JP2014175326A - Method of manufacturing printed wiring board and chemical processing apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、プリント配線板の製造方法と、その製造に用いる薬液処理装置に関するもので、特に、プリント配線板に対して、薬液をスプレーノズルにより噴射して化学処理を行う薬液処理装置を備える水平搬送型装置を用いた製造方法に関するものである。 The present invention relates to a method of manufacturing a printed wiring board and a chemical processing apparatus used for the manufacturing, and in particular, a horizontal provided with a chemical processing apparatus that performs chemical processing by spraying a chemical with a spray nozzle on the printed wiring board. The present invention relates to a manufacturing method using a transport type apparatus.
プリント配線板の製造では、一般に水平搬送型装置を用いて薬液をスプレーノズルから対象物に噴射して化学処理を行う工程が組込まれているが、この従来の水平搬送型装置においては基板の上面中心部の液溜りによる処理遅れの問題があり、プリント配線板の高密度化に伴う均一な薬液処理が求められている。 In the production of a printed wiring board, a process of injecting a chemical solution from a spray nozzle onto an object is generally incorporated using a horizontal conveyance type apparatus. In this conventional horizontal conveyance type apparatus, the upper surface of a substrate is incorporated. There is a problem of processing delay due to liquid pooling in the center, and there is a demand for uniform chemical processing associated with higher density of printed wiring boards.
このような水平搬送型装置による具体的な例として、プリント配線板の製造工程の表面処理として銅厚を薄くする処理が挙げられる。
例えば、ビルドアップ基板ではレーザービア内を銅めっきで充填するビアフィリングめっきが用いられるが、レーザービア内を銅めっきで充填するためには銅めっきを厚くしなければならないことが多い。その銅厚が厚いままだと、回路形成で高精細な配線をエッチングできなくなったり、総板厚が厚くなってしまったりと、最近の高密度要求に応えられなくなるため、ビアフィリングめっき後に全面の銅厚を薄くするエッチング処理を行うことがある。
A specific example of such a horizontal conveyance type apparatus is a process for reducing the copper thickness as a surface treatment in the manufacturing process of a printed wiring board.
For example, in a build-up substrate, via filling plating that fills a laser via with copper plating is used, but in order to fill a laser via with copper plating, the copper plating often needs to be thickened. If the copper thickness is still too high, it will not be possible to etch high-definition wiring in circuit formation or the total thickness will be too thick to meet the recent high density requirements. An etching process for reducing the copper thickness may be performed.
この処理は、エッチング液をスプレーノズルで噴射する水平搬送型装置で行うことが一般的であるが、基板の上面中心部に液溜りが生じると、その液溜り部分が周辺部よりエッチング処理が遅れて、銅厚が厚いままとなってしまう。 This process is generally performed by a horizontal transfer type apparatus that sprays the etchant with a spray nozzle. However, if a liquid pool is generated at the center of the upper surface of the substrate, the etching process is delayed from the peripheral part. As a result, the copper thickness remains thick.
また他の例として、プリント配線板の配線回路形成が、エッチング液(塩化第二鉄、塩化第二銅など)を用いた方法で行われる。
例えば、銅箔を張り付けられた基板材料に「穴明け」、「銅めっき」、「エッチングレジスト形成(液状レジスト、ドライフィルムレジストなど)」、「露光」を、順に実施後、薬液をスプレーノズルから噴射する水平搬送型装置で、現像、エッチングを行い配線回路を形成するものである。
As another example, wiring circuit formation of a printed wiring board is performed by a method using an etching solution (ferric chloride, cupric chloride, etc.).
For example, “drilling”, “copper plating”, “etching resist formation (liquid resist, dry film resist, etc.)” and “exposure” are performed in order on the substrate material to which the copper foil is attached, and then the chemical solution is applied from the spray nozzle. This is a horizontal transport type device that performs spraying, and development and etching are performed to form a wiring circuit.
このエッチング処理において、基板の上面中心部で液溜りが生じると、その液溜り部分が周辺部よりエッチング処理が遅れて、回路幅が太く仕上がってしまう。 In this etching process, if a liquid pool is generated at the center of the upper surface of the substrate, the etching process is delayed from the peripheral part of the liquid pool part, resulting in a thick circuit width.
そこで、基板の上面中心部の液溜りを低減する方法として、スプレーノズルを左右方向に傾けることで液流れを促す方法が特許文献1に開示されている。また、スプレーノズルの前後に薬液の流れを妨げる規制ローラを置くことで、薬液を左右に促す方法が特許文献2に開示されている。
Therefore,
このような技術は、上面中心部の液溜りによる処理遅れを低減する効果はあるものの、搬送される基板の幅が大きい場合には、上面中心部の処理遅れが完全には解消されない問題が残されていた。 Although this technique has the effect of reducing the processing delay due to the liquid pool in the center of the upper surface, the problem remains that the processing delay in the center of the upper surface cannot be completely eliminated when the width of the substrate to be transported is large. It had been.
