JP2014149261A - 試料の構成物質の分布画像データを作成する方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基準波数設定工程では、スペクトルデータの全ての波数領域内に基準波数を設けて、波数領域内を連続的に掃引させる。また、ベースライン設定工程では、基準波数の掃引位置ごとに、これを挟む2点の波数間隔26が所定値以上になる条件下で、該2点の波数をそれぞれ連続的に掃引させて、2点を結ぶベースラインBLの条件を複数通り設定する。画像作成工程では、基準波数とベースラインの条件を設定する都度、該条件を全てのスペクトルデータに共通してあてはめて、ピークレベルを算出する。そして、条件ごとに、ピークレベルに基づく分布画像データを作成する。最後に、画像選択工程では、複数の分布画像データの中から最も高いコントラストの分布画像データを選択する。
【選択図】 図6
Description
試料に対して、2次元的な測定をしたときは2次元的なマッピング図(これを3次元的色分け図と呼ぶ場合がある。)を作成し、3次元的な測定をしたときは3次元的な空間に対する3次元的なマッピング図(X−Y−Z軸の空間座標に加えて強度情報が色分け表示されているので、これを4次元的色分け図と呼ぶ場合がある。)を作成する。
例えば、採取したスペクトルデータ中の特定のピークに着目し、そのピーク高さや、ピーク面積などによりマッピング図を作成する処理方法がある(例えば、特許文献2の段落0025参照)。図10の表示画面12のように、ユーザが、条件設定画面16に表示された任意のスペクトルデータを見ながら、特定物質に固有のピーク14の波数を指定すると、各スペクトルデータからそのピーク波数18での信号強度をそれぞれ抽出し、そのマッピング図M1を表示するというものがある。
また、着目ピークの形状が波数軸方向に大きく広がっている場合、そのピーク形状が狭いものよりも、手作業によるベースラインの引き方に、ばらつきが生じ易くなる。
本発明の目的は、複数のスペクトルデータに基づいて試料の構成物質の濃度分布を正確に示す画像をコンピュータにより作成するスペクトルデータの処理方法を提供することである。
基準波数設定工程では、前記スペクトルデータの全ての波数領域内または部分的な波数領域内に基準波数を設ける。また、該基準波数を前記波数領域内で連続的に掃引することによって、前記基準波数の条件を複数通りに設定する。
ベースライン設定工程では、前記基準波数の掃引位置ごとに、該基準波数を挟む2点の波数間隔が所定値以上になる条件下で、該2点の波数をそれぞれ連続的に掃引することによって、これら2点を両端とするベースラインの条件を複数通りに設定する。
画像作成工程では、前記基準波数の条件および前記ベースラインの条件の組合せを設定する都度、該条件の組合せを複数のスペクトルデータに共通してあてはめて、前記基準波数をピーク波数とするピークレベルを構成物質の濃度情報としてスペクトルデータごとに算出する。また、これらの濃度情報に基づいて1つの分布画像データを作成する。その結果、前記基準波数の条件および前記ベースラインの条件の組合せごとに作成される複数の分布画像データを取得する。
画像選択工程は、前記画像作成工程で取得された複数の分布画像データの中から最も高いコントラストの分布画像データを選択する。
すなわち、前記基準波数設定工程では、前記波数領域内に2つの基準波数を同時に設ける。また、該2つの基準波数を前記波数領域内で連続的に独立して掃引する。
前記ベースライン設定工程では、前記2つの基準波数の掃引位置ごとに、それぞれの基準波数ごとにベースラインの条件を独立して設定する。
前記濃度情報を算出する際に、前記2つの基準波数の条件とそれぞれのベースライン条件とを使って、複数のスペクトルデータに共通してあてはめる。そして、一方の基準波数を用いて読み取ったピーク高さを基準ピーク高さとし、他方の基準波数を用いて読み取ったピーク高さとのピーク高さ比を算出する。算出したピーク高さ比を構成物質の濃度情報としてスペクトルデータごとに算出することが好ましい。このようにすることで、前記画像選択工程では、ピーク高さ比に基づく複数の分布画像データから、最も高いコントラストの分布画像データが選択されることになる。
さらに、取得した多くの分布画像データから、最も正確な構成物質の濃度分布を示す画像を選択するために、本発明の方法では、すべての分布画像データの中で最も高いコントラストの画像を選択する。
