JP2014158097A - バッファ回路およびスイッチ制御回路 - Google Patents

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Abstract

【課題】高周波帯域における高調波の発生を抑制できるようにする。
【解決手段】バッファ回路は、入力信号を反転出力する第1のインバータ回路と、第1のインバータ回路の出力信号を反転出力する第2のインバータ回路と、第1のインバータ回路の出力ノードと、第2のインバータ回路の入力ノードとの間に接続されるインピーダンス素子と、入力信号が第1の閾値電圧を超えると、第2のインバータ回路の出力ノードの電位を上昇させる動作を行う第1導電型スイッチング素子と、入力信号が第2の閾値電圧未満になると、第2のインバータ回路の出力ノードの電位を低下させる動作を行う第2導電型スイッチング素子と、を備える。
【選択図】図1

Description

本発明の実施形態は、バッファ回路と、このバッファ回路を備えたスイッチ制御回路とに関する。
携帯電話やスマートフォン等の携帯端末の高周波回路部は、送信回路と、受信回路と、高周波スイッチ回路とを備えている。送信回路と受信回路は、高周波スイッチ回路を介して共通のアンテナに接続されている。最近の携帯端末の多くはマルチモードおよびマルチバンドに対応している。それに伴い高周波スイッチ回路に必要なポート数が増える傾向にある。ポート数が増えると、必然的に、高周波スイッチ回路の接続状態を制御するのに必要な制御信号のビット数が増える。
高周波スイッチ回路を内蔵するICには、制御信号用の端子数を減らすために、シリアルの制御信号が入力される場合がある。この場合、シリアルの制御信号をパラレルの制御信号に変換するために、ICの内部に直並列変換器が設けられる。
直並列変換器は、クロック信号に同期させて、制御信号の直並列変換を行う。クロック信号の周波数は、例えば26MHz程度である。このとき、クロック信号の立ち上がり時間と立ち下がり時間は、それぞれ1ns程度になり、1GHz程度の高調波が発生する。この高調波は、高周波スイッチ回路で切り替える高周波信号の周波数と同程度であるため、この高調波がノイズとして高周波信号に重畳してしまう。
特開平6−188714号公報
本実施形態では、高周波帯域における高調波の発生を抑制可能なバッファ回路と、この種のバッファ回路を内蔵するスイッチ制御回路とを提供するものである。
本実施形態によれば、入力信号を反転出力する第1のインバータ回路と、
前記第1のインバータ回路の出力信号を反転出力する第2のインバータ回路と、
前記第1のインバータ回路の出力ノードと、前記第2のインバータ回路の入力ノードとの間に接続されるインピーダンス素子と、
前記入力信号が第1の閾値電圧を超えると、前記第2のインバータ回路の出力ノードの電位を上昇させる動作を行う第1導電型スイッチング素子と、
前記入力信号が第2の閾値電圧未満になると、前記第2のインバータ回路の出力ノードの電位を低下させる動作を行う第2導電型スイッチング素子と、を備えることを特徴とするバッファ回路が提供される。
第1の実施形態に係るスイッチ制御回路1を内蔵した半導体装置2の概略構成を示すブロック図。 バッファ回路4と直並列変換器5の内部構成の一例を示すブロック図。 バッファ回路4内のクロック入力バッファ7の詳細構成の一例を示す回路図。 一比較例に係るクロック入力バッファ7の詳細構成を示す回路図。 図3と図4のクロック入力バッファ7の入出力特性を示すグラフ。 (a)は図3のクロック入力バッファ7の出力クロック信号CLKの周波数スペクトラム図、(b)は図4のクロック入力バッファ7の出力クロック信号CLKの周波数スペクトラム図。 図3からPMOSトランジスタP5とNMOSトランジスタN5を削除した他の比較例に係るクロック入力バッファ7の回路図。 図7のクロック入力バッファ7の入力信号に対する出力信号の遅延時間のシミュレーション結果を示すグラフ。 (a)は図3のクロック入力バッファ7の最終段に接続されたNMOSトランジスタN5とPMOSトランジスタP5だけを抽出した回路図であり、(b)は(a)の回路のシミュレーション結果を示す図。 第2の実施形態に係る半導体装置2内の直並列変換器5のレイアウト図。 自動配置配線ツールにより生成したレイアウトパターンの一比較例を示す図。 シミュレーションに利用した回路図。 図9に示す本実施形態のレイアウト図のシミュレーション結果のグラフ。 図11に示す一比較例のシミュレーション結果のグラフ。 本実施形態におけるノイズ電力の結合容量依存性を示すグラフ。 図10に示す直並列変換器5の一変形例に係るレイアウト図。 本実施形態に係る直並列変換器5を備えた図1と同様の構成の半導体装置2のレイアウト構成の一例を示すレイアウト図。 第3の実施形態に係る半導体装置2内のバッファ回路4と直並列変換器5の回路図。 第4の実施形態に係る半導体装置2内のバッファ回路4と直並列変換器5の回路図。 第5の実施形態に係る半導体装置2の概略構成を示すブロック図。 シュミットトリガーバッファ部33の内部構成の一例を示す回路図。
