JP2014207300A - 光源装置および露光装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】光束合成素子による光束合成時の光損失が少なく、光束合成素子を大型化する必要がなく、既存の露光装置のランプ光源に代えて用いることができる省スペースな露光装置の光源装置を得る。【解決手段】第1、第2、第3の波長特性の光源素子を複数配列した第1、第2、第3アレイ光源と、第1、第2、第3アレイ光源の各光源素子に対応するコリメータレンズを配列した第1、第2、第3レンズアレイと、第1のレンズアレイが形成した第1の波長特性の平行光と、第2のレンズアレイが形成した第2の波長特性の平行光とを合成して第1合成光束とする第1光学合成素子と、第1光学合成素子からの第1合成光束と、第3のレンズアレイが形成した第3の波長特性の平行光とを合成して第2合成光束とする第2光学合成素子と、第2光学合成素子が合成した第2合成光束を光量均一化素子に対して集光するコンデンサレンズと、を備える光源装置。【選択図】図2

Description

本発明は、露光装置の光源装置、特に波長特性の異なる複数のアレイ光源を用いる光源装置及び露光装置に関する。
従来、露光装置の光源にはランプが用いられていた。具体的に、例えばプリント基板の配線パターン形成やソルダレジスト膜形成においては、使用される感光材の感度特性から、436nm(g線)、405nm(h線)、365nm(i線)のスペクトル線を強く発する水銀ランプを光源に使用していた。これに対し、近年、光源の長寿命化や省電力化の要求に応え、水銀ランプに変わってLEDを光源に使用する光源装置が開発されている。LEDは水銀ランプに比べ寿命が長いという長所があるが、反面、1つのLED素子の出力する光量は水銀ランプより小さく、また水銀ランプがg線、h線、i線を含むブロードバンド光を出力するのに対し、LEDは特定の狭帯域な波長の光を出力するため、ブロードバンド光を要する露光装置用光源にそのまま用いることができない。
そこで、多数のLEDからなるLEDアレイ光源を用いて水銀ランプ相当の光量を得ること、及び波長特性の異なる複数のLEDアレイ光源を用いることで感光材の感度特性に合わせた複数波長の光を得ることが提案されている。特許文献1では波長特性の異なる複数のLEDアレイ光源上に、各LED素子の発光部の像を形成するレンズアレイを重ね、同レンズアレイによる集光光束をダイクロイックミラーで重ね合わせた後発光部像の合成像を形成し、インテグレータ(光量均一化素子)の入射面に結像させている。
特許文献2の投影露光装置(ステッパー)は、波長特性の異なる複数のLEDアレイ光源から発する光をダイクロイックミラーを用いて合成し、インテグレータの入射面に結像させる光源装置を使用している。この特許文献2では、LEDアレイ光源の各LED素子からの光は、発散光としてダイクロイックミラーに入射する。
特開2012-63390号公報 特開2004-335949号公報
ダイクロイックミラーは一般に、光の入射する角度によって、光の反射と透過が切り替わるエッジ波長がシフトすることが知られている。また、透過させる光と反射させる光の波長差が少ないとき、このエッジ波長のシフトによって光を利用する効率が落ちてしまうという問題がある。また、特許文献1においてはLEDアレイの像がインテグレータ入口で結像されており、LEDアレイ周辺部の光がインテグレータ入口でけられて光量損失が発生する。また、特許文献1のようにLEDアレイの共役面を光路中に設ける光学系では、レンズ等の光学要素が多くなり、結果として光源装置を設置するためにスペースを多く必要とする。
特許文献2では、光源から発する光が広がるにつれダイクロイックミラーの面積が大きくなり、光源装置にスペースを多く必要とした。更に、特許文献1および特許文献2においては、各LEDアレイ光源から最初のコンデンサレンズ入射位置までの光路長がそれぞれ等しくなければならないので、合成するLEDアレイの数が増えるほど光路長が長くなる傾向があり、より多くのスペースを必要とした。このため、これらの光学系では、既存の露光装置のランプ光源より大型化し、既存の露光装置の光源と交換できないという問題があった。
本発明は、ダイクロイックミラー(光束合成素子)による光束合成時の光損失が少なく、ダイクロイックミラーを大型化する必要がなく、既存の露光装置のランプ光源に代えて用いることができる省スペースな露光装置の光源装置を得ることを目的とする。
