JP2014139537A - 荷電粒子線装置用の検査データ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の荷電粒子線装置用の検査データ処理装置は、観察画像内の測長対象パターンの測長値を算出する測長部と、測長対象パターンの設計データと観察画像内の測長対象パターンの輪郭線との間の形状誤差値を算出する輪郭線抽出部と、測長値のばらつきを示す第1の値と、形状誤差値のばらつきを示す第2の値と、測長対象パターンの位置情報とが対応した情報を作成する統計計算部と、少なくとも統計計算部によって作成された情報を表示する表示部と、を備える。
【選択図】図2
Description
本発明に関連する更なる特徴は、本明細書の記述、添付図面から明らかになるものである。また、上記した以外の、課題、構成および効果は、以下の実施例の説明により明らかにされる。
図1は、本発明の実施形態に係る荷電粒子線装置の構成の一例を示す図である。図1に示すように、荷電粒子線装置100は、荷電粒子光学系装置10と、制御コンピュータ20と、制御装置30とを含んで構成される。制御コンピュータ20は、図示しない記憶装置を含み、この記憶装置は、試料8のパターン設計についての設計データ21などの情報を格納する。また、制御コンピュータ20は、画像処理装置22と、表示装置(ディスプレイなど)23と、入力装置(キーボード、マウスなど)24とを備える。
図2は、本発明の実施形態に係る検査データ処理装置の構成の一例を示す図である。検査データ処理装置200は、例えば、ワークステーションやパーソナルコンピュータなどの情報処理装置である。検査データ処理装置200は、中央演算処理装置と、補助記憶装置と、主記憶装置と、入出力装置とを備えている。例えば、中央演算処理装置は、CPU(Central Processing Unit)などのプロセッサ(又は演算部ともいう)で構成されている。例えば、補助記憶装置はハードディスクであり、主記憶装置はメモリであり、入出力装置は、キーボード及びポインティングデバイス(マウスなど)やディスプレイである。なお、図2では、簡単のためこれらの構成要素の描画を省略している。
10 荷電粒子光学系装置
20 制御コンピュータ
30 制御装置
1 荷電粒子源
2 荷電粒子線
3 集束レンズ
4 偏向レンズ
5 対物レンズ
6 二次電子検出器
7 試料ステージ
8 試料
9 二次電子
200 検査データ処理装置
201 第1の測長データ
202 測長部
203 第2の測長データ
204 輪郭線抽出部
205 第3の測長データ
206 統計計算部
207 第4の測長データ
208 リポジトリ
209 送信処理部
210 設定処理部
211 デザインデータ
212 検索処理部
Claims (14)
- 荷電粒子線装置用の検査データ処理装置であって、
前記荷電粒子線装置からの測長データを用いて、前記荷電粒子線装置によって撮像した観察画像内の測長対象パターンの測長値を算出する測長部と、
前記観察画像内の測長対象パターンの輪郭線を抽出し、前記測長対象パターンの設計データと前記輪郭線との間の形状誤差値を算出する輪郭線抽出部と、
前記測長値及び前記形状誤差値を統計処理し、前記測長値のばらつきを示す第1の値と、前記形状誤差値のばらつきを示す第2の値と、前記測長対象パターンの位置情報とが対応した情報を作成する統計計算部と、
少なくとも前記統計計算部によって作成された情報を表示する表示部と、
を備えることを特徴とする検査データ処理装置。 - 請求項1に記載の検査データ処理装置において、
前記統計計算部によって作成された情報は、前記第1の値及び前記第2の値の少なくとも一方に応じたマーカーを、前記測定対象パターンの位置毎に表示した画像情報であることを特徴とする検査データ処理装置。 - 請求項2に記載の検査データ処理装置において、
前記マーカーは、前記第1の値及び前記第2の値の少なくとも一方が所定のエラー範囲にある場合に、形状又は色を変更して表示されることを特徴とする検査データ処理装置。 - 請求項2に記載の検査データ処理装置において、
前記画像情報は、検査対象のウェハの画像及びチップマトリクスの画像を更に重ねて合わせて作成されたものであることを特徴とする検査データ処理装置。 - 請求項1に記載の検査データ処理装置において、
前記統計計算部は、前記第1の値及び前記第2の値のそれぞれが所定のエラー範囲にあるかを判定した判定値を算出し、前記第1の値と前記第2の値と前記判定値とが対応した情報を作成することを特徴とする検査データ処理装置。 - 請求項5に記載の検査データ処理装置において、
前記所定のエラー範囲内にある前記第1の値及び前記第2の値の数が所定のしきい値を超えた場合、予め選択されたユーザにメールを送信する送信処理部を更に備えることを特徴とする検査データ処理装置。 - 請求項5に記載の検査データ処理装置において、
前記所定の範囲を前記表示部の画面上で設定させるための設定処理部を更に備えることを特徴とする検査データ処理装置。 - 請求項7に記載の検査データ処理装置において、
前記設定処理部は、前記第1の値及び前記第2の値のそれぞれの所定のエラー範囲を設定させるための正規分布のグラフを前記表示部の画面上に表示することを特徴とする検査データ処理装置。 - 請求項2に記載の検査データ処理装置において、
前記表示部は、前記測長値及び前記形状誤差値を更に表示し、
前記表示部に表示された画像情報上の前記測定対象パターンの位置を指定したときに、対応する前記測長値及び前記形状誤差値を表示することを特徴とする検査データ処理装置。 - 請求項1に記載の検査データ処理装置において、
前記表示部は、前記測長部が作成したプロファイル画像及び前記輪郭線抽出部によって抽出された輪郭線の少なくとも一方を前記観察画像に重ね合わせた画像を更に表示することを特徴とする検査データ処理装置。 - 請求項1に記載の検査データ処理装置において、
前記統計計算部によって作成された情報を格納する記憶部を更に備えることを特徴とする検査データ処理装置。 - 請求項11に記載の検査データ処理装置において、
前記記憶部に格納された情報を検索する検索処理部を更に備えることを特徴とする検査データ処理装置。 - 荷電粒子線装置用の検査データ処理装置であって、
前記荷電粒子線装置からの測長データを用いて、前記荷電粒子線装置によって撮像した観察画像内の測長対象パターンの測長値を算出する測長部と、
前記測長値を統計処理し、前記測長値のばらつきを示す第1の値と前記測長対象パターンの位置情報とが対応した情報を作成する統計計算部と、
少なくとも前記統計計算部によって作成された情報を表示する表示部と、
を備えることを特徴とする検査データ処理装置。 - 荷電粒子線装置用の検査データ処理装置であって、
前記荷電粒子線装置からの観察画像内の検査対象パターンの輪郭線を抽出し、前記検査対象パターンの設計データと前記輪郭線との間の形状誤差値を算出する輪郭線抽出部と、
