JP2014143284A - 記憶素子、半導体装置、および書込方法 - Google Patents
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- 230000015654 memory Effects 0.000 title claims abstract description 92
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 47
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 10
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 claims description 19
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 claims description 12
- FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N silicide(4-) Chemical compound [Si-4] FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 11
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 22
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 15
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 12
- 230000006870 function Effects 0.000 description 8
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 7
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 238000009966 trimming Methods 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C17/00—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
- G11C17/14—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards in which contents are determined by selectively establishing, breaking or modifying connecting links by permanently altering the state of coupling elements, e.g. PROM
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- G11C17/00—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
- G11C17/14—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards in which contents are determined by selectively establishing, breaking or modifying connecting links by permanently altering the state of coupling elements, e.g. PROM
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
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Abstract
【課題】電気ヒューズとアンチヒューズの両方を用いて記憶素子を構成した場合において、記憶した情報の信頼性を高めることができる記憶素子を得る。
【解決手段】第1の入力ノードと第2の入力ノードとの間に挿設された電気ヒューズ11と、第1の入力ノードとは別々の電圧が印加できるように構成された第3の入力ノードと、第2の入力ノードの間に挿設されたアンチヒューズ12とを備える。第1の入力ノードおよび第3の入力ノードに対して、別々の電圧を印加できるようにしたので、記憶した情報の信頼性を高めることができる。
【選択図】図1
【解決手段】第1の入力ノードと第2の入力ノードとの間に挿設された電気ヒューズ11と、第1の入力ノードとは別々の電圧が印加できるように構成された第3の入力ノードと、第2の入力ノードの間に挿設されたアンチヒューズ12とを備える。第1の入力ノードおよび第3の入力ノードに対して、別々の電圧を印加できるようにしたので、記憶した情報の信頼性を高めることができる。
【選択図】図1
Description
本開示は、抵抗値が変化する特性を利用して情報を記憶する記憶素子、そのような記憶素子を備えた半導体装置、そのような記憶素子に対する情報の書込方法に関する。
半導体集積回路には、しばしば、1回のみデータの書き込みが可能なOTP(One Time Programmable)メモリや、複数回情報の書き込みが可能なMTP(Multi-time Programmable)メモリが集積される。これらのメモリには、例えば、回路の特性などを調整するためのトリミング情報が記憶される。これにより、そのような半導体集積回路は、電源投入直後に、そのメモリに記憶されたトリミング情報に基づいて調整が行われ、所望の特性を実現することができる。また、半導体集積回路のトレーサビリティを実現するために、その半導体集積回路の識別番号(ID)が記憶されることもある。
このようなメモリには、記憶素子として、しばしば電気ヒューズが用いられる。電気ヒューズは、ストレスを印加することにより抵抗値が増大するものである。また、記憶素子として、アンチヒューズが用いられる場合もある。アンチヒューズは、ストレスを印加することにより抵抗値が減少するものである。また、電気ヒューズとアンチヒューズの両方を用いて記憶素子を構成することもある。例えば、特許文献1には、電気ヒューズと抵抗素子とが直列接続された直列回路に、アンチヒューズが並列接続されている半導体トリミング装置が開示されている。この半導体トリミング装置は、電気ヒューズの抵抗値を増大させることにより、記憶素子の両端子間を開放状態にし、また、アンチヒューズの抵抗値を減少させることにより、記憶素子の両端子間を短絡状態にするものである。
このように、電気ヒューズとアンチヒューズの両方を用いて記憶素子を構成した場合において、電気ヒューズとアンチヒューズのうちの一方に対してストレスを印加したときには、他方に対してダメージを与えないようにすることが望まれる。すなわち、例えば、電気ヒューズにストレスを印加したときにアンチヒューズに影響を与えてしまった場合には、記憶状態が不安定になり、記憶した情報の信頼性が低下するおそれがある。
本開示はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、記憶した情報の信頼性を高めることができる記憶素子、半導体装置、および書込方法を提供することにある。
本開示の記憶素子は、電気ヒューズと、アンチヒューズとを備えている。電気ヒューズは、第1の入力ノードと第2の入力ノードとの間に挿設されたものである。アンチヒューズは、第1の入力ノードとは別々の電圧が印加できるように構成された第3の入力ノードと、第2の入力ノードの間に挿設されたものである。
本開示の半導体装置は、電気ヒューズと、アンチヒューズと、制御部とを備えている。電気ヒューズは、第1の入力ノードと第2の入力ノードとの間に挿設されたものである。アンチヒューズは、第2の入力ノードと第3の入力ノードとの間に挿設されたものである。制御部は、第2の入力ノードにストレス電圧を印加するとともに、第1の入力ノードおよび第3の入力ノードに対して別々の電圧を印加するものである。
本開示の書込方法は、第1の入力ノードと第2の入力ノードとの間に挿設された電気ヒューズと、第2の入力ノードと第3の入力ノードとの間に挿設されたアンチヒューズとを備えた記憶素子の第2の入力ノードに対して、第3の入力ノードの電圧と同じ極性の第1のストレス電圧を印加することにより、電気ヒューズの抵抗状態を変化させ、第3の入力ノードの電圧と異なる極性の第2のストレス電圧を印加することにより、アンチヒューズの抵抗状態を変化させるものである。
本開示の記憶素子、半導体装置、および書込方法では、第1の入力ノードと第2の入力ノードとの間に電気ヒューズが挿設され、第2の入力ノードと第3の入力ノードとの間にアンチヒューズが挿設される。この第1の入力ノードおよび第3の入力ノードに対しては、別々の電圧が印加される。
本開示の記憶素子、半導体装置、および書込方法によれば、第1の入力ノードおよび第3の入力ノードに対して、別々の電圧を印加できるようにしたので、記憶した情報の信頼性を高めることができる。
以下、本開示の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
[構成例]
(全体構成例)
図1は、実施の形態に係る半導体装置の一構成例を表すものである。メモリ1は、電気ヒューズとアンチヒューズの両方を有し、3回まで情報の書き込みが可能なメモリである。なお、本開示の実施の形態に係る記憶素子、および書込方法は、本実施の形態により具現化されるので、併せて説明する。
(全体構成例)