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。
(第1の実施形態)
図1は第1の実施形態に係るスイッチ制御回路1を内蔵した半導体装置2の概略構成を示すブロック図である。図1の半導体装置2は、ワンチップ化することが可能だが、複数のチップで構成してもよいし、一部の構成部品をディスクリート部品で構成してもよい。
本実施形態において、図1の半導体装置2の全体はSOI基板上に形成されている。SOI基板は、高抵抗であることから、高周波信号が基板側に漏洩する信号ロスを抑制できる。
図1の半導体装置2は、大きく分けて、スイッチ制御回路1と高周波スイッチ回路3とを備えている。高周波スイッチ回路3は、複数のRF信号端子RF1〜RFnの中から一つを選択して、アンテナ端子RF_COMと接続する。これら複数のRF信号端子RF1〜RFnは、図1では不図示の送受信回路に接続されている。送受信回路は、複数の無線方式に対応しており、各無線方式ごとに別個のRF信号を生成する。通常の無線機器には、図1の半導体装置2が少なくとも一つ実装される。
スイッチ制御回路1は、バッファ回路4と、直並列変換器5と、ドライバ回路6とを有する。
バッファ回路4は、半導体装置2の外部から入力されたクロック信号CLKの波形整形を行う。バッファ回路4にて波形整形されたクロック信号は、直並列変換器5に入力される。
直並列変換器5は、高周波スイッチ回路3の切替を指示するシリアル切替制御信号をクロック信号に同期させてパラレル切替制御信号に変換する。
高周波スイッチ回路3は、直並列変換器5が変換したパラレル切替制御信号に基づいて、複数のRF信号端子RF1〜RFnのうち一つを選択して出力する。
図2はバッファ回路4と直並列変換器5の内部構成の一例を示すブロック図である。図2に示すように、バッファ回路4は、クロック入力バッファ7と、データ入力バッファ8とを有する。クロック入力バッファ7は、半導体装置2の外部からのクロック信号CLKの波形整形を行う。データ入力バッファ8は、半導体装置2の外部からのシリアル切替制御信号Dataをバッファリングして出力する。
図2に示す直並列変換器5は、縦続接続された複数のD型フリップフロップ(以下、DFF)9を有する。これらDFF9の各クロック端子CKには、バッファ回路4から出力されたクロック信号CK_intが入力される。初段のDFF9の入力端子Dには、データ入力バッファ8から出力されたシリアル切替制御信号Dataが入力される。これにより、各DFF9は、シリアル切替制御信号Dataをクロック信号CLKに同期して、順に伝搬出力する。各DFF9の出力端子Qからは、シリアル切替制御信号Dataを直並列変換したパラレル切替制御信号D1,D2,D3が出力される。
図3はバッファ回路4内のクロック入力バッファ7の詳細構成の一例を示す回路図である。図3に示すクロック入力バッファ7は、第1のインバータ回路INV1と、第2のインバータ回路INV2と、インピーダンス素子25と、第1導電型スイッチング素子26と、第2導電型スイッチング素子27とを有する。
第1のインバータ回路INV1は、ヒステリシス特性を持つシュミットトリガ型インバータ回路であり、入力信号INを反転出力する。入力信号INは半導体装置2の外部から入力されるクロック信号CLKである。
第1のインバータ回路INV1は、より詳細には、PMOSトランジスタP1〜P3とNMOSトランジスタN1〜N3とを有する。PMOSトランジスタP1,P2およびNMOSトランジスタN2,N1は、電源電圧Vddと接地電圧(第2の基準電圧)Vssとの間に直列接続されている。これらトランジスタP1,P2,N1,N2のゲートはいずれも入力ノードINに接続されている。PMOSトランジスタP2およびNMOSトランジスタN2のドレインは、PMOSトランジスタP3およびNMOSトランジスタN3のゲートに接続されている。PMOSトランジスタP3のソースは、PMOSトランジスタP1のドレインとPMOSトランジスタP2のソースに接続されている。PMOSトランジスタP3のドレインは接地電圧Vssに設定されている。NMOSトランジスタN3のドレインは電源電圧Vddに設定され、NMOSトランジスタN3のソースはNMOSトランジスタN2のソースとNMOSトランジスタN1のドレインに接続されている。
