JP2014150124A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014150124A5 JP2014150124A5 JP2013017130A JP2013017130A JP2014150124A5 JP 2014150124 A5 JP2014150124 A5 JP 2014150124A5 JP 2013017130 A JP2013017130 A JP 2013017130A JP 2013017130 A JP2013017130 A JP 2013017130A JP 2014150124 A5 JP2014150124 A5 JP 2014150124A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask blank
- blank
- mask
- phase shift
- pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 229910016006 MoSi Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013017130A JP6147514B2 (ja) | 2013-01-31 | 2013-01-31 | マスクブランク用基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、および転写用マスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013017130A JP6147514B2 (ja) | 2013-01-31 | 2013-01-31 | マスクブランク用基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、および転写用マスクの製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014150124A JP2014150124A (ja) | 2014-08-21 |
| JP2014150124A5 true JP2014150124A5 (OSRAM) | 2016-02-12 |
| JP6147514B2 JP6147514B2 (ja) | 2017-06-14 |
Family
ID=51572890
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013017130A Active JP6147514B2 (ja) | 2013-01-31 | 2013-01-31 | マスクブランク用基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、および転写用マスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6147514B2 (OSRAM) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6202888B2 (ja) * | 2013-06-05 | 2017-09-27 | キヤノン株式会社 | 光学素子の製造方法 |
| DE102014217907B4 (de) * | 2014-09-08 | 2018-12-20 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zum Herstellen einer Maske für den extrem ultra-violetten Wellenlängenbereich und Maske |
| US20170363952A1 (en) * | 2014-12-19 | 2017-12-21 | Hoya Corporation | Mask blank substrate, mask blank, and methods for manufacturing them, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device |
| JP6499440B2 (ja) | 2014-12-24 | 2019-04-10 | Hoya株式会社 | 反射型マスクブランク及び反射型マスク |
| JP6372007B2 (ja) * | 2015-02-03 | 2018-08-15 | Ａｇｃ株式会社 | マスクブランク用ガラス基板 |
| JP6565471B2 (ja) * | 2015-08-19 | 2019-08-28 | Ａｇｃ株式会社 | マスクブランクス用ガラス基板 |
| JP6618843B2 (ja) * | 2016-03-24 | 2019-12-11 | Hoya株式会社 | フォトマスク用基板のリサイクル方法、フォトマスク用基板の製造方法、フォトマスクブランクの製造方法、フォトマスクの製造方法、及びパターン転写方法 |
| JP2022551429A (ja) * | 2019-09-27 | 2022-12-09 | コーニング インコーポレイテッド | 平坦さ機能要件を満たすフォトマスクブランクを仕上げるための目標トポグラフィマップの生成提供装置、システムおよび方法 |
| JP2022182996A (ja) * | 2021-05-26 | 2022-12-08 | Ａｇｃ株式会社 | ガラス基板、電子デバイス、およびガラス基板の製造方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4508779B2 (ja) * | 2004-08-23 | 2010-07-21 | Ｈｏｙａ株式会社 | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び露光用マスクの製造方法 |
| WO2008129914A1 (ja) * | 2007-04-17 | 2008-10-30 | Asahi Glass Company, Limited | Ｅｕｖマスクブランク |
| JP5402391B2 (ja) * | 2009-01-27 | 2014-01-29 | 信越化学工業株式会社 | 半導体用合成石英ガラス基板の加工方法 |
| JP5552648B2 (ja) * | 2009-12-15 | 2014-07-16 | 国立大学法人大阪大学 | 研磨方法及び研磨装置 |
| CN101880907B (zh) * | 2010-07-07 | 2012-04-25 | 厦门大学 | 纳米精度的电化学整平和抛光加工方法及其装置 |
-
2013
- 2013-01-31 JP JP2013017130A patent/JP6147514B2/ja active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2014150124A5 (OSRAM) | ||
| JP2014186333A5 (ja) | 透過型マスクブランク、透過型マスク及び半導体装置の製造方法 | |
| JP2015200883A5 (OSRAM) | ||
| JP2017517135A5 (OSRAM) | ||
| JP2016122684A5 (OSRAM) | ||
| JP2015191218A5 (OSRAM) | ||
| JP2020030291A5 (OSRAM) | ||
| CN105097455B (zh) | 光掩模及其制造方法 | |
| JP2013257593A5 (ja) | 転写用マスクの製造方法及び半導体装置の製造方法 | |
| JP2013179270A5 (OSRAM) | ||
| JP2010039352A5 (OSRAM) | ||
| JP2010217514A (ja) | フォトマスクの製造方法 | |
| JP2009265620A5 (OSRAM) | ||
| CN106169416A (zh) | 一种极紫外掩模的制造方法 | |
| JP2015222448A5 (OSRAM) | ||
| KR102316973B1 (ko) | 레지스트층을 구비한 블랭크, 그 제조 방법, 마스크 블랭크 및 임프린트용 몰드 블랭크와, 전사용 마스크, 임프린트용 몰드 및 그들의 제조 방법 | |
| JP4998168B2 (ja) | インプリントモールド製造方法 | |
| CN111133379B (zh) | 掩模坯料、转印用掩模以及半导体器件的制造方法 | |
| JP2015081248A5 (OSRAM) | ||
| JP2014149351A5 (OSRAM) | ||
| KR20160135636A (ko) | 화학 증폭형 공중합체 레지스트의 방법 및 조성 | |
| JP2018180170A5 (OSRAM) | ||
| CN104698761A (zh) | 基于面积的opc模型校准方法 | |
| US9746763B2 (en) | Phase shift mask and method of fabricating the same | |
| JP2014191176A (ja) | フォトマスクブランクス、フォトマスク及びその製造方法 |