図1は、実施の形態に係る半導体装置の一構成例を表すものである。メモリ1は、電気ヒューズとアンチヒューズの両方を有し、3回まで情報の書き込みが可能なメモリである。なお、本開示の実施の形態に係る記憶素子、および書込方法は、本実施の形態により具現化されるので、併せて説明する。
半導体装置1は、制御部8と、記憶素子10と、書込部20と、読出部30と、参照電圧生成部40と、比較器50とを備えている。
制御部8は、外部から入力された信号Sinに基づいて、記憶素子10への情報の書き込みや、記憶素子10に記憶された情報の読み出しを制御するものである。具体的には、制御部8は、記憶素子10に対して電圧Vdcを供給し、書込部20に対して制御信号Sblow,Sw、電圧Vfuseを供給し、読出部30に対して制御信号Sr1,Sr2を供給し、参照信号生成部40に対して制御信号Sr3〜Sr6を供給することにより、これらのブロックを制御する。制御部8はメモリ9を有している。メモリ9には、後述するように、記憶素子10に対して、過去に書込動作を行った回数を記憶するものである。制御部8は、このメモリ9に記憶された情報に基づいて、上記電圧Vdc,Vfuse、および制御信号Sblow,Sw,Sr1〜Sr6を生成し、これらのブロックを制御するようになっている。
記憶素子10は、情報を記憶するものである。記憶素子10は、電気ヒューズ11と、アンチヒューズ12とを有している。この図1では、電気ヒューズ11を抵抗素子のシンボルを用いて示し、アンチヒューズ12を容量素子のシンボルを用いて示している。
電気ヒューズ11は、ストレスを印加することにより抵抗状態が変化し、その抵抗値が増大するものである。この電気ヒューズ11は、後述するように、3つの識別可能な抵抗状態(低抵抗状態、中抵抗状態、高抵抗状態)を有するものである。電気ヒューズ11の一端は、アンチヒューズ12の一端に接続されるとともに、書込部20の書込トランジスタ22(後述)のドレインなどに接続され、他端は、書込部20のブロートランジスタ21(後述)のドレインに接続されている。
アンチヒューズ12は、ストレスを印加することにより抵抗状態が変化し、その抵抗値が減少するものである。アンチヒューズ12の一端は、電気ヒューズ11の一端に接続されるとともに、書込部20の書込トランジスタ22(後述)のドレインなどに接続され、他端には制御部8から電圧Vdcが供給されるようになっている。この電圧Vdcは、後述するように、記憶素子10に情報を書き込む場合には正の電圧Vdc1(電圧Vdc1>0)であり、記憶素子10から情報を読み出す場合には0Vである。
書込部20は、記憶素子10に対して情報を書き込むものである。この書込部20は、ブロートランジスタ21と、書込トランジスタ22とを有している。ブロートランジスタ21は、例えば、NチャネルMOS(Metal Oxide Semiconductor)型のFET(Field Effect Transistor;電界効果トランジスタ)により構成されるものであり、書込トランジスタ22は、例えばPチャネルMOS型のFETにより構成されるものである。ブロートランジスタ21のドレインは、電気ヒューズ11の他端に接続され、ゲートには制御部8から制御信号Sblowが供給され、ソースは接地されている。このブロートランジスタ21は、制御信号Sblowが高レベルであるときにオン状態になるスイッチとして機能するものである。書込トランジスタ22のドレインは、電気ヒューズ11の一端およびアンチヒューズ12の一端などに接続され、ゲートには制御部8から制御信号Swが供給され、ソースには制御部8から電圧Vfuseが供給されるようになっている。この書込トランジスタ22は、制御信号Swが低レベルであるときにオン状態になるスイッチとして機能するものである。この電圧Vfuseは、後述するように、電気ヒューズ11に対してストレスを印加する場合は正の電圧Vef(電圧Vef>0)であり、アンチヒューズ12に対してストレスを印加する場合は負の電圧Vaf(電圧Vaf<0)である。なお、この例では、書込トランジスタ22は、PチャネルMOS型のFETとしたが、これに限定されるものではなく、これに代えて、例えばNチャネルMOS型のFETでもよく、あるいは、PチャネルMOS型のFETおよびNチャネルMOS型のFETを用いて構成したいわゆるトランスミッションゲートであってもよい。
この構成により、記憶素子10に対して情報を書き込む際、後述するように、ブロートランジスタ21および書込トランジスタ22がともにオン状態になる。これにより、電圧Vfuse(電圧Vef,Vaf)が記憶素子10に印加される。記憶素子10では、電圧Vfuseとして正の電圧Vefが印加された場合には、電気ヒューズ11にストレス(後述するストレスST1,ST2)が印加され、電気ヒューズ11の抵抗値が大きい値に変化する。また、電圧Vfuseとして負の電圧Vafが印加された場合には、アンチヒューズ12にストレス(後述するストレスST3)が印加され、アンチヒューズ12の抵抗値が小さい値に変化するようになっている。
読出部30は、記憶素子10から情報を読み出す際に、電気ヒューズ11およびアンチヒューズ12における抵抗状態に応じた読出電圧Vreadを生成するものである。この読出部30は、トランジスタ31,32を有している。トランジスタ31は、例えばPチャネルMOS型のFETにより構成されるものであり、トランジスタ32は、例えばNチャネルMOS型のFETにより構成されるものである。トランジスタ31のドレインは、トランジスタ32のドレインに接続されるとともに比較器50の正入力端子に接続され、ゲートには制御部8から制御信号Sr1が供給され、ソースには電源電圧VDDが供給されている。このトランジスタ31は、制御信号Sr1が低レベルのときにオン状態になるスイッチとして機能するものである。トランジスタ32のドレインは、トランジスタ31のドレインに接続されるとともに比較器50の正入力端子に接続され、ゲートには制御部8から制御信号Sr2が供給され、ソースは電気ヒューズ11の一端およびアンチヒューズ12の一端などに接続されている。このトランジスタ32は、制御信号Sr2が高レベルのときにオン状態になるスイッチとして機能するものである。
参照電圧生成部40は、記憶素子10から情報を読み出す際に、電圧Vreadと比較するための基準(しきい値)となる参照電圧Vrefを生成するものである。この参照電圧生成部40は、トランジスタ41〜44と、抵抗素子45,46とを有している。
トランジスタ41は、例えばPチャネルMOS型のFETにより構成されるものであり、トランジスタ42〜44は、例えばNチャネルMOS型のFETにより構成されるものである。トランジスタ41のドレインは、トランジスタ42のドレインに接続されるとともに比較器50の負入力端子に接続され、ゲートには制御部8から制御信号Sr3が供給され、ソースには電源電圧VDDが供給されている。このトランジスタ41は、制御信号Sr3が低レベルのときにオン状態になるスイッチとして機能するものである。トランジスタ42のドレインは、トランジスタ41のドレインに接続されるとともに比較器50の負入力端子に接続され、ゲートには制御部8から制御信号Sr4が供給され、ソースは抵抗素子45の一端および抵抗素子46の一端に接続されている。このトランジスタ42は、制御信号Sr4が高レベルのときにオン状態になるスイッチとして機能するものである。トランジスタ43のドレインは、抵抗素子45の他端に接続され、ゲートには制御部8から制御信号Sr5が供給され、ソースは接地されている。このトランジスタ43は、制御信号Sr5が高レベルのときにオン状態になるスイッチとして機能するものである。トランジスタ44のドレインは、抵抗素子46の他端に接続され、ゲートには制御信号Sr6が供給され、ソースは接地されている。このトランジスタ44は、制御信号Sr6が高レベルのときにオン状態になるスイッチとして機能するものである。
抵抗素子45は、抵抗値Rth1を有するものであり、抵抗素子45の一端は、トランジスタ42のソースに接続されるとともに抵抗素子46の一端に接続され、他端はトランジスタ43のドレインに接続されている。この抵抗値Rth1は、電気ヒューズ11の低抵抗状態における抵抗値ReLと、中抵抗状態における抵抗値ReMとの間の抵抗値(ReL<Rth1<ReM)である。抵抗素子46は、抵抗値Rth1よりも大きい抵抗値Rth2を有するものであり、抵抗素子46の一端は、トランジスタ42のソースに接続されるとともに抵抗素子45の一端に接続され、他端はトランジスタ44のドレインに接続されている。この抵抗値Rth2は、電気ヒューズ11の中抵抗状態における抵抗値ReMと、高抵抗状態における抵抗値ReHとの間の抵抗値(ReM<Rth2<ReH)である。
比較器50は、読出部30から供給された読出電圧Vreadと、参照電圧生成部40から供給された参照電圧Vrefとを比較し、その比較結果を信号Soutとして出力するものである。
この構成により、記憶素子10から情報を読み出す際、読出部30が、記憶素子10における電気ヒューズ11およびアンチヒューズ12の抵抗状態に応じた読出電圧Vreadを生成するとともに、参照電圧生成部40が参照電圧Vrefを生成し、比較器50が、その読出電圧Vreadと、参照電圧Vrefとを比較する。具体的には、後述するように、書込部20において、ブロートランジスタ21がオン状態になるとともに、0Vの電圧Vdcがアンチヒューズ12の他端に供給される。これにより、電気ヒューズ11の他端とアンチヒューズ12の他端にはともに0Vが印加され、電気ヒューズ11およびアンチヒューズ12が、互いに並列接続されたのと同じ状態になる。そして、読出部30において、トランジスタ31,32がともにオン状態になり、電源からトランジスタ31,32を介して記憶素子10に電流が流れ、読出電圧Vreadが生成される。また、参照電圧生成部40において、トランジスタ41,42,43、またはトランジスタ41,42,44がオン状態になることにより、抵抗値Rth1または抵抗値Rth2に応じた参照電圧Vrefが生成される。そして、比較器50が、その読出電圧Vreadと、参照電圧Vrefとを比較することにより、情報が読み出されるようになっている。