本発明は、異なる波長を発する複数のLEDアレイ光源(アレイ光源)からの光束を平行光束としてからダイクロイックミラー(光束合成素子)に入射させれば、光損失が少なくかつ光路長に多くを要しない小型の光源装置を得ることができるという着眼に基づいて完成されたものである。
本発明に係る光源装置は、第1の波長特性の光を放射する光源素子を複数配列した第1のアレイ光源と、上記第1の波長特性の光をそれぞれ平行光にする、上記各光源素子に対応するコリメータレンズを配列した第1のレンズアレイと、上記第1の波長特性とは異なる第2の波長特性の光を放射する光源素子を複数配列した第2のアレイ光源と、上記第2の波長特性の光をそれぞれ平行光にする、上記各光源素子に対応するコリメータレンズを配列した第2のレンズアレイと、上記第1、第2の波長特性とは異なる第3の波長特性の光を放射する光源素子を複数配列した第3のアレイ光源と、上記第3の波長特性の光をそれぞれ平行光にする、上記各光源素子に対応するコリメータレンズを配列した第3のレンズアレイと、上記第1のレンズアレイが形成した上記第1の波長特性の平行光と、上記第2のレンズアレイが形成した上記第2の波長特性の平行光とを、主光線軸を共有するように合成し第1合成光束とする第1光学合成素子と、上記第1合成光束と、上記第3のレンズアレイが形成した上記第3の波長特性の平行光とを主光線軸を共有するように合成し第2合成光束とする第2光学合成素子と、上記第2光学合成素子を集光し光量均一化素子に入射させるコンデンサレンズと、を備えることを特徴としている。
第1光学合成素子と第2光学合成素子はそれぞれ、第1と第2のダイクロイックミラーから構成するのが実際的である。そして、第1と第2のダイクロイックミラーの少なくとも一方は、該ダイクロイックミラーへの第1ないし第3のアレイ光源からの光束の入射角が45°より小さくなるように配置する。
より具体的には、第1のダイクロイックミラーは第1のアレイ光源からの光束の入射角が45°をなし、第2のダイクロイックミラーは第3のアレイ光源からの光束の入射角が45°より小さくなるように配置するのがよい。
第1のアレイ光源と第2のアレイ光源は、一方が最長波長、他方が最短波長を有する波長特性とし、第3のアレイ光源は、最長波長と最短波長の中間波長の波長特性とするのが好ましい。
光量均一化素子の入射面に入射する光束のエネルギー分布のプロファイルは、中心部が高く周辺部が低くなるように連続的に変化する。
アレイ光源の多数の光源素子は格子状配置または千鳥状配置とすることが好ましい。
本発明は、別の態様では、以上の光源装置を用いた露光装置である。
本発明の光源装置は、LEDアレイ光源(アレイ光源)から出た光が平行光の状態でダイクロイックミラー(光束合成素子)に入射するため、入射場所の違いに起因する入射角度変化による損失が抑えられ、効率の良い光源装置を実現できる。さらに、光束の合成を平行光の状態で行うためダイクロイックミラーが大きくならず、また平行光部分の光路を自由な長さにできるため、3つ以上のアレイ光源を合成する光学系であっても省スペースな光源装置を実現できる。
本発明による光源装置を含む露光装置の全体構成を示すブロック図である。 本発明による光源装置の第一の実施形態を示す光学構成図である。 本発明による光源装置の第二の実施形態を示す光学構成図である。 LEDアレイ光源の一実施形態を示す平面図である。 LEDアレイ光源の別の実施形態を示す平面図である。 照明光学系のロッドインテグレータの入射端面に入射する光の光量分布を示すグラフ図である。 ダイクロイックミラーに対する入射角度と透過率(反射率)特性を示すグラフ図である。 ダイクロイックミラーに対する別の入射角度と透過率(反射率)特性を示すグラフ図である。
図1は本発明が対象とする光源装置11を含む露光装置10の全体を示している。図1において、矢印は光を示し、直線は制御信号の接続を示している。電源装置12によって駆動される光源装置11から出射した光は照明光学系13に入射し、照明光学系13から出た光はパターン描画手段14に入射する。パターン描画手段14は、照明光学系13から入射した光を、露光テーブル15上に載置した基板Wに照射する。基板Wには感光材が塗布またはラミネートされている。電源装置12、パターン描画手段14及び露光テーブル15は、制御装置16によって制御される。