第2のインバータ回路INV2は、第1のインバータ回路INV1の出力信号を反転出力する。第2のインバータ回路INV2は、電源電圧Vddと接地電圧Vssとの間に直列接続されたPMOSトランジスタ(第2のPMOSトランジスタ)P4およびNMOSトランジスタ(第2のNMOSトランジスタ)N4を有する。
インピーダンス素子25は、第1のインバータ回路INV1の出力ノードと第2のインバータ回路INV2の入力ノードとの間に接続され、例えば抵抗素子R1で構成される。
第1導電型スイッチング素子26は、入力信号が第1の閾値電圧を超えると、第2のインバータ回路INV2の出力ノードの電位を上昇させる動作を行う。第1導電型スイッチング素子26の一具体例は、ドレインに電源電圧(第1の基準電圧)Vddが印加され、ソースに第2のインバータ回路INV2の出力ノードが接続され、ゲートが入力ノードINに接続されるNMOSトランジスタ(第1のNMOSトランジスタ)N5である。
第2導電型スイッチング素子27は、入力信号が第2の閾値電圧未満になると、第2のインバータ回路INV2の出力ノードの電位を低下させる動作を行う。第2導電型スイッチング素子27の一具体例は、ソースに第2のインバータ回路INV2の出力ノードOUTが接続され、ドレインが接地電圧Vssに設定され、ゲートが入力ノードINに接続されるPMOSトランジスタ(第1のPMOSトランジスタ)P5である。
第1のインバータ回路INV1の出力ノードと第2のインバータ回路INV2の入力ノードとの間にインピーダンス素子25を設けることにより、第1のインバータ回路INV1から出力されたクロック信号CLKの波形がなだらかになり、高調波成分が低減される。
ところが、インピーダンス素子25を設けると、クロック信号CLKの遅延時間が増大してしまう。そこで、本実施形態では、第2のインバータ回路INV2の後段側にPMOSトランジスタP5とNMOSトランジスタN5とが配置されている。
第1のインバータ回路INV1から出力されるクロック信号CLKの電位がロウレベルからハイレベルに遷移するときに、PMOSトランジスタP5はオンからオフに遷移し、NMOSトランジスタN5はオフからオンに遷移しようとするが、遷移の途中でPMOSトランジスタP5とNMOSトランジスタN5の各ドレインはハイインピーダンスになる。その理由は、両トランジスタともに、ゲート−ソース間電圧が閾値電圧以下になるためである。よって、クロック入力バッファ7の出力ノードは、第2のインバータ回路INV2の入力ノードの電位が変化する前に電位が変化し始めるが、その電位変化は途中までであり、その後は、第2のインバータ回路INV2が反転出力するタイミングに合わせて、電位変化する。これにより、クロック入力バッファ7は、シュミットトリガ型インバータ回路である第1のインバータ回路INV1のヒステリシス特性を大きく変化させることがないが、インピーダンス素子25で生じた遅延時間が短縮可能となる。
図4は一比較例に係るクロック入力バッファ7の詳細構成を示す回路図である。図4のクロック入力バッファ7は、図3の回路構成から、インピーダンス素子25と、第1のPMOFETと、PMOSトランジスタP5とを除去した回路構成を有する。
図5は図3と図4のクロック入力バッファ7の入出力特性を示すグラフである。図5には、これらクロック入力バッファ7に入力されるクロック信号CLK(入力クロック信号CLK)の波形w1と、図3のクロック入力バッファ7から出力されるクロック信号CLK(出力クロック信号CLK)の波形w2と、図4のクロック入力バッファ7から出力されるクロック信号CLK(出力クロック信号CLK)の波形w3とが示されている。
図5に示すように、入力クロック信号CLKの波形w1に対する出力クロック信号CLKの波形w2とw3の遅延時間はほぼ同等であるが、波形w3よりも波形w2の方が立ち上がり時と立ち下がり時の波形がなだらかである。
図6は図5のグラフに対応する周波数スペクトラム図であり、図6(a)は図3のクロック入力バッファ7の出力クロック信号CLKの周波数スペクトラム図、図6(b)は図4のクロック入力バッファ7の出力クロック信号CLKの周波数スペクトラム図である。
図6(a)と図6(b)を比較すればわかるように、図6(a)の場合は、高周波スイッチ回路3で切替制御する高周波信号の周波数帯である1GHz付近の高調波成分を良好に抑制できているのに対し、図6(b)の場合は、1GHz付近の高調波成分が多い。この結果は、本実施形態によるクロック入力バッファ7を用いれば、1GHz帯の高周波信号を切替制御する図1の高周波スイッチ回路3に悪影響を及ぼさないことを示す。