本発明は、プリント配線板の製造方法において薬液をスプレーノズルにより噴射して化学処理を行う水平搬送型装置を用いた工程における搬送される基板の上面中心部の液溜りによる処理遅れの問題を解消する基板左右両方向に薬液の流れを促して液溜りが発生しないようにする薬液処理装置と、その薬液処理装置を備えた水平搬送型装置によるプリント配線板の製造方法を提供する。 The present invention solves the problem of processing delay due to liquid pooling at the center of the upper surface of a substrate to be transported in a process using a horizontal transport type apparatus that performs chemical processing by spraying a chemical solution with a spray nozzle in a method of manufacturing a printed wiring board. There are provided a chemical processing apparatus that prevents a liquid pool from being generated by encouraging the flow of a chemical in both the left and right directions of the substrate, and a method of manufacturing a printed wiring board by a horizontal conveyance type apparatus including the chemical processing apparatus.
本発明の第1の発明は、薬液をスプレーノズルにより噴射して化学処理を行う水平搬送型処理装置を用いたプリント配線板の製造方法であって、前記水平搬送型処理装置が、薬液の液溜りを発生させずに薬液による化学処理の幅方向の精度ばらつきを低減する効果を有する薬液処理装置を備え、前記薬液処理装置が、搬送される基板の幅方向に並べられ、前記基板に向かって薬液を噴出する複数のスプレーノズルを備えるスプレー管を複数個、配列したスプレー部を有し、前記複数のスプレーノズルが、薬液を扇型噴射パターンに噴射するスプレーノズルで、搬送方向に対して基板の幅方向の左側と右側に配置されるスプレーノズルの薬液噴射角度を、左側に配置されるスプレーノズルは略左方向に薬液を噴射するような角度で配置され、右側に配置されるスプレーノズルは略右方向に薬液を噴射するような角度で配置され、前記スプレー管が、搬送方向に対して−90度を超えて、90度未満の方向範囲に噴射パターンを示すスプレーノズルを有するスプレー管である時には、前記噴射パターンの後縁より逆搬送方向側に、基板中央部への薬液流れを阻害する規制ローラが設けられ、前記スプレー管が、搬送方向に対して90度を超えて、270度未満の方向範囲に噴射パターンを示すスプレーノズルを有するスプレー管である時には、前記噴射パターンの後縁より搬送方向側に、基板中央部への薬液流れを阻害する規制ローラを設けることにより、左右外側への流れが主流となり薬液は中央部から容易に排出されて液溜りを発生させず、薬液処理の幅方向のバラつきを低減する効果を有する薬液処理装置を備えることを特徴とするプリント配線板の製造方法である。 1st invention of this invention is a manufacturing method of the printed wiring board using the horizontal conveyance type processing apparatus which injects a chemical | medical solution with a spray nozzle, and performs a chemical processing, Comprising: The said horizontal conveyance type processing apparatus is a liquid of a chemical | medical solution. A chemical treatment apparatus having an effect of reducing variation in accuracy in the width direction of the chemical treatment by the chemical solution without generating a reservoir, and the chemical treatment devices are arranged in the width direction of the substrate to be transported, toward the substrate A spray unit having a plurality of spray tubes each having a plurality of spray nozzles for ejecting a chemical liquid is arranged, and the plurality of spray nozzles are spray nozzles for spraying the chemical liquid in a fan-shaped spray pattern, and the substrate with respect to the transport direction. The spray nozzles arranged on the left and right sides in the width direction of the spray nozzle are arranged at an angle so that the spray nozzles arranged on the left side eject the chemical liquid substantially in the left direction. The spray nozzle is arranged at an angle so as to eject the chemical solution substantially in the right direction, and the spray tube shows an injection pattern in a direction range of more than −90 degrees and less than 90 degrees with respect to the transport direction. When the spray tube has a spray nozzle, a regulating roller is provided on the reverse conveyance direction side from the trailing edge of the spray pattern to inhibit the chemical liquid flow to the center of the substrate. When the spray tube has a spray nozzle that shows a spray pattern in a direction range exceeding 270 degrees and less than 270 degrees, a regulating roller that inhibits the flow of the chemical liquid to the center of the substrate from the trailing edge of the spray pattern toward the conveyance direction By providing the flow, the flow to the left and right outside becomes the main flow, the chemical liquid is easily discharged from the central part, does not generate a liquid pool, and reduces the variation in the width direction of the chemical liquid processing A method for manufacturing a printed wiring board, characterized in that it comprises a chemical treatment apparatus having a fruit.
本発明の第2の発明は、第1の発明における搬送される基板の幅方向に並べられ、前記基板に向かって薬液を噴出する複数のスプレーノズルにおける基板搬送方向に対して基板の幅方向の略左端及び略右端に配置されるスプレーノズルの薬液噴出量が、前記基板の中心近傍に薬液を噴出するスプレーノズルの薬液噴出量より少ないことを特徴とするプリント配線板の製造方法である。 The second invention of the present invention is arranged in the width direction of the substrate in the plurality of spray nozzles arranged in the width direction of the substrate to be conveyed in the first invention and ejecting the chemical liquid toward the substrate. The printed wiring board manufacturing method is characterized in that the amount of the chemical liquid ejected from the spray nozzles arranged at the substantially left end and the substantially right end is smaller than the chemical liquid ejected amount of the spray nozzle ejecting the chemical liquid near the center of the substrate.
