JP2014167156A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014167156A5 JP2014167156A5 JP2013183272A JP2013183272A JP2014167156A5 JP 2014167156 A5 JP2014167156 A5 JP 2014167156A5 JP 2013183272 A JP2013183272 A JP 2013183272A JP 2013183272 A JP2013183272 A JP 2013183272A JP 2014167156 A5 JP2014167156 A5 JP 2014167156A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fluid
- solder alloy
- fine particles
- treated
- alloy fine
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Claims (20)
- 接近・離反可能に互いに対向して配設され、少なくとも一方が他方に対して回転する第1処理用面と第2処理用面との間に、液相である被処理流動体を連続的に導入し、この被処理流動体の圧力により第1処理用面から第2処理用面を離反させる方向に移動させる力を発生させ、この力によって、第1処理用面と第2処理用面との間が微小な間隔に保たれ、この微小間隔に保たれた第1処理用面と第2処理用面との間を通過する該被処理流動体が薄膜流体を形成し、該薄膜流体中で金属イオンと還元剤とが反応して金属微粒子を析出する、金属微粒子の連続的製造方法であって、被処理流動体が、ハンダ合金用の金属塩2種以上と還元剤と錯体形成剤と分散剤とpH調整剤を含有する水性媒体であり、pH8より大きく12以下である該薄膜流体中で前記金属塩2種以上由来の金属イオンが還元されて、2種以上の金属のハンダ合金となり、平均粒径が10〜1000nmであるハンダ合金微粒子を析出することを特徴とする、ハンダ合金微粒子の連続的製造方法。
- 前記被処理流動体は、少なくとも2つの被処理流動体である第1の被処理流動体と第2の被処理流動体とからなり、第1の被処理流動体は少なくともハンダ合金用の金属塩2種以上と錯体形成剤とpH調整剤を含有する水性媒体であり、第2の被処理流動体は少なくとも還元剤とpH調整剤を含有する水性媒体であり、第1の被処理流動体と第2の被処理流動体のいずれかは又は両方が分散剤を含有しており、第1の被処理流動体と第2の被処理流動体が別々の導入路から前記第1処理用面と第2処理用面との間に連続的に導入されて薄膜流体を形成することを特徴とする、請求項1に記載のハンダ合金微粒子の連続的製造方法。
- 前記被処理流動体は、3つの被処理流動体である第1の被処理流動体と第2の被処理流動体と第3の被処理流動体とからなり、第1の被処理流動体は少なくともハンダ合金用の金属塩2種以上と錯体形成剤とpH調整剤を含有する水性媒体であり、第2の被処理流動体は少なくとも還元剤とpH調整剤を含有する水性媒体であり、第3の被処理流動体は分散剤または分散剤とpH調整剤を含有する水性媒体であり、第1の被処理流動体と第2の被処理流動体と第3の被処理流動体が別々の導入路から前記第1処理用面と第2処理用面との間に連続的に導入されて薄膜流体を形成することを特徴とする、請求項1に記載のハンダ合金微粒子の連続的製造方法。
- 前記被処理流動体は、第1の被処理流動体と第2の被処理流動体とからなり、第1の被処理流動体はハンダ合金用の金属塩2種以上と錯体形成剤とpH調整剤との水性媒体溶液であり、該水性媒体溶液のpHが8以上,かつ,12未満であり、第2の被処理流動体は還元剤と分散剤とpH調整剤との水性媒体溶液であり、該水性媒体溶液のpHが第1の被処理流動体のpHよりも大きいことを特徴とする、請求項2に記載のハンダ合金微粒子の連続的製造方法。
- 金属イオンと還元剤とが反応する前の薄膜流体は、金属塩の濃度が0.01〜5モル%であり、還元剤が金属塩に対して0.1〜40倍のモル%であり、錯体形成剤が金属塩に対して0.1〜50倍のモル%であり、分散剤の濃度が0.001〜2.0質量%であることを特徴とする、請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載のハンダ合金微粒子の連続的製造方法。
- 金属塩が、Sn−Bi系、Sn−Bi−Ag系、Sn−Ag系、Sn−Ag−Cu系もしくはSn−Sb系の無鉛ハンダ合金微粒子またはSn−Pb系のハンダ合金微粒子を製造するための複数の金属塩であることを特徴とする、請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載のハンダ合金微粒子の連続的製造方法。
- 被処理流動体中の金属塩と還元剤と錯体形成剤とpH調整剤と分散剤は、水、水溶性アルコール、または、水と水溶性アルコールの混合物に溶解していることを特徴とする、請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載のハンダ合金微粒子の連続的製造方法。
- 還元剤が、無機系還元剤、または、無機系還元剤と有機系還元剤であることを特徴とする、請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載のハンダ合金微粒子の連続的製造方法。
- 錯体形成剤が、ドナー原子として酸素原子を有する錯体形成剤、ドナー原子として窒素原子を有する錯体形成剤、またはドナー原子として酸素原子と窒素原子を有する錯体形成剤であることを特徴とする、請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載のハンダ合金微粒子の連続的製造方法。