(記憶素子10)
図2は、記憶素子10および書込トランジスタ22のレイアウトの一例を表すものであり、(A)は回路図を示し、(B)は平面図を示し、(C)は、(B)におけるII−II矢視方向の断面図を示す。なお、この例では、説明の便宜上、電気ヒューズ11の他端は、接地されている。
図2は、記憶素子10および書込トランジスタ22のレイアウトの一例を表すものであり、(A)は回路図を示し、(B)は平面図を示し、(C)は、(B)におけるII−II矢視方向の断面図を示す。なお、この例では、説明の便宜上、電気ヒューズ11の他端は、接地されている。
シリコン基板である基板SUBには、NウェルN11およびPウェルP18が形成されている。また、基板SUBの表面には、一部を除き、酸化膜STI(Shallow Trench Isolation)が形成されている。
NウェルN11には、拡散層P12,N13,N14,P16,N17が形成されている。拡散層P12,P16はP型拡散層であり、拡散層N13,N14,N17はN型拡散層である。拡散層P12における酸化膜STIの上部には、絶縁層3、ポリシリコン層4、およびシリサイド層5が、この順で積層されるとともに、一方向に延伸するように形成されている。このうちのポリシリコン層4、およびシリサイド層5が電気ヒューズ11を構成する。この電気ヒューズ11は、後述するように、ストレスが印加されることにより、シリサイド層5が溶解し、あるいはポリシリコン層4がアモルファス状態に変化して、抵抗値が増大するようになっている。電気ヒューズ11の延伸方向における両側には、配線層M1に導くためのコンタクトCNTが形成されている。拡散層N13には、酸化膜STIが形成されていない部分(シリコン部分S13)があり、絶縁層3、ポリシリコン層4、およびシリサイド層5からなる3層は、このシリコン部分S13の上部にまで延伸している。この3層とシリコン部分S13とがオーバーラップした部分は、アンチヒューズ12を構成する。すなわち、アンチヒューズ12は、ストレスが印加されることにより、絶縁層3が破壊され、抵抗値が減少するようになっている。拡散層N14は、NウェルN11に電位を供給するためのものである。この拡散層N14には、酸化膜STIが形成されていない部分(シリコン部分S14)があり、このシリコン部分S14上には、配線層M1に導くためのコンタクトCNTが形成されている。
拡散層P16には、酸化膜STIが形成されていない部分(シリコン部分S16)があり、このシリコン部分S16には、書込トランジスタ22が形成される。そしてこの書込トランジスタ22のドレインは、コンタクトCNTおよび配線層M1を介して、電気ヒューズ11の一端およびアンチヒューズ12の一端に接続されている。拡散層N17は、NウェルN11に電位(電源電圧VDD)を供給するためのものである。この拡散層N17には、酸化膜STIが形成されていない部分(シリコン部分S17)があり、このシリコン部分S17上には、配線層M1に導くためのコンタクトCNTが形成されている。
PウェルP18には、拡散層P19が形成されている。拡散層P19は、P型拡散層である。この拡散層P19には、酸化膜STIが形成されていない部分(シリコン部分S19)があり、このシリコン部分S19上には、配線層M1に導くためのコンタクトCNTが形成されている。この例では、PウェルP18は接地されており、コンタクトCNTおよび配線M1を介して、電気ヒューズ11の他端に電位(0V)を供給するようになっている。
図3は、電気ヒューズ11の、図2におけるIII−III矢視方向の断面図を示す。図3に示したように、電気ヒューズ11は、絶縁層3の上に形成されたポリシリコン層4と、ポリシリコン層4の上に形成されたシリサイド層5とにより構成される。このポリシリコン層4は、ストレスが印加されていない初期状態では、結晶性を有している。絶縁層3、ポリシリコン層、およびシリサイド層5の側面には、例えば酸化膜や窒化膜などで構成されたサイドウォール6が設けられている。そして、シリサイド層5、サイドウォール6、および酸化膜STIを覆うように、保護膜7(絶縁膜)が設けられている。
なお、電気ヒューズ11の構成は、図3に示す例に限定されず、少なくとも、ポリシリコン層4およびシリサイド層5を含む構成であればよく、例えば、サイドウォール6や保護膜7を形成しなくてもよい。
次に、電気ヒューズ11における抵抗状態について説明する。この電気ヒューズ11は、3つの識別可能な抵抗状態(低抵抗状態、中抵抗状態、高抵抗状態)を有するものである。低抵抗状態は、ストレスが印加されていない初期の状態を示し、中抵抗状態および高抵抗状態は、ストレスが印加されたあとの状態である。
図4は、電気ヒューズ11の抵抗値Reと、電気ヒューズ11に加えるストレスとの関係を表すものである。この例では、電気ヒューズ11に電流(以下ブロー電流Iblowという)を供給することにより、電気ヒューズ11にストレスを印加している。
ストレスが印加されていない状態では、抵抗値Reは、抵抗値ReLである。ここで、抵抗値ReLは、例えば数百Ω程度である。このような低抵抗状態(抵抗値ReL)にある電気ヒューズ11にブロー電流Iblowを流すと、電気ヒューズ11が発熱して、その抵抗値Reが低抵抗状態の抵抗値ReLよりも増大する。そして、ブロー電流Iblowが電流Iblow1程度になると、電気ヒューズ11の抵抗値Reは飽和し(飽和領域101)、抵抗値ReM程度(中抵抗状態)になる。この中抵抗状態における抵抗値ReMは、例えば数千Ω程度である。この飽和領域101では、電気ヒューズ11には、サリサイドEM(Electro Migration)が生じている。
図5は、電気ヒューズ11にサリサイドEMが生じた状態(サリサイドEM状態)を表すものである。サリサイドEM状態は、このように、シリサイド層5が溶解してなくなり、ポリシリコン層4が残った状態である。このような状態では、ブロー電流Iblowをやや変化させても、ポリシリコン層4にはダメージを殆ど与えず、それゆえ、電気ヒューズ11の抵抗値Reは抵抗値ReMから殆ど変化しない。
さらにブロー電流Iblowを大きくすると、電気ヒューズ11の抵抗値は一転して増加しはじめる(領域102)。この状態では、ポリシリコン層4が溶解し始める(Siメルティング)。そして、ブロー電流Iblowが電流Iblow2程度になると、電気ヒューズ11の抵抗値Reは再度飽和し(飽和領域103)、抵抗値ReH程度(高抵抗状態)になる。この高抵抗状態における抵抗値ReHは、例えば数万Ω程度である。この飽和領域103では、電気ヒューズ11のポリシリコン層4にダメージが生じている。
図6は、電気ヒューズ11にダメージが生じた状態を表すものである。ポリシリコン層4は、この例では、アモルファス状態になっている。また、例えば、ポリシリコン層4の一部が切断したり、あるいは一部が変形したりすることもある。このような状態では、ブロー電流Iblowを変化させても、ポリシリコン層4の状態は殆ど変化しない。それゆえ、ブロー電流Iblowを変化させても、電気ヒューズ11の抵抗値Reは抵抗値ReHから殆ど変化しない。
このように、電気ヒューズ11は、3つの抵抗状態(低抵抗状態、中抵抗状態、高抵抗状態)を有し、ストレスに応じて、より抵抗値Reの高い状態に変化する。
一方、アンチヒューズ12は、2つの抵抗状態(低抵抗状態および高抵抗状態)を有する。アンチヒューズ12の抵抗値Raは、ストレスに応じてより低い値に変化する。具体的には、ストレスが印加されていない状態では、アンチヒューズ12の抵抗値Raは、抵抗値RaH(高抵抗状態)である。そして、ストレスが印加されると、このアンチヒューズ12の抵抗値Raは、抵抗値RaL(低抵抗状態)に変化する。この抵抗値RaLは、例えば数百Ω程度である。
この構成により、記憶素子10には、3回までストレス(ストレスST1〜ST3)を印加することができる。ストレスST1は、電気ヒューズ11の抵抗状態を低抵抗状態(抵抗値ReL)から中抵抗状態(抵抗値ReM)に変化させるものであり、ストレスST2は、電気ヒューズ11の抵抗状態を高抵抗状態(抵抗値ReH)に変化させるものであり、ストレスST3は、アンチヒューズ12の抵抗状態を高抵抗状態(抵抗値RaH)から低抵抗状態(抵抗値RaL)に変化させるものである。これらのストレスST1〜ST3の条件(電圧、電流、および期間)は、後述するように、互いに異なるように設定されている。
図7は、ストレスST1〜ST3を印加する場合における、記憶素子10全体の抵抗値RRの変化を表すものである。この抵抗値RRは、電気ヒューズ11とアンチヒューズ12とを並列接続したときの抵抗値である。すなわち、記憶素子10から情報を読み出す際は、電気ヒューズ11とアンチヒューズ12とが互いに並列接続されたのと同じ状態になることを考慮し、記憶素子10全体の抵抗状態を示すものとして、この抵抗値RRを用いている。図7において、(A)は初期状態(ストレスを印加する前の状態)における抵抗値RRの分布を示し、(B)はストレスST1を印加した後における抵抗値RRの分布を示し、(C)はストレスST2を印加した後における抵抗値RRの分布を示し、(D)はストレスST3を印加した後における抵抗値RRの分布を示す。
初期状態では、電気ヒューズ11は低抵抗状態(抵抗値ReL)であり、アンチヒューズ12は高抵抗状態(抵抗値RaH)である。よって、記憶素子10全体の抵抗値RRは、図7(A)に示したように、抵抗値ReLと同程度になる。