本発明の第3の発明は、第1の発明における搬送される基板の幅方向に並べられ、前記基板に向かって薬液を噴出する複数のスプレーノズルにおける基板の搬送方向に対して基板の幅方向の略左端及び略右端に配置されるスプレーノズルの薬液噴出圧力が、前記基板の中心近傍に薬液を噴出するスプレーノズルの薬液噴出圧力より小さいことを特徴とするプリント配線板の製造方法である。 According to a third aspect of the present invention, the width direction of the substrate with respect to the substrate conveyance direction in a plurality of spray nozzles arranged in the width direction of the substrate to be conveyed in the first invention and ejecting a chemical toward the substrate. The printed circuit board manufacturing method is characterized in that the chemical liquid jetting pressure of the spray nozzles arranged at substantially the left end and the rightmost edge of the nozzle is smaller than the chemical liquid jetting pressure of the spray nozzle for jetting the chemical liquid in the vicinity of the center of the substrate.
本発明の第4の発明は、薬液をスプレーノズルにより基板に噴射して化学処理を行い、プリント配線板を製造する水平搬送型処理装置における前記化学処理を行う薬液処理装置であって、搬送される前記基板の幅方向に並べられ、前記基板に向かって薬液を噴出する複数のスプレーノズルを備えるスプレー管を複数個、配列したスプレー部を有し、前記複数のスプレーノズルが、薬液を扇型噴射パターンに噴射するスプレーノズルで、基板搬送方向に対して基板の幅方向の左側と右側に配置されるスプレーノズルの薬液噴射角度を、左側に配置されるスプレーノズルは略左方向に薬液を噴射するような角度で配置し、右側に配置されるスプレーノズルは略右方向に薬液を噴射するような角度で配置され、前記スプレー管が、基板の搬送方向に対して−90度を超えて90度未満の方向範囲に噴射パターンを示すスプレーノズルを有するスプレー管である時には、前記噴射パターンの後縁より逆搬送方向側に、基板中央部への薬液流れを阻害する規制ローラを設け、前記スプレー管が、基板の搬送方向に対して90度を超えて、270度未満の方向範囲に噴射パターンを示すスプレーノズルを有するスプレー管である時には、前記噴射パターンの後縁より搬送方向側に、基板中央部への薬液流れを阻害する規制ローラを設けることにより、左右外側への流れが主流となり薬液は中央部から容易に排出されて液溜りを発生させず、薬液処理の幅方向のバラつきを低減する効果を有することを特徴とする薬液処理装置である。 According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a chemical processing apparatus for performing chemical processing in a horizontal transport type processing apparatus for manufacturing a printed wiring board by performing chemical processing by spraying chemical liquid onto a substrate by a spray nozzle. A spray section in which a plurality of spray tubes arranged with a plurality of spray nozzles arranged in the width direction of the substrate and ejecting the chemical solution toward the substrate are arranged, the plurality of spray nozzles fan-shaped the chemical solution A spray nozzle that sprays the spray pattern. The spray angle of the spray nozzles arranged on the left and right sides of the substrate width direction with respect to the substrate transport direction is sprayed. The spray nozzle arranged on the right side is arranged at an angle that ejects the chemical solution substantially in the right direction, and the spray tube is arranged in the substrate transport direction. When the spray tube has a spray nozzle showing a spray pattern in a direction range of more than -90 degrees and less than 90 degrees, the chemical liquid flow to the center of the substrate is directed to the reverse transport direction side from the rear edge of the spray pattern. When the spray tube is a spray tube having a spray nozzle showing a spray pattern in a direction range of more than 90 degrees and less than 270 degrees with respect to the substrate transport direction, a blocking roller is provided. By providing a regulating roller that hinders the flow of the chemical liquid to the center of the substrate from the trailing edge to the conveyance direction side, the flow to the left and right outer sides becomes the main flow, and the chemical liquid is easily discharged from the central part and does not generate a liquid pool, A chemical processing apparatus having an effect of reducing variations in the width direction of chemical processing.
薬液をスプレーノズルにより噴射して化学処理を行う水平搬送型装置を用いたプリント配線板の製造方法において、基板の搬送方向に垂直の方向に並べてスプレーノズルを設け、扇型に噴射するスプレーノズルを基板の幅方向の左側と右側で角度を変えて配置することで、搬送方向の一方では左右外側に液流れが促され、もう一方では内側に液流れが促されるが、内側に促される側のみに液流れを阻害する規制ローラを設けた薬液により化学処理を行う薬液処理装置を備えることで、左右外側への流れが主流となり薬液は中心部からスムーズに排出され、液溜りが発生せず、薬液処理の幅方向のバラつきを低減することが可能である。 In a method of manufacturing a printed wiring board using a horizontal conveyance type apparatus that performs chemical treatment by spraying a chemical solution with a spray nozzle, the spray nozzle is arranged in a direction perpendicular to the substrate conveyance direction, By changing the angle on the left and right sides of the width direction of the substrate, the liquid flow is promoted to the left and right outside in one of the transport directions, and the liquid flow is promoted to the inside in the other direction, but only on the side that is promoted in the inside. By providing a chemical treatment device that performs chemical treatment with a chemical solution provided with a restriction roller that inhibits the liquid flow, the flow to the left and right outside becomes the main flow, the chemical solution is smoothly discharged from the center, and no liquid pool occurs, It is possible to reduce the variation in the width direction of the chemical treatment.