より具体的には、照明光学系13は、ロッドインテグレータ等の光源装置11から出た光の面内光量分布を均一化するインテグレータ(光量均一化素子)を備え、さらにパターン描画手段14に適した形状の照明光を形成する。パターン描画手段14は、照明光学系13から入射した照明光を基板W上の感光材にパターンを形成するためのパターン光にする。照明光学系13はシャッターや光量調整手段等を備えてもよい。
パターン描画手段14には、例えばDMD等の光変調素子を使用することができ、あるいはレチクル等の遮光手段を用いることができる。また、パターン光を感光材に投影するための投影光学系を更に備えてもよい。感光材には、レチクル等の遮光手段を近接または当接させることができる。パターン描画手段14およびそれに伴う光学系は、露光装置10の用途に応じて適宜設計される。露光テーブル15は必要に応じて基板アラインメント手段や基板搬送手段等を兼ねてもよい。露光テーブルの形状等は基板に応じて適時設計される。
本発明は、例えば以上のように構成される露光装置10の光源装置11に適用するものであり、図2は、その第一の実施形態を示している。
この実施形態の光源装置11は、第1の波長特性(365nm)の光を発振する第1LEDアレイ光源21と、第2の波長特性(405nm)の光を発振する第2LEDアレイ光源22と、第3の波長特性(385nm)の光を発振する第3LEDアレイ光源23とを有しており、これらの異なる波長特性の光を上流から順に合成する。第1ないし第3のLEDアレイ光源21、22、23は、発振波長を除いて同一構成であり、365nmの光を発振する複数のLED素子21a、405nmの光を発振する複数のLED素子22a、385nmの光を発振する複数のLED素子23aを備えている。図2では、図示の便宜上、LED素子21a、22a、23aを3個並べて描いているが、実際には、これらのLED素子21a、22a、23aは、同一平面上に多数を縦横に配列してなっている。図4、図5は、その具体的な平面配置例を示しており、図4の例ではLED素子21a、22a、23aが格子状(マトリックス状)に縦横に配列され、図5の例では千鳥状に縦横に配列されている。千鳥状配列は、各横列のLED素子21a、22a、23aの配列ピッチをpとしたとき、上下の列でLED素子21a、22a、23aのピッチをp/2だけずらしている。この千鳥状配列は、格子状配列に比べ、LED素子の密度を高め照明光学系が取り込む光の損失を抑えることができる。
第1ないし第3のLEDアレイ光源21、22、23上にはそれぞれ、レンズアレイ31、32、33が重ねて配置されている。レンズアレイ31、32、33はそれぞれ、各LED素子21a、22a、23aからの発散光を平行光束とする、各LED素子21a、22a、23aに対応する複数のコリメータレンズ31a、32a、33aを備えている。LED素子は厳密には面発光を行うが、発光面積が光学系の大きさに対して十分に小さいことから実質的に点光源といえるので、LED素子の発する光を、コリメータレンズを用いて平行光束にすることができる。なお、ここでいう平行光束は完全な平行光でなくともよく、実質的に平行光とみなせる程度であれば光軸に対し角度を持ってもよい(例えば2°以内)。コリメータレンズ31a、32a、33aの平面配置は、LED素子21a、22a、23aの平面配置と同一であり、図4、図5では両者を併せて描いている。周知のように、LED素子21a、22a、23aの発光部からの光は発散光であるのに対し、コリメータレンズ31a、32a、33aは、各LED素子21a、22a、23a単位で、その発散光を平行光束とする。つまり、各コリメータレンズ31a、32a、33aにより平行光束とされたLED素子21a、22a、23aの光軸は互いに平行であってそれぞれ独立しており、共有関係にない。なお、以下の説明の便宜のために、第1LEDアレイ光源21とレンズアレイ31、第2LEDアレイ光源22とレンズアレイ32、第3LEDアレイ光源23とレンズアレイ33で形成される平行光束群の中心の光軸を主光軸21X、22X、23Xと定義する。
第1LEDアレイ光源21の主光軸21X上には、第1のダイクロイックミラー41、第2のダイクロイックミラー42、及びコンデンサレンズ43が順に配置され、コンデンサレンズ43による集光位置に、照明光学系13のロッドインテグレータ13aが位置している。第1ダイクロイックミラー41に対する主光軸21Xの入射角(主光軸21Xとミラー41の入射面の法線とのなす角)は、αであり、第2ダイクロイックミラー42に対する主光軸21Xの入射角(主光軸21Xとミラー42の入射面の法線とのなす角)は、βである。