本実施形態のスペクトルデータ処理方法は、試料の複数の微小領域をラマン分光測定して得られた複数のラマンスペクトルデータに基づいて、試料の構成物質のマッピング図をコンピュータにより作成する方法である。処理するスペクトルデータの数は特に限定しないが、ここでは1万程度あるものとして説明する。
図1(A)のように、試料の複数の微小領域を測定して得られた複数のスペクトルデータa,b,c,d…を処理する場合について説明する。分かりやすくするため、データa,b,dには、第1成分のみのピークが表れていて、データcには第2成分(対象物質)のピークが第1成分のピークの肩部分に乗った形状で表れているとする。まず、基準波数設定工程では、データ処理手段が、図1(B)のようにスペクトルデータの全波数領域、または部分的な波数領域に対して、マッピング図作成の基準となる基準波数を設ける。図中では基準波数の位置を三角のマークで示す。さらに、基準波数を波数領域内で連続的に掃引させる。この連続的に掃引させる処理では、基準波数の掃引位置を例えばスペクトルデータの最小単位である1データずつ変化させてもよい。最小単位の1データごとではなく、所定のピッチごとのデータを基準波数の掃引位置としてもよい。試料の構成物質が何であるか既知であっても、そうでなくても、この工程を実行するが、既知である場合は、基準波数の掃引範囲をスペクトルデータの全波数領域とはしないで、ピークの発生が想定される部分的な波数領域だけを掃引してもよい。波数領域の設定は、条件入力手段からの設定情報を用いるが、これに限られず、試料に応じた波数領域の設定情報を記憶部から読み出すようにしてもよい。
ベースライン設定工程は、データ処理手段によって、上記の基準波数設定工程の中で繰り返し実行される工程である。この工程によって、基準波数の掃引位置ごとに、ベースラインが何通りにも設定される。図2(A)〜(D)は、図1(B)の円で囲んだ範囲を拡大したものである。図中のA〜Kで示す点データは、スペクトルの最小単位の点データを模式的に表わしたものであり、基準波数の掃引位置が点データEにある場合を示す。なお、実際のスペクトルデータのデータ数は多く、またノイズも多いが、同図ではこれらを簡略化して描いた。
画像作成工程では、基準波数の掃引位置、および、その基準波数に設定されるベースラインの2つの条件の組合せを、複数のスペクトルデータa,b,c,d…に共通してあてはめる。説明のため、例えば、スペクトルデータb,c,kを図3に示す。スペクトルデータc,kには対象とする構成物質のピークが含まれているが、データbには対象物質のピークが含まれていない。微小領域ごとに対象物質の濃度が異なれば、それに応じてスペクトルデータのピーク形状も異なり、一般的には高濃度ほどピークの高さが大きくなる。なお、ベースラインの設定の際に、基準波数を挟む2点を結ぶ線としては直線、円弧、楕円の円弧または2次関数曲線などから適宜選択できるが、本実施形態では直線の場合を説明する。図3にベースラインの条件として、3通りのラインBG,BH,CHを比較のために示す。
基準波数の掃引位置が任意の位置であり、さらに、その基準波数に対して任意に設けたベースラインの条件下を使ったとしても、必ずしも正確な濃度情報を読み取れる訳ではなく、これらの条件を幾通りも変更して最も濃度情報の真値に近い条件でマッピング図を作成することが必要になる。そこで、本実施形態では、画像選択工程を設けて、作成されるマッピング図ごとにコントラストを算出して記憶部に記憶させる。そして、様々な条件の組合せで作成した多くのマッピング図の中からコントラストの一番高いものを最適なマッピング図M2として選択するようにしたのである。図4参照。
ピークレベルの偏差を利用したマッピング図の作成方法について説明する。この方法でも、前述の基準波数設定工程とベースライン設定工程とを用いるが、前述の画像作成工程に代えてピークレベル算出工程を用いる。また、画像選択工程に代えて画像取得工程を用いる。ピークレベル算出工程では、基準波数の条件およびベースラインの条件の組合せを設定する都度、この条件の組合せを複数のスペクトルデータに共通してあてはめて、基準波数をピーク波数とするピークレベル(ピーク高さ、ピーク面積、半値幅などの各情報)をスペクトルデータごとに算出し、さらに、これらのピークレベルの偏差を算出する。次に、画像取得工程では、基準波数およびベースラインの条件の組合せの中から、ピークレベルの偏差が最も大きくなる条件の組合せを抽出する。そして、抽出された条件の組合せを使って算出したピークレベルに基づいて1つのマッピング図を取得することができる。