また、本発明の薬液処理装置における左右外側のスプレーノズルを中心近傍のスプレーノズルに対して噴量の少ないタイプを使用することで、左右外側への流れをさらにスムーズにすることができる。さらに、左右外側のスプレーノズルの圧力を低く、中心近傍のスプレーノズルを高くすることで、左右外側への流れをさらにスムーズにすることも可能である。 Moreover, the flow to the left-right outer side can be made still smoother by using the type with little injection amount with respect to the spray nozzle of the center vicinity for the right-and-left outer spray nozzle in the chemical | medical solution processing apparatus of this invention. Furthermore, the flow to the left and right outer sides can be made smoother by lowering the pressure of the left and right spray nozzles and increasing the spray nozzle near the center.
本発明のプリント配線板の製造方法の特徴は、従来の基板上に設けた導電層などを配線回路に形成するために薬液を基板の上下からスプレーノズルにより基板に噴射して化学処理を行う水平搬送型処理装置を用いたプリント配線板の製造方法において、その水平搬送型処理装置が、薬液の液溜りを発生させずに薬液による化学処理の幅方向の精度ばらつきを低減する効果を有する薬液処理装置を備えていることを特徴とするものである。 The printed wiring board manufacturing method of the present invention is characterized in that a chemical treatment is performed by spraying a chemical solution from above and below the substrate with a spray nozzle in order to form a conductive layer or the like provided on a conventional substrate in a wiring circuit. In a method for manufacturing a printed wiring board using a conveyance type processing apparatus, the horizontal conveyance type processing apparatus has an effect of reducing variation in accuracy in the width direction of the chemical treatment by the chemical liquid without generating a liquid pool of the chemical liquid. A device is provided.
そこで、先ず本発明の製造方法においても特徴とする水平搬送型処理装置に備えられる薬液処理装置を、図1〜4を用いて詳細に説明する。
図1は、水平搬送型処理装置における薬液処理装置10の部分平面図、図2は、基板搬送方向に対する薬液処理装置10の部分右側面図である。
図1、2において、1は基板、2F、2Bは上面規制ローラ、3は上面搬送ローラ、4は上面スプレーノズル(扇形タイプ)、5は上面スプレー管、6は下面搬送ローラ、7は下面スプレーノズル、8は下面スプレー管、21L、21R、22L、22Rは上面スプレーノズル噴射パターン(扇型パターン)、21aは噴射パターン21L、21Rの後縁部、22aは噴射パターン22L、22Rの後縁部である。
Therefore, first, the chemical processing apparatus provided in the horizontal conveyance type processing apparatus which is also characteristic in the manufacturing method of the present invention will be described in detail with reference to FIGS.
FIG. 1 is a partial plan view of a
1 and 2, 1 is a substrate, 2F and 2B are upper surface regulating rollers, 3 is an upper surface conveying roller, 4 is an upper surface spray nozzle (fan type), 5 is an upper surface spray tube, 6 is a lower surface conveying roller, and 7 is a lower surface spray. Nozzle, 8 is a lower surface spray pipe, 21L, 21R, 22L, 22R are upper surface spray nozzle spray patterns (fan-shaped patterns), 21a is a rear edge of the
本発明に係る薬液処理装置は、図1、図2に示すように、プリント配線板を形成するための基板を、コンベアにて水平姿勢で搬送し、上下に配置されたスプレーノズルから薬液を噴射することにより化学処理を行い、プリント配線板の銅厚を薄くする表面処理や、回路形成を行うエッチングに用いる。
なお、この薬液処理装置で行う化学処理は、有害性の高い薬液を使うことから薬液が飛散しないように閉鎖空間を形成する処理槽内に装置が配置されて所定の化学処理が行われる。
As shown in FIGS. 1 and 2, the chemical processing apparatus according to the present invention transports a substrate for forming a printed wiring board in a horizontal posture on a conveyor, and injects chemicals from spray nozzles arranged vertically. By doing so, it is used for surface treatment for reducing the copper thickness of the printed wiring board and etching for circuit formation.
In addition, since the chemical treatment performed by this chemical treatment apparatus uses a highly harmful chemical solution, the chemical solution is disposed in a treatment tank that forms a closed space so that the chemical solution is not scattered, and a predetermined chemical treatment is performed.
その処理槽(図示せず)内部の構造と仕組みを、図1、図2で説明する。
処理対象の基板1は、下面搬送ローラ6と上面搬送ローラ3の回転により水平姿勢で搬送される。
一方、化学処理を行う薬液は、上下のスプレーノズル(図2、符号4、7)より噴射され、基板1の化学処理を行う。
The structure and mechanism inside the processing tank (not shown) will be described with reference to FIGS.
The
On the other hand, the chemical solution for chemical treatment is sprayed from the upper and lower spray nozzles (FIG. 2,
本発明は基板上面の薬液処理に関するものであるため、基板上面に対する作用状況について具体的に説明する。
上面スプレーノズル4は、基板1の上方で、上面搬送ローラ3に噴射した薬液がかからない位置に、薬液を運搬するスプレー管5に並べて装着されている。さらには、いわゆる噴射形状が扇型パターンに薬液を噴射するタイプを用い、図1に見られるように上面スプレーノズルの噴射パターン21R、21L、22R、22Lのように、基板1の幅方向の左側、右側で、薬液噴射角度(左側:θL、右側θR)を変えて噴射されるように設置されている。
この時の上面スプレーノズルの噴射パターンは、図1に示すように基板搬送方向に対して、概ねθRは60度から80度、θLは−80度から−60度程度とするのが良い。
Since the present invention relates to the chemical treatment of the upper surface of the substrate, the action state on the upper surface of the substrate will be specifically described.
