JP2014206735A - 偏光板用積層体及び偏光板用積層体の製造方法、並びに偏光板 - Google Patents
偏光板用積層体及び偏光板用積層体の製造方法、並びに偏光板 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014206735A JP2014206735A JP2014053001A JP2014053001A JP2014206735A JP 2014206735 A JP2014206735 A JP 2014206735A JP 2014053001 A JP2014053001 A JP 2014053001A JP 2014053001 A JP2014053001 A JP 2014053001A JP 2014206735 A JP2014206735 A JP 2014206735A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laminate
- resin
- polyvinyl alcohol
- polarizing plate
- iii
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
- G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
- G02B5/3041—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks
- G02B5/305—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks including organic materials, e.g. polymeric layers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
【解決手段】基材フィルム[I]と側鎖に1,2−ジオール構造を有するポリビニルアルコール系樹脂(A)を含有する樹脂層[II]の積層体[III]が延伸されてなり、かつ、側鎖に1,2−ジオール構造を有するポリビニルアルコール系樹脂(A)を含有する樹脂層[II]が染色されてなることを特徴とする偏光板用積層体。
【選択図】なし
Description
そこで、基材フィルムの表面に偏光子層となるポリビニルアルコール系樹脂層を設けた後、基材フィルムごとポリビニルアルコール系樹脂層を延伸し、染色・架橋工程及びその後の乾燥工程を経てポリビニルアルコール系樹脂層を偏光子層とすることで、基材フィルムと偏光子層との合計の厚さを限界まで薄くすることができ、偏光子層(偏光膜)としての厚さを従来よりも薄くする方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
工程(1):基材フィルム[I]上に側鎖に1,2−ジオール構造を有するポリビニルアルコール系樹脂(A)を含有する樹脂層[II]を形成して積層体[III]を得る工程。
工程(2):積層体[III]を延伸する工程。
工程(3):積層体[III]を染色する工程。
工程(4):積層体[III]をホウ素化合物処理する工程。
工程(5):ポリビニルアルコール系樹脂(A)を含有する樹脂層[II]側に透明保護フィルム[IV]を貼合した後、基材フィルムを剥離する工程。
本発明の偏光板用積層体は、基材フィルム[I]と側鎖に1,2−ジオール構造を有するポリビニルアルコール系樹脂(A)を含有する樹脂層[II]の積層体[III]からなるものである。
かかる樹脂層[II]は、側鎖に1,2−ジオール構造を有するポリビニルアルコール系樹脂(A)を含有するものである。
また、共重合反応の反応温度は、使用する溶媒や圧力により40℃から沸点程度とすることが好ましい。
また、ケン化反応の反応温度は特に限定されないが、10〜60℃が好ましく、より好ましくは20〜50℃である。
即ち、ポリビニルアルコール系樹脂(A)の側鎖1,2−ジオール構造の含有量をαモル%、ポリビニルアルコール系樹脂(A)とポリビニルアルコール系樹脂(B)の合計量に対してポリビニルアルコール系樹脂(A)の含有割合をX%とした場合に下式より算出される。
側鎖1,2−ジオール構造の平均含有量(モル%)=(X/100)×α
また、ポリビニルアルコール系樹脂(B)として、ケン化度、4重量%水溶液粘度などの異なる2種以上のポリビニルアルコール系樹脂を併用してもよい。
また、乾燥温度は、通常、30〜200℃、好ましくは40〜150℃であり、乾燥時間は、通常、5〜30分間程度である。
工程(1):基材フィルム[I]上に側鎖に1,2−ジオール構造を有するポリビニルアルコール系樹脂(A)を含有する樹脂層[II]を形成して積層体[III]を得る工程。
工程(2):積層体[III]を延伸する工程。
工程(3):積層体[III]を染色する工程。
工程(4):積層体[III]をホウ素化合物処理する工程。
工程(5):ポリビニルアルコール系樹脂(A)を含有する樹脂層[II]側に透明保護フィルム[IV]を貼合した後、基材フィルムを剥離する工程。
なお、例中「部」、「%」とあるのは、重量基準を意味する。
(1)側鎖の1,2−ジオール構造の含有量(モル%)
1H−NMR(内部標準物質:テトラメチルシラン、溶媒:d6−DMSO)で測定して算出した。
(2)ポリビニルアルコール系樹脂の平均ケン化度(モル%)
残酢酸ビニル単位の加水分解に要するアルカリ消費で分析を行なった。
(3)ポリビニルアルコール系樹脂の4%水溶液粘度(mPa・s)
水温を20℃に調整しヘプラ−粘度計により測定した。
側鎖に1,2−ジオール構造を有するポリビニルアルコール(A)(側鎖1,2−ジオール構造の含有量:1.0モル%、平均ケン化度:99.8モル%、4%水溶液粘度(20℃):85mPa・s)を用いて、濃度14%のポリビニルアルコール水溶液を調製した。
かかる14%ポリビニルアルコール水溶液を、基材フィルム[I]としての非晶性ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(厚み:100μm)上に、乾燥後の厚みが10μmとなるように塗工し、乾燥温度60℃にて乾燥を行い、PETフィルム/ポリビニルアルコール層の積層体[III]を得た。
得られた積層体[III]に対して、以下の通り樹脂層の膜厚均一性を評価した。