第2LEDアレイ光源22は、第1のダイクロイックミラー41の裏面に入射して反射される主光軸22Xが主光軸21Xと一致するように配置され、第3LEDアレイ光源23は、第2のダイクロイックミラー42の裏面に入射して反射される主光軸23Xが主光軸21X(及び主光軸22X)と一致するように配置されている。第1ダイクロイックミラー41に対する主光軸22Xの入射角(主光軸22Xとミラー41の裏面入射面の法線とのなす角)は、γであり、この実施形態では、α=γ=45゜である。また、第2ダイクロイックミラー42に対する主光軸23Xの入射角(主光軸23Xとミラー42の裏面入射面の法線とのなす角)は、δであり、この実施形態ではβ=δ=25°(β=δ<45°)である。
そして、第1のダイクロイックミラー41は、第1LEDアレイ光源21からの波長特性の光を透過させる一方、第2LEDアレイ光源22からの波長特性の光を反射する特性を有する。また、第2のダイクロイックミラー42は、第1LEDアレイ光源21と第2LEDアレイ光源22からの波長特性の光を透過させる一方、第3LEDアレイ光源23からの波長特性の光を反射する特性を有している。
つまり、第1のダイクロイックミラー41、第2のダイクロイックミラー42は、以上の透過反射特性が得られるように、設置角度α、β、γ、δを考慮して多層膜として設計され製造される。
従って、以上の第1のダイクロイックミラー41と第2のダイクロイックミラー42は、第1LEDアレイ光源21とレンズアレイ31、第2LEDアレイ光源22とレンズアレイ32、第3LEDアレイ光源23とレンズアレイ33からの平行光束群を合成し、合成された光は、コンデンサレンズ43によって、照明光学系13のロッドインテグレータ13aの入射端面13bに集光される。ロッドインテグレータ13aは、入射した光束の面内光量分布を均一化して出射する周知の光量均一化素子である。
本実施形態では、第1のダイクロイックミラー41に入射する第1LEDアレイ光源21からの光束と第2LEDアレイ光源22からの光束、第2のダイクロイックミラー42に入射する第1LEDアレイ光源21からの光束、第2LEDアレイ光源22からの光束及び第3LEDアレイ光源23からの光束はいずれも平行光束(群)である。このため、第1のダイクロイックミラー41、第2のダイクロイックミラー42のどの部分においても一定の角度で光が入射し(光の入射場所による入射角のばらつきがなく)、ダイクロイックミラーを透過、あるいは反射する光の割合は一定となる。従って、ダイクロイックミラーの反射と透過のエッジ波長を適切に設計することにより、ダイクロイックミラーでの光の損失を最小に抑えることができる。
また、本実施形態は、上流側の第1のダイクロイックミラー41において、最短波長(365nm)の第1LEDアレイ光源21からの光と、最長波長(405nm)の第2LEDアレイ光源22から光を合成し、次いで下流側の第2のダイクロイックミラー42において、中間波長(385nm)の第3LEDアレイ光源23からの光を合成している。第1LEDアレイ光源21の発振波長と、第2LEDアレイ光源22の発振波長との間には、大きい波長差が存在するので、第1のダイクロイックミラー41は、透過と反射を切り換えるエッジ波長のマージンを大きくとることができる。そのため、第1のダイクロイックミラー41への入射角αとγを、最もミラーの面積を小さくでき配置効率の良い45°としている。これに対し、第2のダイクロイックミラー42では、透過波長と反射波長の波長差が小さい。このため、入射角δが45°では第3LEDアレイ光源23から第2のダイクロイックミラー42に入射する光の一部が反射せずに透過してしまい、効率が悪い。そこで、図2の実施形態では、第2のダイクロイックミラー42への主光軸23Xの入射角δを25°とし、透過と反射を切り換えるエッジ波長の幅をより狭くして(エッジの傾きを急峻にして)いる。このように、合成する光の波長の間隔によってダイクロイックミラーの角度を適切に設定することにより、光源装置の光利用効率を向上している。