ストレスST1を印加すると、電気ヒューズ11の抵抗状態は中抵抗状態(抵抗値ReM)になる。このとき、アンチヒューズ12の抵抗状態は、高抵抗状態(抵抗値RaH)のままである。よって、記憶素子10全体の抵抗値RRは、図7(B)に示したように、抵抗値ReMと同程度になる。
また、ストレスST2を印加すると、電気ヒューズ11の抵抗状態は高抵抗状態(抵抗値ReH)になる。このとき、アンチヒューズ12の抵抗状態は、高抵抗状態(抵抗値RaH)のままである。よって、記憶素子10全体の抵抗値RRは、図7(C)に示したように、抵抗値ReHと同程度になる。
また、ストレスST3を印加すると、アンチヒューズ12の抵抗状態は低抵抗状態(抵抗値RaL)になる。よって、記憶素子10全体の抵抗値RRは、図7(D)に示したように、抵抗値RaLと同程度になる。
このように、記憶素子10には、3回までストレス(ストレスST1〜ST3)を印加することができる。これにより、半導体装置1では、情報を3回まで書き込むことができる。言い換えれば、半導体装置1は、1回だけ情報を書き込むことができるいわゆるOTPとは異なり、情報をさらに書き換えることができるようになっている。
ここで、電気ヒューズ11の他端は、本開示における「第1の入力ノード」の一具体例に対応する。電気ヒューズ11の一端およびアンチヒューズ12の一端は、本開示における「第2の入力ノード」の一具体例に対応する。アンチヒューズ12の他端は、本開示における「第3の入力ノード」の一具体例に対応する。ここで、ノードとは、必ずしも結節点を表すものではなく、回路上の任意の一点を表すものである。電圧Vef1は、本開示における「第1のストレス電圧」の一具体例に対応する。電圧Vafは、本開示における「第2のストレス電圧」の一具体例に対応する。電圧Vef2は、本開示における「第3のストレス電圧」の一具体例に対応する。制御部8および書込部20は、本開示における「制御部」の一具体例に対応する。参照電圧生成部40は、本開示における「電圧生成部」の一具体例に対応する。比較器50は、本開示における「比較部」の一具体例に対応する。
[動作および作用]
続いて、本実施の形態の半導体装置1の動作および作用について説明する。
続いて、本実施の形態の半導体装置1の動作および作用について説明する。
(全体動作概要)
まず、図1などを参照して、半導体装置1の全体動作概要を説明する。記憶素子10への情報の書き込みや、記憶素子10に記憶された情報の読み出しを制御する。書込部20は、記憶素子10に対して情報を書き込む。読出部30は、記憶素子10から情報を読み出す際に、記憶素子10の電気ヒューズ11およびアンチヒューズ12における抵抗状態に応じた読出電圧Vreadを生成する。参照電圧生成部40は、参照電圧Vrefを生成する。比較器50は、読出電圧Vreadと参照電圧Vrefとを比較し、その比較結果を信号Soutとして出力する。
まず、図1などを参照して、半導体装置1の全体動作概要を説明する。記憶素子10への情報の書き込みや、記憶素子10に記憶された情報の読み出しを制御する。書込部20は、記憶素子10に対して情報を書き込む。読出部30は、記憶素子10から情報を読み出す際に、記憶素子10の電気ヒューズ11およびアンチヒューズ12における抵抗状態に応じた読出電圧Vreadを生成する。参照電圧生成部40は、参照電圧Vrefを生成する。比較器50は、読出電圧Vreadと参照電圧Vrefとを比較し、その比較結果を信号Soutとして出力する。
(詳細動作)
半導体装置1では、電気ヒューズ11に対して2回情報を書き込み、その後、アンチヒューズ12に対して1回情報を書き込むことができる。すなわち、半導体装置1には、記憶素子10に対して3回まで情報を書き込むことができる。
半導体装置1では、電気ヒューズ11に対して2回情報を書き込み、その後、アンチヒューズ12に対して1回情報を書き込むことができる。すなわち、半導体装置1には、記憶素子10に対して3回まで情報を書き込むことができる。
図8は、3回の書込動作WO1〜WO3の前後における、記憶素子10全体の抵抗値RRを表すものである。
第1回目の書込動作WO1を行う前の初期状態では、上述したように、電気ヒューズ11は低抵抗状態(抵抗値ReL)であり、アンチヒューズ12は高抵抗状態(抵抗値RaH)である。よって、抵抗値RRは、抵抗値ReLと同程度になる。
第1回目の書込動作WO1では、記憶素子10に対して“1”を書き込む場合には、書込部20は、記憶素子10にストレスST1を印加し、電気ヒューズ11の抵抗状態を、低抵抗状態(抵抗値ReL)から中抵抗状態(抵抗値ReM)に変化させる。その際、アンチヒューズ12の状態は高抵抗状態(抵抗値RaH)のままである。よって、記憶素子10全体の抵抗値RRは、抵抗値ReMと同程度になる。また、記憶素子10に対して“0”を書き込む場合には、書込部20は、記憶素子10に対してストレスを印加しない。よって、電気ヒューズ11の抵抗状態は、低抵抗状態(抵抗値ReL)のままであり、アンチヒューズ12の抵抗状態は、高抵抗状態(抵抗値RaH)のままであるため、抵抗値RRは、抵抗値ReLと同程度になる。
この書込動作WO1後における、記憶素子10の“1”または“0”の記憶状態は、抵抗素子45の抵抗値Rth1をしきい値として比較することにより識別可能である。具体的には、読出部30は、記憶素子10の抵抗値RRに応じた読出電圧Vreadを生成し、参照電圧生成部40は、抵抗素子45の抵抗値Rth1に応じた参照電圧Vrefを生成し、比較器50が、この読出電圧Vreadと参照電圧Vrefとを比較することにより、記憶素子10における記憶状態を識別することができる。
第2回目の書込動作WO2では、記憶素子10に対して“1”を書き込む場合には、書込部20は、記憶素子10にストレスST2を印加し、電気ヒューズ11の抵抗状態を、高抵抗状態(抵抗値ReH)に変化させる。その際、アンチヒューズ12の状態は高抵抗状態(抵抗値RaH)のままである。よって、記憶素子10全体の抵抗値RRは、抵抗値ReHと同程度になる。また、記憶素子10に対して“0”を書き込む場合には、書込部20は、記憶素子10に対してストレスを印加しない。よって、電気ヒューズ11の抵抗状態は、低抵抗状態(抵抗値ReL)または中抵抗状態(抵抗値ReM)のままであり、アンチヒューズ12の抵抗状態は、高抵抗状態(抵抗値RaH)のままであるため、抵抗値RRは、抵抗値ReLと同程度または抵抗値ReMと同程度になる。
この書込動作WO2後における、記憶素子10の“1”または“0”の記憶状態は、抵抗素子46の抵抗値Rth2をしきい値として比較することにより識別可能である。具体的には、読出部30は、記憶素子10の抵抗値RRに応じた読出電圧Vreadを生成し、参照電圧生成部40は、抵抗素子46の抵抗値Rth2に応じた参照電圧Vrefを生成し、比較器50が、この読出電圧Vreadと参照電圧Vrefとを比較することにより、記憶素子10における記憶状態を識別することができる。
第3回目の書込動作WO3では、記憶素子10に対して“1”を書き込む場合には、書込部20は、記憶素子10にストレスST2を印加し、電気ヒューズ11の抵抗状態を、高抵抗状態(抵抗値ReH)に変化させる。その際、アンチヒューズ12の状態は高抵抗状態(抵抗値RaH)のままである。よって、記憶素子10全体の抵抗値RRは、抵抗値ReHと同程度になる。また、記憶素子10に対して“0”を書き込む場合には、書込部20は、記憶素子10にストレスST3を印加し、アンチヒューズ12の抵抗状態を、高抵抗状態(抵抗値RaH)から低抵抗状態(抵抗値RaL)に変化させる。これにより、抵抗値RRは、抵抗値RaLと同程度になる。
この書込動作WO3後における、記憶素子10の“1”または“0”の記憶状態は、2回目の書込動作WO2後と同様に、抵抗素子46の抵抗値Rth2をしきい値として比較することにより識別可能である。すなわち、書込動作WO2後と、書込動作WO3後では、同じしきい値を用いることができる。
半導体装置1では、過去に書込動作を行った回数についての情報が、メモリ9に記憶されている。そして、制御部8は、記憶素子10に対して情報を書き込む際、このメモリ9に記憶された情報に基づいて、書込動作WO1〜WO3のいずれにより情報を書き込むかを判断する。また、制御部8は、記憶素子10から情報を読み出す際、このメモリ9に記憶された情報に基づいて、しきい値(抵抗値Rth1,Rth2)を選択する。
(書込動作WO1〜WO3について)
次に、書込動作WO1〜WO3について詳細に説明する。半導体装置1では、書込動作WO1〜WO3において、ストレスST1〜ST3を記憶素子10に印加することにより、記憶素子10全体の抵抗値RRを図8に示したように設定する。これらのストレスST1〜ST3を印加する際には、制御部8が、メモリ9に記憶されている情報、および書き込むべき情報に基づいて、ストレス条件を設定し、ストレスST1〜ST3を印加する。
次に、書込動作WO1〜WO3について詳細に説明する。半導体装置1では、書込動作WO1〜WO3において、ストレスST1〜ST3を記憶素子10に印加することにより、記憶素子10全体の抵抗値RRを図8に示したように設定する。これらのストレスST1〜ST3を印加する際には、制御部8が、メモリ9に記憶されている情報、および書き込むべき情報に基づいて、ストレス条件を設定し、ストレスST1〜ST3を印加する。
図9は、記憶素子10に印加されるストレスを表すものであり、(A)は制御信号Swの波形を示し、(B)は記憶素子10に印加されるストレスの電圧波形を示す。制御部8は、ストレスを印加する際、電圧Vdcおよび電圧Vfuseを設定するとともに、パルス形状を有する制御信号Swを生成する(図9(A))。これにより、書込トランジスタ22は、制御信号Swが低レベルである期間(時間Tblow)だけオン状態になり、電圧Vfuseを記憶素子10に印加する(図9(B))。制御部8は、印加しようとするストレスST1〜ST3に応じて、電圧Vfuse,Vdcおよび制御信号Swを生成し出力する。