The upper
As shown in FIG. 1, the spray pattern of the upper surface spray nozzle at this time is preferably about θ R is 60 degrees to 80 degrees and θ L is about −80 degrees to −60 degrees with respect to the substrate transport direction. .
図1のような形態で上面スプレーノズルを配置することにより、基板搬送方向側では、左右外側に液流れを誘導することができる。また基板搬送方向の逆側では中心に液流れが起こるが、その場合液流れを阻害する規制ローラ2を設けて、中心への液流れを抑制している。
その結果、左右外側への流れが主流となり、噴射された薬液は中心部からスムーズに左右両側に排出され、基板1中心部の液溜りの発生を抑制することが可能となるため、基板中心部分の処理遅れを抑制する効果を示すものである。
By arranging the upper surface spray nozzle in the form as shown in FIG. 1, the liquid flow can be guided to the left and right outside on the substrate transport direction side. In addition, a liquid flow occurs in the center on the opposite side of the substrate transport direction. In this case, a restriction roller 2 that inhibits the liquid flow is provided to suppress the liquid flow to the center.
As a result, the flow to the left and right outer sides becomes the mainstream, and the injected chemical liquid is smoothly discharged from the central part to both the left and right sides, and it is possible to suppress the occurrence of a liquid pool in the central part of the
図1、2のように上面スプレーノズル4の傾ける方向と、規制ローラ2(2F、2B)の配置位置の関係は、液流れが基板搬送方向と同じ向きになる配置と、基板搬送方向と逆向きになる配置が、交互になるようにすることが薬液処理のバラつきを低減する観点で望ましい。
As shown in FIGS. 1 and 2, the relationship between the direction in which the
具体的には、複数の上面スプレーノズルは、基板搬送方向に対して基板の幅方向の左側と右側に配置されるスプレーノズルの薬液噴射角度を、左側に配置されるスプレーノズルは、略左方向に薬液を噴射するような角度(図1における噴射パターン21L、22Lで示す角度)で配置し、右側に配置されるスプレーノズルは、略右方向に薬液を噴射するような角度(図1における噴射パターン21R、22Rで示す角度)で配置する。
さらに、規制ローラの配置位置は、スプレーノズルを備えるスプレー管5が、基板1の搬送方向に対して噴射角度θL、θRが−90度を超えて90度未満の方向範囲(所謂、基板搬送方向側)に噴射パターン21L、21Rを示す上面スプレーノズルを有するスプレー管である時には、噴射パターン後縁部21aより基板搬送方向とは逆方向側に、基板中央部への薬液流れを阻害する規制ローラ2Fを設ける。
Specifically, the plurality of upper surface spray nozzles are the liquid injection angles of the spray nozzles disposed on the left and right sides of the substrate width direction with respect to the substrate transport direction, and the spray nozzles disposed on the left are substantially leftward The spray nozzle disposed on the right side is disposed at an angle at which the chemical solution is ejected (angles indicated by the
Further, the arrangement position of the regulating roller is such that the
一方、スプレー管5が、基板1の搬送方向に対して噴射角度θL、θRが90度を超えて、270度未満の方向範囲(所謂、基板搬送方向と逆方向側)に噴射パターン22L、22Rを示すスプレーノズルを有するスプレー管である時には、噴射パターン後縁部22aより基板搬送方向側に、基板中央部への薬液流れを阻害する規制ローラ2Bを設ける。
このような規制ローラ2F、2Bの配置により、左右外側への流れが主流となり薬液は基板中心部から容易に排出されて液溜りを発生させず、薬液処理の幅方向のバラつきを低減する効果を発現するものである。
On the other hand, the
With the arrangement of the
特に、回路形成のエッチングでは、液流れの方向と平行に近い配線は細くなり、液流れに垂直に近い配線は太く仕上がる傾向があるため、液流れの方向を変えることが配線の仕上がりのバラつきを小さくする意味で重要である。 In particular, in circuit formation etching, wiring close to parallel to the direction of liquid flow tends to be thin, and wiring close to vertical to the liquid flow tends to be thicker.Therefore, changing the direction of liquid flow causes variations in the finish of the wiring. It is important to make it smaller.
薬液処理槽全体でのスプレーノズルの配置は、図3のようにスプレーノズルを基板流動方向に対して均等にずらして配置することが望ましい。
図3は薬液処理装置におけるスプレーノズルの配置を示す模式図で、31は搬送される基板1の幅方向の中心で、なお、[左側]及び[右側]の表記は、「基板搬送方向」に対する基板の幅方向の位置を示すものである。図4、図5ともに同様である。
As for the arrangement of the spray nozzles in the whole chemical treatment tank, it is desirable to dispose the spray nozzles evenly with respect to the substrate flow direction as shown in FIG.
FIG. 3 is a schematic diagram showing the arrangement of spray nozzles in the chemical processing apparatus, 31 is the center in the width direction of the
スプレーノズル4が基板搬送方向に直線に並ぶと、スプレーノズル4のある線は薬液処理が早くなる。また、スプレーノズル4の角度が変わる幅方向の中心部は、薬液がすみやかに左右両側に流れることから薬液処理が早くなる傾向があるため、スプレーノズル4の角度が変わる部分を、搬送される基板1の幅方向の中心31に集中させず、図1のように均等にずらすことが望ましい。
When the
さらに、この配置でも、基板中心部の液溜りによる処理遅れの解消が十分でない場合、図4のように左右外側のスプレーノズル4L、4Rを、中心近傍のスプレーノズル4に対して噴量の少ないタイプを使用することで、左右外側への流れをさらにスムーズにして液溜りの抑制と薬液処理の幅方向のバラつきを低減することが可能である。
図4はスプレーノズルの配置の他の例を示す模式図である。
Furthermore, even in this arrangement, when the processing delay due to the liquid pool in the center of the substrate is not sufficiently eliminated, the
FIG. 4 is a schematic view showing another example of the arrangement of spray nozzles.