なお、図5および図6は、SOI基板上に形成されたMOSトランジスタを用いて図3のクロック入力バッファ7を構成したと想定した場合のシミュレーション結果であり、MOSトランジスタのゲート長は0.25μm、ゲート酸化膜厚は9nmとし、クロック入力バッファ7内の第2のインバータ回路INV2を構成するNMOSトランジスタN4とPMOSトランジスタP4、およびNMOSトランジスタN5、PMOSトランジスタP5の各ゲート幅Wgは以下のように設定した。
NMOSトランジスタのWg=16μm、PMOSトランジスタのWg=32μm
NMOSトランジスタN5のWg=32μm、PMOSトランジスタP5のWg=32μm
また、インピーダンス素子25は10kΩ、クロック入力バッファ7の出力ノードの出力容量は1pFとした。
次に、クロック入力バッファ7の回路定数について詳細に説明する。上述したように、インピーダンス素子25を設けたことにより、NMOSトランジスタN4とPMOSトランジスタP4からなる第2のインバータ回路INV2の入力波形がなだらかになり、高周波スイッチ回路3で切替制御される高周波信号と同様の周波数成分を持つ高調波ノイズが低減する。
ところが、インピーダンス素子25のインピーダンスを大きくするにつれて、クロック入力バッファ7への入力信号に対する出力信号の遅延時間が増大する。
図7は図3からPMOSトランジスタP5とNMOSトランジスタN5を削除した他の比較例に係るクロック入力バッファ7の回路図である。図8は図7のクロック入力バッファ7の入力信号に対する出力信号の遅延時間のシミュレーション結果を示すグラフである。図8は、入力信号INの波形と、インピーダンス素子25の抵抗値がそれぞれ異なる場合の出力信号OUTの波形とを示している。
図8に示すように、インピーダンス素子25の抵抗値が大きくなるほど、出力信号OUTの遅延時間が増大する。
これに対して、図9(a)は図3のクロック入力バッファ7の最終段に接続されたNMOSトランジスタN5とPMOSトランジスタP5だけを抽出した回路図であり、図9(b)は図9(a)の回路のシミュレーション結果を示す図である。図9(b)は、入力信号INの波形と、NMOSトランジスタN5およびPMOSトランジスタP5のゲート幅Wg5がそれぞれ異なる場合の出力信号OUTの波形を示している。
図9(b)からわかるように、NMOSトランジスタN5とPMOSトランジスタP5の各ゲート幅Wg5が大きいほど、出力信号OUTの立ち上がりが急峻になる。
NMOSトランジスタN5とPMOSトランジスタP5の各ゲートには、入力信号が入力されることから、入力信号の電位が変化すると、迅速にNMOSトランジスタN5とPMOSトランジスタP5は出力ノードOUTの電位を変化させようとする。その際、NMOSトランジスタN5とPMOSトランジスタP5のゲート幅が大きいほど、より迅速に出力ノードOUTの電位が変化することが図9(b)のシミュレーション結果からわかる。
よって、NMOSトランジスタN5とPMOSトランジスタP5の各ゲート幅Wg5は、NMOSトランジスタN4およびPMOSトランジスタP5のゲート幅と同程度か、それ以上にするのが望ましい。
ゲート幅の代わりまたはゲート幅の調整とともに、ゲート長の調整が行われてもよい。したがって、クロック入力バッファ7内のMOSトランジスタN4,P4,N5,P5は、以下の関係を満たすように、ゲート幅とゲート長の少なくとも一方を調整するのが望ましい。
MIN[Wg(N4)/Lg(N4),Wg(P4)/Lg(P4)]
≦MIN[Wg(N5)/Lg(N5),Wg(P5)/Lg(P5)] …(1)
ここで、Wg(N4)はNMOSトランジスタN4のゲート幅、Lg(N4)はNMOSトランジスタN4のゲート長、Wg(N5)はNMOSトランジスタN5のゲート幅、Lg(N5)はNMOSトランジスタN5のゲート長である。
上記(1)式は、PMOSトランジスタP5のチャネル幅をチャネル長で割った値と、NMOSトランジスタN5のチャネル幅をチャネル長で割った値との小さい方の値は、PMOSトランジスタP4のチャネル幅をチャネル長で割った値と、NMOSトランジスタN4のチャネル幅をチャネル長で割った値との小さい方の値以上であることを示している。
このように、第1の実施形態の特徴は、クロック入力バッファ7でクロック信号CLKを生成する際、クロック信号CLKをそれほど遅延させることなく、クロック信号CLKの立ち上がり波形および立ち下がり波形をなだらかにすることである。このため、高周波スイッチ回路3が切替制御する高周波信号と同程度の周波数の高調波がクロック信号CLKから発生されなくなり、高周波スイッチ回路3が高調波ノイズの影響を受けにくくなる。