図10は、ストレスST1〜ST3を印加する場合における電圧Vfuseおよび電圧Vdcを表すものである。電圧Vfuseは、ストレスST1を印加する場合には正の電圧Vef1であり、ストレスST2を印加する場合には、この電圧Vef1よりも大きい電圧Vef2であり、ストレスST3を印加する場合には負の電圧Vafである。また、電圧Vdcは、ストレスST1〜ST3を印加する場合には正の電圧Vdc1である。すなわち、制御部8は、ストレスST1,ST2を印加するときは、電圧Vdc1と同じ極性の電圧Vef1,Vef2を電圧Vfuseとして出力し、ストレスST3を印加するときは、電圧Vdc1と反対の極性の電圧Vafを電圧Vfuseとして生成する。
また、制御部8は、ストレスST1〜ST3において、互いに異なるパルス幅を有する制御信号Swを生成する。具体的には、例えば、ストレスST2では、ストレスST1に比べて、パルス幅を広くすることができる。これにより、ストレスST2では、ストレスST1に比べて、記憶素子10に対して、より長い時間Tblowにおいてより高いブロー電圧Vblow(電圧Vef2)が印加されるため、ブロー電流Iblow(図4)がより大きくなる。
次に、このようなストレスST1〜ST3を印加するときの動作を説明する。
図11は、ストレスST1,ST2を印加するときの動作を表すものである。ストレスST1,ST2を印加する場合には、制御部8は、信号Sblowを高レベルにするとともに、電圧Vdcを正の電圧Vdc1にする。これにより、ブロートランジスタ21はオン状態になり電気ヒューズ11の他端が接地されるとともに、アンチヒューズ12の他端に電圧Vdc1が印加される。
そして、制御部8は、記憶素子10に対して、図9,10に示したように、電圧Vfuseとして、ストレスST1,ST2に応じた正の電圧Vef1,Vef2を出力するとともに、制御信号Swとしてパルス波形を出力する。これにより、制御信号Swが低レベルである期間(時間Tblow)において、電気ヒューズ11の一端に電圧Vef1,Vef2が印加され、書込トランジスタ22、電気ヒューズ11、ブロートランジスタ21の順に電流が流れる。すなわち、電気ヒューズ11の両端間に電流が流れ、電気ヒューズ11の抵抗値は、ストレスST1を印加した場合には中抵抗状態(抵抗値ReM)に変化し、ストレスST2を印加した場合には高抵抗状態(抵抗値ReH)に変化する。
その際、電圧Vef1,Vef2は、電圧Vdc1と同じ正の電圧であるため、アンチヒューズ12は、高抵抗状態を維持することができる。すなわち、例えば、アンチヒューズ12の他端に、正の電圧Vdc1ではなく0Vが印加されている場合には、アンチヒューズ12の両端間の電位差は、電圧Vef1,Vef2になるため、電圧Vef1,Vef2が十分に大きい場合には、アンチヒューズ12の抵抗状態が変化してしまうおそれがある。また、特許文献1に記載にした発明でも、同様に、例えば電気ヒューズの抵抗値を増大させるためのストレスを印加すると、それと同じ電圧がアンチヒューズにも印加されるため、そのアンチヒューズの抵抗状態が変化してしまうおそれがある。一方、この半導体装置1では、電圧Vef1,Vef2を、電圧Vdc1と同じ極性の電圧にしたので、アンチヒューズ12の両端間の電位差を小さくすることができ、アンチヒューズ12の抵抗状態が変化するおそれを低減することができる。これにより、半導体装置1では、記憶した情報の信頼性を高めることができる。
図12は、ストレスST3を印加するときの動作を表すものである。ストレスST3を印加する際、制御部8は、図9,10に示したように、電圧Vfuseとして、負の電圧Vafを出力するとともに、制御信号Swとしてパルス波形を出力する。これにより、制御信号Swが低レベルである期間(時間Tblow)において、アンチヒューズ12の他端に電圧Vafが印加され、アンチヒューズ12の両端間に電位差(Vdc1−Vaf=Vdc1+|Vaf|)が生じ、アンチヒューズ12が高抵抗状態(抵抗値RaH)から低抵抗状態(抵抗値RaL)に変化し、アンチヒューズ12、書込トランジスタ22の順に電流が流れる。
その際、電圧Vafは、電圧Vdc1と異なる負の電圧であるため、アンチヒューズ12は、の抵抗状態をより確実に変化させることができる。すなわち、例えば、アンチヒューズ12の他端に、正の電圧Vdc1ではなく0Vが印加されている場合には、アンチヒューズ12の両端間の電位差は|Vaf|(電圧Vafの絶対値)になるため、この電圧Vafの絶対値が十分に大きくない場合には、アンチヒューズ12の抵抗状態が十分に変化しないおそれがある。一方、この半導体装置1では、電圧Vafを、電圧Vdc1と異なる極性の電圧にしたので、アンチヒューズ12の両端間の電位差を大きくすることができ、アンチヒューズ12の抵抗状態をより確実に変化させることができる。
このようにして、ストレスST1〜ST3により、電気ヒューズ11およびアンチヒューズ12の抵抗状態が変化する。半導体装置1では、書込動作WO1〜WO3において、このようなストレスST1〜ST3を記憶素子10に印加することにより、記憶素子10全体の抵抗値RRが図8に示したように設定される。
(読出動作について)
次に、書込動作WO1〜WO3により情報を書き込んだ後における読出動作について、それぞれ説明する。制御部8は、記憶素子10から情報を読み出す際、メモリ9に記憶されている、過去に書込動作を行った回数についての情報に基づいて、読出条件(参照電圧Vref)を設定する。
次に、書込動作WO1〜WO3により情報を書き込んだ後における読出動作について、それぞれ説明する。制御部8は、記憶素子10から情報を読み出す際、メモリ9に記憶されている、過去に書込動作を行った回数についての情報に基づいて、読出条件(参照電圧Vref)を設定する。
図13は、書込動作WO1後における情報の読出動作を表すものである。書込動作WO1の後、記憶素子10から情報を読み出す際、制御部8は、制御信号Sblowを高レベルにし、制御信号Swを高レベルにし、電圧Vdcを0Vにする。これにより、ブロートランジスタ21はオン状態になり電気ヒューズ11の他端は接地され、書込トランジスタ22はオフ状態になり、アンチヒューズ12の他端には0Vが印加される。また、制御部8は、制御信号Sr1を低レベルにするとともに、制御信号Sr2を高レベルにする。これにより、トランジスタ31,32がオン状態になり、トランジスタ31、トランジスタ32、電気ヒューズ11、ブロートランジスタ21の順に電流が流れる。すなわち、書込動作WO1後では、図8に示したように、電気ヒューズ11は低抵抗状態(抵抗値ReL)または中抵抗状態(抵抗値ReH)であり、アンチヒューズ12は高抵抗状態(抵抗値RaH)であるので、電流はアンチヒューズ12には殆ど流れない。このようにして、読出部30は、記憶素子10全体の抵抗値RR(図8)に応じた読出電圧Vreadを出力する。
また、制御部8は、制御信号Sr3を低レベルにするとともに、制御信号Sr4を高レベルにする。これにより、トランジスタ41,42はオン状態になる。そして、制御部8は、参照電圧生成部40に対して、抵抗素子45(抵抗値Rth1)に基づいて参照電圧Vrefを生成するように指示する。具体的には、制御信号Sr5を高レベルにし、制御信号Sr6を低レベルにする。これにより、トランジスタ43がオン状態になるとともに、トランジスタ44がオフ状態になり、トランジスタ41、トランジスタ42、抵抗素子45、トランジスタ43の順に電流が流れる。このようにして、参照電圧生成部40は、抵抗素子45の抵抗値Rth1に応じた参照電圧Vrefを生成し出力する。そして、比較器50は、読出電圧Vreadと参照電圧Vrefとを比較する。このようにして、半導体装置1では、記憶素子10から情報の読み出しをすることができる。
図14は、書込動作WO2,WO3後における情報の読出動作を表すものである。書込動作WO2の後には、書込動作WO2の後と同様に、トランジスタ31、トランジスタ32、電気ヒューズ11、ブロートランジスタ21の順に電流が流れる。すなわち、書込動作WO2後では、図8に示したように、アンチヒューズ12は高抵抗状態(抵抗値RaH)であるので、電流はアンチヒューズ12には殆ど流れない。また、書込動作WO3の後には、アンチヒューズ12が高抵抗状態(抵抗値RaH)である場合には、同様にトランジスタ31、トランジスタ32、電気ヒューズ11、ブロートランジスタ21の順に電流が流れ、アンチヒューズ12は低抵抗状態(抵抗値RaL)である場合には、トランジスタ31、トランジスタ32、アンチヒューズ12の順に電流が流れる。このようにして、読出部30は、記憶素子10全体の抵抗値RR(図8)に応じた読出電圧Vreadを出力する。
また、制御部8は、参照電圧生成部40に対して、抵抗素子46(抵抗値Rth2)に基づいて参照電圧Vrefを生成するように指示する。具体的には、制御信号Sr5を低レベルにし、制御信号Sr6を高レベルにする。これにより、トランジスタ43がオフ状態になるとともに、トランジスタ44がオン状態になり、トランジスタ41、トランジスタ42、抵抗素子46、トランジスタ44の順に電流が流れる。このようにして、参照電圧生成部40は、抵抗素子46の抵抗値Rth2に応じた参照電圧Vrefを生成し出力する。そして、比較器50は、読出電圧Vreadと参照電圧Vrefとを比較する。このようにして、半導体装置1では、記憶素子10から情報の読み出しをすることができる。
[効果]
以上のように本実施の形態では、電気ヒューズに加えアンチヒューズを設けるようにしたので、情報を書き換える回数を増やすことができる。
以上のように本実施の形態では、電気ヒューズに加えアンチヒューズを設けるようにしたので、情報を書き換える回数を増やすことができる。