このようにコントラストまたは偏差や標準偏差に基づいて、最もコントラストの高いマッピング図を選択することも可能で、結果的に、試料中の対象物質(異物など)の混入部位が強く色付けされたマッピング図を得ることができ、または、複数成分からなる試料について対象となる成分分布が明確に色分けされたマッピング図を得ることができる。
コントラストが最大になるマッピング図を選択することで、なぜ最も正確な濃度分布を示す画像が得られるかについて簡単に説明する。
本実施形態では基準波数とベースラインの各条件の組合せで、ピークレベルの絶対値情報を読み出し、その情報に基づいてマッピング図を作成している。そのため、どのマッピング図も、ピークレベルを同じ尺度を用いて視覚化したものになっている。また、ベースラインの引き方次第で、スペクトルデータごとに読み出されるピークレベルの偏差が異なったものになる。
さらに、ラインBHよりも波数間隔が広いライン(例えば図2に示したラインBI,CJ)をベースラインにした場合にも、基準波数を挟む2つの波数のいずれか一方が隣接するピークにまで伸びてしまい、やはり、本来読み取られるべきピークの面積が削られて、ピーク面積が小さくなってしまう。
試料の構成物質に不特定成分の物質が含まれている場合には、従来の方法によると、どのピークに着目するかについて試行錯誤しなければならなかった。ポリスチレン中に分散した異物(シリコン)の分布を可視化する場合を例にすると、通常は異物のスペクトルのキーバンドを用いて、色分け図が作成される。図5(A)は、ポリスチレンの典型的なスペクトルデータであり、同図(B)は、シリコンの典型的なスペクトルデータである。シリコンの場合、520cm-1の波数に特徴的なピークが現れるから、この520cm-1の波数のピーク周辺の2点の波数を両端としてベースラインを引き、色分け図を作成すれば、最もコントラストが大きい(異物の有無が強調された)イメージが得られるはずである。しかし、異物がシリコンであると予め分かっている場合はよいが、異物成分が不明な場合は、マッピング測定によって得られた膨大なスペクトルデータを1個1個見ていきながらキーバンドの場所を探す必要があった。
そこで、本実施形態では、前述の実施形態の方法をベースにして、不特定成分の濃度分布を調べる場合に有効な方法について説明する。
試料に含まれる構成物質が既知であり、着目ピークをある程度絞ることができる場合であっても、着目ピークが他のピークと重なっている場合などでは、その着目ピークをそのまま使えばよいのか、次の候補の着目ピークに設定変更したほうがよいのか、従来の方法ではユーザが試行錯誤しながらマッピング図を作成する必要があった。
図9は基盤層と粘着層の多層膜構造の試料についてマッピング図を作成する過程を説明するものである。第1実施形態と同様に、基準波数設定工程と、ベースライン設定工程と、画像作成工程と、画像選択工程とをそれぞれ実行する。同図(A)〜(D)は、基準波数およびベースラインの各条件を様々に変更して、その都度作成したマッピング図を示すものである。マッピング図の横に強度スケールを記載した。
同図(A)は、基準波数の掃引によって着目ピークCの波数付近に掃引位置が設けられ、かつ、ベースラインBLの波数間隔がピークCの裾幅程度に設けられた場合に作成されたマッピング図を示す。このマッピング図は、強度スケールが0〜13と狭く、満足できる画像ではない。やはり、着目ピークCが、OH伸縮を示すピークであり、ピーク強度が小さいことが、マッピング図の品質レベルに大きく影響していると考えられる。
第1実施形態における基準波数設定工程では、2つの基準波数を同時に設けて、それぞれ独立して掃引させてもよい。そして、ベースライン設定工程では、2つの基準波数に対してそれぞれベースラインを独立して設定する。さらに、画像作成工程では、2つの基準波数の条件とそれぞれのベースライン条件とを使って、一方の基準波数を用いて読み取ったピーク高さを基準ピーク高さとし、他方の基準波数を用いて読み取ったピーク高さとの比(ピーク高さ比)を読み取って、ピーク高さ比に基づくマッピング図を作成する。最後に、画像選択工程では、ピーク高さ比に基づく複数枚のマッピング図から、もっとも高コントラストのマッピング図を選択し、表示させるようにしてもよい。
また、本発明は、FTIR、ラマン分光装置などの多数のスペクトルデータを取得する分光分析装置に適用できる。
26A〜D 波数間隔
BL ベースライン
M1〜3 マッピング図(分布画像データ)
Claims (6)
- 試料の複数点を分光測定して得られた複数のスペクトルデータに基づいて、試料の構成物質の分布画像データをコンピュータにより作成する方法であって、