あるいは、図5のように基板搬送方向に対して浅い角度αを設けて上側スプレー管5aを配置する。スプレー管5aの角度αは、基板搬送方向に対してスプレーノズル4が均等に分布するようにする。
中心部のスプレー管の圧力を高く、外側に向かうにしたがってスプレー管の圧力を低くすることで、中心部のスプレーノズルから噴射される薬液は圧力が高くなり、外側に向かうにしたがって噴射される薬液量は少なくなるため、左右外側への流れをさらにスムーズにして液溜りの抑制と薬液処理の幅方向のバラつきを低減することが可能である。
図5は、図3及び図4に示すスプレーノズルの配置とは異なる配置例を示す模式図で、41は噴射圧力制御弁、42は噴射圧力計である。
以下、実施例を示して本発明をより詳細に説明する。
Alternatively, as shown in FIG. 5, the
By increasing the pressure of the spray tube at the center and decreasing the pressure of the spray tube toward the outside, the pressure of the chemical sprayed from the spray nozzle at the center increases and the chemical sprayed toward the outside Since the amount is reduced, it is possible to further smooth the flow to the left and right outer sides to suppress liquid accumulation and reduce the variation in the width direction of the chemical treatment.
FIG. 5 is a schematic view showing an arrangement example different from the arrangement of the spray nozzles shown in FIGS. 3 and 4, wherein 41 is an injection pressure control valve, and 42 is an injection pressure gauge.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.
プリント配線板の製造工程の表面処理として銅厚を薄くするエッチング処理を行うラインについて、従来タイプのラインとの比較試験を表1(本発明実施例、図3の方法)、表2(本発明実施例、図4の方法)、表3(従来例)に示す条件で行った。
なお、スプレー管とスプレーノズル配置は、従来の方法と今回の発明の方法で同じとし、スプレーノズルの角度と規制ローラの配置を変えることで比較した。
Table 1 (Example of the present invention, method of FIG. 3) and Table 2 (Invention of the present invention) are compared with conventional types of lines for performing etching processing to reduce the copper thickness as surface treatment in the manufacturing process of the printed wiring board. The method was carried out under the conditions shown in Table 3 (conventional example).
The spray tube and spray nozzle arrangement were the same between the conventional method and the method of the present invention, and the comparison was made by changing the angle of the spray nozzle and the arrangement of the regulating roller.
試験には、銅箔35μmを有したプリント配線板用の基板を、今回の発明のライン条件と従来タイプのライン条件において、硫酸−過酸化水素系のエッチング液で15μmエッチングした場合の「厚みのバラつき」を比較した。基板サイズは幅515mm×長さ410mmである。
銅厚の測定は、測定点を基板端10mmより内側を均等に11×9=99ポイントとして行った。
In the test, a substrate for a printed wiring board having a copper foil of 35 μm was subjected to the “thickness of the case of 15 μm etching with a sulfuric acid-hydrogen peroxide etching solution under the line conditions of the present invention and the conventional line conditions. We compared "variation". The substrate size is 515 mm wide × 410 mm long.
The copper thickness was measured at 11 × 9 = 99 points equally inside the
試験の結果、従来の方法は上面の中心部のエッチングが遅い傾向があり標準偏差0.80μmとなった。
一方図3の方法は、上面の中心部のエッチングが遅い傾向が改善され標準偏差が0.40μmの結果が得られた。
さらに、図4のように左右外側のスプレーノズルを流量の少ないタイプを用いると標準偏差0.31μmとなった。
以上の比較試験により、今回の発明の有効性が確認できた。
As a result of the test, the conventional method has a tendency that the etching of the central portion of the upper surface tends to be slow, and the standard deviation is 0.80 μm.
On the other hand, the method of FIG. 3 improved the tendency of slow etching at the center of the upper surface, and obtained a standard deviation of 0.40 μm.
Furthermore, when a type with a small flow rate is used for the left and right outer spray nozzles as shown in FIG. 4, the standard deviation is 0.31 μm.
From the above comparative tests, the effectiveness of the present invention could be confirmed.
プリント配線板の製造工程の回路パターンを形成するエッチングにおいて、従来タイプのラインとの比較試験を表4(本発明実施例、図3の方法)、表5(本発明の他の実施例、図4の方法)、表6(従来例)に示す条件での通り行った。
スプレー管とスプレーノズル配置は従来の方法と今回の発明の方法で同じとし、スプレーノズルの角度と規制ローラの配置を変えることで比較した。
In the etching for forming the circuit pattern of the printed wiring board manufacturing process, Table 4 (the embodiment of the present invention, the method of FIG. 3) and Table 5 (the other embodiment of the present invention, FIG. 4) and under the conditions shown in Table 6 (conventional example).