前記形状誤差値を統計処理し、前記形状誤差値のばらつきを示す第1の値と前記検査対象パターンの位置情報とが対応した情報を作成する統計計算部と、
少なくとも前記統計計算部によって作成された情報を表示する表示部と、
を備えることを特徴とする検査データ処理装置。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101782335B1 (ko) * | 2014-10-08 | 2017-09-27 | 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지 | 묘화 데이터 생성 방법, 멀티 하전 입자빔 묘화 장치 및 패턴 검사 장치 |
US20170337673A1 (en) * | 2016-05-17 | 2017-11-23 | Kla-Tencor Corporation | Systems and methods for automatic correction of drift between inspection and design for massive pattern searching |
KR20230132780A (ko) | 2021-01-21 | 2023-09-18 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 프로파일 검출 방법, 프로파일 검출 프로그램을 기록하는 기록 매체, 및 정보 처리 장치 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6326618B1 (en) * | 1999-07-02 | 2001-12-04 | Agere Systems Guardian Corp. | Method of analyzing semiconductor surface with patterned feature using line width metrology |
JP2002031525A (ja) * | 2000-07-14 | 2002-01-31 | Seiko Instruments Inc | 半導体ウエハのパターン形状評価方法及び装置 |
JP2005019808A (ja) * | 2003-06-27 | 2005-01-20 | Trecenti Technologies Inc | 品質管理方法、品質管理システムおよび半導体装置の製造方法 |
WO2010052855A1 (ja) * | 2008-11-05 | 2010-05-14 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | パターン寸法計測方法及びそれを用いた走査電子顕微鏡 |
JP2011191296A (ja) * | 2010-03-16 | 2011-09-29 | Ngr Inc | パターン検査装置および方法 |
JP2012112974A (ja) * | 2006-12-05 | 2012-06-14 | Ngr Inc | パターン検査装置および方法 |
-
2013
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6326618B1 (en) * | 1999-07-02 | 2001-12-04 | Agere Systems Guardian Corp. | Method of analyzing semiconductor surface with patterned feature using line width metrology |
JP2002031525A (ja) * | 2000-07-14 | 2002-01-31 | Seiko Instruments Inc | 半導体ウエハのパターン形状評価方法及び装置 |
JP2005019808A (ja) * | 2003-06-27 | 2005-01-20 | Trecenti Technologies Inc | 品質管理方法、品質管理システムおよび半導体装置の製造方法 |
JP2012112974A (ja) * | 2006-12-05 | 2012-06-14 | Ngr Inc | パターン検査装置および方法 |
WO2010052855A1 (ja) * | 2008-11-05 | 2010-05-14 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | パターン寸法計測方法及びそれを用いた走査電子顕微鏡 |
JP2011191296A (ja) * | 2010-03-16 | 2011-09-29 | Ngr Inc | パターン検査装置および方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101782335B1 (ko) * | 2014-10-08 | 2017-09-27 | 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지 | 묘화 데이터 생성 방법, 멀티 하전 입자빔 묘화 장치 및 패턴 검사 장치 |
US20170337673A1 (en) * | 2016-05-17 | 2017-11-23 | Kla-Tencor Corporation | Systems and methods for automatic correction of drift between inspection and design for massive pattern searching |
CN109804462A (zh) * | 2016-05-17 | 2019-05-24 | 科磊股份有限公司 | 用于大量图案搜索的检验和设计之间的漂移的自动校正的系统及方法 |
US11010886B2 (en) * | 2016-05-17 | 2021-05-18 | Kla-Tencor Corporation | Systems and methods for automatic correction of drift between inspection and design for massive pattern searching |
KR20230132780A (ko) | 2021-01-21 | 2023-09-18 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 프로파일 검출 방법, 프로파일 검출 프로그램을 기록하는 기록 매체, 및 정보 처리 장치 |
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