- ドナー原子として酸素原子を有する錯体形成剤が、炭素原子数1〜18の飽和脂肪族モノカルボン酸、炭素原子数1〜10の飽和脂肪族ジカルボン酸、脂肪族ヒドロキシモノカルボン酸、脂肪族ヒドロキシジカルボン酸もしくは脂肪族ヒドロキシトリカルボン酸であり、ドナー原子として窒素原子を有する錯体形成剤が、炭素原子数1〜10の脂肪族ジアミンまたは窒素原子を配位原子とする芳香族化合物もしくは縮合環化合物であり、ドナー原子として酸素原子と窒素原子を有する錯体形成剤が、アミノカルボン酸類またはアミノアルコール類であることを特徴とする、請求項9に記載のハンダ合金微粒子の連続的製造方法。
- 分散剤が、高・中級脂肪酸塩、天然高分子分散剤または合成高分子分散剤であることを特徴とする、請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載のハンダ合金微粒子の連続的製造方法。
- pH調整剤が、有機系のアルカリもしくは酸、無機系のアルカリもしくは酸、またはアルカリ性もしくは酸性の塩であることを特徴とする、請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載のハンダ合金微粒子の連続的製造方法。
- ハンダ合金微粒子の粒度分布のCV値が80%以下であることを特徴とする、請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載のハンダ合金微粒子の連続的製造方法。
- ハンダ合金微粒子の固相線温度が、略同じ成分比率を有し平均粒径が略15μmのハンダ合金微粒子の固相線温度より、5℃以上低いことを特徴とする、請求項1〜請求項6のいずれか1項または請求項13に記載のハンダ合金微粒子の連続的製造方法。
- ハンダ合金微粒子中に、Ag3Sn、Ag5Sn、Cu3Sn、Cu6Sn、Cu6Sn5から選択される1種以上の金属間化合物を含有することを特徴とする、請求項6に記載のハンダ合金微粒子の連続的製造方法。
- 第1処理用面と第2処理用面の一方が他方に対して回転する速度が500rpm〜3000rpmであり、微小な間隔が0.1μm〜20μmであることを特徴とする、請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載のハンダ合金微粒子の連続的製造方法。
- 平均粒径が10〜1000nmであり、粒度分布のCV値が80%以下であり、単一金属からなる金属微粒子が実質的に混在していないことを特徴とする、ハンダ合金微粒子。
- 請求項1〜請求項16のいずれか1項に記載の連続的製造方法で製造されたハンダ合金微粒子と、ハンダフラックスとから成るハンダペースト。
- 請求項17に記載のハンダ合金微粒子とハンダフラックスとから成るハンダペースト。
- 請求項18または請求項19に記載のハンダペーストを使用してディスクリート部品とチップ部品と回路基板とから選択される電子部品をハンダ付けしていることを特徴とする回路基板、または、当該ハンダ付けしている回路基板を有することを特徴とする電子機器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013183272A JP5814320B2 (ja) | 2013-01-31 | 2013-09-04 | ハンダ合金微粒子の製造方法、ハンダ合金微粒子、ハンダペーストおよび電子機器 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013016514 | 2013-01-31 | ||
JP2013016514 | 2013-01-31 | ||
JP2013183272A JP5814320B2 (ja) | 2013-01-31 | 2013-09-04 | ハンダ合金微粒子の製造方法、ハンダ合金微粒子、ハンダペーストおよび電子機器 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014167156A JP2014167156A (ja) | 2014-09-11 |
JP2014167156A5 true JP2014167156A5 (ja) | 2014-10-23 |
JP5814320B2 JP5814320B2 (ja) | 2015-11-17 |
Family
ID=51616983
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013183272A Active JP5814320B2 (ja) | 2013-01-31 | 2013-09-04 | ハンダ合金微粒子の製造方法、ハンダ合金微粒子、ハンダペーストおよび電子機器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5814320B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104741821B (zh) * | 2015-04-17 | 2016-10-05 | 哈尔滨工业大学 | 一种用于电子模块高温封装微纳米铜颗粒填充Sn基焊膏的制备方法 |
CN106271183B (zh) * | 2016-08-26 | 2018-07-24 | 江苏师范大学 | Mems器件三维封装互连材料 |
CN106624435B (zh) * | 2016-12-27 | 2019-08-13 | 深圳市荣昌科技有限公司 | 一种纳米无铅焊锡膏及其制备方法 |
JP6275311B1 (ja) * | 2017-05-31 | 2018-02-07 | 株式会社タムラ製作所 | ソルダペースト及びはんだ接合部 |
CN108480656B (zh) * | 2018-03-13 | 2019-08-09 | 中国科学院长春应用化学研究所 | 一种厚度可控的铋纳米片及其合金的制备方法和应用 |