上記で得られた積層体[III]から基材フィルム[I]を剥がし、かかる樹脂層[II]について、樹脂層[II]の幅方向に対して、膜厚計(尾崎製作所社製「デジタルリニアゲージD−10HS」)を用いて膜厚均一性を評価した。かかる測定は5mmピッチで20点の膜厚を測定し、膜厚のふれ(最大値―最小値)の平均膜厚に対する割合について、以下の通り評価した。
○・・・10%未満
△・・・10以上15%未満
×・・・15%以上
得られた偏光板用積層体は、以下の通り光学特性を評価した。
上記で得られた偏光板用積層体から偏光子を剥がし、かかる偏光子について、積分球付き分光光度計(日本分光社製「VAP7070」)を用いて、単体透過率(%)、偏光度(%)を測定した。
表1の条件以外は実施例1と同様にして、積層体[III]及び偏光板用積層体を得た。得られた偏光板用積層体について、実施例1と同様の評価を行った。
実施例及び比較例の評価結果を下記の表1に示す。
Claims (12)
- 基材フィルム[I]と側鎖に1,2−ジオール構造を有するポリビニルアルコール系樹脂(A)を含有する樹脂層[II]の積層体[III]が延伸されてなり、かつ、側鎖に1,2−ジオール構造を有するポリビニルアルコール系樹脂(A)を含有する樹脂層[II]が染色されてなることを特徴とする偏光板用積層体。
- 積層体[III]の延伸倍率が2倍以上であることを特徴とする請求項1記載の偏光板用積層体。
- ポリビニルアルコール系樹脂(A)の側鎖の1,2−ジオール構造の含有量が0.01〜20モル%であることを特徴とする請求項1または2記載の偏光板用積層体。
- ポリビニルアルコール系樹脂(A)の平均ケン化度が90モル%以上であることを特徴とする請求項1〜3いずれか一項に記載の偏光板用積層体。
- ポリビニルアルコール系樹脂(A)の粘度が、4重量%水溶液粘度として8〜400mPa・sであることを特徴とする請求項1〜4いずれか一項に記載の偏光板用積層体。
- ポリビニルアルコール系樹脂(A)を含有する樹脂層[II]の厚みが1〜50μmであることを特徴とする請求項1〜5いずれか一項に記載の偏光板用積層体。
- 下記工程(1)〜(3)を含むことを特徴とする偏光板用積層体の製造方法。
工程(1):基材フィルム[I]上に側鎖に1,2−ジオール構造を有するポリビニルアルコール系樹脂(A)を含有する樹脂層[II]を形成して積層体[III]を得る工程。
工程(2):積層体[III]を延伸する工程。
工程(3):積層体[III]を染色する工程。 - 更に、下記工程(4)を含むことを特徴とする請求項7記載の偏光板用積層体の製造方法。
工程(4):積層体[III]をホウ素化合物処理する工程。 - 染色工程(3)及びホウ素化合物処理工程(4)の少なくとも一方の工程中に、積層体[III]の延伸工程(2)を行うことを特徴とする請求項8記載の偏光板用積層体の製造方法。
- 積層体[III]の延伸工程(2)における延伸倍率が2倍以上であることを特徴とする請求項7〜9いずれか一項に記載の偏光板用積層体の製造方法。
- 更に、下記工程(5)を含むことを特徴とする請求項7〜10いずれか一項に記載の偏光板用積層体の製造方法。
工程(5):ポリビニルアルコール系樹脂(A)を含有する樹脂層[II]側に透明保護フィルム[IV]を貼合した後、基材フィルム[I]を剥離する工程。 - 請求項1〜6いずれか一項に記載の偏光板用積層体を用いてなることを特徴とする偏光板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014053001A JP2014206735A (ja) | 2013-03-18 | 2014-03-17 | 偏光板用積層体及び偏光板用積層体の製造方法、並びに偏光板 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013054564 | 2013-03-18 | ||
JP2013054564 | 2013-03-18 | ||
JP2014053001A JP2014206735A (ja) | 2013-03-18 | 2014-03-17 | 偏光板用積層体及び偏光板用積層体の製造方法、並びに偏光板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014206735A true JP2014206735A (ja) | 2014-10-30 |
Family
ID=51580092
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014053001A Pending JP2014206735A (ja) | 2013-03-18 | 2014-03-17 | 偏光板用積層体及び偏光板用積層体の製造方法、並びに偏光板 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2014206735A (ja) |
KR (1) | KR102173669B1 (ja) |
CN (1) | CN104969100B (ja) |
WO (1) | WO2014148413A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017076116A (ja) * | 2015-10-14 | 2017-04-20 | 日東電工株式会社 | 偏光子およびその製造方法 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017111031A1 (ja) * | 2015-12-24 | 2017-06-29 | 花王株式会社 | 鋳造用塗型剤組成物 |
CN107219583B (zh) * | 2016-03-22 | 2021-12-03 | 住友化学株式会社 | 偏振片、偏振膜以及偏振片的制造方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000338329A (ja) * | 1999-06-01 | 2000-12-08 | Sanritsutsu:Kk | 偏光板及びその製造方法 |
JP2009024076A (ja) * | 2007-07-19 | 2009-02-05 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | 光学用ポリビニルアルコール系フィルム、偏光膜、及び偏光板 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5089045B2 (ja) * | 2005-02-14 | 2012-12-05 | 日本合成化学工業株式会社 | ポリビニルアルコール系フィルム、およびその製造方法 |
