JP2014185052A - 中空シリカナノ粒子及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】一級アミノ基および/または二級アミノ基を有する脂肪族ポリアミン鎖と疎水性有機セグメントとを有する共重合体を水と溶剤との混合媒体中で会合体を形成させた後、溶剤の全部または一部を除去し、会合体の分散体を得る工程、前記工程で得られた会合体の分散液にシリカソースを加え、該会合体をテンプレートとして当該シリカソースのゾルゲル反応を行い、シリカを析出させて、コア−シェル型シリカナノ粒子を得る工程、得られたコア−シェル型シリカナノ粒子から共重合体を除去する工程、を有することを特徴とする中空シリカナノ粒子の製造方法、及びが該製造方法で得られた中空シリカナノ粒子。
【選択図】図1
Description
(2)(1)の工程で得られた会合体の分散液にシリカソース(b)を加え、該会合体をテンプレートとして当該シリカソースのゾルゲル反応を行い、シリカ(B)を析出させることで、コア−シェル型シリカナノ粒子を得る工程、
(3)(2)の工程で得られたコア−シェル型シリカナノ粒子から共重合体(A)を除去する工程、
を有することを特徴とする中空シリカナノ粒子の製造方法を提供するものである。さらに、本発明は、上記製造方法によって、粒径が30−500nmの範囲内である中空シリカナノ粒子も提供するものである。
(1)一級アミノ基および/または二級アミノ基を有する脂肪族ポリアミン鎖(a1)と疎水性有機セグメント(a2)とを有する共重合体(A)を水と溶剤との混合媒体中で会合体を形成させた後、溶剤の全部または一部を除去し、会合体の分散体を得る工程、
(2)(1)の工程で得られた会合体の分散液にシリカソース(b)を加え、該会合体をテンプレートとして当該シリカソースのゾルゲル反応を行い、シリカ(B)を析出させることで、コア−シェル型シリカナノ粒子を得る工程、
(3)(2)の工程で得られたコア−シェル型シリカナノ粒子から共重合体(A)を除去する工程、
を有することを特徴とする
焼成は、株式会社アサヒ理化製作所製セラミック電気管状炉ARF−100K型にAMF−2P型温度コントローラ付きの焼成炉装置にて行った。
共重合体(A)の合成に対して、1H−NMR測定(日本電子株式会社製、AL300、300Hz)を行い、化学構造を同定した。
合成した中空シリカナノ粒子もしくはエタノール分散溶液を炭素蒸着された銅グリッドに乗せ、乾燥後、サンプルを日本電子株式会社製、JEM−1400もしくはJEM−2200FSにて観察を行った。
比表面積はマイクロメリティクス社製Tris star 3000型装置にて、窒素ガス吸着/脱着法で測定した。
<共重合体(A−1)の合成>
分岐状ポリエチレンイミン(SP200、日本触媒社製、平均分子量10,000)の1.5gとAS−6(東亜合成社製、メタクリロイル末端ポリスチレン、平均分子量6,000)の0.9gを7.6gのDMFに溶解し、60℃で4時間攪拌し反応させた。反応は、1H−NMR測定によってAS−6の5.5〜6.5ppmに見られるメタクリロイル基が消失したことを確認し、完全に進行したことを確認した。
<コア−シェル型シリカナノ粒子の合成>
合成例1で合成した共重合体(A−1)の反応溶液(24%)を、攪拌させている10gの蒸留水中へその溶液を少量ずつ30分かけて滴下し、会合体の形成を行った。沈殿物が生成していないことを確認し、透析膜(MWCO12,000〜14,000)を用いてDMFを除去した。その後、得られた会合体の溶液の10gに、1.0Mの塩酸を加えてpHを5.0に調整し、1.0mLのMS−51(テトラメトキシシランの4量体)をシリカソースとして加えた。得られた分散溶液を室温にて24時間攪拌した後、遠心分離(10,000rpm/20min)にて回収し、水とエタノールでの洗浄、乾燥を経て、コア−シェル型シリカナノ粒子を得た。収量は0.198gであった。
<コア−シェル型シリカナノ粒子の合成>
合成例1で合成した共重合体(A−1)の反応溶液にDMFを10.0g加えて濃度を12%に調整した後に、攪拌させている20gの蒸留水中へその溶液を少量ずつ30分かけて滴下し、会合体の形成を行った。沈殿物が生成していないことを確認し、透析膜(MWCO12,000〜14,000)を用いてDMFを除去した。その後、得られた会合体の溶液の10gに、1.0Mの塩酸を加えてpHを5.0に調整し、1.0mLのMS−51(テトラメトキシシランの4量体)をシリカソースとして加えた。得られた分散溶液を室温にて24時間攪拌した後、遠心分離(10,000rpm/20min)にて回収し、水とエタノールでの洗浄、乾燥を経て、コア−シェル型シリカナノ粒子を得た。収量は0.211gであった。
<ポリシルセスキオキサンを有するコア−シェル型シリカナノ粒子の合成>