CN112658277A (zh) * | 2020-12-08 | 2021-04-16 | 昆明理工大学 | 一种化学反应法制备Ag3Sn焊料纳米添加剂的方法 |
CN112894192B (zh) * | 2021-01-20 | 2022-10-14 | 郑州机械研究所有限公司 | 一种药皮钎料及其制备方法和应用 |
CN113441869B (zh) * | 2021-07-27 | 2022-04-08 | 亿铖达焊锡制造(昆山)有限公司 | 一种无铅焊锡膏生产装置 |
CN117086426B (zh) * | 2023-10-19 | 2024-02-23 | 山东富锐光学科技有限公司 | 一种基于钎焊机理的激光雷达旋转部件的自配平方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3956765B2 (ja) * | 2002-04-30 | 2007-08-08 | 住友電気工業株式会社 | 合金微粉末とそれを用いた導電ペースト、およびエレクトロルミネッセンス素子 |
JP2004211156A (ja) * | 2002-12-27 | 2004-07-29 | Tamura Kaken Co Ltd | 金属微粒子の製造方法、金属微粒子含有物及び導電性塗布組成物 |
JP2009035773A (ja) * | 2007-08-01 | 2009-02-19 | Denso Corp | 錫ナノ粒子の製造方法 |
JP4399612B2 (ja) * | 2007-11-09 | 2010-01-20 | エム・テクニック株式会社 | 磁性体微粒子の製造方法、これにより得られた磁性体微粒子及び磁性流体、磁性体製品 |
JP5537873B2 (ja) * | 2009-09-02 | 2014-07-02 | 国立大学法人北海道大学 | 銅微粒子の製造方法 |
JP2011184766A (ja) * | 2010-03-10 | 2011-09-22 | Mitsubishi Materials Corp | ハンダ粉末の製造方法及び該方法により得られたハンダ粉末 |
JP2012115861A (ja) * | 2010-11-30 | 2012-06-21 | Mitsubishi Materials Corp | ハンダ粉末の製造方法及び該方法により得られたハンダ粉末 |
EP2687306B1 (en) * | 2011-03-14 | 2018-07-11 | M Technique Co., Ltd. | Manufacturing method for metal microparticles |
-
2013
- 2013-09-04 JP JP2013183272A patent/JP5814320B2/ja active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2014167156A5 (ja) | ||
US8962070B2 (en) | Method for the deposition of a metal layer comprising a beta-amino acid | |
CN1924091B (zh) | 用于金属表面处理的水溶液和防止金属表面变色的方法 | |
JP6047276B2 (ja) | 焼結型導電性ペースト用銀粉 | |
JP5814320B2 (ja) | ハンダ合金微粒子の製造方法、ハンダ合金微粒子、ハンダペーストおよび電子機器 | |
JP5458758B2 (ja) | 触媒付与溶液並びにこれを用いた無電解めっき方法及びダイレクトプレーティング方法 | |
JP6047707B2 (ja) | 前処理液を用いた無電解銅メッキ方法 | |
CN105121701A (zh) | 化学镀铜用水系铜胶体催化剂液及化学镀铜方法 | |
JP6536581B2 (ja) | 金属微粒子分散液 | |
TWI457462B (zh) | 無電式鍍金浴,無電式鍍金方法及電子零件 | |
Hu et al. | Interfacial reaction and growth behavior of IMCs layer between Sn–58Bi solders and a Cu substrate | |
TW200728518A (en) | Whisker-suppressive surface treating method | |
WO2013118600A1 (ja) | 無電解ニッケルメッキ又は無電解ニッケル合金メッキ用の前処理液、及びメッキ方法 | |
US20120049133A1 (en) | Silver particles and a process for making them | |
TW201231716A (en) | Plating catalyst and method | |
WO2009099067A1 (ja) | メッキ構造体 | |
WO2013191022A1 (ja) | 接合用部材 | |
JP5922388B2 (ja) | 焼結型導電性ペースト用銀粉 | |
CN106624435B (zh) | 一种纳米无铅焊锡膏及其制备方法 | |
CN103726037A (zh) | 一种化学浸钯液 | |
JPWO2005098088A1 (ja) | 無電解金めっき液 | |
JPWO2008105104A1 (ja) | 無電解純パラジウムめっき液 | |
KR20160077283A (ko) | 금속 복합체의 제조 방법 | |
Kim et al. | Fabrication of a Ultrathin Ag Film on a Thin Cu Film by Low-Temperature Immersion Plating in an Grycol-Based Solution | |
TW201816183A (zh) | 無電解鍍鎳浴 |