図7、図8は、ダイクロイックミラーへの入射角θ、入射波長nm、及び透過と反射の切り換え波長(透過率)を示した図である。ダイクロイックミラーのエッジ波長は、45°で使用した場合、約20nmの幅を持つことが図7に示されている。一方、25°で使用した場合は、エッジ波長の幅は約10nmである(図8)。そのため、図8のように合成する光の波長の間隔が狭い場合はダイクロイックミラーの角度を小さくしエッジ波長の幅が狭い状態で使用することが望ましい。また、ダイクロイックミラーに入射する光が平行光でなく、位置によって入射角度が異なる場合、図7にあるように、エッジ波長の位置がシフトする。そのため、ダイクロイックミラー全体でみるとエッジ波長の幅が広がったと同様の結果となる。例えば入射角度に9°の幅がある場合、エッジ波長の幅は実質的に約10nm拡大し、約30nmとなる(図7)。
さらに、本実施形態では、第1ないし第3のLEDアレイ光源21、22、23のレンズアレイ31、32、33からコンデンサレンズ43までの間は平行光であって、第1ないし第3のLEDアレイ光源21、22、23の共役面が存在しない。従って、第1ないし第3のLEDアレイ光源21、22、23からコンデンサレンズ43の間の光路長を任意の距離にできる。つまり、第1LEDアレイ光源21からコンデンサレンズ43、第2LEDアレイ光源22からコンデンサレンズ43、第3LEDアレイ光源23からコンデンサレンズ43への光路長に制約がないので、光路設計の自由度が高く、光源装置を省スペース化できる。
図6は、照明光学系13のロッドインテグレータ13aの入射端面13bへ入射する光束の光量分布を示している。本実施形態では、LED素子からロッドインテグレータの入射端面13bまでがケーラー照明の関係となっている。コンデンサレンズ43により、ロッドインテグレータ13aの入射端面13bに集光される光は、全てのLED素子からの平行光であるから、ロッドインテグレータ13aの入射端面13bにおける光量分布は、中心がもっともエネルギー密度が高く、周辺に行くほどエネルギー密度が低くなる連続したプロファイルとなり、その形状は中心部が高く周辺部が低くなるガウス分布となる。このため、ロッドインテグレータ13aの入射開口サイズが小さくても、照明光学系13に多くの光を取り込むことが可能となり、光の利用効率を上げることができる。
図3は、図2の光源装置11において、第3LEDアレイ光源23の主光軸23X上に、第3のダイクロイックミラー44を配置し、この第3のダイクロイックミラー44の裏面入射面に、第2の中間波長(400nm)の光を発振する第4LEDアレイ光源24とレンズアレイ34からの平行光束群を入射させる4波長合成の実施形態を示している。第4LEDアレイ光源24は、400nmの光を発振する複数のLED素子24a(図4、図5参照)を備え、レンズアレイ34は、各LED素子24aからの発散光を平行光束とする、各LED素子24aに対応する複数のコリメータレンズ34aを備えている。第3のダイクロイックミラー44は、第3LEDアレイ光源23からの385nmの光を透過し、第4LEDアレイ光源24からの400nmの光を反射する特性を備えている。第3ダイクロイックミラー44に対する主光軸23Xの入射角(主光軸23Xとミラー43の入射面の法線とのなす角)は、εであり、第3ダイクロイックミラー44に対する主光軸24Xの入射角(主光軸24Xとミラー44の裏面入射面の法線とのなす角)は、ηである。
上記実施形態では、アレイ光源としてLEDアレイ光源21〜24を示したが、半導体レーザアレイ光源や、半導体レーザ素子と光ファイバを接続したものを束ねた光ファイバアレイ光源を用いることも可能である。また光束合成素子としてダイクロイックミラー41ないし43を例示したが、ダイクロイックプリズム等の光束合成素子も使用可能である。
10 露光装置
11 光源装置
12 電源装置
13 照明光学系
13a ロッドインテグレータ
14 パターン描画手段
15 露光テーブル
16 制御装置
21 第1LEDアレイ光源
22 第2LEDアレイ光源
23 第3LEDアレイ光源
24 第4LEDアレイ光源
21X 22X 23X 24X 光軸
21a 22a 23a 24a LED素子(光源素子)
31 32 33 34 レンズアレイ
31a 32a 33a 34a コリメータレンズ
41 第1のダイクロイックミラー
42 第2のダイクロイックミラー
43 コンデンサレンズ
44 第3のダイクロイックミラー

Claims (5)

  1. 第1の波長特性の光を放射する光源素子を複数配列した第1のアレイ光源と、
    上記第1の波長特性の光をそれぞれ平行光にする、上記各光源素子に対応するコリメータレンズを配列した第1のレンズアレイと、