本実施の形態では、電気ヒューズにストレスを印加する際、アンチヒューズの他端に正の電圧Vdc1を印加するとともに、アンチヒューズの一端および電気ヒューズの一端に電圧Vdc1と同じ極性の電圧Vfuse(電圧Vef1,Vef2)を印加したので、アンチヒューズの抵抗状態が変化するおそれを低減することができ、信頼性を高めることができる。
本実施の形態では、アンチヒューズにストレスを印加する際、アンチヒューズの一端および電気ヒューズの一端に電圧Vdc1と異なる極性の電圧Vfuse(電圧Vaf)を印加したので、アンチヒューズの抵抗状態をより確実に変化させることができる。
[変形例1]
上記実施の形態では、1つの記憶素子10を設けたが、これに限定されるものではなく、これに代えて、例えば、図15に示したように、複数の記憶素子(この例では2つの記憶素子10A,10B)を設けてもよい。この半導体装置1Aは、制御部8Aと、記憶素子10A,10Bと、書込部20Aと、制御部8Aとを備えている。制御部8Aは、制御信号SblowA,SblowBを出力するものである。
上記実施の形態では、1つの記憶素子10を設けたが、これに限定されるものではなく、これに代えて、例えば、図15に示したように、複数の記憶素子(この例では2つの記憶素子10A,10B)を設けてもよい。この半導体装置1Aは、制御部8Aと、記憶素子10A,10Bと、書込部20Aと、制御部8Aとを備えている。制御部8Aは、制御信号SblowA,SblowBを出力するものである。
記憶素子10Aは、電気ヒューズ11Aと、アンチヒューズ12Aとを有している。電気ヒューズ11Aの一端は、書込部20Aのトランジスタ23Aのドレインに接続されるとともに、書込トランジスタ22のドレインなどに接続され、他端は、書込部20Aのブロートランジスタ21Aのドレインに接続されている。アンチヒューズ12Aの一端は、トランジスタ23Aのソースに接続され、他端には制御部8Aから電圧Vdcが供給されている。
記憶素子10Bは、電気ヒューズ11Bと、アンチヒューズ12Bとを有している。電気ヒューズ11Bの一端は、書込部20Aのトランジスタ23Bのドレインに接続されるとともに、書込トランジスタ22のドレインなどに接続され、他端は、書込部20Bのブロートランジスタ21Aのドレインに接続されている。アンチヒューズ12Bの一端は、トランジスタ23Bのソースに接続され、他端には制御部8Aから電圧Vdcが供給されている。
書込部20Aは、ブロートランジスタ21A,21Bと、トランジスタ23A,23Bとを有している。ブロートランジスタ21Aのドレインは、電気ヒューズ11Aの他端に接続され、ゲートはトランジスタ23Aのゲートに接続されるとともに、制御部8Aから制御信号SblowAが供給され、ソースは接地されている。ブロートランジスタ21Bのドレインは、電気ヒューズ11Bの他端に接続され、ゲートはトランジスタ23Bのゲートに接続されるとともに、制御部8Aから制御信号SblowBが供給され、ソースは接地されている。トランジスタ23Aは、例えばNチャンネルMOS型のFETにより構成されるものであり、ドレインは電気ヒューズ11Aの一端に接続されるとともに、書込トランジスタ22のドレインなどに接続され、ゲートはブロートランジスタ21Aのゲートに接続されるとともに、制御部8Aから制御信号SblowAが供給され、ソースはアンチヒューズ12Aの一端に接続されている。トランジスタ23Bは、例えばNチャンネルMOS型のFETにより構成されるものであり、ドレインは電気ヒューズ11Bの一端に接続されるとともに、書込トランジスタ22のドレインなどに接続され、ゲートはブロートランジスタ21Bのゲートに接続されるとともに、制御部8Aから制御信号SblowBが供給され、ソースはアンチヒューズ12Bの一端に接続されている。
この構成により、半導体装置1Aでは、記憶素子10A,10Bに対して情報を書き込むことができるとともに、記憶素子10A,10Bから情報を読み出すことができる。具体的には、例えば、制御信号SblowAを高レベルにするとともに、制御信号SblowBを低レベルにすることにより、記憶素子10Aに対して情報を書き込み、または記憶素子10Aから情報を読み出すことができる。同様に、例えば、制御信号SblowAを低レベルにするとともに、制御信号SblowBを高レベルにすることにより、記憶素子10Bに対して情報を書き込み、または記憶素子10Bから情報を読み出すことができる。
[変形例2]
上記実施の形態では、ストレスST1を印加する際の電圧Vfuse(電圧Vef1)が、ストレスST2の印加する際の電圧Vfuse(電圧Vef2)と異なるようにしたが、これに限定されるものではなく、これに代えて、例えば、ストレスST1,ST2を印加する際の電圧Vfuseは同じにしつつ、図16に示したように、記憶素子12に対してブロー電流Iblowを供給するパスを複数(この例では2つ)設け、このパスの数を切り換えることにより異なるストレスST1,ST2を印加するようにしてもよい。この半導体装置1Cは、制御部8Cと、書き込み部20Cを備えている。制御部8Cは、制御信号SwA,SwBを出力する。書き込み部20Cは、書込トランジスタ22A,22Bを有している。書込トランジスタ22A,22Bのドレインは、互いに接続されるとともに、制御部8Cから電圧Vfuseが供給され、ソースは互いに接続されるとともに、電気ヒューズ11の一端およびアンチヒューズ12の一端などに接続されている。書込トランジスタ22Aのゲートには、制御部8Cから制御信号SwAが供給され、書込トランジスタ22Bのゲートには、制御部8Cから制御信号SwBが供給されている。
上記実施の形態では、ストレスST1を印加する際の電圧Vfuse(電圧Vef1)が、ストレスST2の印加する際の電圧Vfuse(電圧Vef2)と異なるようにしたが、これに限定されるものではなく、これに代えて、例えば、ストレスST1,ST2を印加する際の電圧Vfuseは同じにしつつ、図16に示したように、記憶素子12に対してブロー電流Iblowを供給するパスを複数(この例では2つ)設け、このパスの数を切り換えることにより異なるストレスST1,ST2を印加するようにしてもよい。この半導体装置1Cは、制御部8Cと、書き込み部20Cを備えている。制御部8Cは、制御信号SwA,SwBを出力する。書き込み部20Cは、書込トランジスタ22A,22Bを有している。書込トランジスタ22A,22Bのドレインは、互いに接続されるとともに、制御部8Cから電圧Vfuseが供給され、ソースは互いに接続されるとともに、電気ヒューズ11の一端およびアンチヒューズ12の一端などに接続されている。書込トランジスタ22Aのゲートには、制御部8Cから制御信号SwAが供給され、書込トランジスタ22Bのゲートには、制御部8Cから制御信号SwBが供給されている。
[変形例3]
上記実施の形態では、記憶素子10、書込部20、読出部30、および比較器50を一組設けたが、これに限定されるものではなく、これに代えて、例えば、図17に示したように、複数組(この例ではN組)設けてもよい。この例では、参照電圧生成部40を1つ設け、この参照電圧生成部40が生成した参照電圧Vrefを、N個の比較器50に供給している。このように構成することにより、Nビットの情報を記憶することができる。
上記実施の形態では、記憶素子10、書込部20、読出部30、および比較器50を一組設けたが、これに限定されるものではなく、これに代えて、例えば、図17に示したように、複数組(この例ではN組)設けてもよい。この例では、参照電圧生成部40を1つ設け、この参照電圧生成部40が生成した参照電圧Vrefを、N個の比較器50に供給している。このように構成することにより、Nビットの情報を記憶することができる。
以上、実施の形態および変形例を挙げて本技術を説明したが、本技術はこれらの実施の形態等には限定されず、種々の変形が可能である。
例えば、上記の実施の形態では、3つの識別可能な抵抗状態を有する電気ヒューズ11を用いて記憶素子10を構成したが、これに限定されるものではなく、これに代えて、例えば、2つ、または4つ以上の識別可能な抵抗状態を有する電気ヒューズを用いてもよい。
なお、本技術は以下のような構成とすることができる。
(1)第1の入力ノードと第2の入力ノードとの間に挿設された電気ヒューズと、
前記第1の入力ノードとは別々の電圧が印加できるように構成された第3の入力ノードと、前記第2の入力ノードの間に挿設されたアンチヒューズと
を備えた記憶素子。
前記第1の入力ノードとは別々の電圧が印加できるように構成された第3の入力ノードと、前記第2の入力ノードの間に挿設されたアンチヒューズと
を備えた記憶素子。
(2)前記第1の入力ノードは接地され、
前記電気ヒューズは、前記第3の入力ノードに印加された電圧と同じ極性の第1のストレス電圧が前記第2の入力ノードに印加されることにより抵抗状態が変化する
前記(1)に記載の記憶素子。
前記電気ヒューズは、前記第3の入力ノードに印加された電圧と同じ極性の第1のストレス電圧が前記第2の入力ノードに印加されることにより抵抗状態が変化する
前記(1)に記載の記憶素子。
(3)前記アンチヒューズは、前記第3の入力ノードに印加された電圧と異なる極性の第2のストレス電圧が前記第2の入力ノードに印加されることにより抵抗状態が変化する
前記(2)に記載の記憶素子。
前記(2)に記載の記憶素子。
(4)前記電気ヒューズは、少なくとも3つの識別可能な抵抗状態のうちのいずれかをとり得る
前記(2)または(3)に記載の記憶素子。
前記(2)または(3)に記載の記憶素子。
(5)前記電気ヒューズは、前記ストレス電圧が印加される前において、第1通電層と、その第1導電層の上に形成された第2通電層とを有し、