The spray tube and spray nozzle arrangement were the same between the conventional method and the method of the present invention, and the comparison was made by changing the angle of the spray nozzle and the arrangement of the regulating roller.
試験には、銅箔18μmを有したプリント配線板用の基板に、硫酸−過酸化水素系の薬液を用いた前処理により、厚み0.2〜0.5μmのエッチングを行い、旭化成イーマテリアルズ製ドライフィルムレジスト「AQ1559」を、エッチング面にラミネートした。
次に、試験用のパターンが描画されたガラスマスクを、平行光タイプの露光機でコンタクト露光した。その後、現像処理を行い、今回の発明のライン条件と従来タイプのライン条件において、塩化第二鉄によるエッチングを行い回路形成を行った。
For the test, a printed wiring board substrate having a copper foil of 18 μm was etched to a thickness of 0.2 to 0.5 μm by pretreatment using a sulfuric acid-hydrogen peroxide-based chemical solution. Asahi Kasei E-Materials The dry film resist “AQ1559” manufactured was laminated on the etched surface.
Next, the glass mask on which the test pattern was drawn was contact-exposed with a parallel light type exposure machine. Thereafter, development processing was performed, and circuit formation was performed by etching with ferric chloride under the line conditions of the present invention and the conventional line conditions.
回路幅の測定は、ガラスマスクパターンのライン幅55μm、スペース幅25μmが連続して配置されている部分のライン幅の仕上がりを、基板端10mmより内側を均等に6×5の30ポイントを測定して、その標準偏差を以って比較を行った。
The circuit width is measured by measuring 30 points of 6 × 5 evenly on the inner side of the
試験の結果、従来の方法は上面の中心部のエッチングが遅い傾向があり標準偏差3.7μmとなった。
一方本発明の実施例である図3の方法は,上面の中心部のエッチングが遅い傾向が改善され標準偏差が2.8μmの結果が得られた。
他の実施例である図4のように左右外側のスプレーノズルを流量の少ないタイプを用いると標準偏差2.5μmが得られた。
以上の比較試験により、今回の発明の有効性が確認できた。
As a result of the test, the conventional method has a tendency of slow etching of the central portion of the upper surface, and the standard deviation is 3.7 μm.
On the other hand, in the method of FIG. 3 which is an embodiment of the present invention, the tendency of slow etching at the center of the upper surface was improved, and a result with a standard deviation of 2.8 μm was obtained.
As shown in FIG. 4, which is another example, a standard deviation of 2.5 [mu] m was obtained when a type having a small flow rate was used for the right and left outer spray nozzles.
From the above comparative tests, the effectiveness of the present invention could be confirmed.
1 基板
2F、2B 規制ローラ
3 上面搬送ローラ
4 上面スプレーノズル
4R 基板搬送方向に対して右側の上面スプレーノズルで、スプレーノズル4より噴射量が少ない
4L 基板搬送方向に対して左側の上面スプレーノズルで、スプレーノズル4より噴射量が少ない
5、5a 上面スプレー管
6 下面搬送ローラ
7 下面スプレーノズル
8 下面スプレー管
10 薬液処理装置
21R、21L、22R、22L 噴射パターン
21a、22a 噴射パターン後縁部
31 基板1の幅方向中心線
41 噴射圧力制御弁
42 噴射圧力計
DESCRIPTION OF
Claims (4)
前記水平搬送型処理装置が、薬液の液溜りを発生させずに薬液による化学処理の幅方向の精度ばらつきを低減する効果を有する薬液処理装置を備え、
前記薬液処理装置が、搬送される基板の幅方向に並べられ、前記基板に向かって薬液を噴出する複数のスプレーノズルを備えるスプレー管を複数個、配列したスプレー部を有し、
前記複数のスプレーノズルが、薬液を扇型噴射パターンに噴射するスプレーノズルで、搬送方向に対して基板の幅方向の左側と右側に配置されるスプレーノズルの薬液噴射角度を、左側に配置されるスプレーノズルは略左方向に薬液を噴射するような角度で配置され、右側に配置されるスプレーノズルは略右方向に薬液を噴射するような角度で配置され、
前記スプレー管が、搬送方向に対して−90度を超えて、90度未満の方向範囲に噴射パターンを示すスプレーノズルを有するスプレー管である時には、前記噴射パターンの後縁より逆搬送方向側に、基板中央部への薬液流れを阻害する規制ローラが設けられ、
前記スプレー管が、搬送方向に対して90度を超えて、270度未満の方向範囲に噴射パターンを示すスプレーノズルを有するスプレー管である時には、前記噴射パターンの後縁より搬送方向側に、基板中央部への薬液流れを阻害する規制ローラを設けることにより、左右外側への流れが主流となり薬液は中央部から容易に排出されて液溜りを発生させず、薬液処理の幅方向のバラつきを低減する効果を有する薬液処理装置を備えることを特徴とするプリント配線板の製造方法。 A method of manufacturing a printed wiring board using a horizontal conveyance type processing apparatus that performs chemical treatment by spraying a chemical solution with a spray nozzle,
The horizontal conveyance type processing apparatus includes a chemical treatment apparatus having an effect of reducing variation in accuracy in the width direction of chemical treatment with a chemical without causing a liquid pool of the chemical,
The chemical solution processing apparatus has a spray unit in which a plurality of spray tubes arranged with a plurality of spray nozzles arranged in the width direction of the substrate to be conveyed and ejecting the chemical solution toward the substrate are arranged,
The plurality of spray nozzles are spray nozzles that spray a chemical liquid in a fan-shaped spray pattern, and the chemical liquid spray angles of the spray nozzles disposed on the left and right sides in the width direction of the substrate with respect to the transport direction are disposed on the left side. The spray nozzle is arranged at an angle so as to inject the chemical liquid substantially in the left direction, and the spray nozzle arranged on the right side is arranged at an angle so as to inject the chemical liquid in the substantially right direction,