    上記第1の波長特性とは異なる第2の波長特性の光を放射する光源素子を複数配列した第2のアレイ光源と、
    上記第2の波長特性の光をそれぞれ平行光にする、上記各光源素子に対応するコリメータレンズを配列した第2のレンズアレイと、
    上記第1、第2の波長特性とは異なる第3の波長特性の光を放射する光源素子を複数配列した第3のアレイ光源と、
    上記第3の波長特性の光をそれぞれ平行光にする、上記各光源素子に対応するコリメータレンズを配列した第3のレンズアレイと、
    上記第1のレンズアレイが形成した上記第1の波長特性の平行光と、上記第2のレンズアレイが形成した上記第2の波長特性の平行光とを、主光線軸を共有するように合成し第1合成光束とする第1光学合成素子と、
    上記第1合成光束と、上記第3のレンズアレイが形成した上記第3の波長特性の平行光とを主光線軸を共有するように合成し第2合成光束とする第2光学合成素子と、
    上記第2光学合成素子を集光し光量均一化素子に入射させるコンデンサレンズと、
    を備えることを特徴とする光源装置。
  2. 請求項1記載の光源装置において、第1光学合成素子と第2光学合成素子がそれぞれ第1と第2のダイクロイックミラーであり、該第1と第2のダイクロイックミラーの少なくとも一方は、該ダイクロイックミラーへの第1ないし第3のアレイ光源からの光束の入射角が45°より小さくなるように配置されている光源装置。
  3. 請求項2記載の光源装置において、第1のダイクロイックミラーは第1のアレイ光源からの光束の入射角が45°であり、第2のダイクロイックミラーは第3のアレイ光源からの光束の入射角が45°より小さくなるように配置されている光源装置。
  4. 請求項1ないし3のいずれか1項記載の光源装置において、第1のアレイ光源と第2のアレイ光源の波長特性は、一方が最長波長、他方が最短波長であり、第3のアレイ光源の波長特性は上記最長波長と最短波長の中間波長である光源装置。
  5. 請求項1ないし4のいずれか1項記載の光源装置を用いた露光装置。
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Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016152359A1 (ja) * 2015-03-26 2016-09-29 ウシオ電機株式会社 光源装置、露光装置
JP2016184126A (ja) * 2015-03-26 2016-10-20 ウシオ電機株式会社 光源装置、露光装置
JP2016200787A (ja) * 2015-04-14 2016-12-01 株式会社サーマプレシジョン 光照射装置、露光装置及びledアレイ光源
WO2017148656A1 (en) * 2016-03-03 2017-09-08 Asml Netherlands B.V. Wavelength combining of multiple sources
CN107168016A (zh) * 2016-03-07 2017-09-15 优志旺电机株式会社 光源装置以及具备该光源装置的曝光装置
JP2018010294A (ja) * 2016-07-14 2018-01-18 ズス・マイクロテック・リソグラフィ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツングSuss MicroTec Lithography GmbH フォトリソグラフィ露光システム用の光源装置及びフォトリソグラフィ露光システム
JP2018205635A (ja) * 2017-06-08 2018-12-27 ウシオ電機株式会社 光源装置
WO2019155886A1 (ja) * 2018-02-08 2019-08-15 株式会社ブイ・テクノロジー 近接露光装置、近接露光方法、及び近接露光装置用光照射装置
JP2019536111A (ja) * 2016-11-29 2019-12-12 シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント(グループ)カンパニー リミティド 光源の露光量を制御するためのシステム及び方法