前記スペクトルデータの全ての波数領域内または部分的な波数領域内に基準波数を設けて、該基準波数を前記波数領域内で連続的に掃引することによって、前記基準波数の条件を複数通りに設定する基準波数設定工程と、
前記基準波数の掃引位置ごとに、該基準波数を挟む2点の波数間隔が所定値以上になる条件下で、該2点の波数をそれぞれ連続的に掃引することによって、これら2点を両端とするベースラインの条件を複数通りに設定するベースライン設定工程と、
前記基準波数の条件および前記ベースラインの条件の組合せを設定する都度、該条件の組合せを複数のスペクトルデータに共通してあてはめて、前記基準波数をピーク波数とするピークレベルを構成物質の濃度情報としてスペクトルデータごとに算出し、これらの濃度情報に基づいて1つの分布画像データを作成することによって、前記基準波数の条件および前記ベースラインの条件の組合せに対応した複数の分布画像データを取得する画像作成工程と、
前記画像作成工程で取得された複数の分布画像データの中から最も高いコントラストの分布画像データを選択する画像選択工程と、
を備えることを特徴とする試料の構成物質の分布画像データを作成する方法。 - 試料の複数点を分光測定して得られた複数のスペクトルデータに基づいて、試料の構成物質の分布画像データをコンピュータにより作成する方法であって、
前記スペクトルデータの全ての波数領域内または部分的な波数領域内に基準波数を設けて、該基準波数を前記波数領域内で連続的に掃引することによって、前記基準波数の条件を複数通りに設定する基準波数設定工程と、
前記基準波数の掃引位置ごとに、該基準波数を挟む2点の波数間隔が所定値以上になる条件下で、該2点の波数をそれぞれ連続的に掃引することによって、これら2点を両端とするベースラインの条件を複数通りに設定するベースライン設定工程と、
前記基準波数の条件および前記ベースラインの条件の組合せを設定する都度、該条件の組合せを複数のスペクトルデータに共通してあてはめて、前記基準波数をピーク波数とするピークレベルを構成物質の濃度情報としてスペクトルデータごとに算出し、さらに、これらのピークレベルの偏差を算出するピークレベル算出工程と、
前記基準波数および前記ベースラインの条件の組合せの中から、前記ピークレベルの偏差が最も大きくなる条件の組合せを選択し、該条件の組合せを使って算出した前記濃度情報に基づいて1つの分布画像データを取得する画像取得工程と、
を備えることを特徴とする試料の構成物質の分布画像データを作成する方法。 - 試料の構成物質に不特定成分の物質が含まれている場合に、請求項1または2記載の方法を用いて、不特定成分の分布画像データを取得することを特徴とする試料の構成物質の分布画像データを作成する方法。
- 請求項1から3のいずれかに記載の方法において、前記基準波数を挟む2点の波数間隔が所定値以上になる条件とは、想定される構成物質のピーク形状に基づいて、前記2点の波数間隔を少なくとも前記ピーク形状の裾幅の相当値以上にすることを特徴とする試料の構成物質の分布画像データを作成する方法。
- 請求項1から4のいずれかに記載の方法において、
前記基準波数設定工程では、前記波数領域内に2つの基準波数を同時に設けて、該2つの基準波数を前記波数領域内で連続的に独立して掃引し、
前記ベースライン設定工程では、前記2つの基準波数の掃引位置ごとに、それぞれの基準波数ごとに前記ベースラインの条件を独立して設定し、
前記濃度情報を算出する際に、前記2つの基準波数の条件とそれぞれのベースライン条件とを使って、前記複数のスペクトルデータに共通してあてはめて、一方の基準波数を用いて読み取ったピーク高さを基準ピーク高さとし、他方の基準波数を用いて読み取ったピーク高さと前記基準ピーク高さとのピーク高さ比を算出して、このピーク高さ比を構成物質の濃度情報としてスペクトルデータごとに算出することを特徴とする試料の構成物質の分布画像データを作成する方法。 - 請求項5記載の方法において、前記濃度情報を算出する際に、試料の構成物質に固有のピークの出ることの少ない波数領域でのノイズレベルに基づく閾値を設定し、前記基準ピーク高さが前記閾値未満の場合は、前記他方の基準波数によるピーク高さの読み取りを行なわないで、前記基準ピーク高さの読み取りに用いた基準波数およびベースラインの条件の組合せを変更することを特徴とする試料の構成物質の分布画像データを作成する方法。
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