前記第1のストレス電圧により、前記第1通電層および前記第2通電層のうちの少なくとも一方の状態を変化させることにより、前記電気ヒューズの抵抗状態が変化する
前記(4)に記載の記憶素子。
前記第1のストレス電圧により、前記第1通電層および前記第2通電層のうちの少なくとも一方の状態を変化させることにより、前記電気ヒューズの抵抗状態が変化する
前記(4)に記載の記憶素子。
(6)前記第1通電層は、ポリシリコンで形成され、
前記第2通電層は、シリサイドで形成されている
前記(5)に記載の記憶素子。
前記第2通電層は、シリサイドで形成されている
前記(5)に記載の記憶素子。
(7)前記第1のストレス電圧が前記第2の入力ノードに印加されることにより、前記電気ヒューズの抵抗状態は、低抵抗状態から中抵抗状態に変化し、
前記第3の入力ノードに印加された電圧と同じ極性であって、前記第1のストレス電圧により前記第1の入力ノードと前記第2の入力ノードとの間に発生する電位差よりも大きい電位差を発生する第3のストレス電圧を前記第2の入力ノードに印加されることにより、前記電気ヒューズの抵抗状態は、前記低抵抗状態または前記中抵抗状態から高抵抗状態に変化する
前記(4)に記載の記憶素子。
前記第3の入力ノードに印加された電圧と同じ極性であって、前記第1のストレス電圧により前記第1の入力ノードと前記第2の入力ノードとの間に発生する電位差よりも大きい電位差を発生する第3のストレス電圧を前記第2の入力ノードに印加されることにより、前記電気ヒューズの抵抗状態は、前記低抵抗状態または前記中抵抗状態から高抵抗状態に変化する
前記(4)に記載の記憶素子。
(8)第1の入力ノードと、第2の入力ノードとの間に挿設された電気ヒューズと、
前記第2の入力ノードと第3の入力ノードとの間に挿設されたアンチヒューズと、
前記第2の入力ノードにストレス電圧を印加するとともに、前記第1の入力ノードおよび前記第3の入力ノードに対して別々の電圧を印加する制御部と
を備えた半導体装置。
前記第2の入力ノードと第3の入力ノードとの間に挿設されたアンチヒューズと、
前記第2の入力ノードにストレス電圧を印加するとともに、前記第1の入力ノードおよび前記第3の入力ノードに対して別々の電圧を印加する制御部と
を備えた半導体装置。
(9)前記制御部は、前記第2の入力ノードに前記ストレス電圧を印加する際、前記第1の入力ノードおよび前記第3の入力ノードに、互いに異なる電圧を印加する
前記(8)に記載の半導体装置。
前記(8)に記載の半導体装置。
(10)前記制御部は、前記第1の入力ノードを接地するとともに、
前記第3の入力ノードに印加した電圧と同じ極性の第1のストレス電圧を前記第2の入力ノードに対して印加することにより、前記電気ヒューズの抵抗状態を変化させ、
前記第3の入力ノードに印加した電圧と異なる極性の第2のストレス電圧を前記第2の入力ノードに対して印加することにより、前記アンチヒューズの抵抗状態を変化させる
前記(8)または(9)に記載の半導体装置。
前記第3の入力ノードに印加した電圧と同じ極性の第1のストレス電圧を前記第2の入力ノードに対して印加することにより、前記電気ヒューズの抵抗状態を変化させ、
前記第3の入力ノードに印加した電圧と異なる極性の第2のストレス電圧を前記第2の入力ノードに対して印加することにより、前記アンチヒューズの抵抗状態を変化させる
前記(8)または(9)に記載の半導体装置。
(11)前記制御部は、前記電気ヒューズの抵抗状態を変化させた後に、前記アンチヒューズの抵抗状態を変化させる
前記(10)に記載の半導体装置。
前記(10)に記載の半導体装置。
(12)前記制御部は、前記第1の入力ノードを接地するとともに、
前記第1のストレス電圧を前記第2の入力ノードに対して印加することにより、前記電気ヒューズの抵抗状態を低抵抗状態から中抵抗状態に変化させ、
前記第3の入力ノードに印加した電圧と同じ極性であって、前記第1のストレス電圧により前記第1の入力ノードと前記第2の入力ノードとの間に発生する電位差よりも大きい電位差を発生する第3のストレス電圧を前記第2の入力ノードに対して印加することにより、前記電気ヒューズの抵抗状態を前記低抵抗状態または前記中抵抗状態から高抵抗状態に変化させ、
前記第2のストレス電圧を前記第2の入力ノードに対して印加することにより、前記アンチヒューズの抵抗状態を高抵抗状態から低抵抗状態に変化させる
前記(11)に記載の半導体装置。
前記第1のストレス電圧を前記第2の入力ノードに対して印加することにより、前記電気ヒューズの抵抗状態を低抵抗状態から中抵抗状態に変化させ、
前記第3の入力ノードに印加した電圧と同じ極性であって、前記第1のストレス電圧により前記第1の入力ノードと前記第2の入力ノードとの間に発生する電位差よりも大きい電位差を発生する第3のストレス電圧を前記第2の入力ノードに対して印加することにより、前記電気ヒューズの抵抗状態を前記低抵抗状態または前記中抵抗状態から高抵抗状態に変化させ、
前記第2のストレス電圧を前記第2の入力ノードに対して印加することにより、前記アンチヒューズの抵抗状態を高抵抗状態から低抵抗状態に変化させる
前記(11)に記載の半導体装置。
(13)しきい値電圧を生成する電圧生成部と、
前記電気ヒューズおける抵抗状態および前記アンチヒューズにおける抵抗状態の組み合わせに応じた電圧と、前記しきい値電圧とを比較する比較部と
をさらに備え、
前記電圧生成部は、前記第2の入力ノードに対して前記第1のストレス電圧の印加を終了した後に前記しきい値電圧の値を変更する
前記(12)に記載の半導体装置。
前記電気ヒューズおける抵抗状態および前記アンチヒューズにおける抵抗状態の組み合わせに応じた電圧と、前記しきい値電圧とを比較する比較部と
をさらに備え、
前記電圧生成部は、前記第2の入力ノードに対して前記第1のストレス電圧の印加を終了した後に前記しきい値電圧の値を変更する
前記(12)に記載の半導体装置。
(14)第1の入力ノードと第2の入力ノードとの間に挿設された電気ヒューズと、前記第2の入力ノードと第3の入力ノードとの間に挿設されたアンチヒューズとを備えた記憶素子の前記第2の入力ノードに対して、前記第3の入力ノードの電圧と同じ極性の第1のストレス電圧を印加することにより、前記電気ヒューズの抵抗状態を変化させ、前記第3の入力ノードの電圧と異なる極性の第2のストレス電圧を印加することにより、前記アンチヒューズの抵抗状態を変化させる
書込方法。
書込方法。
1…半導体装置、3…絶縁層、4…ポリシリコン層、5…シリサイド層、6…サイドヲール、7…保護膜、8…制御部、9…メモリ、10…記憶素子、11…電気ヒューズ、12…アンチヒューズ、20…書込部、21…ブロートランジスタ、22…書込トランジスタ、30…読出部、31,32,41〜44…トランジスタ、40…参照電圧生成部、45,46…抵抗素子、50…比較器、N11…Nウェル、N12…拡散層、P13…拡散層、N14…拡散層、N15…Nウェル、N16…拡散層、N17…拡散層、P18…Pウェル、N19…拡散層、M1…配線層、STI…酸化膜、Ra,RaH,RaL,Re,ReH,ReM,ReL,Rth1,Rth2,RR…抵抗値、Sr1〜Sr6,Sw,Sblow…制御信号、ST1〜ST3…ストレス、Sin,Sout…信号、SUB…基板、Vdc,Vfuse,Vef1,Vef2,Vaf…電圧,Vread…読出電圧、Vref…参照電圧、WO1〜WO3…書込動作。
Claims (14)
- 第1の入力ノードと第2の入力ノードとの間に挿設された電気ヒューズと、
前記第1の入力ノードとは別々の電圧が印加できるように構成された第3の入力ノードと、前記第2の入力ノードの間に挿設されたアンチヒューズと
を備えた記憶素子。 - 前記第1の入力ノードは接地され、
前記電気ヒューズは、前記第3の入力ノードに印加された電圧と同じ極性の第1のストレス電圧が前記第2の入力ノードに印加されることにより抵抗状態が変化する
請求項1に記載の記憶素子。 - 前記アンチヒューズは、前記第3の入力ノードに印加された電圧と異なる極性の第2のストレス電圧が前記第2の入力ノードに印加されることにより抵抗状態が変化する
請求項2に記載の記憶素子。 - 前記電気ヒューズは、少なくとも3つの識別可能な抵抗状態のうちのいずれかをとり得る
請求項2に記載の記憶素子。 - 前記電気ヒューズは、前記ストレス電圧が印加される前において、第1通電層と、その第1導電層の上に形成された第2通電層とを有し、
前記第1のストレス電圧により、前記第1通電層および前記第2通電層のうちの少なくとも一方の状態を変化させることにより、前記電気ヒューズの抵抗状態が変化する
請求項4に記載の記憶素子。 - 前記第1通電層は、ポリシリコンで形成され、
前記第2通電層は、シリサイドで形成されている
請求項5に記載の記憶素子。 - 前記第1のストレス電圧が前記第2の入力ノードに印加されることにより、前記電気ヒューズの抵抗状態は、低抵抗状態から中抵抗状態に変化し、
前記第3の入力ノードに印加された電圧と同じ極性であって、前記第1のストレス電圧により前記第1の入力ノードと前記第2の入力ノードとの間に発生する電位差よりも大きい電位差を発生する第3のストレス電圧を前記第2の入力ノードに印加されることにより、前記電気ヒューズの抵抗状態は、前記低抵抗状態または前記中抵抗状態から高抵抗状態に変化する
請求項4に記載の記憶素子。 - 第1の入力ノードと第2の入力ノードとの間に挿設された電気ヒューズと、
前記第2の入力ノードと第3の入力ノードとの間に挿設されたアンチヒューズと、
前記第2の入力ノードにストレス電圧を印加するとともに、前記第1の入力ノードおよび前記第3の入力ノードに対して別々の電圧を印加する制御部と
を備えた半導体装置。 - 前記制御部は、前記第2の入力ノードに前記ストレス電圧を印加する際、前記第1の入力ノードおよび前記第3の入力ノードに、互いに異なる電圧を印加する
請求項8に記載の半導体装置。 - 前記制御部は、前記第1の入力ノードを接地するとともに、