上述した第1の実施形態では、クロック入力バッファ7を図3のような回路で構成する例が説明されたが、図2に示すデータ入力バッファ8も図3のような回路で構成するのが望ましい。これにより、直並列変換器5に入力されるデータからも高調波ノイズが発生されなくなる。
(第2の実施形態)
以下に説明する第2の実施形態は、第1の実施形態よりもさらに高調波ノイズを抑制するものである。
第2の実施形態に係る半導体装置2は、図1と同様のブロック構成を備えている。図10は第2の実施形態に係る半導体装置2内の直並列変換器5のレイアウト図である。半導体装置2は、例えばSOI基板上に、複数層にわたって形成されている。
最下層(第2パターン層)には、複数の電源電圧(Vdd)パターン11が櫛状に形成され、その隙間に複数のグランド(GND)パターン12が櫛状に形成されている。
直並列変換器5は、例えばスタンダードセル13を用いて形成される。スタンダードセル13は、通常は最下層に形成される。図10では、直並列変換器5を構成するDFF1〜13のセル配置領域が矩形のブロックでそれぞれ表されている。
各DFFに供給されるクロック信号CKは、第2層以上の所定の層(第1パターン層)に形成されている。本実施形態では、クロック信号CKのパターン14に沿って、第1層にグランドパターン12を配置している。これにより、クロック信号CKから発生した高調波ノイズが基板側に伝搬しにくくなり、同一の基板上に形成される高周波スイッチ回路3に高調波ノイズが重畳されなくなる。すなわち、本実施形態では、クロック信号CKのパターン14の下方には、他の回路ブロックが配置されないため、クロック信号CKのパターンが他の回路ブロックと容量結合するおそれを回避でき、クロック信号CKにより発生した高調波ノイズが他の信号に重畳されなくなる。
図11は、クロック信号CKのパターン14をグランドパターン12に沿って意図的に配置することを行わずに、自動配置配線ツールにより生成したレイアウトパターンの一比較例を示す図である。図11の場合は、クロック信号CKのパターン14の位置とグランドパターン12の位置とはずれてしまう。
本発明者は、図10のレイアウト図を採用した場合の高調波ノイズと図11のレイアウト図を採用した場合の高調波ノイズとをシミュレーションにより求めた。
図12はシミュレーションに利用した回路図である。図12の回路は、クロック入力バッファ7をシュミットトリガー回路の構成にして、その出力に負荷容量15を接続している。図1の高周波スイッチ回路3のRF_COMラインは50Ω系であるため、図12の回路は両端が50Ωで終端された配線でモデル化した。クロック信号CKとRF_COMラインとの間には結合容量16が接続されている。クロック入力バッファ7から出力されるクロック信号CKの周波数は25MHzとした。
本発明者は、結合容量16の値を求めるために、図9に示す本実施形態のレイアウト図と図10に示す一比較例のレイアウト図の双方について電磁界解析を行った。その結果、図11のレイアウト図では結合容量=2.4fFとなり、図10のレイアウト図では結合容量=0.1fFとなった。
図13は図9に示す本実施形態のレイアウト図のシミュレーション結果のグラフ、図14は図11に示す一比較例のシミュレーション結果のグラフである。
周波数825MHzにおけるノイズレベルは、図14に示すように一比較例が−103.6dBmであったのに対して、図13に示すように本実施形態は−131.1dBmとなり、ノイズレベルが27.5dB改善した。
携帯電話では、高周波スイッチ回路3でのノイズレベルが−130dBm以下が要求されるが、図13を見ればわかるように、本実施形態によれば、その要求が満足される。
図15は本実施形態におけるノイズ電力の結合容量依存性を示すグラフであり、横軸は結合容量(fF)、縦軸はスプリアス(MHz)である。図15によれば、ノイズレベルを−130dBm以下に抑制するには、0.12fF以下の結合容量が要求されることがわかる。
このように、第2の実施形態は、通常はスタンダードセル13で構成する直並列変換器5のクロック信号CKのパターン14に沿って、別の層にグランドパターン12を形成するため、直並列変換器5のクロック信号CKのパターンに発生した高調波ノイズが半導体基板を介して他の回路ブロックと容量結合するのを抑制できる。特に、本実施形態では、直並列変換器5のクロック信号CKの高調波ノイズが高周波スイッチ回路3と容量結合を起こすことが防止でき、高周波スイッチ回路3での高調波ノイズを低減できる。
図16は図10に示す直並列変換器5のレイアウト図の一変形例である。図16のレイアウト図では、第1〜第3層は図10と同じであり、ベタのグランド層17が形成された第4層を新たに追加したものである。図16では、ベタのグランド層17からなる第4層をスポットで表示している。このベタのグランド層17は、直並列変換器5のレイアウトブロック全体を覆うように配置されており、第1層のグランド層12とはビアホール18で接続されている。
