膜。 - 請求項9に記載の導電積層膜であって、
断面視における前記導電積層膜パターンの各パターンの表面輪郭が略円弧状である、導電積層膜。 - 請求項9または請求項10に記載の導電積層膜の前記導電積層膜パターンを、外部との接触を検出するためのセンサー電極に用いた、タッチパネル。
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