JP2006282951A (ja) * | 2005-04-05 | 2006-10-19 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | ポリビニルアルコール系フィルム及びその用途 |
JP2008050574A (ja) * | 2006-07-24 | 2008-03-06 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | 光学用ポリビニルアルコール系フィルム、偏光膜、及び偏光板 |
CN101528817B (zh) * | 2006-07-27 | 2012-11-28 | 日本合成化学工业株式会社 | 光学用聚乙烯醇基膜、偏光膜和起偏振片 |
JP2009013368A (ja) * | 2007-07-09 | 2009-01-22 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | 光学用ポリビニルアルコール系フィルム、偏光膜、及び偏光板 |
-
2014
- 2014-03-17 WO PCT/JP2014/057066 patent/WO2014148413A1/ja active Application Filing
- 2014-03-17 JP JP2014053001A patent/JP2014206735A/ja active Pending
- 2014-03-17 KR KR1020157020841A patent/KR102173669B1/ko active IP Right Grant
- 2014-03-17 CN CN201480007123.6A patent/CN104969100B/zh active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000338329A (ja) * | 1999-06-01 | 2000-12-08 | Sanritsutsu:Kk | 偏光板及びその製造方法 |
JP2009024076A (ja) * | 2007-07-19 | 2009-02-05 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | 光学用ポリビニルアルコール系フィルム、偏光膜、及び偏光板 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017076116A (ja) * | 2015-10-14 | 2017-04-20 | 日東電工株式会社 | 偏光子およびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN104969100B (zh) | 2018-01-23 |
WO2014148413A1 (ja) | 2014-09-25 |
KR102173669B1 (ko) | 2020-11-03 |
KR20150132102A (ko) | 2015-11-25 |
CN104969100A (zh) | 2015-10-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5930636B2 (ja) | 偏光板 | |
JP5504232B2 (ja) | 偏光板の製造方法 | |
JP5808916B2 (ja) | 偏光性積層フィルムおよび偏光板の製造方法 | |
KR101967078B1 (ko) | 편광성 적층 필름 및 편광판의 제조 방법 | |
JP5885955B2 (ja) | 偏光板の製造方法 | |
JP2011150313A (ja) | 偏光板の製造方法 | |
CN102754002A (zh) | 偏振性层叠膜及偏振板的制造方法 | |
CN104122616A (zh) | 拉伸膜、偏振性拉伸膜和它们的制造方法 | |
WO2014088122A1 (ja) | 偏光性積層フィルムおよび偏光板の製造方法、偏光性積層フィルム、ならびに偏光板セット | |
KR102060291B1 (ko) | 편광자 보호 필름, 그 제조 방법, 편광판, 광학 필름 및 화상 표시 장치 | |
KR20090037825A (ko) | 편광판 및 이를 사용한 액정 표시장치 | |
CN107076912B (zh) | 偏振性层叠膜或偏振板的制造方法 | |
JP2011128486A (ja) | 偏光板の製造方法 | |
CN103261928A (zh) | 偏振性层叠膜及偏振片的制造方法 | |
WO2013018845A1 (ja) | 偏光板の製造方法 | |
JP2014206735A (ja) | 偏光板用積層体及び偏光板用積層体の製造方法、並びに偏光板 | |
JP6181804B2 (ja) | 偏光板 | |
JP2013101241A (ja) | 偏光性積層フィルムおよび積層フィルム | |
JP2012103466A (ja) | 偏光性積層フィルムおよび偏光板の製造方法 | |
JP5514700B2 (ja) | 偏光板の製造方法 | |
JP2016170438A (ja) | 偏光性積層フィルムおよび積層フィルム | |
JP2012133296A (ja) | 偏光性積層フィルムおよび偏光板の製造方法 | |
JP2018106204A (ja) | 偏光能を示さない領域を有する偏光性積層フィルムの製造方法及び偏光板 | |
JP6385106B2 (ja) | 偏光子の製造方法、及び偏光板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170123 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20171226 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20180214 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180214 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20180731 |