図16のようなベタのグランド層17を設けることで、レイアウト基板の上面側における容量結合がより低減され、さらにノイズも低減される。
図17は本実施形態に係る直並列変換器5を備えた図1と同様の構成の半導体装置2のレイアウト構成の一例を示すレイアウト図である。図17のレイアウト図では、直並列変換器5と高周波スイッチ回路3との間に第1層に形成されたグランド層19が配置されている。図17の例では、直並列変換器5のレイアウト構成は図10と同様にしてあるが、図16と同様にしてもよい。
図17に示すように、直並列変換器5にクロック信号CKを供給するクロック入力バッファ7と、外部からクロック信号CLKを入力するCLKパッド20とは、直並列変換器5を挟んで、グランド層19と反対側に配置されている。
これにより、CLKパッド20から入力されるクロック信号CKと、クロック入力バッファ7から出力されるクロック信号CKと、直並列変換器5内を伝搬するクロック信号CKとから発生される高調波が容量結合により高周波スイッチ回路3に高周波ノイズを与えるおそれが大幅に低減される。
上述した第2の実施形態では、クロック入力バッファ7の回路構成を第1の実施形態と同様にする例が説明されたが、高調波ノイズの発生は増えるおそれがあるものの、クロック入力バッファ7の回路構成を図4や図7のようにしてもよい。
(第3の実施形態)
以下に説明する第3の実施形態は、直並列変換器5に入力されるクロック信号CKを差動信号にするものである。
第3の実施形態に係る半導体装置2は、図1と同様のブロック構成を備えている。図18は第3の実施形態に係る半導体装置2内のバッファ回路4と直並列変換器5の回路図である。図18の直並列変換器5内の縦続接続された複数のレジスタ回路のそれぞれは、差動のクロック入力端子CK,CK/を有する。また、クロック入力バッファ7は、外部から入力されたクロック信号CKを差動で出力する複数のインバータ回路21を有する。
図18に示すように、クロック入力バッファ7から出力される差動クロック信号CK_int,CK_int/のそれぞれは、複数のインバータ回路21を介して出力されるため、遅延が生じる。そこで、遅延時間を調整するために、データ入力バッファ8も、縦続接続された複数のインバータ回路21で構成される。
クロック入力バッファ7から出力される差動クロック信号CK_int,CK_int/のそれぞれは、位相が正確に180度ずれていることが望ましい。そこで、インバータ回路21内の不図示のMOSトランジスタの回路定数を適切に調整することにより、差動クロック信号CK_int,CK_int/のそれぞれの位相は正確に180度ずらされる。
また、差動クロック信号CK_int,CK_int/の信号パターンは、同一の層に同一幅のメタルを用いて、できるだけ隣接させて形成するのが望ましい。
以上により、クロック入力バッファ7から出力される差動クロック信号CK_int,CK_int/のそれぞれに重畳する高調波ノイズは、互いに打ち消し合って、高周波スイッチ回路3に高調波ノイズが重畳されるおそれがなくなる。
上述した第3の実施形態は、第2の実施形態と組み合わせて実施してもよい。すなわち、差動クロック信号CK_int,CK_int/の信号パターンが配置される層とは別の層に、この信号パターンに沿ってグランド層が配置されてもよい。そして、さらに別の層に、直並列変換器5のレイアウトブロック全体を覆うようにベタのグランド層が配置されてもよい。さらに、図17に示したように、直並列変換器5と高周波スイッチ回路3との間にグランド層が配置されてもよい。
また、上述した第3の実施形態は、第1の実施形態と組み合わせて実施されてもよい。すなわち、クロック入力バッファ7内の縦続接続された2個のインバータ回路21は、図3のように構成されてもよい。
(第4の実施形態)
以下に説明する第4の実施形態は、図1と同様のブロック構成を備えている。図19は第4の実施形態に係る半導体装置2内のバッファ回路4と直並列変換器5の回路図である。図19のクロック入力バッファ7の出力ノードには、ダミーインバータ回路22が接続されている。このダミーインバータ回路22の出力ノードと接地ノード(基準電圧ノード)との間には対地容量C1が配置されている。この対地容量C1の容量値と対地容量C1の配置場所を調整することにより、直並列変換器5に供給されるクロック信号CKから発生される高調波ノイズは抑制されることができる。
高調波ノイズを抑制できる理由は、クロック入力バッファ7から出力されるクロック信号CKと、ダミーインバータ回路22から出力されるクロック信号CKとは、位相が180度異なっており、理想的には互いに高調波ノイズを打ち消し合うことが可能なためである。