When the spray tube is a spray tube having a spray nozzle that exhibits a spray pattern in a direction range of more than −90 degrees and less than 90 degrees with respect to the transport direction, the spray tube is located on the reverse transport direction side from the trailing edge of the spray pattern. , A restriction roller is provided to inhibit the chemical flow to the center of the substrate,
When the spray tube is a spray tube having a spray nozzle that exhibits a spray pattern in a direction range of more than 90 degrees and less than 270 degrees with respect to the transport direction, the substrate is disposed on the transport direction side from the trailing edge of the spray pattern. By providing a regulating roller that blocks the flow of chemicals to the center, the flow to the left and right sides becomes the mainstream, and the chemicals are easily drained from the center and do not cause liquid accumulation, reducing variations in the width direction of chemicals processing. A method of manufacturing a printed wiring board, comprising: a chemical processing apparatus having an effect of:
搬送される前記基板の幅方向に並べられ、前記基板に向かって薬液を噴出する複数のスプレーノズルを備えるスプレー管を複数個、配列したスプレー部を有し、
前記複数のスプレーノズルが、薬液を扇型噴射パターンに噴射するスプレーノズルで、基板搬送方向に対して基板の幅方向の左側と右側に配置されるスプレーノズルの薬液噴射角度を、左側に配置されるスプレーノズルは略左方向に薬液を噴射するような角度で配置し、右側に配置されるスプレーノズルは略右方向に薬液を噴射するような角度で配置され、
前記スプレー管が、基板の搬送方向に対して−90度を超えて90度未満の方向範囲に噴射パターンを示すスプレーノズルを有するスプレー管である時には、前記噴射パターンの後縁より逆搬送方向側に、基板中央部への薬液流れを阻害する規制ローラを設け、
前記スプレー管が、基板の搬送方向に対して90度を超えて、270度未満の方向範囲に噴射パターンを示すスプレーノズルを有するスプレー管である時には、前記噴射パターンの後縁より搬送方向側に、基板中央部への薬液流れを阻害する規制ローラを設けることにより、左右外側への流れが主流となり薬液は中央部から容易に排出されて液溜りを発生させず、薬液処理の幅方向のバラつきを低減する効果を有することを特徴とする薬液処理装置。 A chemical treatment apparatus that performs chemical treatment by spraying a chemical liquid onto a substrate with a spray nozzle and performs the chemical treatment in a horizontal conveyance type processing apparatus that manufactures a printed wiring board,
Having a spray unit in which a plurality of spray tubes arranged with a plurality of spray nozzles arranged in the width direction of the substrate to be conveyed and spraying a chemical solution toward the substrate are arranged;
The plurality of spray nozzles are spray nozzles for spraying chemical liquid in a fan-shaped spray pattern, and the chemical liquid spray angles of the spray nozzles disposed on the left and right sides of the substrate width direction with respect to the substrate transport direction are disposed on the left side. The spray nozzle is arranged at an angle that ejects the chemical liquid substantially in the left direction, and the spray nozzle arranged on the right side is arranged at an angle that ejects the chemical liquid substantially in the right direction,
When the spray tube is a spray tube having a spray nozzle showing a spray pattern in a direction range of more than −90 degrees and less than 90 degrees with respect to the substrate transport direction, the reverse transport direction side of the rear edge of the spray pattern In addition, a restriction roller that inhibits the flow of the chemical liquid to the center of the substrate is provided,
When the spray tube is a spray tube having a spray nozzle showing a spray pattern in a direction range of more than 90 degrees and less than 270 degrees with respect to the substrate transport direction, it is closer to the transport direction side than the trailing edge of the spray pattern. By providing a restriction roller that inhibits the flow of chemicals to the center of the substrate, the flow to the left and right sides becomes the mainstream, and the chemicals are easily discharged from the central part and do not generate liquid pools. A chemical processing apparatus characterized by having an effect of reducing water.
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---|---|---|---|---|
JPH1144877A (en) * | 1997-07-24 | 1999-02-16 | Nec Kagoshima Ltd | Substrate washing device |
JP2000212774A (en) * | 1999-01-18 | 2000-08-02 | Tokyo Kakoki Kk | Chemical processing device |
JP2011023379A (en) * | 2009-07-13 | 2011-02-03 | Tokyo Kakoki Kk | Surface treatment device of substrate material |
JP2011023378A (en) * | 2009-07-13 | 2011-02-03 | Tokyo Kakoki Kk | Surface treatment device of substrate material |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1144877A (en) * | 1997-07-24 | 1999-02-16 | Nec Kagoshima Ltd | Substrate washing device |
JP2000212774A (en) * | 1999-01-18 | 2000-08-02 | Tokyo Kakoki Kk | Chemical processing device |
JP2011023379A (en) * | 2009-07-13 | 2011-02-03 | Tokyo Kakoki Kk | Surface treatment device of substrate material |
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