合成例2で合成した共重合体(A−1)の0.10gと水の10mLとの混合溶液を80℃で24時間攪拌することで、会合体を得た。この会合体の分散溶液にMS51(メトキシシランの4量体)の0.8mLをシリカソースとして加えた。得られた分散溶液を室温にて4時間攪拌した後、トリメチルメトキシシランの0.2mLを加えた。得られた溶液を室温にて24時間攪拌して、エタノールでの洗浄、乾燥を経て、ポリシルセスキオキサンを有するコア−シェル型シリカナノ粒子を得た。
<中空シリカナノ粒子の合成>
合成例2で得られたコア−シェル型シリカナノ粒子0.198gをアルミナるつぼに入れ、それを電気炉内にて焼成した。炉内温度は、2時間かけて800℃まで上げ、その温度にて3時間保持した。これを自然冷却し、共重合体(A−1)成分を除去した。収量は0.086gであった。
<中空シリカナノ粒子の合成>
合成例3で得られたコア−シェル型シリカナノ粒子0.211gをアルミナるつぼに入れ、それを電気炉内にて焼成した。炉内温度は、2時間かけて800℃まで上げ、その温度にて3時間保持した。これを自然冷却し、共重合体(A−1)成分を除去した。収量は0.060gであった。
<ポリシルセスキオキサンを有する中空シリカナノ粒子の合成>
合成例3で得られたポリシルセスキオキサン含有コア−シェル型シリカナノ粒子をアルミナ坩堝に加え、それを電気炉内にて焼成した。炉内温度は、2時間かけて400℃まで上げ、その温度にて1時間保持した。これを自然冷却し、共重合体(A−1)成分を除去したポリシルセスキオキサン含有の中空シリカナノ粒子を得た。TEM観察により、得られたシリカナノ粒子は、粒径が50〜200nmの範囲のものが多くみられ、シェル層の厚みは10nm程度であり、中空構造を有することを確認した。
<共重合体(A−2)の合成及びコア−シェル型シリカナノ粒子の合成>
分岐状ポリエチレンイミン(SP200、日本触媒社製、平均分子量10000)の1.0gとAB−6(東亜合成社製、メタクリロイル末端ポリアクリル酸ブチル、平均分子量6,000)の0.6gを8.4gのDMFに溶解し、60℃で6時間攪拌し反応させた。反応は、1H−NMR測定によってAS−6の5.5〜6.5ppmに見られるメタクリロイル基が消失したことを確認し、完全に進行したことを確認した。
合成例5で得られたコア−シェル型シリカナノ粒子の0.013gを実施例1に示した方法で焼成した。収量は0.008gであった。TEM観察により、得られたシリカナノ粒子は粒径が50〜100nmの範囲のものが主に観測され、シェル層の厚みは8nm程度であり、中空構造を有することが確認出来た(図4)。
Claims (9)
- (1)一級アミノ基および/または二級アミノ基を有する脂肪族ポリアミン鎖(a1)と疎水性有機セグメント(a2)とを有する共重合体(A)を水と溶剤との混合媒体中で会合体を形成させた後、溶剤の全部または一部を除去し、会合体の分散体を得る工程、
(2)(1)の工程で得られた会合体の分散液にシリカソース(b)を加え、該会合体をテンプレートとして当該シリカソースのゾルゲル反応を行い、シリカ(B)を析出させることで、コア−シェル型シリカナノ粒子を得る工程、
(3)(2)の工程で得られたコア−シェル型シリカナノ粒子から共重合体(A)を除去する工程、
を有することを特徴とする中空シリカナノ粒子の製造方法。 - 前記工程(2)の後に、有機シラン(c)のゾルゲル反応を行い、ポロシルセスキオキサン(C)を更に含有するコア−シェル型シリカナノ粒子とする工程を有する請求項1記載の中空シリカナノ粒子の製造方法
- 前記脂肪族ポリアミン鎖(a1)が、分岐状ポリエチレンイミン鎖またはポリアリルアミン鎖である請求項1〜2の何れか1項記載の中空シリカナノ粒子の製造方法。
- 前記疎水性有機セグメント(a2)が、重合度が5以上のポリスチレンセグメント、ポリアクリル酸エステルセグメント、及びポリメタクリル酸エステルセグメントかからなる群から選ばれる1種以上の疎水性有機セグメントである請求項1〜3の何れか1項記載の中空シリカナノ粒子の製造方法。
- 前記工程(3)における共重合体(A)を除去する工程が、焼成によるものである請求項1〜4の何れか1項に記載の中空シリカナノ粒子の製造方法。
- 焼成温度が300〜1000℃の範囲である請求項5記載の中空シリカナノ粒子の製造方法。
- 請求項1〜6の何れか1項記載の製造方法で得られることを特徴とする中空シリカナノ粒子。
- 粒子の平均外径が30〜500nmの範囲である請求項7記載の中空シリカナノ粒子。
- 厚みが1〜20nmの範囲であって、且つ多分散性である請求項7又は8記載の中空シリカナノ粒子。
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