このように、第4の実施形態では、クロック入力バッファ7の出力ノードにダミーインバータ回路22と対地容量C1が直列接続されて、対置容量の容量値と対地容量C1の配置場所が調整される。これににより、直並列変換器5に供給されるクロック信号CKから発生される高調波ノイズは抑制されることでき、高周波スイッチ回路3に重畳される高調波ノイズが低減されることができる。
(第5の実施形態)
図1の半導体回路では、直並列変換器5用のグランドと、それ以外の回路用のグランドとが分けられることが多い。その理由は、例えば高周波スイッチ回路3に高周波信号が印加されたり、あるいは直並列変換器5がクロック信号CKに同期して動作したりするときに、接地電位レベルが大きく変動して、その影響で他の回路ブロックの接地電位レベルが変化して誤動作をするおそれがあるためである。
ところが、直並列変換器5用のグランドと、それ以外の回路用のグランドとが分けられると、一方のグランドのみの電位レベルが変動するおそれがある。例えば、直並列変換器5がクロック信号CKに同期して直並列変換動作を行うと、直並列変換器5用のグランドの電位レベルが変動する。ところが、このとき、その他の回路ブロックのグランドの電位レベルが一定であるとすると、直並列変換器5から出力されたパラレル切替制御信号を受信する後段側の回路では、パラレル切替制御信号の電位レベルが変動しているものと認識してしまい、誤った動作が行われるおそれがある。
そこで、以下に説明する第5の実施形態では、この種の誤動作が起きないような対策を行うものである。
図20は第5の実施形態に係る半導体装置2の概略構成を示すブロック図である。図20は、図1と共通する構成部分に同一符号を付しており、以下では相違点を中心に説明する。図20の半導体装置2は、直並列変換器5とドライバ回路6との間に、ノイズ除去回路31と、デコーダ回路32とを備えている。デコーダ回路32は、必ずしも必須ではない。直並列変換器5用のグランドと、その他の回路ブロックのグランドとは別個に設けられている。
ノイズ除去回路31は、直並列変換器5から出力されるパラレル切替制御信号のそれぞれに接続される複数のシュミットトリガーバッファ部33を有する。
図21はシュミットトリガーバッファ部33の内部構成の一例を示す回路図である。図21のシュミットトリガーバッファ部33は、PMOSトランジスタP6〜P9と、NMOSトランジスタN5〜N9とを有する。
PMOSトランジスタP6,P7およびNMOSトランジスタN5,N7と、PMOSトランジスタは、電源電圧Vddと接地電圧Vssとの間に直列接続されており、これらトランジスタの各ゲートは入力ノードINに接続されている。
PMOSトランジスタP8のゲートはPMOSトランジスタP7とNMOSトランジスタN5の両ドレインに接続され、PMOSトランジスタP8のソースはPMOSトランジスタP6のドレインとPMOSトランジスタP7のソースに接続され、PMOSトランジスタP8のドレインは接地されている。
NMOSトランジスタN8のゲートはPMOSトランジスタP7とNMOSトランジスタN5の両ドレインに接続され、NMOSトランジスタのドレインは電源電圧Vddに設定され、NMOSトランジスタのソースはNMOSトランジスタN5のソースとNMOSトランジスタN7のドレインに接続されている。
PMOSトランジスタP9とNMOSトランジスタN9は電源電圧Vddと接地電圧Vssとの間に直列接続されており、これらトランジスタのドレインは出力ノードOUTに接続され、ゲートはPMOSトランジスタP7とNMOSトランジスタN5の両ドレインに接続されている。
シュミットトリガーバッファ部33は、ヒステリシス特性を有するため、シュミットトリガーバッファ部33の入力信号が閾値電圧を超えると、出力信号の論理が反転し、その後は、入力信号の電位レベルが多少変動しても、出力信号の論理は変化しない。これにより、シュミットトリガーバッファ部33の出力電位の変動が抑制される。
デコーダ回路32には、シュミットトリガーバッファ部33で構成されるノイズ除去回路31の出力信号が供給されるため、デコーダ回路32の入力信号の電位レベルはノイズの影響を受けにくくなり、図20のように、直並列変換器5のグランドと、それ以外の回路ブロックのグランドとを分けたとしても、デコーダ回路32が直並列変換器5のグランドの電位変動の影響を受けにくくなる。
本発明の態様は、上述した個々の実施形態に限定されるものではなく、当業者が想到しうる種々の変形も含むものであり、本発明の効果も上述した内容に限定されない。すなわち、特許請求の範囲に規定された内容およびその均等物から導き出される本発明の概念的な思想と趣旨を逸脱しない範囲で種々の追加、変更および部分的削除が可能である。