JP2020095147A (ja) * 2018-12-12 2020-06-18 フェニックス電機株式会社 露光装置用光源、それを用いた露光装置、および露光装置用光源の制御方法
JP2021076787A (ja) * 2019-11-13 2021-05-20 フェニックス電機株式会社 Ledランプ、およびそれを用いた露光装置用光源
WO2024038535A1 (ja) * 2022-08-18 2024-02-22 株式会社ニコン 照明ユニット、露光装置、及び露光方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106773549B (zh) * 2017-01-21 2024-02-27 南京新趋势光电有限公司 一种高均匀性led平行光紫外曝光机光源系统
CN110806682A (zh) * 2019-12-05 2020-02-18 中山新诺科技股份有限公司 阻焊线路一体曝光的多光谱数字化曝光工艺及系统
CN113643617B (zh) * 2021-08-13 2023-02-28 重庆御光新材料股份有限公司 一种透明光纤显示屏

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003005286A (ja) * 1998-06-05 2003-01-08 Seiko Epson Corp 光源装置および表示装置
US20090256494A1 (en) * 2008-04-14 2009-10-15 Sony Corporation GaN-BASED SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING ELEMENT, LIGHT-EMITTING ELEMENT ASSEMBLY, LIGHT-EMITTING APPARATUS, METHOD OF DRIVING GaN-BASED SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING ELEMENT, AND IMAGE DISPLAY APPARATUS
JP2012047872A (ja) * 2010-08-25 2012-03-08 Ushio Inc 光源装置
JP2012049226A (ja) * 2010-08-25 2012-03-08 Ushio Inc 光源装置
JP2012063390A (ja) * 2010-09-14 2012-03-29 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 露光装置および光源装置
JP2012133337A (ja) * 2010-11-30 2012-07-12 Panasonic Corp 光源装置および投写型表示装置

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004335949A (ja) 2002-11-29 2004-11-25 Nikon Corp 露光装置及び露光方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003005286A (ja) * 1998-06-05 2003-01-08 Seiko Epson Corp 光源装置および表示装置
US20090256494A1 (en) * 2008-04-14 2009-10-15 Sony Corporation GaN-BASED SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING ELEMENT, LIGHT-EMITTING ELEMENT ASSEMBLY, LIGHT-EMITTING APPARATUS, METHOD OF DRIVING GaN-BASED SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING ELEMENT, AND IMAGE DISPLAY APPARATUS
JP2009259885A (ja) * 2008-04-14 2009-11-05 Sony Corp GaN系半導体発光素子、発光素子組立体、発光装置、GaN系半導体発光素子の駆動方法、及び、画像表示装置
JP2012047872A (ja) * 2010-08-25 2012-03-08 Ushio Inc 光源装置