前記第3の入力ノードに印加した電圧と同じ極性の第1のストレス電圧を前記第2の入力ノードに対して印加することにより、前記電気ヒューズの抵抗状態を変化させ、
前記第3の入力ノードに印加した電圧と異なる極性の第2のストレス電圧を前記第2の入力ノードに対して印加することにより、前記アンチヒューズの抵抗状態を変化させる
請求項8に記載の半導体装置。 - 前記制御部は、前記電気ヒューズの抵抗状態を変化させた後に、前記アンチヒューズの抵抗状態を変化させる
請求項10に記載の半導体装置。 - 前記制御部は、前記第1の入力ノードを接地するとともに、
前記第1のストレス電圧を前記第2の入力ノードに対して印加することにより、前記電気ヒューズの抵抗状態を低抵抗状態から中抵抗状態に変化させ、
前記第3の入力ノードに印加した電圧と同じ極性であって、前記第1のストレス電圧により前記第1の入力ノードと前記第2の入力ノードとの間に発生する電位差よりも大きい電位差を発生する第3のストレス電圧を前記第2の入力ノードに対して印加することにより、前記電気ヒューズの抵抗状態を前記低抵抗状態または前記中抵抗状態から高抵抗状態に変化させ、
前記第2のストレス電圧を前記第2の入力ノードに対して印加することにより、前記アンチヒューズの抵抗状態を高抵抗状態から低抵抗状態に変化させる
請求項11に記載の半導体装置。 - しきい値電圧を生成する電圧生成部と、
前記電気ヒューズおける抵抗状態および前記アンチヒューズにおける抵抗状態の組み合わせに応じた電圧と、前記しきい値電圧とを比較する比較部と
をさらに備え、
前記電圧生成部は、前記第2の入力ノードに対して前記第1のストレス電圧の印加を終了した後に前記しきい値電圧の値を変更する
請求項12に記載の半導体装置。 - 第1の入力ノードと第2の入力ノードとの間に挿設された電気ヒューズと、前記第2の入力ノードと第3の入力ノードとの間に挿設されたアンチヒューズとを備えた記憶素子の前記第2の入力ノードに対して、前記第3の入力ノードの電圧と同じ極性の第1のストレス電圧を印加することにより、前記電気ヒューズの抵抗状態を変化させ、前記第3の入力ノードの電圧と異なる極性の第2のストレス電圧を印加することにより、前記アンチヒューズの抵抗状態を変化させる
書込方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013010433A JP2014143284A (ja) | 2013-01-23 | 2013-01-23 | 記憶素子、半導体装置、および書込方法 |
CN201410017862.5A CN103943624A (zh) | 2013-01-23 | 2014-01-15 | 存储元件、半导体器件和写入方法 |
US14/155,790 US9190166B2 (en) | 2013-01-23 | 2014-01-15 | Memory element, semiconductor device, and writing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013010433A JP2014143284A (ja) | 2013-01-23 | 2013-01-23 | 記憶素子、半導体装置、および書込方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014143284A true JP2014143284A (ja) | 2014-08-07 |
Family
ID=51191217
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013010433A Pending JP2014143284A (ja) | 2013-01-23 | 2013-01-23 | 記憶素子、半導体装置、および書込方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9190166B2 (ja) |
JP (1) | JP2014143284A (ja) |
CN (1) | CN103943624A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9780030B2 (en) | 2015-07-21 | 2017-10-03 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Integrated circuit |
JP2020104479A (ja) * | 2018-12-28 | 2020-07-09 | キヤノン株式会社 | 記録素子基板、液体吐出ヘッド及び記録装置 |
WO2020195151A1 (ja) * | 2019-03-22 | 2020-10-01 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 半導体装置及びこれを備えた電子機器 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10120815B2 (en) * | 2015-06-18 | 2018-11-06 | Microchip Technology Incorporated | Configurable mailbox data buffer apparatus |
GB2571641B (en) * | 2015-09-01 | 2020-02-19 | Lattice Semiconductor Corp | Multi-time programmable non-volatile memory cell |
US10212827B2 (en) * | 2016-07-01 | 2019-02-19 | Intel Corporation | Apparatus for interconnecting circuitry |
US9805815B1 (en) * | 2016-08-18 | 2017-10-31 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Electrical fuse bit cell and mask set |
US10290327B2 (en) * | 2017-10-13 | 2019-05-14 | Nantero, Inc. | Devices and methods for accessing resistive change elements in resistive change element arrays |
US10803966B1 (en) * | 2019-07-16 | 2020-10-13 | Nanya Technology Corporation | Method of blowing an antifuse element |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000174211A (ja) | 1998-12-08 | 2000-06-23 | Sony Corp | 半導体トリミング装置とそのトリミング方法 |
KR100673002B1 (ko) * | 2005-04-26 | 2007-01-24 | 삼성전자주식회사 | 트랜지스터의 누설전류 패스를 이용한 이-퓨즈 회로 |
-
2013
- 2013-01-23 JP JP2013010433A patent/JP2014143284A/ja active Pending
-
2014
- 2014-01-15 US US14/155,790 patent/US9190166B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2014-01-15 CN CN201410017862.5A patent/CN103943624A/zh active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9780030B2 (en) | 2015-07-21 | 2017-10-03 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Integrated circuit |
JP2020104479A (ja) * | 2018-12-28 | 2020-07-09 | キヤノン株式会社 | 記録素子基板、液体吐出ヘッド及び記録装置 |
JP7195921B2 (ja) | 2018-12-28 | 2022-12-26 | キヤノン株式会社 | 記録素子基板、液体吐出ヘッド及び記録装置 |
WO2020195151A1 (ja) * | 2019-03-22 | 2020-10-01 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 半導体装置及びこれを備えた電子機器 |
US11842780B2 (en) | 2019-03-22 | 2023-12-12 | Sony Semiconductor Solutions Corporation | Semiconductor device and electronic apparatus including the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9190166B2 (en) | 2015-11-17 |
US20140204649A1 (en) | 2014-07-24 |
CN103943624A (zh) | 2014-07-23 |
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