1 スイッチ制御回路、2 半導体装置、3 高周波スイッチ回路、4 バッファ回路、5 直並列変換器、6 ドライバ回路、7 クロック入力バッファ、8 データ入力バッファ、22 ダミーインバータ回路、25 インピーダンス素子、26 第1導電型スイッチング素子、27 第2導電型スイッチング素子、

Claims (8)

  1. 入力信号を反転出力する第1のインバータ回路と、
    前記第1のインバータ回路の出力信号を反転出力する第2のインバータ回路と、
    前記第1のインバータ回路の出力ノードと、前記第2のインバータ回路の入力ノードとの間に接続されるインピーダンス素子と、
    前記入力信号が第1の閾値電圧を超えると、前記第2のインバータ回路の出力ノードの電位を上昇させる動作を行う第1導電型スイッチング素子と、
    前記入力信号が第2の閾値電圧未満になると、前記第2のインバータ回路の出力ノードの電位を低下させる動作を行う第2導電型スイッチング素子と、を備えることを特徴とするバッファ回路。
  2. 前記第1導電型スイッチング素子は、そのドレインに第1の基準電圧が印加され、そのソースに前記第2のインバータ回路の出力ノードが接続され、およびそのゲートに前記入力信号が入力される第1のNMOSトランジスタであり、
    前記第2導電型スイッチング素子は、そのソースに前記第2のインバータ回路の出力ノードが接続され、そのドレインに前記第2の基準電圧が印加され、およびそのゲートに前記入力信号が入力される第1のPMOSトランジスタであることを特徴とする請求項1に記載のバッファ回路。
  3. 前記第2のインバータ回路は、前記第1の基準電圧と前記第2の基準電圧との間に直列接続される第2のPMOSトランジスタと、前記第2のNMOSトランジスタとを有し、
    前記第1のPMOSトランジスタのチャネル幅をチャネル長で割った値と、前記第1のNMOSトランジスタのチャネル幅をチャネル長で割った値との小さい方の値は、前記第2のPMOSトランジスタのチャネル幅をチャネル長で割った値と、前記第2のNMOSトランジスタのチャネル幅をチャネル長で割った値との小さい方の値以上であることを特徴とする請求項2に記載のバッファ回路。
  4. 前記入力信号の信号パターンが配置される第1パターン層と、
    前記第1パターン層の下に配置されて、前記第1パターン層上の前記入力信号の信号パターンの配置場所に沿ってグランドパターンが配置される第2パターン層と、を備えることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のバッファ回路。
  5. 前記第1パターン層および前記第2パターン層に積層され、前記第1パターン層上の前記入力信号の信号パターンの配置場所の全域に重なるようにベタのグランドパターンが配置される第3パターン層を備えることを特徴とする請求項4に記載のバッファ回路。
  6. 前記第2のインバータ回路の出力ノードに接続され反転動作を行うダミーインバータ回路と、
    前記ダミーインバータ回路の出力ノードと基準電圧ノードとの間に接続されるキャパシタ素子と、を備えることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載のバッファ回路。
  7. 請求項1乃至6のいずれかに記載のバッファ回路内の前記第2のインバータ回路から出力されるクロック信号に同期させて、シリアルの切替制御信号をパラレルの切替制御信号に変換する直並列変換器と、
    前記直並列変換器で変換されたパラレルの切替制御信号の電圧レベルを、複数の高周波信号の切替を行う高周波スイッチ回路を切替可能な電圧レベルに変換するドライバ回路と、を備え
    前記直並列変換器が形成される回路形成領域と、同じ層内で前記高周波スイッチ回路が形成される回路形成領域との間にグランドパターン領域が設けられることを特徴とするスイッチ制御回路。
  8. 請求項1乃至7のいずれかに記載のバッファ回路内の前記第2のインバータ回路から出力されるクロック信号に同期させて、シリアルの切替制御信号をパラレルの切替制御信号に変換する直並列変換器と、
    前記直並列変換器から出力されるパラレルの切替制御信号に含まれる高調波ノイズを低減するノイズ低減回路と、
    前記ノイズ低減回路の出力信号の電圧レベルを、高周波スイッチ回路にて高周波信号を切替制御するのに用いられる切替制御信号の電圧レベルに変換するドライバ回路と、を備えることを特徴とするスイッチ制御回路。
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