JP2012049226A (ja) * 2010-08-25 2012-03-08 Ushio Inc 光源装置
JP2012063390A (ja) * 2010-09-14 2012-03-29 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 露光装置および光源装置
JP2012133337A (ja) * 2010-11-30 2012-07-12 Panasonic Corp 光源装置および投写型表示装置

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016152359A1 (ja) * 2015-03-26 2016-09-29 ウシオ電機株式会社 光源装置、露光装置
JP2016184126A (ja) * 2015-03-26 2016-10-20 ウシオ電機株式会社 光源装置、露光装置
JP2016184127A (ja) * 2015-03-26 2016-10-20 ウシオ電機株式会社 光源装置、露光装置
JP2016200787A (ja) * 2015-04-14 2016-12-01 株式会社サーマプレシジョン 光照射装置、露光装置及びledアレイ光源
JP2019512716A (ja) * 2016-03-03 2019-05-16 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. 複数の光源の波長合成
US10520824B2 (en) 2016-03-03 2019-12-31 Asml Netherlands B.V. Wavelength combining of multiple source
WO2017148656A1 (en) * 2016-03-03 2017-09-08 Asml Netherlands B.V. Wavelength combining of multiple sources
CN107168016A (zh) * 2016-03-07 2017-09-15 优志旺电机株式会社 光源装置以及具备该光源装置的曝光装置
JP2018010294A (ja) * 2016-07-14 2018-01-18 ズス・マイクロテック・リソグラフィ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツングSuss MicroTec Lithography GmbH フォトリソグラフィ露光システム用の光源装置及びフォトリソグラフィ露光システム
JP2019536111A (ja) * 2016-11-29 2019-12-12 シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント(グループ)カンパニー リミティド 光源の露光量を制御するためのシステム及び方法
JP2018205635A (ja) * 2017-06-08 2018-12-27 ウシオ電機株式会社 光源装置
WO2019155886A1 (ja) * 2018-02-08 2019-08-15 株式会社ブイ・テクノロジー 近接露光装置、近接露光方法、及び近接露光装置用光照射装置
JPWO2019155886A1 (ja) * 2018-02-08 2021-01-28 株式会社ブイ・テクノロジー 近接露光装置、近接露光方法、及び近接露光装置用光照射装置
JP2020095147A (ja) * 2018-12-12 2020-06-18 フェニックス電機株式会社 露光装置用光源、それを用いた露光装置、および露光装置用光源の制御方法
JP7060244B2 (ja) 2018-12-12 2022-04-26 フェニックス電機株式会社 露光装置用光源、それを用いた露光装置、およびレジストの露光方法
JP2021076787A (ja) * 2019-11-13 2021-05-20 フェニックス電機株式会社 Ledランプ、およびそれを用いた露光装置用光源
JP7154603B2 (ja) 2019-11-13 2022-10-18 フェニックス電機株式会社 露光装置用光源
WO2024038535A1 (ja) * 2022-08-18 2024-02-22 株式会社ニコン 照明ユニット、露光装置、及び露光方法

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